JPH02302916A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH02302916A JPH02302916A JP12150389A JP12150389A JPH02302916A JP H02302916 A JPH02302916 A JP H02302916A JP 12150389 A JP12150389 A JP 12150389A JP 12150389 A JP12150389 A JP 12150389A JP H02302916 A JPH02302916 A JP H02302916A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ビテオテープレコーダなどの磁気記録再生装
置に用いられる薄膜磁気ヘッドに係シ、特に、記録特性
の向上を図った薄膜磁気ヘッドに関する。
置に用いられる薄膜磁気ヘッドに係シ、特に、記録特性
の向上を図った薄膜磁気ヘッドに関する。
近時の磁気記録媒体の高密度化・小屋化や、記録/再生
特性の高性能化等の要求によって、従来のバルク型の磁
気ヘッドに代替しで薄膜磁気ヘッドが実用化されつつあ
る。
特性の高性能化等の要求によって、従来のバルク型の磁
気ヘッドに代替しで薄膜磁気ヘッドが実用化されつつあ
る。
斯る薄膜磁気ヘッドにおいて、特開昭63−58610
号公報に示されているように、下部磁気コアに凹部を設
け、この凹部によって形づくられたフロント側の突起忙
よって、ギャップ深さ及びギャップ部の形状を所定のも
のに規定するようにした構成は公知で、こうすればギャ
ップ形成面が比較的正確に規定できる。
号公報に示されているように、下部磁気コアに凹部を設
け、この凹部によって形づくられたフロント側の突起忙
よって、ギャップ深さ及びギャップ部の形状を所定のも
のに規定するようにした構成は公知で、こうすればギャ
ップ形成面が比較的正確に規定できる。
また、特開昭55−11615公報に記載されているよ
うに、磁気コアの幅を、フロン)11のギャップ形成部
からリア側に行くに従って漸次広がる形状とし、磁気コ
アに所請「面内での磁束絞シ効果」をもたせ、記録効率
の向上などを図った薄膜磁気ヘッドも公知である。
うに、磁気コアの幅を、フロン)11のギャップ形成部
からリア側に行くに従って漸次広がる形状とし、磁気コ
アに所請「面内での磁束絞シ効果」をもたせ、記録効率
の向上などを図った薄膜磁気ヘッドも公知である。
ところで、上述した前者の先頭においては磁気コアの飽
和については何等配慮がなされておらず、上部磁気コア
の傾斜部分に記録時飽和が生じ易いという問題がある。
和については何等配慮がなされておらず、上部磁気コア
の傾斜部分に記録時飽和が生じ易いという問題がある。
何となれば、核種薄膜磁気ヘッドにおいては、信号コイ
ルを埋設した絶縁層のフロント部とリア部との所定部位
を除去し、この上にスパッタなどによって上部磁気コア
が成膜されるため、上部磁気コアには磁路方向に沿った
断面で見た傾斜部分の膜厚は薄く形成され−る。このた
め、膜厚の薄い傾斜部分の磁気抵抗が大きくなって(作
動ギャップにおいて充分表磁束が発生する前に)この部
位で磁化の飽和が生じ易く、特性を劣化させるという問
題がある。
ルを埋設した絶縁層のフロント部とリア部との所定部位
を除去し、この上にスパッタなどによって上部磁気コア
が成膜されるため、上部磁気コアには磁路方向に沿った
断面で見た傾斜部分の膜厚は薄く形成され−る。このた
め、膜厚の薄い傾斜部分の磁気抵抗が大きくなって(作
動ギャップにおいて充分表磁束が発生する前に)この部
位で磁化の飽和が生じ易く、特性を劣化させるという問
題がある。
一方、上述した後者の先願のように1上部磁気コアの幅
を、作動ギャップにおけるギャップ深さ零の位置から漸
次広くするようにすれば、傾斜部分の膜厚が薄くなる点
を断面積増加で補なうことが出来る。しかしながら、こ
の後者の従来技術では、ギャップ深さ零の位置と上部磁
気コアのコア幅の広がり開始位置を一致させる必要があ
る・これを第6図によって説明する。
を、作動ギャップにおけるギャップ深さ零の位置から漸
次広くするようにすれば、傾斜部分の膜厚が薄くなる点
