JP2002279607A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁極部分より発生される、記録媒体の面に垂
直な方向の磁界を大きくすることができ、且つ記録密度
を向上させることができるようにする。 【解決手段】 薄膜磁気ヘッドは、第１の磁性層８およ
び第２の磁性層１４と、第１の磁性層８と第２の磁性層
１４との間に設けられたギャップ層９と、一部が第１の
磁性層８および第２の磁性層１４の間に設けられた薄膜
コイル１０とを備えている。第２の磁性層１４は磁極部
分層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂと連結部１４Ｃとを有
している。ヨーク部分層１４Ｂは、磁極部分層１４Ａの
後端面および幅方向の両側面に磁気的に接続されてい
る。磁極部分層１４Ａの後端面および幅方向の両側面
は、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面に垂直な方
向に対して傾いている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも書込み
用の誘導型電磁変換素子を有する薄膜磁気ヘッドおよび
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録再生装置における記録方式に
は、信号磁化の向きを記録媒体の面内方向（長手方向）
とする長手磁気記録方式と、信号磁化の向きを記録媒体
の面に対して垂直な方向とする垂直磁気記録方式とがあ
る。垂直磁気記録方式は、長手磁気記録方式に比べて、
記録媒体の熱揺らぎの影響を受けにくく、高い線記録密
度を実現することが可能であると言われている。

【０００３】長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドは、
一般的に、記録媒体に対向する媒体対向面（エアベアリ
ング面）と、互いに磁気的に連結され、媒体対向面側に
おいてギャップ部を介して互いに対向する磁極部分を含
む第１および第２の磁性層と、少なくとも一部が第１お
よび第２の磁性層の間に、第１および第２の磁性層に対
して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備えた
構造になっている。

【０００４】一方、垂直磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッ
ドには、長手磁気記録方式用の薄膜磁気ヘッドと同様の
構造のリングヘッドと、一つの主磁極によって記録媒体
の面に対して垂直方向の磁界を印加する単磁極ヘッドと
がある。単磁極ヘッドを用いる場合には、記録媒体とし
ては一般的に、基板上に軟磁性層と磁気記録層とを積層
した２層媒体が用いられる。

【０００５】ところで、近年の高記録密度化に伴い、薄
膜磁気ヘッドではトラック幅の縮小が望まれている。そ
のため、上記単磁極ヘッドにおいても主磁極の幅の縮小
が望まれている。しかしながら、従来、主磁極の幅の縮
小を妨げる以下の２つの問題点があった。

【０００６】第１の問題点は、主磁極の幅を例えば０．
５μｍ以下とするような主磁極の高精度のパターニング
が困難なことである。すなわち、主磁極は、例えば、フ
ォトリソグラフィ技術によって形成されたレジストフレ
ームを用いて、電気めっき法（フレームめっき法）によ
って形成される。ところが、従来、主磁極は、コイルを
覆って盛り上がった絶縁層の上に形成されるため、レジ
ストフレームも凹凸の高低差の大きな絶縁層の上に形成
されることになる。この場合、レジストの膜厚を均一に
することは難しいため、レジストフレームを精度よくパ
ターニングすることが難しい。そのため、主磁極の高精
度のパターニングが困難になる。

【０００７】第２の問題点は、主磁極の幅を縮小する
と、磁束が主磁極の先端に到達する前に飽和してしま
い、媒体対向面において主磁極の先端より発生される磁
界が小さくなることである。

【０００８】ところで、従来、長手磁気記録方式用の薄
膜磁気ヘッドにおいても同様な問題点があった。この問
題点を解決するために、長手磁気記録方式用の薄膜磁気
ヘッドでは、一方の磁性層を、媒体対向面に露出する磁
極部分と、磁極部分へ磁束を導くヨーク部分とに分けた
構造が多く採用されている。

