DE19983378B3

DE19983378B3 - Dünnfilmmagnetkopf, Verfahren zur Herstellung desselben und Magnetspeichervorrichtung

Info

Publication number: DE19983378B3
Application number: DE19983378T
Authority: DE
Inventors: Yoshihiro Nonaka; Haruo Urai; Nobuyuki Ishiwata; Kiyotaka Shimabayashi; Tetsuhiro Suzuki; Shinsaku Saitho; Hiroaki Tachibana; Tamaki Toba
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1998-07-15
Filing date: 1999-07-05
Publication date: 2012-11-22
Anticipated expiration: 2019-07-06
Also published as: TW535153B; DE19983378T1; US6804088B1; JP3292148B2; WO2000004535A1; JP2000030217A

Abstract

Die Erfindung ermöglicht es, einen Spitzenabschnitt der Aufzeichnungspolschicht sehr genau auszubilden, ohne den magnetischen Widerstand im Spitzenabschnitt der Aufzeichnungspolschicht zu erhöhen. Die Aufzeichnungspolschicht 12 ist in einen Spitzenabschnitt 121, einen breiten hinteren Abschnitt 122, einen Verbreiterungsabschnitt 123 und einen Jochabschnitt 124 in dieser Reihenfolge untergeteilt, gesehen von der ABS 76. Der Spitzenabschnitt 121 und breite hintere Abschnitt 122 sind auf einer Schreibspaltschicht 84 vorhanden. Der breite hintere Abschnitt 122 hat eine größere Breite als der Spitzenabschnitt, wenn die Breite in einer Richtung vertikal zur Filmdickenrichtung des Schreibspaltabschnitts 84 und parallel zur ABS 76 definiert ist. Der breite hintere Abschnitt 122 ist zwischen dem Spitzenabschnitt 121 und dem Verbreiterungsabschnitt 123 vorhanden, um den magnetischen Widerstand zu reduzieren. Demzufolge kann die Mustergenauigkeit der Spitzenabschnittbreite verbessert werden, indem der Verbreiterungsabschnitt 123, der eine große Lichtmenge reflektiert, weit von der ABS 76 bereitgestellt wird, wobei dennoch eine Erhöhung des magnetischen Widerstands verhindert wird.

Description

Hintergrund der Erfindung
1. Gebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft einen Dünnfilmmagnetkopf des induktiven Typs, ein Verfahren zur Herstellung desselben und eine Magnetaufzeichnungsvorrichtung.
2. Beschreibung des Standes der Technik
In jüngster Zeit ist die Aufzeichnungsdichte einer Festplattenvorrichtung deutlich erhöht worden. Seit dem Jahr 1990 ist die Aufzeichnungsdichte jedes Jahr um etwa 60% erhöht worden. Um die Aufzeichnungsdichte einer Festplattenvorrichtung zu erhöhen, muß die Magnetkopfspurbreite reduziert werden, nämlich um die Aufzeichnungsspurdichte zu erhöhen. Um die Aufzeichnungsdichte zu erhöhen, ist es ferner auch wichtig, die Aufzeichnungsbitdichte zu erhöhen. Zur Erhöhung der Aufzeichnungsbitdichte muß das Aufzeichnungsmedium mit einer hohen Koerzitivkraft Hc verbessert werden, was einen induktiven Magnetaufzeichnungskopf mit einer hohen Aufzeichnungseffizienz erfordert. Um ein Signal aus einem kleinen Aufzeichnungsbit effektiv zu delektieren, muß außerdem ein MR-(Magnetoresistenz-)Wiedergabekopf verwendet werden. Demzufolge setzt man große Erwartungen auf eine Aufzeichnung hoher Dichte, die unter Verwendung eines MR-Kopfes in Kombination mit einem induktiven Aufzeichnungskopf, d. h. einem Dünnfilmmagnetkopf des MR-induktiven Mischtyps, realisiert wird.
15 und 16 zeigen einen herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopf des MR-induktiven Mischtyps. 16 ist eine Draufsicht der Gesamtkonfiguration, und 15 ist eine Schnittansicht entlang der Linie XV-XV in 16.
Der herkömmliche Dünnfilmmagnetkopf 70 weist auf: eine untere Schirmschicht 74, eine Lesespaltschicht 80, eine untere Polschicht 82, die auch als obere Schirmschicht dient; und eine Schreibspaltschicht 84, die in dieser Reihenfolge auf einem Isolationssubstrat (nicht dargestellt) ausgebildet sind. Der Dünnfilmmagnetkopf 70 weist außerdem ein magnetosensitives Element auf, das in die Lesespaltschicht eingefügt ist und der ABS (Luftlagerfläche) 76 zugewandt ist. Der Dünnfilmmagnetkopf 70 weist ferner auf: eine erste Füllmaterialschicht 86, die auf der Schreibspaltschicht 84 außer in der Nähe der ABS 76 ausgebildet ist, eine Spulenmusterschicht 88; und eine zweite Füllmaterialschicht 90, die in dieser Reihenfolge ausgebildet sind. Der Dünnfilmmagnetkopf 70 weist ferner eine Aufzeichnungspolschicht 92 auf, die auf der Schreibspaltschicht 84 und der ersten Füllmaterialschicht 86 sowie auf der zweiten Füllmaterialschicht 90 ausgebildet ist.
Die untere Polschicht 82 dient als untere Polschicht des induktiven Aufzeichnungskopfes sowie als obere Schirmschicht zur Erhohung der Wiedergabeauflösung. Das magnetosensitive Element ^–8 detektiert ein Signalmagnetfeld aus einem magnetischen Speichermedium (nicht dargestellt), das der ABS 76 zugewandt ist. Die Schreibspaltschicht 84 hat eine Dicke wie ein Spalt des induktiven Aufzeichnungskopfes. Die erste Füllmaterialschicht 86 dient als Isolationsfundament der Spulenmusterschicht 88. Die zweite Füllmaterialschicht 90 löst die konvexe und konkave Konfiguration der Spulenmusterschicht 88 auf.
Nachstehend wird der Aufzeichnungsvorgang des Dünnfilmmagnetkopfes 70 beschrieben. Ein Magnetfluß, der erzeugt wird, wenn elektrischer Strom an die Spulenmusterschicht 88 angelegt wird, fließt von einem Polfenster 94 in der Mitte der Spulenmusterschicht 88 durch den Aufzeichnungspol 94 mit einem kleinen magnetischen Widerstand (10- bis 100 mal kleiner im Vergleich mit Luft), um zum Polfenster 94 zurückzukehren. Dagegen sind der Aufzeichnungspol und die untere Polschicht 82 über einen Raum miteinander verbunden, der durch die Schreibspaltschicht bereitgestellt wird. Demzufolge entweicht ein Teil des in der Schreibspaltschicht 84 vorhandenen Magnetfeldes in die ABS 76, wobei ein Aufzeichnungsmagnetfeld erzeugt wird.
