JP3972464B2 - 高純度錫の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体用高純度錫、例えば、ハンダ、BGA(ボ−ルグリッドアレイ)等に使用される高純度錫の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の技術としては、粗金属錫をアノ−ドとし、電解精製によって高純度カソ−ドとする第一工程と、得られた高純度カソ−ドを更にアノ−ドとして、再び電解精製する方法が一般に知られており、この時、電解液は何らかの方法で不純物を除去する工夫が試みられていることも知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
近年用途開発が広がり、特に半導体関連では、誤動作を防ぐ必要から、使用される金属錫の純度に対する要求は厳しくなって来ており、高純度品の提供が要望されている。しかし、電解精製を繰り返す上記従来技術では、この要求に十分に答えることは困難である。
【0004】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者は、上記問題点を解決すべく鋭意研究開発に努めた結果、粗金属錫を水砕等によって微粉末化した後、これに加熱水を加え攪拌した状態にして、該溶液に硝酸を添加して、pH2以下の強酸領域中でメタ錫酸を沈降させ、この沈降メタ錫酸を希硝酸等で良く洗浄して得た粉末を、更に酸に再溶解し、この溶解液を電解液として金属錫を電解採取すると、得られる金属錫は、5N以上の高純度となるとの知見を得た。また、硝酸溶液を電解液とし、粗金属錫をアノ−ドとした電解で、電解酸化して得たメタ錫酸を、上記同様の再溶解・電解採取により、5N以上の高純度金属錫が得られるとの、また上記粗金属の溶解時に、メタ錫酸の性状を改善するために、予め硝酸アンモニウムを添加した液を用いればなお良いとの知見をも得られた。
【0005】
本発明は、上記知見に基づく以下の構成によって上記問題を解決した高純度錫の製造方法を提供する。
(1)粗金属錫を硝酸に溶解してメタ錫酸を沈澱させる工程、これを濾過して得たメタ錫酸を洗浄し、洗浄後のメタ錫酸を塩酸または弗酸に溶解する工程、この溶解液を電解液とした電解採取工程からなる高純度錫の製造方法であって、上記メタ錫酸沈澱工程において、粗金属錫を加えた加熱水溶液に硝酸を添加してメタ錫酸を沈澱させ、次いで上記塩酸または弗酸による溶解工程、この溶解液を用いた上記電解採取工程を経て5N以上の金属錫を得ることを特徴とする高純度錫の製造方法。
(2)上記(1)の製造方法において、粗金属錫を加えた加熱水溶液に硝酸を添加してメタ錫酸を沈澱させる方法に代えて、硝酸液を電解液とし、粗金属錫をアノードに用いた電解酸化によってメタ錫酸を沈澱させる高純度錫の製造方法。
【0006】
【本発明の実施の形態】
以下、本発明を実施形態に基づいて具体的に説明する。
金属錫に硝酸を作用させると、直接酸化して大部分は次式に示す反応によって、メタ錫酸(H2SnO3)が生成する。
Sn+2HNO3 → H2SnO3+NO+NO2
他の金属は次式に反応で溶解し、上記メタ錫酸沈澱と分離される。
M+2HNO3 → M+++NO3 -+H2↑
本発明の製造方法は、上記メタ錫酸の沈澱生成を利用したものであり、粗金属錫を硝酸に溶解してメタ錫酸を沈澱させる工程、これを濾過して得たメタ錫酸を洗浄し、洗浄後のメタ錫酸を塩酸または弗酸に溶解する工程、この溶解液を電解液とした電解採取工程からなる高純度錫の製造方法である。
〔メタ錫酸沈澱工程〕
粗金属錫粉末(純度95〜99.99%)を用い、必要に応じて、緩衝液として硝酸アンモニウム(NH4NO3:1〜4mol/L)溶液を用い、緩衝液を50℃以上に加熱し上記粗金属錫粉末を加えて攪拌した溶液を準備する。この溶液に所定量の硝酸(HNO3)を徐々に4時間以上かけてゆっくりと添加する。すると上記反応がゆっくりと進行し、徐々に白色のメタ錫酸が生成ずる。緩衝液を用いることによってメタ錫酸は沈降性の良いものができる。
〔塩酸・弗酸溶解工程〕
上記溶液を濾過して回収したメタ錫酸を希硝酸水で洗浄して残留する不純物を除去した後に、塩酸または弗酸に溶解する。
〔電解採取〕
洗浄後のメタ錫酸を塩酸または弗酸に溶解した液を電解液として用い、アノードにカーボン電極、カソードに高純度錫を用いて電解し、金属錫を電解採取する。この電解採取によって純度5N以上の高純度の金属錫が得られる。なお、アノード材はカーボンの他にPb等の不溶性材料であれば良い。
【0007】
〔電解酸化によるメタ錫酸の生成〕
本発明の製造方法において、メタ錫酸は上記硝酸の加熱溶解に代えて、電解酸化によって沈澱させても良い。すなわち、硝酸液を電解液とし、粗金属錫(純度95〜99.99%)からなるアノードを用いた電解酸化によってメタ錫酸を沈澱させる。このメタ錫酸を濾過して回収したメタ錫酸を希硝酸水で洗浄し、洗浄後のメタ錫酸を塩酸または弗酸に溶解し、この溶解液を電解液として用い、アノードにカーボン電極、カソードに高純度錫を用いて電解し、金属錫を電解採取する。この電解採取によって純度5N以上の高純度の金属錫が得られる。