【０００９】そこで、垂直磁気記録方式用の単磁極ヘッ
ドにおいても、主磁極を、媒体対向面に露出する磁極部
分と、磁極部分へ磁束を導くヨーク部分とに分けた構造
が提案されている。この構造によれば、磁極部分の飽和
磁束密度をヨーク部分の飽和磁束密度よりも大きくする
ことで磁束を効率的に主磁極の先端まで導くことが可能
になり、且つ幅の小さな磁極部分を形成することが可能
になる。

【００１０】ところで、従来、長手磁気記録方式用の薄
膜磁気ヘッドでは、一方の磁性層を磁極部分とヨーク部
分とに分けた構造とする場合、磁極部分とヨーク部分と
の接合は、磁極部分のギャップ部とは反対側の面でのみ
行われることが多かった。しかし、この構造では、磁極
部分とヨーク部分との接合面積が小さいため、接合部分
で磁束が飽和しやすく、特に近年の書き込み磁界の増大
の要求に応えることができない。そこで、特開平１１−
１０２５０６号公報、特開２０００−５７５２２号公
報、特開２０００−６７４１３号公報、特開２０００−
１４９２１８号公報等に示されるように、磁極部分のギ
ャップ部とは反対側の面のみならず、磁極部分の側面や
磁極部分の媒体対向面とは反対側の面でも、磁極部分と
ヨーク部分との接合を行わせる構造の薄膜磁気ヘッドが
提案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】垂直磁気記録方式用の
単磁極ヘッドにおいて、主磁極を磁極部分とヨーク部分
とに分けた構造とする場合に、上述の長手磁気記録方式
用の薄膜磁気ヘッドと同様に、磁極部分のギャップ部と
は反対側の面のみならず、磁極部分の側面や磁極部分の
媒体対向面とは反対側の面でも、磁極部分とヨーク部分
との接合を行わせる構造を採用することも考えられる。

【００１２】垂直磁気記録方式用のヘッドでは、記録媒
体の面に対して垂直な方向の磁界を大きくすることが重
要である。しかしながら、垂直磁気記録方式用のヘッド
において上記の構造を採用しても、磁極部分の媒体対向
面とは反対側の面や磁極部分の側面における接合面積
は、磁極部分のギャップ部とは反対側の面における接合
面に比べて相対的に小さいため、記録媒体に対して垂直
な方向の磁界を大きくすることができないという問題点
がある。

【００１３】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、磁極部分より発生される、記録媒体
の面に垂直な方向の磁界を大きくすることができ、且つ
記録密度を向上させることができるようにした薄膜磁気
ヘッドおよびその製造方法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、記録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行
方向の前後に所定の間隔を開けて互いに対向するように
配置された磁極部分を含むと共に、媒体対向面から離れ
た位置において互いに磁気的に連結された第１および第
２の磁性層と、非磁性材料よりなり、第１の磁性層と第
２の磁性層との間に設けられたギャップ層と、少なくと
も一部が第１および第２の磁性層の間に、第１および第
２の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コ
イルとを備え、第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体
対向面における幅がトラック幅を規定する磁極部分層
と、磁極部分と第１の磁性層とを磁気的に接続するヨー
ク部分層とを有し、ヨーク部分層は、磁極部分層の媒体
対向面とは反対側の端面および幅方向の両側面のうちの
少なくとも一部において、磁極部分層に対して磁気的に
接続され、磁極部分層のヨーク部分層との接続面の少な
くとも一部は、磁極部分層のギャップ層側の面に垂直な
方向に対して傾いているものである。

【００１５】本発明の薄膜磁気ヘッドでは、磁極部分層
のヨーク部分層との接続面の少なくとも一部が、磁極部
分層のギャップ層側の面に垂直な方向に対して傾いてい
ることから、接続面が磁極部分層のギャップ層側の面に
垂直な場合に比べて接続面の面積が大きくなる。これに
より、接続面を介してヨーク部分層から磁極部分層へ効
率よく磁束を導くことが可能となり、その結果、磁極部
分より発生される、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を
大きくすることが可能となる。

【００１６】本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、接続面
の少なくとも一部は、接続面の少なくとも一部と磁極部
分層のギャップ層側の面とのなす角度が９０°を超える
ように傾いていてもよい。