17 und 18 zeigen einen Teil des Dünnfilmmagnetkopfes 70 teilweise vergrößert. 18 ist eine Teildraufsicht, und 17 ist eine Schnittansicht entlang der Linie XVII-XVIF in 18. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf diese Figuren.
Zunächst werden in dieser Beschreibung ”Breite” und ”Länge” folgendermaßen definiert. Die Breite ist einer Richtung senkrecht zur Dickenrichtung der Schreibspaltschicht 84 und parallel zur ABS 76. Die Länge ist in einer Richtung senkrecht zur ABS 76.
Der Aufzeichnungspol 92 kann in einen Spitzenabschnitt 921, einen Verbreiterungsabschnitt 922 und einen Jochabschnitt 923 in dieser Reihenfolge von der Seite der ABS 76 eingeteilt werden. Der Verbreiterungsabschnitt 922 reduziert seine Breite kontinuierlich vom Jochabschnitt 923 zum Spitzenabschnitt 921 hin. Der Spitzenabschnitt 921 erstreckt sich mit einer konstanten Breite W von der ABS 76, um den Verbreiterungsabschnitt 922 zu erreichen.
Mit Bezug auf 17 und 18 wird angenommen, daß der Spitzenabschnitt 921 eine Spitzenlänge L hat. Die Spitzenlänge L wird durch ein Maskenmuster bestimmt, das verwendet wird, wenn das Aufbringen der Aufzeichnungspolschicht 92 mittels Rahmenplattierung erfolgt. Außerdem wird angenommen, daß die Spalttiefe D eine Strecke zwischen der ABS 76 und der Spitze der ersten Füllmaterialschicht ist. Das heißt, die Tiefe D ist ein Abschnitt der Schreibspaltschicht, die nur von der Aufzeichnungspolschicht und der unteren Polschicht sandwichartig eingeschlossen ist. Die Aufzeichnungsspurbreite wird durch die Spitzenbreite W der Aufzeichnungspolschicht 92 bestimmt und ist fast gleich der Spitzenbreite W. Um eine hohe Aufzeichnungsdichte zu erreichen, muß die Aufzeichnungspolschicht 92 mit einer möglichst kleinen Spitzenbreite W realisiert werden.
Wie in 18 gezeigt, ist die Beziehung zwischen der Spitzenlänge L und der Spalttiefe D herkömmlicherweise L > D. Demzufolge ist der Spitzenabschnitt 921 teilweise auf einem abgestuften Abschnitt der ersten Füllmaterialschicht 86 angeordnet. Dagegen verschlechtert das Photoresistmuster, das zur Bildung des Spitzenabschnitts 921 verwendet wird, die Maßgenauigkeit, da das Licht während der Belichtung vom abgestuften Abschnitt reflektiert wird. Um die Spitzenbreite W an der ABS 76 mit einer hohen Maßgenauigkeit auszubilden, sollte demzufolge der Verbreiterungsabschnitt 922, der eine große Lichtmenge reflektiert, in einem großen Abstand von der ABS 76 angeordnet sein.
Der Magnetfluß, der den Jochabschnitt 923 durchlaufen hat, wird mit dem Verbreiterungsabschnitt 922 konvergiert und ferner im schmalen Spitzenabschnitt 921 umgekehrt. Wenn die Spitzenlänge L groß ist, wird eine beträchtliche Streuung in einem schmalen Abschnitt mit einem hohen magnetischen Widerstand, z. B. im Spitzenabschnitt 921, bewirkt. Dies vermindert die Magnetflußzufuhr zum Spitzenabschnitt 921. Dies wiederum vermindert das Magnetfeld in der Schreibspaltschicht 84 der ABS 76. Um den magnetischen Widerstand im Spitzenabschnitt 921 zu reduzieren, um ein ausreichenden Aufzeichnungsmagnetfeld zu erreichen, muß demzufolge die Spitzenlänge L möglichst groß ausgeführt sein.
Wenn jedoch die Spitzenlänge L vermindert wird, wird der Verbreiterungsabschnitt 922 an einer Position nahe der ABS 76 ausgebildet. Wenn die Spitzenlänge L reduziert wird, wie oben beschrieben, verschlechtert demzufolge die Lichtreflexion vom abgestuften Abschnitt die Musterbildungsgenauigkeit am Spitzenabschnitt 921.
Die genaue Bildung der Spitzenreduzierung des magnetischen Widerstands des Spitzenabschnitts 921 dient dazu, ein ausreichendes Aufzeichnungsmagnetfeld zu erzielen.
US-A-5 600 519 beschreibt einen Dünnfilmmagnetkopf, wobei die Breite der ersten und zweiten magnetischen Jochschichten zwischen dem Auskragungsnullpunkt und dem Jochöffnungspunkt nach und nach verbreitert wird, um die Flussdichte über dieser Länge auszugleichen, damit die vollständige Länge bei einem Strom gleichzeitig die Sättigung erreicht.
US-A-5 257 149 zeigt ein Offsetadressfeld in einem Magnetplattespeichersystem, das einen Kopf mit einem Doppelluftspalt und einen drehbaren Aktuator benutzt. Der Kopf mit dem Doppelluftspalt hat zwei Luftspalte, wobei einer zum Lesen und der andere zum Schreiben von Information ist. Vor dem Schreiben einer Information wird ein Adressfeld, das einem Datenfeld vorangeht, gelesen.
Zusammenfassung der Erfindung
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung, einen Dünnfilmmagnetkopf, ein Verfahren zur Herstellung desselben und eine Magnetaufzeichnungsvorrichtung bereitzustellen, bei der die Spitzenbreite mit einer hohen Genauigkeit ausgebildet werden kann, ohne den magnetischen Widerstand im Spitzenabschnitt zu erhöhen. Die Erfindung stellt bereit: einen Dünnfilmmagnetkopf mit einer Schreibspaltschicht, die auf einer unteren Polschicht ausgebildet ist; eine erste Füllmaterialschicht, eine Spulenmusterschicht, eine zweite Füllmaterialschicht, die nacheinander in dieser Reihenfolge auf der Schreibspaltschicht außer in der Nähe der ABS ausgebildet sind; und eine Aufzeichnungspolschicht, die auf der Schreibspaltschicht mindestens in der Nähe der ABS ausgebildet ist. Die Aufzeichnungspolschicht ist in einen Spitzenabschnitt, einen breiten hinteren Abschnitt, einen Verbreiterungsabschnitt und einen Jochabschnitt eingeteilt, in dieser Reihenfolge von der ABS aus gesehen. Der Spitzenabschnitt und der breite hintere Abschnitt werden auf der Schreibspaltschicht bereitgestellt. Dabei ist die Länge von einem von der ABS beabstandeten Ende zum anderen Ende der ABS-Seite des breiten hinteren Abschnitts größer als die des Spitzenabschnitts, wenn die Länge als vertikal zur Filmdickenrichtung der Schreibspaltschicht und vertikal zur ABS bestimmt wird. Der breite hintere Abschnitt hat eine größere Breite als der Spitzenabschnitt, wenn die Breite als vertikal zur Filmdickenrichtung der Schreibspaltschicht und parallel zur ABS bestimmt wird.