を断面積増加で補なうことが出来る。しかしながら、こ
の後者の従来技術では、ギャップ深さ零の位置と上部磁
気コアのコア幅の広がり開始位置を一致させる必要があ
る・これを第6図によって説明する。
第3図(a)はフロント側の要部断面図で、同図におい
て、1は下部磁気コア、2は上部磁気コア、6は非磁性
の絶縁層、4はギャップスペーサ材であシ、Aはキャッ
プ深さ零位置を示している0また、第3図(b)〜(、
L)はそれぞれ上部磁気コア2の平面形状を示している
。同図(b)の如く、上部磁気コア2の広が)開始位置
X。とギャップ深さ零位置Aとが一致すれば、磁気ヘッ
ドの性能劣化は生じない。しかし、同図(C)のように
、広がり開始位置X、がギャップ深さ零位置Aよりも前
方へずれてしまうと、コア飽和は生じないが、X。
て、1は下部磁気コア、2は上部磁気コア、6は非磁性
の絶縁層、4はギャップスペーサ材であシ、Aはキャッ
プ深さ零位置を示している0また、第3図(b)〜(、
L)はそれぞれ上部磁気コア2の平面形状を示している
。同図(b)の如く、上部磁気コア2の広が)開始位置
X。とギャップ深さ零位置Aとが一致すれば、磁気ヘッ
ドの性能劣化は生じない。しかし、同図(C)のように
、広がり開始位置X、がギャップ深さ零位置Aよりも前
方へずれてしまうと、コア飽和は生じないが、X。
とAの間ではフロント側のコア幅が正規のコア幅よりも
広くなり、性能上問題となる◎また、反対に同図(6L
)に示すように、広がり開始位置X2がギャップ深さ零
位置Aよυも後方にずれてしまうと、Aと x2との間
のコア幅の細い部位が膜厚の薄い傾斜部分となシ、コア
飽和が生じて性能が劣化してしまう。
広くなり、性能上問題となる◎また、反対に同図(6L
)に示すように、広がり開始位置X2がギャップ深さ零
位置Aよυも後方にずれてしまうと、Aと x2との間
のコア幅の細い部位が膜厚の薄い傾斜部分となシ、コア
飽和が生じて性能が劣化してしまう。
従って、この従来技術では第3図(b)に示すように、
上部磁気コア2の広が9開始位置X。とギャップ深さ零
位置Aとを完全に一致させる必要があるが、両者を完全
に一致させることは製造上難しく、歩留が低下して生産
性を阻害するという問題があった。
上部磁気コア2の広が9開始位置X。とギャップ深さ零
位置Aとを完全に一致させる必要があるが、両者を完全
に一致させることは製造上難しく、歩留が低下して生産
性を阻害するという問題があった。
本発明は上記の点に鑑みなされたもので、その目的とす
るところは、上部磁気コアの傾斜部分でコア飽和がなく
、かつ、作動ギャップ形成部分を所期形状に安定して規
定できる製造容易な薄膜磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
るところは、上部磁気コアの傾斜部分でコア飽和がなく
、かつ、作動ギャップ形成部分を所期形状に安定して規
定できる製造容易な薄膜磁気ヘッドを提供することを目
的とする。
本発明の上記した目的は、ギャップ深さを規定する突起
を設けた下部磁気コア上に、信号コイル、絶縁層、上部
磁気コアなどを形成し、上部磁気コアと下部磁気コアと
をリア部で接続すると共にフロント部でギャップスペー
サ材を介して接合して作動ギャップを形成してなり、前
記上部磁気コアのコア幅が、フロント側のギャップ形成
部からりア側に行くに従って漸次広がる形状とした薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記上部磁気コアの広がり開始位
置が、前記下部磁気コアの突起によって規定されるギャ
ップ深さ零位置と、前記上部磁気コアのフロント側にお
ける高さ方向の傾斜立上多位置との間にあるように、構
成することによって達成される。
を設けた下部磁気コア上に、信号コイル、絶縁層、上部
磁気コアなどを形成し、上部磁気コアと下部磁気コアと
をリア部で接続すると共にフロント部でギャップスペー
サ材を介して接合して作動ギャップを形成してなり、前
記上部磁気コアのコア幅が、フロント側のギャップ形成
部からりア側に行くに従って漸次広がる形状とした薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記上部磁気コアの広がり開始位