【００１７】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
接続面の少なくとも一部を含む断面において、ヨーク部
分層の厚みは磁極部分層の厚みよりも大きくてもよい。

【００１８】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ヨーク部分層は、更に、磁極部分層のギャップ層とは反
対側の面において、磁極部分層に対して磁気的に接続さ
れていてもよい。この場合、薄膜磁気ヘッドは、更に、
磁極部分層のギャップ層とは反対側の面に接する非磁性
層を備え、ヨーク部分層は、非磁性層を介して磁極部分
層のギャップ層とは反対側の面に隣接し、非磁性層を介
して磁極部分層に磁気的に接続されていてもよい。

【００１９】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、更に、
磁極部分層のギャップ層とは反対側の面の全面に接する
非磁性層を備えていてもよい。この場合、ヨーク部分層
のギャップ層とは反対側の面のうち、磁極部分層の媒体
対向面とは反対側の端面および幅方向の両側面のうちの
少なくとも一部において磁極部分層に対して磁気的に接
続される部分の近傍は、非磁性層のギャップ層とは反対
側の面と共に平坦化されていてもよい。

【００２０】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
ヨーク部分層は、更に、磁極部分層のギャップ層側の面
において、磁極部分層に対して磁気的に接続されていて
もよい。

【００２１】また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、
磁極部分層の飽和磁束密度は、ヨーク部分層の飽和磁束
密度以上であってもよい。

【００２２】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、更に、
再生素子としての磁気抵抗効果素子を備えていてもよ
い。

【００２３】また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、垂直磁
気記録方式に用いられるものであってもよい。

【００２４】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、記
録媒体に対向する媒体対向面と、記録媒体の進行方向の
前後に所定の間隔を開けて互いに対向するように配置さ
れた磁極部分を含むと共に、媒体対向面から離れた位置
において互いに磁気的に連結された第１および第２の磁
性層と、非磁性材料よりなり、第１の磁性層と第２の磁
性層との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部
が第１および第２の磁性層の間に、第１および第２の磁
性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルと
を備え、第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面
における幅がトラック幅を規定する磁極部分層と、磁極
部分と第１の磁性層とを磁気的に接続するヨーク部分層
とを有する薄膜磁気ヘッドを製造する方法であって、第
１の磁性層を形成する工程と、ギャップ層を形成する工
程と、薄膜コイルを形成する工程と、ヨーク部分層が、
磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面および幅方向
の両側面のうちの少なくとも一部において、磁極部分層
に対して磁気的に接続され、且つ、磁極部分層のヨーク
部分層との接続面の少なくとも一部が磁極部分層のギャ
ップ層側の面に垂直な方向に対して傾いて配置されるよ
うに、磁極部分層とヨーク部分層とを有する第２の磁性
層を形成する工程とを備えたものである。

【００２５】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、
磁極部分層のヨーク部分層との接続面の少なくとも一部
が、磁極部分層のギャップ層側の面に垂直な方向に対し
て傾いて配置されることから、接続面が磁極部分層のギ
ャップ層側の面に垂直な場合に比べて、接続面の面積が
大きくなる。これにより、接続面を介してヨーク部分層
から磁極部分層へ効率よく磁束を導くことが可能とな
り、その結果、磁極部分より発生される、記録媒体の面
に垂直な方向の磁界を大きくすることが可能となる。

【００２６】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法におい
て、接続面の少なくとも一部は、接続面の少なくとも一
部と磁極部分層のギャップ層側の面とのなす角度が９０
°を超えるように傾いて配置されてもよい。

【００２７】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、接続面の少なくとも一部を含む断面におい
て、ヨーク部分層の厚みは磁極部分層の厚みよりも大き
くてもよい。