Die Erfindung ist gekennzeichnet durch einen breiten hinteren Abschnitt, der zwischen dem Spitzenabschnitt und dem Verbreiterungsabschnitt vorhanden ist. Der breite hintere Abschnitt ist zusammen mit dem Spitzenabschnitt auf der flachen Schreibspaltschicht vorhanden. Demzufolge wird während der Belichtung kein Licht vom breiten hinteren Abschnitt zum Spitzenabschnitt reflektiert. Außerdem hat der breite hintere Abschnitt eine größere Breite als der Spitzenabschnitt, was die Vergrößerung des magnetischen Widerstands mildert. Demzufolge kann der Verbreiterungsabschnitt, der eine große Lichtmenge reflektiert, weit von der ABS entfernt angeordnet werden, um die Mustergenauigkeit zu verbessern, wobei dennoch die Erhöhung des magnetischen Widerstands unterdrückt wird.
Im Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 3 bis 10 sind einige der Bestandteile des Dünnfilmmagnetkopfs gemäß Anspruch 1 genau definiert.
Kurzbeschreibung der Zeichnungen
1 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung, geschnitten entlang der Linie I-I in 2.
2 ist eine Draufsicht des Dünnfilmmagnetkopfes in 1.
3 ist eine vergrößerte Draufsicht des Spitzenabschnitts eines in 18 gezeigten herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopfes.
4 ist ein Diagramm, das die Wirkung der Lichtreflexion von einem abgestuften Abschnitt auf der Schreibspaltschicht des Dünnfilmmagnetkopfes in 3 zeigt.
5 ist ein Diagramm, das eine Beziehung zwischen (hintere Breite W₁/Spitzenbreite) und der Aufzeichnungsmagnetfeldstarke des Dünnfilmmagnetkopfes in 1 zeigt.
6 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung.
7 ist eine Draufsicht, die die Positionsbeziehung zwischen einer Aufzeichnungspolschicht und einer unteren Polschicht im Dünnfilmmagnetkopf in 6 zeigt.
8 ist Vorderansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer dritten Ausführungsform der Erfindung, gesehen von der ABS.
9 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer vierten Ausführungsform der Erfindung.
10 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer fünften Ausführungsform der Erfindung, geschnitten entlang der Linie X-X in 11.
11 ist eine Draufsicht eines Dünnfilmmagnetkopfes in 10.
12 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer sechsten Ausführungsform der Erfindung.
13A und 13B sind Draufsichten eines ersten Beispiels und eines zweiten Beispiels eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer siebten Ausführungsform der Erfindung.
14 zeigt eine Konfiguration einer Ausführungsform einer Magnetaufzeichnungsvorrichtung, die den erfindungsgemäßen Dünnfilmmagnetkopf verwendet.
15 ist eine Schnittansicht eines herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopfes, geschnitten entlang der Linie XV-XV in 16.
16 ist eine Draufsicht des herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopfes in 15.
17 ist eine vergrößerte Schnittansicht des herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopfes in 15, geschnitten entlang der Linie XVII-XVII in 18.
18 ist eine vergrößerte Draufsicht des Dünnfilmmagnetkopfes in 16.
Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
Nachstehend werden bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen ausführlich beschrieben. Gleiche Bezugszeichen werden für gleiche Bestandteile verwendet, und diese werden nur einmal beschrieben.
1 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung, geschnitten entlang einer Linie I-I in 2. 2 ist eine Draufsicht des Dünnfilmmagnetkopfes in 1. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf diese Figuren.
Der Dünnfilmmagnetkopf 10 gemäß der Erfindung weist eine untere Polschicht 82 auf, auf der eine Schreibspaltschicht 84 vorhanden ist. Auf der Schreibspaltschicht 84 außer in der Nähe der ABS 76 sind eine erste Füllmaterialschicht 86, eine Spulenmusterschicht 88 und eine zweite Füllmaterialschicht 90 vorhanden, die in dieser Reihenfolge übereinander angeordnet sind. Außerdem ist eine Aufzeichnungspolschicht 12 auf einem Abschnitt der Schreibspaltschicht 84 in der Nähe der ABS 76, der ersten Füllmaterialschicht 86 und der zweiten Füllmaterialschicht 90 angeordnet.
Die Aufzeichnungspolschicht 12 ist in vier Abschnitte eingeteilt: einen Spitzenabschnitt 121, einen breiten hinteren Abschnitt 122, einen Verbreiterungsabschnitt 123 und einen Jochabschnitt 121, in dieser Reihenfolge von der Seite der ABS 76. Wenn eine Breite in einer vertikalen Richtung zur Filmdickenrichtung und in einer parallelen Richtung zur ABS 76 definiert ist, hat der breite hintere Abschnitt 122 eine größere Breite als der Spitzenabschnitt 121.
Der Verbreiterungsabschnitt 123 wird zum breiten hinteren Abschnitt 122 hin schmaler und ist in Kontakt mit dem breiten hinterer. Abschnitt 122 mit einer vorbestimmten Breite (der hintere breite Abschnitt W₁, der später ausführlich beschrieben wird). Der breite hintere Abschnitt erstreckt sich bis zu einem Punkt in einem vorbestimmten Abstand mit einer konstanten Breite zum Spitzenabschnitt 121 hin und verringert dann allmählich seine Breite zum Spitzenabschnitt 121 hin.
Nachstehend wird ein Verfahren zur Herstellung des Dünnfilmmagnetkopfes 10 beschrieben.
Zunächst wird auf einem Isolatorsubstrat (nicht dargestellt) die untere Polschicht durch Aufbringen eines NiFe-Films mit einer Dicke von 3 μm durch Rahmenplattierung ausgebildet.

