CN110919019A - 一种高纯钌粉的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及粉末冶金技术领域,具体涉及一种高纯钌粉的制备方法。旨在解决现有技术中产品纯度低,杂质量大的问题。本发明包括:(1)在碱性条件下通入氯气氧化,氧化蒸馏:(2)NH4Cl沉淀,得到(NH4)2RuCl6沉淀;(3)高压水热还原,得到纯钌和钌的氧化物;(4)氢气热还原,获得高纯微米级钌粉产品。优点在于:工艺流程简单,易于实施,钌粉的纯度大于99.999%,流散性好,粒径2~20μm。
Description
技术领域
本发明涉及粉末冶金技术领域,具体涉及一种高纯钌粉的制备方法。
背景技术
钌为硬质的白色金属,密度12.30g/cm³ ,熔点2310℃,沸点3900℃,钌的氧化态为+1、+2、+3、+4、+5、+6、+7、+8,钌有形成配位化合物的强烈倾向,如K4[Ru(CN)6]﹒3H2O、K3[RuCl6]、Na2[RuCl4O2],钌的氧化物RuO4是剧毒的挥发性化合物,对人的眼结膜和呼吸道有强烈刺激作用。钌化学性质很稳定,在温度达100℃时,对普通的酸包括王水在内均有抗御力,对氢氟酸和磷酸也有抗御力,在室温时,氯水、溴水和醇中的碘能轻微地腐蚀钌。对很多熔融金属包括铅、锂、钾、钠、铜、银和金有抗御力。与熔融的碱性氢氧化物、碳酸盐和氰化物起作用。高纯钌粉可作为磁记录介质的中间层材料,广泛应用于计算机硬盘及半导体存储集成电路。高纯钌粉的主要用途是制备钌靶材,钌靶在纯度和形貌结构方面有严格的要求。0.35μm线宽工艺,化学纯度在99.995%以上,0.25μm线宽工艺,化学纯度必须在99.999%以上,甚至99.9999%以上,要求碱金属、过渡金属元素、放射性元素、气体元素等杂质含量非常低,粒度必须控制在100μm以下,为提高致密度,等轴晶粒如球体最佳,钌粉形貌越规整、粒度越均一越有利于靶材的制备。在氧气氛围中,通过钌靶材的溅射形成氧化钌膜,作为金属氧化物半导体电容器的低电极材料。目前己知的制取方法有化学沉淀-氢还原法、电子束熔炼法、二氧化钌氢还原法等。但这些方法制备的钌粉纯度低,形貌不规则,粒度分布不均,粉末流动性差,振实密度低。因此,开发钌粉制备的新途径显得尤为重要。
对比文件中,专利文件1,公开号CN103223493A,公布了一种高纯钌粉的制备工艺:将粗钌粉加入到NaOH溶液中,在氯气的氧化作用下,反应生成RuO4挥发,采用盐酸进行吸收,加热浓缩吸收液至粘稠状,在酸性条件下向浓缩液里加入NaBrO3,挥发的RuO4同样用盐酸吸收,再浓缩,反复进行三次;将钌吸收液浓缩至30-60g/L,加入氧化剂使Ru(III)转变为Ru(IV),升温至80℃,加入过量NH4Cl,使钌以(NH4)2RuCl6的形式沉淀、过滤、洗涤干燥后,进行煅烧、氢还原得到团聚的钌颗粒,经过高能球磨,得到纯度99.99%且形貌结构符合溅射靶材要求的钌粉。该方法存在球磨制粉过程引入新杂质的问题。
对比文件中,专利文件2,公开号CN106392058A,公开了一种钌粉的制备方法。其过程为:基于钌与其他杂质元素沸点与蒸气压不同,应用真空升华技术对99.9%粗钌粉进行物理升华提纯,主要金属杂质Fe、Ca、Cu、Mg、Ni、K、Cr、Na等在此过程中挥发,可制得纯度在99.995%以上的高纯钌粉。该方法未提及钌粉的形貌结构。
对比文件中,专利文件3,公开号US6458183,公开了一种钌粉的制备方法。具体过程为将臭氧通入放有粗钌粉的流化床中,粗钌粉被氧化为四氧化钌气体随多余的臭氧一起进入另一反应器,在反应器内四氧化钌被分解为二氧化钌,将反应器内的二氧化钌通氢还原,得到纯度为99.99%钌粉。该方法制备的钌粉纯度不够,不能满足溅射靶材用钌粉的纯度。