【００２８】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、ヨーク部分層は、更に、磁極部分層のギャッ
プ層とは反対側の面において、磁極部分層に対して磁気
的に接続されてもよい。この場合、薄膜磁気ヘッドの製
造方法は、更に、磁極部分層のギャップ層とは反対側の
面に接する非磁性層を形成する工程を備え、ヨーク部分
層は、非磁性層を介して磁極部分層のギャップ層とは反
対側の面に隣接し、非磁性層を介して磁極部分層に磁気
的に接続されてもよい。

【００２９】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、更に、磁極部分層のギャップ層とは反対側の面の全
面に接する非磁性層を形成する工程を備えていてもよ
い。この場合、第２の磁性層を形成する工程は、非磁性
層を形成する工程の後で、ヨーク部分層のうちの少なく
とも磁極部分層に対して磁気的に接続される部分を形成
する工程と、非磁性層およびヨーク部分層を覆うように
保護層を形成する工程と、非磁性層が露出するまで保護
層を研磨して、ヨーク部分層のギャップ層とは反対側の
面のうち、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面お
よび幅方向の両側面のうちの少なくとも一部において磁
極部分層に対して磁気的に接続される部分の近傍を、非
磁性層のギャップ層とは反対側の面と共に平坦化する工
程とを含んでいてもよい。

【００３０】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、ヨーク部分層は、更に、磁極部分層のギャッ
プ層側の面において、磁極部分層に対して磁気的に接続
されてもよい。

【００３１】また、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
において、磁極部分層の飽和磁束密度は、ヨーク部分層
の飽和磁束密度以上であってもよい。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。 ［第１の実施の形態］図１は本発明の第１の実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図である。な
お、図１は媒体対向面および基板の面に垂直な断面を示
している。また、図１において記号Ｔで示す矢印は、記
録媒体の進行方向を表している。図２は図１のＡ−Ａ線
断面図である。図３は図１に示した薄膜磁気ヘッドの媒
体対向面を示す正面図である。図４は図１に示した薄膜
磁気ヘッドの要部を示す斜視図である。

【００３３】図１および図２に示したように、本実施の
形態に係る薄膜磁気ヘッドは、アルティック（Ａｌ₂Ｏ₃
・ＴｉＣ）等のセラミック材料よりなる基板１と、この
基板１の上に形成されたアルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）等の絶縁
材料よりなる絶縁層２と、この絶縁層２の上に形成され
た磁性材料よりなる下部シールド層３と、この下部シー
ルド層３の上に、絶縁層４を介して形成された再生素子
としてのＭＲ（磁気抵抗効果）素子５と、このＭＲ素子
５の上に絶縁層４を介して形成された磁性材料よりなる
上部シールド層６とを備えている。下部シールド層３お
よび上部シールド層６の厚みは、それぞれ例えば１〜２
μｍである。

【００３４】ＭＲ素子５の一端部は、媒体対向面（エア
ベアリング面）ＡＢＳに配置されている。ＭＲ素子５に
は、ＡＭＲ（異方性磁気抵抗効果）素子、ＧＭＲ（巨大
磁気抵抗効果）素子あるいはＴＭＲ（トンネル磁気抵抗
効果）素子等の磁気抵抗効果を示す感磁膜を用いた素子
を用いることができる。

【００３５】薄膜磁気ヘッドは、更に、上部シールド層
６の上に形成された非磁性層７と、この非磁性層７の上
に形成された磁性材料よりなる第１の磁性層８と、この
第１の磁性層８の上において薄膜コイル１０を形成すべ
き位置に形成された絶縁層９Ａと、この絶縁層９Ａの上
に形成された薄膜コイル１０と、少なくとも薄膜コイル
１０の巻線間に充填された絶縁層９Ｂとを備えている。
絶縁層９Ａには、媒体対向面ＡＢＳから離れた位置にお
いて、コンタクトホール９ａが形成されている。

【００３６】第１の磁性層８の厚みは例えば１〜２μｍ
である。第１の磁性層８を構成する磁性材料は、例えば
鉄−ニッケル系合金すなわちパーマロイでもよいし、後
述するような高飽和磁束密度材でもよい。また、第１の
磁性層８は、２つ以上の層で構成してもよい。