1) Anschließend wird die Schreibspaltschicht 84 durch Aufstäuben ausgebildet, um einen Al203-Film mit einer Dicke von 350 nm Herzustellen.
2) Anschließend wird die erste Füllmaterialschicht 86 unter Verwendung eines Photoresistmusters und mittels thermischer Härtung ausgebildet, um eine Isolation zwischen der unteren Polschicht 82 und der Spulenmusterschicht 88 herzustellen.

Anschließend wird die Spulenmusterschicht 88 durch Aufbringen eines Cu-Films mit einer Dicke von 3 μm ausgebildet.
Anschließend wird die zweite Füllmaterialschicht 90 unter Verwendung eines Photoresistmusters und mittels thermischer Härtung ausgebildet, um eine Isolation zwischen der unteren Polschicht 82 und der Spulenmusterschicht 88 herzustellen.
Anschließend wird ein Resistrahmenmuster durch Belichtung ausgebildet, um die Aufzeichnungspolschicht 12 herzustellen. Der hier verwendete Mast hat eine solche Konfiguration, daß die Bodenfläche des Spitzenabschnitts 121 und des breiten hinteren Abschnitts 122 vollständig in Kontakt mit der Schreibspaltschicht 84 sind; und der breite hintere Abschnitt 122 ist zur Seite des Verbreiterungsabschnitts 123 hin bis zu 4 mal größer als die Breite W.
Anschließend wird die Aufzeichnungspolschicht 12 durch Aufbringen eines NiFe-Films mit einer Dicke von 4 μm durch Rahmenplattierung ausgebildet. Man beachte, daß die Aufzeichnungspolschicht 12 mit der unteren Polschicht 82 durch ein Polfenster 94 (14 und 15) in der Mitte der Spulenmusterschicht 88 verbunden ist.
3 ist eine vergrößerte Teildraufsicht eines herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopfs. 4 ist ein Diagramm, das eine Wirkung der Reflexion vom abgestuften Abschnitt einer Schreibspaltschicht eines herkömmlichen Dünnfilmmagnetkopfs zeigt. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf 1 und 4.
In 3 ist eine Maskenkonfiguration durch eine Strich-Punkt-Linie und eine tatsächlich ausgebildete Konfiguration durch eine durchgezogene Linie dargestellt. In den Nähe des Spitzenabschnitts 921, wie oben beschrieben, ist die Mustergenauigkeit infolge der Wirkung der Reflexion von der ersten Füllmaterialschicht 86 und der zweiten Füllmaterialschicht 90 vermindert. Diese Reflexion hat eine ungünstige Wirkung nicht zur für den Spitzenabschnitt 921 der ersten Füllmaterialschicht 86, sondern auch für die Mustergenauigkeit des Spitzenabschnitts 921 auf der Schreibspaltschicht 84. Hierzu ist auf dem Schreibspaltbereich 84 ein ”Reflexionswirkungsbereich A” als Entfernung einer Mustergenauigkeitsverminderung vom Spitzenabschnitt 861 der ersten Füllmaterialschicht definiert.
Insgesamt wurden 52 Dünnfilmmagnetköpfe 70 (siehe 15 bis 18) hergestellt, um den Reflexionswirkungsbereich A zu messen. Die Ergebnisse sind als Frequenzverteilung in 4 dargestellt.
Um die Verschlechterung der Mustergenauigkeit an der ABS 76 des Spitzenabschnitts 921 zu verhindern, muß, wie aus 4 hervorgeht, die Spitze 861 der ersten Füllmaterialschicht in einer Entfernung von mindestens 4 μm von der ABS 76 sein.
Erfindungsgemäß ist L < D, wie in 2 gezeigt. Das heißt, der Spitzenabschnitt 121 ist vollständig auf dem flachen Schreibspalt 84. Dagegen ist, wie aus den Ergebnissen in 4 hervorgehgt, auf dem Schreibspalt ein Abschnitt, der von der Spitze 861 der ersten Füllmaterialschicht um mehr als den Reflexionswirkungsbereich A (z. B. 4,6 μm) entfernt ist, nicht der Reflexionswirkung ausgesetzt.
Anschließend wird die Musterbildungsgenauigkeit des Spitzenabschnitts 121 an der ABS 76 erhöht, wenn die Spitze 861 der ersten Füllmaterialschicht 86 in einem Abstand von der ABS 76 ist, der größer ist als der Reflexionswirkungsbereich A (z. B. 4,6 μm).
Außerdem hat die hintere Breite W₁ des breiten hinteren Abschnitt 122 eine Breite, die etwa viermal größer ist als die Spitzenbreite W. Während des Belichtungsschritts wird das Reflexionslicht von der flachen Schreibspaltschicht 80 reflektiert, und dies beeinträchtigt die Genauigkeit der Bildung von der Spitzenbreite W nicht.
Als nächstes wird der Aufzeichnungsvorgang des Dünnfilmmagnetkopfs 10, d. h. der Mechanismus einer Aufzeichnungsmagnetfelderzeugung von der Schreibspaltschicht 84, beschrieben.
Der Magnetfluß, der vom Verbreiterungsabschnitt 123 eingeschränkt oder enger fokussiert wird, durchdringt den breiten hinteren Abschnitt 122 mit der hinteren Breite W₁, die viermal oder mehr größer ist als die Spitzenbreite 4. Dadurch wird die Schnittfläche, die der Magnetfluß durchdringt, etwa viermal größer als in der herkömmlichen Vorrichtung. Dabei werden die Konzentration des Flusses und die Zunahme des magnetischen Widerstands unterdrückt. Dadurch kann ein großes Spaltmagnetfeld im Schreibspalt in Kontakt mit dem Spitzenabschnitt 121 und dem breiten hinteren Abschnitt 122 erzeugt werden.
Das Aufzeichnungsmagnetfeld wird durch Streuung eines Teils des im Spalt vorhandenen Magnetfeldes von der ABS 76 durch den schmalen Spitzenabschnitt 121 mit einem hohen magnetischen Widerstand erzeugt. Wenn die Länge L des Spitzenabschnitts zu groß ist, wird demzufolge, wie in der herkömmlichen Vorrichtung, der magnetische Widerstand durch die magnetische Sättigung im Spitzenabschnitt 121 erhöht, und das Aufzeichnungsmagnetfeld wird vermindert. Erfindungsgemäß wird jedoch der gesamte Spitzenabschnitt 121 auf der Schreibspaltschicht 84 ausgebildet, die nicht abgestuft, sondern flach ist. Dadurch wird die Musterbildungsgenauigkeit erhöht, und die Spitzenlänge L kann etwa 1/2 der Spitzenbreite L (Aufzeichnungsspurbreite) betragen.