【0008】
【実施例】
以下、本発明の実施例について具体的に説明する。
[実施例1]
まず、平均粒径3mmの金属錫(純度:99.5%)を100g用意し、これをNH4NO3粉末:80g、H2O:500mlで調整したNH4NO3溶液に投入し、60℃に昇温保持した状態で、これに濃HNO3250mlを攪拌しながら、分液ロ−トから10分毎に8mlずつ4時間以上掛けて添加した。その後も60℃に保持した状態で、攪拌を続け、沈澱物が生成し、溶液の白濁状態が変わらなくなるまで行った。この間の所要時間は4時間であった。この後溶液を室温まで自然冷却し、ろ過し、希硝酸水(0.1〜0.5モル/l)にてろ過洗浄を3回(約400cc)行い、残渣物を、105℃で乾燥し、これを軽く粉砕した。この粉砕物を塩酸にて溶解し、ろ過後カ−ボン電極を利用して、電解採取し、採取した金属錫を分析したところ、5N以上の高純度を示した。不純物分析結果を表1に示す。
【0009】
【表1】
【0010】
[実施例2]
濃度2モル/lの硝酸電解液中で、純度:95%の粗金属錫アノ−ドを利用して、電解酸化を行い、得られたメタ錫酸を、ろ過、洗浄し、残渣物を、105℃で乾燥し、これを軽く粉砕した。この粉砕物を弗酸にて溶解し、(H2SO4:45g/l、H2SiF6:55g/l)の電解液に調整した後、白金メッキしたカ−ボンアノ−ド電極を利用して、カソ−ドに高純度錫を用い、電解採取し、採取した金属錫を分析したところ、5N以上の高純度を示した。不純物分析結果を表2に示す。
【0011】
【表2】
【0012】
[従来例1]
純度:98.2%の粗金属錫をアノ−ドとして用い、電解液組成:Sn30g/l、H2SO4 45g/l、H2SiF6 52g/l,温度:30℃,電解電圧:0.15Vで電解精製した。得られた金属錫を分析したところ、純度99.95%であった。不純物分析結果を表3に示す。
【0013】
【表3】
【0014】
【発明の効果】
本発明の方法で得られた金属錫は、実施例から明らかな様に、従来法により得られた金属錫に較べ、高純度で、5Nを超えるものである。このため、例えば、半導体用のハンダ等としての利用に十分耐え得るもので、有用である。
Claims (2)
- 粗金属錫を硝酸に溶解してメタ錫酸を沈澱させる工程、これを濾過して得たメタ錫酸を洗浄し、洗浄後のメタ錫酸を塩酸または弗酸に溶解する工程、この溶解液を電解液とした電解採取工程からなる高純度錫の製造方法であって、上記メタ錫酸沈澱工程において、粗金属錫を加えた加熱水溶液に硝酸を添加してメタ錫酸を沈澱させ、次いで上記塩酸または弗酸による溶解工程、この溶解液を用いた上記電解採取工程を経て5N以上の金属錫を得ることを特徴とする高純度錫の製造方法。
- 請求項1の製造方法において、粗金属錫を加えた加熱水溶液に硝酸を添加してメタ錫酸を沈澱させる方法に代えて、硝酸液を電解液とし、粗金属錫をアノードに用いた電解酸化によってメタ錫酸を沈澱させる高純度錫の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14980898A JP3972464B2 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 高純度錫の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14980898A JP3972464B2 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 高純度錫の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11343590A JPH11343590A (ja) | 1999-12-14 |
JP3972464B2 true JP3972464B2 (ja) | 2007-09-05 |
Family
ID=15483171
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14980898A Expired - Lifetime JP3972464B2 (ja) | 1998-05-29 | 1998-05-29 | 高純度錫の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3972464B2 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004034427A2 (en) | 2002-10-08 | 2004-04-22 | Honeywell International Inc. | Semiconductor packages, lead-containing solders and anodes and methods of removing alpha-emitters from materials |