综上所述,现有技术中的钌粉产品存在产品纯度低,杂质量大的问题。
发明内容
本发明的目的就是为了解决现有技术中产品纯度低,杂质量大的问题。
本发明的具体方案是:
设计一种高纯微米级钌粉的制备方法,包括如下步骤:
(1).氧化蒸馏:将99.9%粗钌粉放入三口瓶中,在碱性条件下通入氯气氧化,氧化产物RuO4用七级盐酸吸收液进行吸收,得到氯钌酸溶液;
(2).NH4Cl沉淀:将步骤(1)所得氯钌酸溶液置于双层玻璃反应釜中搅拌加热,在搅拌条件下投入优级纯NH4Cl进行反应,冷却至室温后过滤得到(NH4)2RuCl6沉淀;
(3).高压水热还原:将步骤(2)所得(NH4)2RuCl6沉淀中加超纯水搅拌浆化得到悬浮液,将悬浮液投到内衬为聚四氟乙烯的高压釜内,在高压水热还原条件下,通入氢气进行还原,得到纯钌和钌的氧化物;
(4).氢气热还原:将步骤(3)所得钌和钌的氧化物放入管式炉中通氢还原,获得高纯微米级钌粉产品。
所述碱性条件为在三口瓶中加入饱和NaOH溶液,粗钌粉与NaOH的质量比为1:2~1:5,吸收液盐酸与超纯水的比例为1:1。
步骤(1)中,用蘸湿酸性硫脲的棉球在吸收管道中以检测蒸馏的进程和终点。
步骤(2)所述NH4Cl沉淀的条件为:控制氯钌酸溶液的浓度为10~50g/L,温度为50~100°C。
步骤(3)所述的高压水热还原条件为:还原温度80~120°C,还原时间2~5h。
步骤(4)所述氢气热还原包括钌及其氧化物烘干温度100°C,干燥24h,还原温度为500~900°C,还原时间1~5h。
本发明的有益效果在于:
本发明通过氧化蒸馏、高压水热还原等工艺,制备出了高纯微米级钌粉,工艺流程简单,易于实施,所得粉末的纯度大于99.999%,颗粒微米级,流散性好,粒径2~20μm,聚乙烯内衬可以保证产品加工过程中的纯度。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图;
图2为本发明钌粉的XRD分析图谱;
图3为本发明钌粉的SEM图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例1
一种高纯微米级钌粉的制备方法9,参见图1至图3,设计包括如下步骤:
(1).氧化蒸馏:将99.9%粗钌粉放入三口瓶中,在碱性条件下通入氯气氧化,氧化产物RuO4用七级盐酸吸收液进行吸收,得到氯钌酸溶液;
(2).NH4Cl沉淀:将步骤(1)所得氯钌酸溶液置于双层玻璃反应釜中搅拌加热,在搅拌条件下投入优级纯NH4Cl进行反应,冷却至室温后过滤得到(NH4)2RuCl6沉淀;
(3).高压水热还原:将步骤(2)所得(NH4)2RuCl6沉淀中加超纯水搅拌浆化得到悬浮液,将悬浮液投到内衬为聚四氟乙烯的高压釜内,在高压水热还原条件下,通入氢气进行还原,得到纯钌和钌的氧化物;
(4).氢气热还原:将步骤(3)所得钌和钌的氧化物放入管式炉中通氢还原,获得高纯微米级钌粉产品。
所述碱性条件为在三口瓶中加入饱和NaOH溶液,粗钌粉与NaOH的质量比为1:2~1:5,吸收液盐酸与超纯水的比例为1:1。
步骤(1)中,用蘸湿酸性硫脲的棉球在吸收管道中以检测蒸馏的进程和终点。
步骤(2)所述NH4Cl沉淀的条件为:控制氯钌酸溶液的浓度为10~50g/L,温度为50~100°C。
步骤(3)所述的高压水热还原条件为:还原温度80~120°C,还原时间2~5h。