5 ist ein Diagramm, das die Beziehung zwischen [hintere Abschnittbreite W₁/Spitzenbereite W] und der Aufzeichnungsmagnetfeldstärke zeigt. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf 1, 2 und 5.
Wenn der breite hintere Abschnitt 122 den Magnetfluß vom Verbreiterungsabschnitt 123 in den Spitzenabschnitt 121 fließen läßt, muß der breite hintere Abschnitt 122 einen magnetischen Widerstand haben, der kleiner ist als der Spitzenabschnitt 121, so daß das Aufzeichnungsmagnetfeld nicht vermindert wird, weil die Sättigung des breiten hinteren Abschnitts 121 früher erfolgt als die des Spitzenabschnitts.
Das heiß, eine entsprechende hintere Abschnittbreite W₁ wird nach der Spitzenbreite W, d. h. der Aufzeichnungsspurbreite, bestimmt.
5 zeigt Berechnungsergebnisse der Aufzeichnungsmagnetfeldstärke in bezug auf die [hintere Abschnittbreite W₁/Spitzenbreite W]. Wenn der W_i/W-Wert gleich 1 ist, kann keine Aufzeichnungsmagnetfeldstärke erreicht werden, die für die magnetische Sättigung des breiten hinteren Abschnitts 122 ausreicht. Wenn die [hintere Abschnittbreite W₁/Spitzenbreite W] im Bereich von 2 bis 4 liegt, wird die magnetische Sättigung im breiten hinteren Abschnitt 122 gemildert, was wiederum die Aufzeichnungsmagnetfeldstärke erhöht. Wenn ferner die [hintere Abschnittbreite W₁/Spitzenbreite W] etwa 4 oder mehr ist, ist die Aufzeichnungsmagnetfeldstärke bereits gesättigt. Folglich ist der W₁/W-Wert vorzugsweise 4 oder mehr, wenn das Aufzeichnungsmagnetfeld gesättigt ist.
Wenn der Magnetfluß von der unteren Polschicht 82 eintritt, um die Mitte der Spulenmusterschicht 88 zu durchdringen und die Aufzeichnungspolschicht 12 zu erreichen, wird der Magnetfluß durch die Polfensterbreite W₂ des Polfensters 94 eingeschränkt.
Wenn W₁ > W₂, hängt die Aufzeichnungsmagnetstärke demzufolge von der magnetischen Sättigung im Polfenster 94 und von der Zunahme des magnetischen Widerstands und nicht vom breiten hinteren Abschnitt 122 ab. Folglich ist W₁ < W₂ unerläßlich, um eine ausreichende magnetische Wirkung zu erreichen.
Als nächstens wird mit Bezug auf 1 bis 5 die Funktion und die Wirkung des Dünnfilmmagnetkopfs 10 beschrieben.
Der Dünnfilmmagnetkopf 10 hat eine Aufzeichnungspolschicht 12, die aus dem Spitzenabschnitt 121 und dem breiten hinteren Abschnitt, die auf der Schreibspaltschicht 84 sind, und aus einem Verbreiterungsabschnitt 123 und einem Jochabschnitt 124 besteht, die auf der ersten Füllmaterialschicht 86 und der zweiten Füllmaterialschicht 90 sind.
Wenn der breite hintere Abschnitt 122 eine hintere Abschnittbreite W₁ hat, die viermal größer ist als die Spitzenbreite, kann der Magnetfluß effektiv zum Spitzenabschnitt 121 hindurchdringen ohne magnetische Sättigung des breiten hinteren Abschnitts 122 infolge des durch den Verbreiterungsabschnitt 123 fokussierten Magnetflusses oder der Zunahme des magnetischen Widerstands.
Wenn der breite hintere Abschnitt 122 eine Breite W₁ hat, die kleiner ist als die Breite W₂ (siehe 15 und 16), dann wird das Polfenster 94 außerdem niemals vor dem breiten hinteren Abschnitt 122 magnetisch gesättigt, und die magnetische Wirkung vermindert sich nicht.
Wenn der Spitzenabschnitt 121, der die Aufzeichnungsspurbreite bestimmt, vollständig auf der flachen Schreibspaltschicht 84 ausgebildet ist und wenn die erste Füllmaterialschicht 86 einen Spitzenabschnitt 861 hat, der von der ABS 76 entfernt ist und sich weiter als der Reflexionswirkungsbereich A erstreckt und vorzugsweise 4 μm von der ABS 76 entfernt ist, beeinflußt die Lichtreflexion aufgrund eines abgestuften Abschnitts die Musterbildungsgenauigkeit der Spitzenabschnittbreite W im Belichtungsschritt nicht ungünstig. Demzufolge kann die Spitzenlänge L auf 1/2 der Aufzeichnungsspurbreite reduziert werden, während die Spitzenbreite W konstant gehalten wird. Dadurch kann die Zunahme des magnetischen Widerstands verhindert werden.
Im Dünnfilmmagnetkopf 10 ist L < D. Demzufolge wird die Aufzeichnungsmagnetfeldstärke hauptsächlich von der Spitzenabschnittlänge L beeinflußt. Folglich ist die Wirkung der Spalttiefe D auf die Aufzeichnungsfähigkeit geringer als bei der herkömmlichen Vorrichtung, was wiederum die Positionsgenauigkeit des Spitzenabschnitts 861 der ersten Füllmaterialschicht 86 mildert.
6 ist eine Schnittansicht des Dünnfilmmagnetkopfes gemäß der zweiten Ausführungsform der Erfindung. 7 zeigt eine Positionsbeziehung zwischen der Aufzeichnungspolschicht und der unteren Polschicht des Dünnfilmmagnetkopfes in 6. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf diese Figuren. Man beachte, daß gleiche Bestandteile wie in 1 und 2 mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind und auf ihre Beschreibung nachstehend verzichtet wird.
Im Dünnfilmmagnetkopf 20 gemäß der zweiten Ausführungsform ist eine Vertiefung 24 in einer Entfernung von der ABS 76 in der unteren Polschicht 22 vorhanden. Die Vertiefung 24 ist mit einem nichtmagnetischen Material 26 gefüllt, und die Vertiefung 24 bestimmt die Spalttiefe D zwischen der Aufzeichnungspolschicht 12 und der unteren Polschicht 22.