EP1900853B1 (en) | 2005-07-01 | 2018-05-09 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Process for producing high-purity tin |
JP4975367B2 (ja) * | 2006-05-10 | 2012-07-11 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 高純度酸化第一錫、同粉末及び高純度酸化第一錫の製造方法 |
WO2008053617A1 (fr) | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Procédé pour recueillir un métal de valeur à partir de fragments d'ito |
JP4647695B2 (ja) | 2006-10-24 | 2011-03-09 | Jx日鉱日石金属株式会社 | Itoスクラップからの有価金属の回収方法 |
CN102174675A (zh) | 2006-10-24 | 2011-09-07 | Jx日矿日石金属株式会社 | 从ito废料中回收有价金属的方法 |
CA2666233C (en) * | 2006-10-24 | 2012-03-06 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | Method for collection of valuable metal from ito scrap |
EP2241655B1 (en) | 2008-02-12 | 2013-03-27 | JX Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from izo scrap |
CN101946027B (zh) | 2008-02-12 | 2012-01-11 | Jx日矿日石金属株式会社 | 从izo废料中回收有价值金属的方法 |
US8308934B2 (en) | 2008-03-06 | 2012-11-13 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Method of recovering valuable metals from IZO scrap |
JP5456881B2 (ja) | 2010-03-16 | 2014-04-02 | Jx日鉱日石金属株式会社 | α線量が少ない錫又は錫合金の製造方法 |
KR101199513B1 (ko) | 2010-10-21 | 2012-11-09 | 한국지질자원연구원 | Pb-free 폐솔더로부터 유가 금속의 회수방법 |
WO2012120982A1 (ja) | 2011-03-07 | 2012-09-13 | Jx日鉱日石金属株式会社 | α線量が少ない銅又は銅合金及び銅又は銅合金を原料とするボンディングワイヤ |
CN103502511A (zh) | 2011-09-28 | 2014-01-08 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 高纯度镧的制造方法、高纯度镧、包含高纯度镧的溅射靶及以高纯度镧为主要成分的金属栅极膜 |
JP5996803B2 (ja) | 2014-02-20 | 2016-09-21 | Jx金属株式会社 | 低α線ビスマスの製造方法及び低α線ビスマス |
US8992759B1 (en) | 2014-02-20 | 2015-03-31 | Honeywell International Inc. | Metal refining process using mixed electrolyte |
KR101600075B1 (ko) * | 2014-11-28 | 2016-03-04 | 공주대학교 산학협력단 | 전력기기용 스위치의 접점 재료 재활용 방법 |
JP6514783B2 (ja) * | 2015-10-19 | 2019-05-15 | Jx金属株式会社 | 高純度錫及びその製造方法 |
CN107849716B (zh) * | 2016-03-09 | 2020-04-10 | Jx金属株式会社 | 高纯度锡及其制造方法 |
-
1998
- 1998-05-29 JP JP14980898A patent/JP3972464B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11343590A (ja) | 1999-12-14 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050817 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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