【００３７】絶縁層９Ａは、アルミナ等の非導電性且つ
非磁性の材料よりなり、その厚みは例えば０．１〜１μ
ｍである。

【００３８】薄膜コイル１０は、銅等の導電性の材料よ
りなり、その巻線の厚みは例えば０．３〜２μｍであ
る。薄膜コイル１０の巻数は任意であり、巻線のピッチ
も任意である。

【００３９】絶縁層９Ｂは、形成時に流動性を有する非
導電性且つ非磁性の材料よりなる。具体的には、絶縁層
９Ｂは、例えば、フォトレジスト（感光性樹脂）のよう
な有機系の非導電性非磁性材料によって形成してもよい
し、塗布ガラスよりなるスピンオングラス（ＳＯＧ）膜
で形成してもよい。

【００４０】薄膜磁気ヘッドは、更に、コンタクトホー
ル９ａが形成された位置において第１の磁性層８の上に
形成された磁性材料よりなる連結部１４Ｃと、薄膜コイ
ル１０、絶縁層９Ａおよび絶縁層９Ｂを覆うように形成
された絶縁層９Ｃとを備えている。連結部１４Ｃは、後
述する第２の磁性層１４の一部となる。薄膜コイル１０
は、連結部１４Ｃの回りに巻回されている。

【００４１】連結部１４Ｃの形状は、例えば、厚みが２
〜４μｍ、奥行き（媒体対向面ＡＢＳに垂直な方向の長
さ）が２〜１０μｍ、幅が５〜２０μｍである。連結部
１４Ｃを構成する磁性材料は、例えば鉄−ニッケル系合
金すなわちパーマロイでもよいし、後述するような高飽
和磁束密度材でもよい。

【００４２】絶縁層９Ｃは、絶縁層９Ｂよりも耐食性、
剛性および絶縁性が優れた非導電性且つ非磁性の材料よ
りなる。このような材料としては、アルミナやシリコン
酸化物（ＳｉＯ₂）等の無機系の非導電性非磁性材料を
用いることができる。媒体対向面ＡＢＳにおける絶縁層
９Ａおよび絶縁層９Ｃの合計の厚みは、例えば２〜４μ
ｍである。また、この厚みは、連結部１４Ｃの厚み以上
とする。

【００４３】絶縁層９Ａ，９Ｂ，９Ｃは、第１の磁性層
８と後述する第２の磁性層１４との間に設けられるギャ
ップ層９を構成する。

【００４４】薄膜磁気ヘッドは、絶縁層９Ｃの上に形成
された磁性材料よりなる第２の磁性層１４を備えてい
る。第２の磁性層１４は、前述の連結部１４Ｃと、磁極
部分を含む磁極部分層１４Ａと、ヨーク部分となり、連
結部１４Ｃを介して磁極部分層１４Ａと第１の磁性層８
とを磁気的に接続するヨーク部分層１４Ｂとを有してい
る。磁極部分層１４Ａは、媒体対向面ＡＢＳから、媒体
対向面ＡＢＳと連結部１４Ｃとの間の所定の位置にかけ
て、絶縁層９Ｃの上に形成されている。ヨーク部分層１
４Ｂは、連結部１４Ｃの第１の磁性層８とは反対側の端
部（以下、上端部と言う。）と磁極部分層１４Ａの媒体
対向面ＡＢＳとは反対側の端面（以下、後端面と言
う。）とを磁気的に接続する。また、ヨーク部分層１４
Ｂは、その内部において連結部１４Ｃの上端部と磁極部
分層１４Ａの後端面との間を最短距離で結ぶ磁気経路が
形成されるような形状を有している。薄膜磁気ヘッド
は、更に、磁極部分層１４Ａの上に形成された非磁性層
１５を備えている。非磁性層１５は、磁極部分層１４Ａ
のギャップ層９とは反対側の面の全面に接している。ヨ
ーク部分層１４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、非磁
性層１５を介して磁極部分層１４Ａの上面に隣接し、非
磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａの上面の一部に磁
気的に接続されている。薄膜磁気ヘッドは、更に、アル
ミナ等の非導電性且つ非磁性の材料よりなり、第２の磁
性層１４を覆うように形成された保護層１７を備えてい
る。