Die Vertiefung 24 ist in der unteren Polschicht 22 in einer solchen Position ausgebildet, daß sie den breiten hinteren Abschnitt 122 und dem Verbreiterungsabschnitt 123 gegenüberliegt. Die Vertiefung 24 hat eine Fläche, die größer oder gleich einer Fläche (Länge × Breite) des breiten hinteren Abschnitts 122 ist. Die Kante der Vertiefung 24 auf der Seite der ABS 76 ist in einer solchen Position angeordnet, daß sie dem breiten hinteren Abschnitt 122 gegenüberliegt. Die Öffnung der Vertiefung 24 ist fast glatt mit der oberen Fläche der unteren Polschicht 22 mit einem nichtmagnetischen Material 26 gefüllt.
Die Spalttiefe D ist als Tiefe der Spaltebene definiert, wo die Aufzeichnungspolschicht 12 über die Schreibspaltschicht 84 mit der unteren Polschicht 22 magnetisch verbunden ist. Demzufolge ist die Spalttiefe D in dieser Ausführungsform eine Entfernung von der ABS 76 bis zur Kante der Vertiefung auf der Seite der ABS 76.
Die Entfernung zwischen der Aufzeichnungspolschicht und der unteren Polschicht im breiten hinteren Abschnitt 122 ist größer als in der ersten Ausführungsform, und zwar um die Tiefe der Vertiefung 24. Demzufolge besteht die Tendenz, daß der Magnetfluß, der aus dem breiten hinteren Abschnitt 122 kommt und die Schreibspaltschicht 84 durchdringt, um in die untere Polschicht einzudringen, in die untere Polschicht eindringt, ohne die Vertiefung als magnetische Lücke zu durchdringen. Dadurch wird Magnetfluß effektiv im Spitzenabschnitt 121 konzentriert. Folglich erhöht die zweite Ausführungsform weiter die Wirkung der Erzeugung des Aufzeichnungsmagnetfeldes.
8 ist eine Vorderansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß der dritten Ausführungsform (unter Polschichtbeschneidung) der Erfindung, gesehen von der ABS 76. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf 8. Gleiche Bestandteile wie in 1 und 2 sind mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet, und auf deren Beschreibung wird verzichtet.
Im Dünnfilmmagnetkopf 30 der dritten Ausführungsform ist die untere Polschicht 32 auf der Seite der ABS 76 entfernt, wobei ein Abschnitt gegenüber dem Spitzenabschnitt 121 verbleibt. Das heißt, ein abgeschnittener Abschnitt 341 und ein abgeschnittener Abschnitt 342 werden auf der Ebene ausgebildet, die der unteren Polschicht 32 zugewandt ist, wobei die untere Polschicht 32 mit einer Breite verbleibt, die mit der Spitzenbreite W identisch ist.
Die abgeschnittenen Abschnitte 341 und 342 sind auf beiden Seiten eines Abschnitts unmittelbar unter dem Spitzenabschnitt 121 ausgebildet und haben eine Länge, die mit der Spalttiefe D von der ABS 76 identisch ist, eine Tiefe, die mit der Schreibspaltschicht 84 identisch ist, und eine Breite, die mit dem breiten hinteren Abschnitt 122 identisch ist. Die abgeschnittenen Abschnitte 341 und 342 sind mit einem nichtmagnetischen Material 361, 362 gefüllt.
Die abgeschnittenen Abschnitte 341 und 342 haben eine solche Funktion, daß das Aufzeichnungsmagnetfeld, das aus dem mittigen Abschnitt 121 kommt, sich nicht in der Spurbreitenrichtung ausbreitet.
9 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes 40 gemäß einer vierten Ausführungsform der Erfindung. Nachstehende erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf diese Figur.
Im Dünnfilmmagnetkopf 40 der vierten Ausführungsform hat die Aufzeichnungspolschicht 42 eine Doppelschichtkonfiguration, die aus einer ersten Aufzeichnungspolschicht 42a und einer zweiten Aufzeichnungspolschicht 42b besteht; die untere Polschicht 44 hat auch eine Doppelschichtkonfiguration, die aus einer ersten unteren Polschicht 44b und einer zweiten unteren Polschicht 44a besteht.
Beispielsweise kann die erste Aufzeichnungspolschicht 42a und die zweite untere Polschicht 44a unter Verwendung einer Magnetflußdichte hoher Sättigung (Bs) ausgebildet werden, z. B. CoNiFe (Bs = 1,8 bis 2,1 T) und CoZrTa (Bs = 1,4 bis 1,6 T). Die zweite Aufzeichnungspolschicht 42b und die erste untere Polschicht 44b werden unter Verwendung von NiFe (Bs = 1,0 T) ausgebildet.
Außerdem ist die Aufzeichnungspolschicht 42 in Spitzenabschnitte 421a und 421b, hintere Seitenabschnitte 422a und 422b, Verbreiterungsabschnitte 423a und 423b und Jochabschnitte 424a und 424b eingeteilt, in dieser Reihenfolge, gesehen von der ABS 76.
Wenn ein Material mit hoher Bs auf die Aufzeichnungspolschicht 42a und auf die untere Polschicht 44a aufgebracht wird, kann die Sättigung der Aufzeichnungspolschicht 42a und der unteren Polschicht 44 in der Nähe der ABS 76 gemildert werden. Somit kann durch Zunahme des Aufzeichnungsmagnetfeldes und Verbesserung des Aufzeichnungsmagnetfeldgradienten eine Sättigungsaufzeichnung auch bei einem magnetischen Aufzeichnungsmedium mit einer hohen Hc erfolgen. Man beachte, daß die gleiche Verbesserung auch durch Bildung der Aufzeichnungspolschicht 42 und der unteren Polschicht 44 unter Verwendung eines einschichtiges Materials mit hoher Bs erreicht werden kann.
10 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer fünften Ausführungsform der Erfindung, geschnitten entlang der Linie X-X in 11, die eine Draufsicht des Dünnfilmmagnetkopfes in 10 ist. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf diese Figuren.
Im Dünnfilmmagnetkopf 50 der fünften Ausführungsform ist die Aufzeichnungspolschicht 52 in einen Spitzenabschnitt 521 und einen breiteren hinteren Abschnitt 522 eingeteilt. Die Böden des Spitzenabschnitts und des breiteren hinteren Abschnitt sind in direktem Kontakt mit einer oberen Fläche der Schreibspaltschicht 84, und der Verbreiterungsabschnitt 523 ist auf einem Teil des breiten hinteren Abschnitt 522 angeordnet.