置が、前記下部磁気コアの突起によって規定されるギャ
ップ深さ零位置と、前記上部磁気コアのフロント側にお
ける高さ方向の傾斜立上多位置との間にあるように、構
成することによって達成される。
本発明においては、上部磁気コアの広がり開始位置が、
下部磁気コアの突起によって規定されるギャップ深さ零
位置と、上部磁気コアのフロント側における高さ方向の
傾斜立上部位置との間にあるようにされる。すなわち、
第2図(a)の要部断面図に示すように、下部磁気コア
1のフロント側にはギャップ深さを規定する突起1aが
形成され、これによってギャップ深さ零位置Aが規定さ
れる。
下部磁気コアの突起によって規定されるギャップ深さ零
位置と、上部磁気コアのフロント側における高さ方向の
傾斜立上部位置との間にあるようにされる。すなわち、
第2図(a)の要部断面図に示すように、下部磁気コア
1のフロント側にはギャップ深さを規定する突起1aが
形成され、これによってギャップ深さ零位置Aが規定さ
れる。
また、上部磁気コア2のフロント側における高さ方向の
傾斜立上部位[Bは、突起1aの後端(ギャップ深さ零
位置A)よシもリア側に寄った位置にあり、同図(1)
)の要部平面図に示した上部磁気コア2の広がり開始位
置Xは、AとBの間にあるようにされる。
傾斜立上部位[Bは、突起1aの後端(ギャップ深さ零
位置A)よシもリア側に寄った位置にあり、同図(1)
)の要部平面図に示した上部磁気コア2の広がり開始位
置Xは、AとBの間にあるようにされる。
斯様にすることによって、上部コア2の傾斜部分では、
必ずフロント側のコア幅Wよシも幅が広くなっておυ、
傾斜部分でコア飽和が生じることはない。また、上部磁
気コア2の広がり開始位置Xは、ギャップ深さ零位tA
と上部磁気コア2の傾斜立上υ位置Bとの間の任意の位
置にあればよいため、製造工程上、位置合せのマージン
が大きくなシ、生産性が著しく向上する。
必ずフロント側のコア幅Wよシも幅が広くなっておυ、
傾斜部分でコア飽和が生じることはない。また、上部磁
気コア2の広がり開始位置Xは、ギャップ深さ零位tA
と上部磁気コア2の傾斜立上υ位置Bとの間の任意の位
置にあればよいため、製造工程上、位置合せのマージン
が大きくなシ、生産性が著しく向上する。
以下、本発明を第1図に示した実施例によって説明する
0同図(a)は磁路方向に沿った薄膜磁気ヘッドの要部
断面図、同図(b)は同じく要部平面図である◎ 第1図において、5は非磁性セラミックス等よシなる基
板で、該基板5上に下部磁気コア1が形成されている。
0同図(a)は磁路方向に沿った薄膜磁気ヘッドの要部
断面図、同図(b)は同じく要部平面図である◎ 第1図において、5は非磁性セラミックス等よシなる基
板で、該基板5上に下部磁気コア1が形成されている。
下部磁気コア1のフロント側には、その上面がキャップ
深さ零位置Aを規定すると共に所定のコア幅をもつギャ
ップ形成面となる突起1aが形成されておシ、また、下
部磁気コア1のリア@にも接続用突起1bが形成されて
いるOこの下部磁気コア1上には、絶縁層3に埋設され
る形で信号コイル6が形成されておシ、絶縁層3は公知
の薄膜形成技術で成膜された後、前記突起1a並びに接
続用突起1bに対応する部位をエツチングで除去される
。この際、フロント側では、前記ギャップ深さ零位置A
よシも所定量だけ後方(リア側)に寄っ九B点まで絶縁
層3が除去される。
深さ零位置Aを規定すると共に所定のコア幅をもつギャ
ップ形成面となる突起1aが形成されておシ、また、下
部磁気コア1のリア@にも接続用突起1bが形成されて
いるOこの下部磁気コア1上には、絶縁層3に埋設され
る形で信号コイル6が形成されておシ、絶縁層3は公知
の薄膜形成技術で成膜された後、前記突起1a並びに接
続用突起1bに対応する部位をエツチングで除去される
。この際、フロント側では、前記ギャップ深さ零位置A
よシも所定量だけ後方(リア側)に寄っ九B点まで絶縁
層3が除去される。
4はギャップスペーサ材で、少くとも前記突起1a上に
被着される。
被着される。
2は、前記絶縁層3並びに前記突起1a、接続用突起1
b上に形成された上部磁気コアで、フロント側で下部磁
気コア1の突起1aとギャップスペーサ材4を介して接
合されて作動ギャップを構成していると共に、リア側で