【００４５】薄膜コイル１０の第２の磁性層１４側の面
は、媒体対向面ＡＢＳにおけるギャップ層９の第２の磁
性層１４側の端部（絶縁層９Ｃの磁性層１４側の端部）
の位置および連結部１４Ｃの上端部の位置よりも第１の
磁性層８側の位置に配置されている。

【００４６】磁極部分層１４Ａの厚みは、好ましくは
０．１〜０．８μｍであり、更に好ましくは０．３〜
０．８μｍである。また、媒体対向面ＡＢＳから磁極部
分層１４Ａの後端面までの長さは２μｍ以上である。

【００４７】図４に示したように、磁極部分層１４Ａ
は、媒体対向面ＡＢＳ側に配置された第１の部分１４Ａ
₁と、この第１の部分１４Ａ₁よりも媒体対向面ＡＢＳか
ら離れた位置に配置された第２の部分１４Ａ₂とを含ん
でいる。第１の部分１４Ａ₁は、第２の磁性層１４にお
ける磁極部分となる。第１の磁性層８における磁極部分
は、第１の磁性層８のうちギャップ層９を介して上記第
１の部分１４Ａ₁に対向する部分を含む。

【００４８】第１の部分１４Ａ₁は、トラック幅と等し
い幅を有している。すなわち、第１の部分１４Ａ₁の媒
体対向面ＡＢＳにおける幅がトラック幅を規定してい
る。第２の部分１４Ａ₂の幅は、第１の部分１４Ａ₁との
境界位置では第１の部分１４Ａ ₁の幅と等しく、その位
置から媒体対向面ＡＢＳより遠ざかる程、徐々に大きく
なった後、一定の大きさになっている。ヨーク部分層１
４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、非磁性層１５を介
して磁極部分層１４Ａの第２の部分１４Ａ₂の上に重な
っている。

【００４９】第１の部分１４Ａ₁の媒体対向面ＡＢＳに
おける幅、すなわちトラック幅は、好ましくは０．５μ
ｍ以下であり、更に好ましくは０．３μｍ以下である。
ヨーク部分層１４Ｂと重なる部分における第２の部分１
４Ａ₂の幅は、第１の部分１４Ａ₁の媒体対向面ＡＢＳに
おける幅よりも大きく、例えば２μｍ以上である。

【００５０】ヨーク部分層１４Ｂの厚みは、例えば１〜
２μｍである。ヨーク部分層１４Ｂは、図１に示したよ
うに、磁極部分層１４Ａの後端面に磁気的に接続されて
いると共に、図２に示したように、磁極部分層１４Ａの
幅方向の両側面に磁気的に接続されている。磁極部分層
１４Ａの後端面および幅方向の両側面は、本発明におけ
る接続面に対応する。また、ヨーク部分層１４Ｂの媒体
対向面ＡＢＳ側の端部は、媒体対向面ＡＢＳから例えば
１．５μｍ以上離れた位置に配置されている。

【００５１】磁極部分層１４Ａの飽和磁束密度は、ヨー
ク部分層１４Ｂの飽和磁束密度以上となっている。磁極
部分層１４Ａを構成する磁性材料としては、飽和磁束密
度が１．４Ｔ以上の高飽和磁束密度材を用いるのが好ま
しい。高飽和磁束密度材としては、鉄および窒素原子を
含む材料、鉄、ジルコニアおよび酸素原子を含む材料、
鉄およびニッケル元素を含む材料等を用いることができ
る。具体的には、高飽和磁束密度材としては、例えば、
ＮｉＦｅ（Ｎｉ：４５重量％，Ｆｅ：５５重量％）、Ｆ
ｅＮやその化合物、Ｃｏ系アモルファス合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ、Ｆｅ−Ｍ（必要に応じてＯ（酸素原子）も含
む。）、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｍ（必要に応じてＯ（酸素原子）
も含む。）の中のうちの少なくとも１種類を用いること
ができる。ここで、Ｍは、Ｎｉ，Ｎ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉ，Ａ
ｌ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｃｕ（いず
れも化学記号）の中から選択された少なくとも１種類で
ある。