Der Dünnfilmmagnetkopf 50 wird folgendermaßen hergestellt. Zunächst wird die Schreibspaltschicht 84 auf der unteren Polschicht 82 ausgebildet. Dann werden auf der Schreibspaltschicht 84 der Spitzenabschnitt und der breite hintere Abschnitt 522 durch Plattieren ausgebildet. Anschließend werden die erste Füllmaterialschicht 86, die Spulenmusterschicht 88 und die zweite Füllmaterialschicht 90 ausgebildet, und der Verbreiterungsabschnitt 523 und der Jochabschnitt 524 werden durch Plattierung ausgebildet. Hierbei ist die Spitze des Verbreiterungsabschnitts 523 in Kontakt mit einem hinteren Abschnitts des breiten hinteren Abschnitt 525 und mit diesem magnetisch verbunden.
Hinter der ABS 76 werden also der Spitzenabschnitt 521 und breite hintere Abschnitt 522 auf der flachen Schreibspaltschicht 84 ohne abgestuften Abschnitt ausgebildet. Dies verbessert weiter die Mustergenauigkeit.
Außerdem ist die Entfernung zwischen der ABS 76 und der Spitze der ersten Füllmaterialschicht 86 nicht durch einen Reflexionswirkungsbereich A (3) eingeschränkt und ist mindestens größer als die Spitzenabschnittlänge L.
Ferner kann der Resistrahmen zum Plattieren eine Höhe haben, die der Dicke des Spitzenabschnitts 521 und des breiten hinteren Abschnitts 522 entspricht, z. B. 4 μm. Selbst wenn die Spurbreite kleiner als 1 μm ist, kann die Mustergenauigkeit des Spitzenabschnitts 521 erhalten bleiben.
Wenn die Spurbreite kleiner oder gleich 1 μm ist, entsteht ein Problem der Ausrichtungsgenauigkeit der Verbindung zwischen dem breiten hinteren Abschnitt 522 und dem Verbreiterungsabschnitt 523. In dieser Ausführungsform hat jedoch der breite hintere Abschnitt 522 einen rückseitigen Abschnitt, der viermal größer ist als die Spurbreite. Dies mildert die Ausrichtungsgenauigkeit, wobei keine unnötige Zunahme des magnetischen Widerstands in der Verbindung hervorgerufen wird.
12 ist eine Schnittansicht eines Dünnfilmmagnetkopfes gemäß einer sechsten Ausführungsform der Erfindung. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf 12.
Im Dünnfilmmagnetkopf 54 der sechsten Ausführungsform ist eine Vertiefung 57 in der unteren Polschicht 56 vorhanden, die von der ABS 76 entfernt ist. Die Vertiefung 57 ist mit einem nichtmagnetischen Material 58 gefüllt. Diese Vertiefung 57 bestimmt die Spalttiefe D zwischen der Aufzeichnungspolschicht 52 und der unteren Polschicht 56.
Die sechste Ausführungsform wird realisiert, indem die zweite Ausführungsform auf die fünfte Ausführungsform der Erfindung angewendet wird. Es kann die gleiche Wirkung wie bei der zweiten Ausführungsform erreicht werden. Man beachte, daß auch die dritte oder die vierte Ausführungsform auf die fünfte Ausführungsform angewendet werden kann.
13 zeigt eine Konfiguration des breiten hinteren Abschnitts im Dünnfilmmagnetkopf gemäß der siebten Ausführungsform. 13A zeigt ein erstes und 13B ein zweites Beispiel der Konfiguration des breiten hinteren Abschnitts 122a, 122b. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf 13A und 13B.
In dieser Ausführungsform haben die breiten hinteren Abschnitte 122a bzw. 122b eine abgerundete Konfiguration mit einer vorbestimmten Breite W₁ zumindest in einem Teil der breiten hinteren Abschnitte 122a, 122b. Im allgemeinen erhöht das Magnetfeld, das in der Ecke des Verbreiterungsabschnitts des breiten hinteren Abschnitts konzentriert ist, eine nutzlosen Magnetfeldstreuung, der den Spitzenabschnitt nicht durchdringt. In dieser Ausführungsform haben jedoch die breiten hinteren Abschnitte 122a, 122b abgerundete Ecken, was die Effizienz der Erzeugung des Aufzeichnungsmagnetfeldes weiter erhöht.
14 zeigt schematisch eine Ausführungsform einer Magnetaufzeichnungsvorrichtung, die den erfindungsgemäßen Dünnfilmmagnetkopf verwendet. Nachstehend erfolgt die Beschreibung mit Bezug auf 14.
Die Magnetaufzeichnungsvorrichtung 60 gemäß der Ausführungsform weist auf: den Dünnfilmmagnetkopf 10 gemäß der ersten Ausführungsform; ein magnetisches Speichermedium 62; einen Spindelmotor 64 zum Drehen des magnetischen Speichermediums 62; einen Schwingspulenmotor 66 zum Bewegen des Dünnfilmmagnetkopfes 10 über dem magnetischen Speichermedium 62; einen Steuerblock (nicht dargestellt), der nach einer Anweisung von einer höheren Knotenvorrichtung arbeitet.
Der Steuerblock 68 steuert den Spindelmotor 64 und den Schwingspulenmotor 66 und führt eine Datenaufzeichnung und -wiedergabe auf/von dem magnetischen Speichermedium 62 unter Verwendung des Dünnfilmmagnetkopfes 10 durch. Da der Dünnfilmmagnetkopf 10 verwendet wird, kann ein magnetisches Aufzeichnungsmedium mit einer hohen Aufzeichnungsdichte bereitgestellt werden.
Man beachte, daß die Erfindung nicht auf die oben beschriebenen Ausführungsformen beschränkt ist. Beispielsweise kann die Erfindung nicht nur auf einen Dünnfilmmagnetkopf des induktiven Typs, sondern auch auf einen Dünnfilmmagnetkopf des MR-induktiven Mischtyps oder auf einen zusammengesetzten Dünnfilmmagnetkopf angewendet werden, der einen anderen Wiedergabekopf verwendet als den Wiedergabekopf des MR-Typs und des induktiven Typs.
In dem erfindungsgemäßen Dünnfilmmagnetkopf wird der magnetische Widerstand reduziert, indem ein breiter hinterer Abschnitt zwischen dem Spitzenabschnitt und dem Verbreiterungsabschnitt der Aufzeichnungspolschicht bereitgestellt wird. Da der Verbreiterungsabschnitt, nämlich wo eine Lichtmenge reflektiert wird, in einer Entfernung von der ABS bereitgestellt wird, kann die Mustergenauigkeit im Spitzenabschnitt verbessert und die Zunahme des magnetischen Widerstands verhindert werden. Demzufolge kann der Spitzenabschnitt mit einer hohen Genauigkeit ausgebildet werden, ohne den magnetischen Widerstand in der Spitze der Aufzeichnungspolschicht zu erhöhen.