步骤(4)所述氢气热还原包括钌及其氧化物烘干温度100°C,干燥24h,还原温度为500~900°C,还原时间1~5h。
采用辉光放电质谱法法(GDMS)对本发明制备的钌粉进行纯度检测,结果如表1。
表1 钌粉杂质分析结果。
注:采用GDMS分析检测。
实施例2
与实施例1不同之处在于,氧化蒸馏:钌粉与NaOH的质量比为1:2,蒸馏温度为70°C。NH4Cl沉淀:控制氯钌酸溶液的浓度为30g/L,温度为80°C。蒸馏时间延长,所得氯钌酸溶液浓度偏低, NH4Cl沉淀后所得沉淀颗粒偏细,最后所得钌粉颗粒平均粒径为5μm;
实施例3
与实施例1不同之处在于,所述NH4Cl沉淀:控制氯钌酸溶液的浓度为50g/L,温度为90°C。高压水热还原条件为:还原温度100°C,还原时间5h。氯化铵用量相比减少,所得(NH4)2RuCl6颗粒粒径偏大,高压热还原时间延长,所得钌粉平均粒径为15μm;
实施例4
与实施例1不同之处在于,所述氢气热还原温度900°C,还原时间3h。所得钌粉颜色较白,金属光泽明显,平均粒径20μm。
比较例1
用的蒸馏方式为酸性蒸馏,蒸馏效率低,粗钌粉未能全部反应,NH4Cl沉淀温度不足,钌没有全部沉淀,导致母液颜色较深,钌的直收率较低
比较例2
过程中NH4Cl沉淀时氯钌酸浓度为50g/L过高,所形成的(NH4)2RuCl6颗粒粒径偏大,高压水热还原温度和时间不足,反应不充分,(NH4)2RuCl6未被全部还原。
比较例3
氢气热还原温度为900°C过高,还原时间太长,所得钌粉二次团聚。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种高纯钌粉的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1).氧化蒸馏:将99.9%粗钌粉放入三口瓶中,在碱性条件下通入氯气氧化,氧化产物RuO4用七级盐酸吸收液进行吸收,得到氯钌酸溶液;
(2).NH4Cl沉淀:将步骤(1)所得氯钌酸溶液置于双层玻璃反应釜中搅拌加热,在搅拌条件下投入优级纯NH4Cl进行反应,冷却至室温后过滤得到(NH4)2RuCl6沉淀;
(3).高压水热还原:将步骤(2)所得(NH4)2RuCl6沉淀中加超纯水搅拌浆化得到悬浮液,将悬浮液投到内衬为聚四氟乙烯的高压釜内,在高压水热还原条件下,通入氢气进行还原,得到纯钌和钌的氧化物;
(4).氢气热还原:将步骤(3)所得钌和钌的氧化物放入管式炉中通氢还原,获得高纯微米级钌粉产品。
2.如权利要求1所述的高纯钌粉的制备方法,其特征在于:所述碱性条件为在三口瓶中加入饱和NaOH溶液,粗钌粉与NaOH的质量比为1:2~1:5,吸收液盐酸与超纯水的比例为1:1。
3.如权利要求1所述的高纯钌粉的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,用蘸湿酸性硫脲的棉球在吸收管道中以检测蒸馏的进程和终点。
4.如权利要求1所述的高纯钌粉的制备方法,其特征在于:步骤(2)所述NH4Cl沉淀的条件为:控制氯钌酸溶液的浓度为10~50g/L,温度为50~100°C。
5.如权利要求4所述的高纯钌粉的制备方法,其特征在于:步骤(3)所述的高压水热还原条件为:还原温度80~120°C,还原时间2~5h。
6.如权利要求1所述的高纯钌粉的制备方法,其特征在于:步骤(4)所述氢气热还原包括钌及其氧化物烘干温度100°C,干燥24h,还原温度为500~900°C,还原时间1~5h。
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