【００５２】ヨーク部分層１４Ｂを構成する磁性材料と
しては、例えば、飽和磁束密度が１．０Ｔ程度となる鉄
およびニッケル元素を含む材料を用いることができる。
このような材料は、耐食性に優れ、且つ磁極部分層１４
Ａを構成する材料よりも高抵抗である。また、このよう
な材料を用いることにより、ヨーク部分層１４Ｂの形成
が容易になる。

【００５３】また、ヨーク部分層１４Ｂを構成する磁性
材料としては、磁極部分層１４Ａを構成する磁性材料と
同じ組成系のものを用いることもできる。この場合に
は、ヨーク部分層１４Ｂの飽和磁束密度を、磁極部分層
１４Ａの飽和磁束密度よりも小さくするために、ヨーク
部分層１４Ｂを構成する磁性材料としては、磁極部分層
１４Ａを構成する磁性材料に比べて、鉄原子の組成比の
小さい材料を用いるのが好ましい。

【００５４】非磁性層１５の平面的な形状は、磁極部分
層１４Ａと同様である。また、非磁性層１５は、媒体対
向面ＡＢＳに露出している。非磁性層１５の厚みは、好
ましくは０．５μｍ以下である。また、非磁性層１５
は、省くことも可能である。

【００５５】非磁性層１５を構成する材料としては、例
えば、チタンまたはタンタルを含む材料（合金および酸
化物を含む。）や、アルミナやシリコン酸化物（ＳｉＯ
₂）等の無機系の非導電性非磁性材料を用いることがで
きる。また、磁極部分層１４Ａをドライエッチングによ
って形成する場合には、非磁性層１５を構成する材料と
して、磁極部分層１４Ａを構成する材料、およびギャッ
プ層９のうちの磁極部分層１４Ａに接する絶縁層９Ｃを
構成する材料よりもドライエッチングに対するエッチン
グ速度が小さい材料を用いるのが好ましい。このような
材料としては、例えばチタンまたはタンタルを含む材料
（合金および酸化物を含む。）を用いることができる。

【００５６】図３に示したように、媒体対向面ＡＢＳに
露出する磁極部分層１４Ａの面の形状は、記録媒体の進
行方向Ｔの後側（スライダにおける空気流入端側）に配
置される下辺が上辺よりも小さい台形であることが好ま
しい。また、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面
と、媒体対向面ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａの面
における側辺とのなす角度は９２〜１１０゜が好まし
い。

【００５７】以上説明したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、記録媒体に対向する媒体対向面ＡＢ
Ｓと再生ヘッドと記録ヘッド（誘導型電磁変換素子）と
を備えている。再生ヘッドは、再生素子としてのＭＲ素
子５と、媒体対向面ＡＢＳ側の一部がＭＲ素子５を挟ん
で対向するように配置された、ＭＲ素子５をシールドす
るための下部シールド層３および上部シールド層６を備
えている。

【００５８】記録ヘッドは、媒体対向面ＡＢＳ側におい
て記録媒体の進行方向Ｔの前後に所定の間隔を開けて互
いに対向するように配置された磁極部分を含むと共に、
媒体対向面ＡＢＳから離れた位置において互いに磁気的
に連結された第１の磁性層８および第２の磁性層１４
と、非磁性材料よりなり、第１の磁性層８と第２の磁性
層１４との間に設けられたギャップ層９と、少なくとも
一部が第１の磁性層８および第２の磁性層１４の間に、
これらの磁性層８，１４に対して絶縁された状態で設け
られた薄膜コイル１０とを備えている。