下部磁気コア1の接続用突起1bと接続され、これによ
シ下部、上部磁気コア1.2で閉磁路を形成している。
b上に形成された上部磁気コアで、フロント側で下部磁
気コア1の突起1aとギャップスペーサ材4を介して接
合されて作動ギャップを構成していると共に、リア側で
下部磁気コア1の接続用突起1bと接続され、これによ
シ下部、上部磁気コア1.2で閉磁路を形成している。
この上部磁気コア2は、第1図(、L)に示すように、
フロント側のギャップ形成部ではトラック幅に相当する
所定のコア幅Wをもち、ギャップ形成部からリア側に行
くに従って漸次コア幅が広がる形状となっておシ、その
フロン)fillの磁路方向に沿った断面における傾斜
部分の傾斜立上多位置Bは、前記ギャップ深さ零位置A
よシも所定量だけリア側に位置するようになっている。
フロント側のギャップ形成部ではトラック幅に相当する
所定のコア幅Wをもち、ギャップ形成部からリア側に行
くに従って漸次コア幅が広がる形状となっておシ、その
フロン)fillの磁路方向に沿った断面における傾斜
部分の傾斜立上多位置Bは、前記ギャップ深さ零位置A
よシも所定量だけリア側に位置するようになっている。
また、平面方向から見た上部磁気コア2の広がり開始位
置Xは、ギャップ深さ零位置Aと傾斜立上多位置Bとの
間に位置するように表っている。
置Xは、ギャップ深さ零位置Aと傾斜立上多位置Bとの
間に位置するように表っている。
なおここで、前配下部及び上部磁気コア1,2は、Fe
Ni磁性合金、F’eSiA’l磁性合金、或いは非晶
質磁性合金等からなる軟磁性膜で構成され、前記絶縁層
3は、5102、A1205等の無機絶縁材、或いはP
IQ、等の有機性の絶縁材からなる薄膜が用いられ、前
記信号コイル6は、Cu% A1等よシなる薄膜が用い
られている。
Ni磁性合金、F’eSiA’l磁性合金、或いは非晶
質磁性合金等からなる軟磁性膜で構成され、前記絶縁層
3は、5102、A1205等の無機絶縁材、或いはP
IQ、等の有機性の絶縁材からなる薄膜が用いられ、前
記信号コイル6は、Cu% A1等よシなる薄膜が用い
られている。
斯様な構成をとる該実施例の薄膜磁気ヘッドに゛よれば
、上部コア2の傾斜部分では、必ずフロント側のコア幅
Wよシもコア幅が広がっておシ、膜厚の薄い傾斜部分の
断面積が大きくなってこの部分の磁気抵抗を低下させ得
るので、傾斜部分で磁化の飽和が生じることを可及的に
回避できる0また、上部磁気コア2の広が)開始位置X
は、ギャップ深さ零位置Aと傾斜立上多位置Bとの間の
任意位置にあれば、下部磁気コア1の突起1aでギャッ
プ形成面の形状、ギャップ深さ零位置Aを正確に規定で
きるので、製造工程上、エツチング用マスク材の位置決
めマージンなどが極めて大きくなシ、製造が容易となる
上、歩留も飛躍的に向上する。
、上部コア2の傾斜部分では、必ずフロント側のコア幅
Wよシもコア幅が広がっておシ、膜厚の薄い傾斜部分の
断面積が大きくなってこの部分の磁気抵抗を低下させ得
るので、傾斜部分で磁化の飽和が生じることを可及的に
回避できる0また、上部磁気コア2の広が)開始位置X
は、ギャップ深さ零位置Aと傾斜立上多位置Bとの間の
任意位置にあれば、下部磁気コア1の突起1aでギャッ
プ形成面の形状、ギャップ深さ零位置Aを正確に規定で
きるので、製造工程上、エツチング用マスク材の位置決
めマージンなどが極めて大きくなシ、製造が容易となる
上、歩留も飛躍的に向上する。
以上のように本発明によれば、上部磁気コアの傾斜部分
でコア飽和がなく、作動ギャップ形成部位を所期形状に
安定して規定できる製造容易外薄膜磁気ヘッドを提供で
き、その産業的価値は多大である。
でコア飽和がなく、作動ギャップ形成部位を所期形状に
安定して規定できる製造容易外薄膜磁気ヘッドを提供で
き、その産業的価値は多大である。
第1図は本発明の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの説明図
、第2図は本発明の原理説明図、第3図は従来例の説明
図である。 1・・・下部磁気コア、1a・・・突起、111I・・
・接続用突起、5・・・絶縁層、4・・・ギャップスペ
ーサ材、5・・・基板、6・・・信号コイル、A・・・
ギャップ深さ零位置、B・・・傾斜立上部位置、X・・