Die Erfindung kann in anderen spezifischen Formen auftreten, ohne vom Erfindungsgedanken oder ihren wesentlichen Merkmalen abzuweichen. Die vorliegenden Ausführungsformen haben daher in jeder Hinsicht darstellenden und keinen einschränkenden Charakter, wobei der Schutzbereich der Erfindung in den beigefügten Ansprüchen und nicht in der vorstehenden Beschreibung angegeben ist, und alle Änderungen, die innerhalb der Bedeutung und des Äquivalenzbereichs der Ansprüche liegen, sind deshalb in diesen eingeschlossen.
Die gesamte Offenbarung der japanischen Patentanmeldung A10-200 597 (angemeldet am 15. Juli 1998), einschließlich der Beschreibung, Ansprüche, Zeichnungen und Zusammenfassung, wird hierin vollständig durch Bezugnahme aufgenommen.

Claims

Dünnfilmmagnetkopf mit einer Schreibspaltschicht (84), die auf einer unteren Polschicht (82) ausgebildet ist; einer ersten Füllmaterialschicht (86), einer Spulenmusterschicht (88), einer zweiten Füllmaterialschicht (90), die nacheinander in dieser Reihenfolge auf der Schreibspaltschicht (84) außer in der Nähe der ABS (76) ausgebildet sind; und einer Aufzeichnungspolschicht (12), die auf der Schreibspaltschicht (84) zumindest in der Nähe der ABS (76) ausgebildet ist, wobei die Aufzeichnungspolschicht (12) in einen Spitzenabschnitt (121), einen breiten hinteren Abschnitt (122), einen Verbreiterungsabschnitt (123) und einen Jochabschnitt (124) in dieser Reihenfolge gesehen von der ABS (76) eingeteilt ist, und wobei der Spitzenabschnitt (121) und der breite hintere Abschnitt (122) auf der Schreibspaltschicht (84) angeordnet sind; wobei die Länge D von einem von der ABS (76) beabstandeten Ende zum anderen Ende der ABS-Seite des breiten hinteren Abschnitts (122) größer ist als die Länge L des Spitzenabschnitts (121), wenn die Länge als vertikal zur Filmdickenrichtung der Schreibspaltschicht (84) und vertikal zur ABS (76) bestimmt wird; und wobei der breite hintere Abschnitt (122) eine größere Breite W₁ hat als die Breite W des Spitzenabschnitts (121), wenn die Breite als vertikal zur Filmdickenrichtung der Schreibspaltschicht (84) und parallel zur ABS (76) bestimmt ist.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei der Verbreiterungsabschnitt (123) auf einem Teil des breiten hinteren Abschnitts (122) angeordnet ist.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei der Verbreiterungsabschnitt (123) allmählich seine Breite zum breiten hinteren Abschnitt (122) hin reduziert und eine vorbestimmte Breite in Kontakt mit dem breiten hinteren Abschnitt (122) hat und wobei der breite hintere Abschnitt (122) sich mit einer vorbestimmten Breite bis zu einem vorbestimmten Punkt zum Spitzenabschnitt (121) hin erstreckt und allmählich seine Breite von diesem Punkt bis zum Spitzenabschnitt (121) reduziert.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 3, wobei die vorbestimmte Breite mindestens viermal größer ist als eine Aufzeichnungsspurbreite.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei das spitze Ende der ersten Füllmaterialschicht (86) mindestens um 4 μm von der ABS entfernt ist.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei eine Vertiefung in der unteren Polschicht (82) an einer von der ABS (76) beabstandeten Stelle vorhanden ist und die Vertiefung mit einem nichtmagnetischen Material gefüllt ist, so daß die Vertiefung eine Spalttiefe zwischen der Aufzeichnungspolschicht (12) und der unteren Polschicht (82) bestimmt.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei ein Abschnitt der unteren Polschicht (82), der der ABS (76) zugewandt ist, abgeschnitten ist und ein Abschnitt gegenüber dem Spitzenabschnitt (121) verbleibt.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei mindestens ein Abschnitt der Aufzeichnungspolschicht (12) und ein Abschnitt der unteren Polschicht (82) gegenüber der Schreibspaltschicht (84) aus einem Material mit einer Sättigungsmagnetflußdichte von 1,4 T oder mehr ausgebildet ist.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 8, wobei das Material CoNiFe oder CoZrTa ist.
Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1, wobei der hintere Abschnitt (122) eine außen abgerundete Konfiguration mit mindestens einem Abschnitt hat, dessen Breite mindestens viermal größer ist als die Aufzeichnungsspurbreite.
Dünnfilmmagnetkopf eines MR-induktiven Mischtyps mit einer unteren Schirmschicht (74) und einer Lesespaltschicht (80), die ein MR-magnetisch sensitives Element sandwichartig einschließen, das der ABS (76) zugewandt ist, wobei die Schichten nacheinander in dieser Reihenfolge auf einem Isolationssubtrat angeordnet sind und ferner auf der Lesespaltschicht (80) der Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 1 vorgesehen ist.
Magnetspeichervorrichtung mit einem Dünnfilmmagnetkopf nach Anspruch 11, einem magnetischen Speichermedium und einer Antriebseinrichtung zum Bewirken einer relativen Bewegung zwischen den magnetischen Speichermedium und dem Dünnfilmmagnetkopf.
Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilmmagnetkopfs nach Anspruch 1, wobei die Schreibspaltschicht (84) auf der unteren Polschicht (82) ausgebildet wird; die erste Füllmaterialschicht (86), die Spulenmusterschicht (88) und die zweite Füllmaterialschicht (90) nacheinander in dieser Reihenfolge auf der Schreibspaltschicht (84) außer in der Nähe der ABS (76) ausgebildet werden; und die Aufzeichnungspolschicht (12) auf der Schreibspaltschicht (84) mindestens in der Nähe der ABS (76) ausgebildet wird.
Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilmmagnetkopfs nach Anspruch 2, wobei die Schreibspaltschicht (84) auf der unteren Polschicht (74) ausgebildet wird, der Spitzenabschnitt (121) und der breite hintere Abschnitt (122) auf der Schreibspaltschicht (84) in der Nähe der ABS (76) ausgebildet werden; die erste Füllmaterialschicht (86), die Spulenmusterschicht (88) und die zweite Füllmaterialschicht (90) nacheinander in dieser Reihenfolge auf der Schreibspaltschicht (84) außer in der Nähe der ABS (76) ausgebildet werden; der Verbreiterungsabschnitt (123) auf dem breiten hinteren Abschnitt (122) und der zweiten Füllmaterialschicht (90) aufgebracht wird; und der Jochabschnitt (124) auf der zweiten Füllmaterialschicht (90) ausgebildet wird.