・広が9開始位置。 M 6日
、第2図は本発明の原理説明図、第3図は従来例の説明
図である。 1・・・下部磁気コア、1a・・・突起、111I・・
・接続用突起、5・・・絶縁層、4・・・ギャップスペ
ーサ材、5・・・基板、6・・・信号コイル、A・・・
ギャップ深さ零位置、B・・・傾斜立上部位置、X・・
・広が9開始位置。 M 6日
Claims (1)
- 1、ギャップ深さを規定する突起を設けた下部磁気コア
上に、信号コイル、絶縁層、上部磁気コアなどを形成し
、上部磁気コアと下部磁気コアとをリア部で接続すると
共にフロント部でギャップスペーサ材を介して接合して
作動ギャップを形成してなり、前記上部磁気コアのコア
幅が、フロント側のギャップ形成部からリア側に行くに
従って漸次広がる形状とした薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記上部磁気コアの広がり開始位置が、前記下部磁気コ
アの突起によって規定されるギャップ深さ零位置と、前
記上部磁気コアのフロント側における高さ方向の傾斜立
上り位置との間にあることを特徴とする薄膜磁気ヘッド
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12150389A JPH02302916A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12150389A JPH02302916A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02302916A true JPH02302916A (ja) | 1990-12-14 |
Family
ID=14812803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12150389A Pending JPH02302916A (ja) | 1989-05-17 | 1989-05-17 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02302916A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US5793578A (en) * | 1996-11-15 | 1998-08-11 | International Business Machines Corporation | Thin film induction recording head having an inset first insulation layer that defines zero throat height and pole tip apex angle |
WO2000004535A1 (fr) * | 1998-07-15 | 2000-01-27 | Nec Corporation | Tete magnetique a film mince, son procede de fabrication, et stockage magnetique |
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US6597543B1 (en) | 1998-06-08 | 2003-07-22 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head and magnetic storage apparatus using the same |
US6646828B1 (en) | 1999-09-17 | 2003-11-11 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head and method of manufacture the same |
-
1989
- 1989-05-17 JP JP12150389A patent/JPH02302916A/ja active Pending
Cited By (13)
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