【００５９】第２の磁性層１４は、磁極部分を含み、媒
体対向面ＡＢＳにおける幅がトラック幅を規定する磁極
部分層１４Ａと、ヨーク部分となり、連結部１４Ｃを介
して磁極部分層１４Ａと第１の磁性層８とを磁気的に接
続するヨーク部分層１４Ｂと連結部１４Ｃを有してい
る。ヨーク部分層１４Ｂは、磁極部分層１４Ａの後端面
および幅方向の両側面に磁気的に接続されている。ま
た、磁極部分層１４Ａの飽和磁束密度は、ヨーク部分層
１４Ｂの飽和磁束密度以上となっている。

【００６０】本実施の形態によれば、第２の磁性層１４
が磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂとを有するよ
うにしたので、記録媒体に印加される磁界の強度を低下
させることなくトラック幅を縮小することが可能にな
る。

【００６１】また、本実施の形態では、図１に示したよ
うに、磁極部分層１４Ａの後端面は、磁極部分層１４Ａ
のギャップ層９側の面に垂直な方向に対して傾いてい
る。すなわち、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面
と磁極部分層１４Ａの後端面とのなす角度θ_１は、理論
上は、０°＜θ_１＜９０°および９０°＜θ_１＜１８０
°の範囲内の値となる。磁極部分層１４Ａの後端面は、
この後端面と磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面と
のなす角度が９０°を超えるように傾いているのが好ま
しい。すなわち、角度θ_１は、９０°＜θ_１＜１８０°
の範囲内の値であることが好ましい。角度θ_１は、９２
〜１１０°であることがより好ましい。

【００６２】ここで、磁極部分層１４Ａの後端面が磁極
部分層１４Ａのギャップ層９側の面に垂直な方向に対し
て傾いていることによる効果について説明する。まず、
本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドとの比較のための比
較例を挙げる。図５は、この比較例の薄膜磁気ヘッドの
構成を示す断面図、図６は図５のＢ−Ｂ線断面図であ
る。この比較例の薄膜磁気ヘッドの構成は、磁極部分層
１４Ａの後端面および幅方向の両側面が磁極部分層１４
Ａのギャップ層９側の面に垂直である点以外は、本実施
の形態に係る薄膜磁気ヘッドと同様である。

【００６３】ここで、図１に示した断面および図５に示
した断面において、非磁性層１５の後端面と非磁性層１
５の磁極部分層１４Ａとは反対側の面とが交わる点をａ
_１とし、磁極部分層１４Ａの後端面と磁極部分層１４Ａ
の非磁性層１５側の面とが交わる点をｂ_１とし、磁極部
分層１４Ａの後端面と磁極部分層１４Ａのギャップ層９
側の面とが交わる点をｃ_１とする。

【００６４】図５に示した比較例の薄膜磁気ヘッドで
は、線分ｂ_１ｃ_１の長さは磁極部分層１４Ａの膜厚ｄと
等しくなる。一方、図１に示した本実施の形態に係る薄
膜磁気ヘッドでは、線分ｂ_１ｃ_１の長さは、磁極部分層
１４Ａの膜厚ｄと前述の角度θ _１を用いて、以下の式
（１）で表される。

【００６５】 ｂ_１ｃ_１＝ｄ／｜ｓｉｎθ_１｜ …（１）

【００６６】｜ｓｉｎθ_１｜は１より小さいので、本実
施の形態における線分ｂ_１ｃ_１の長さは、比較例におけ
る線分ｂ_１ｃ_１の長さよりも大きくなる。すなわち、磁
極部分層１４Ａの後端面において磁極部分層１４Ａとヨ
ーク部分層１４Ｂが磁気的に接続する部分の面積は、比
較例に比べて本実施の形態の方が大きくなる。また、｜
ｓｉｎθ_１｜が小さくなればなるほど、線分ｂ_１ｃ_１の
長さが大きくなり、それと共に、磁極部分層１４Ａの後
端面において磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂが
磁気的に接続する部分の面積が大きくなる。従って、本
実施の形態によれば、磁極部分層１４Ａの後端面を介し
てヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａへ効率よく
磁束を導くことが可能になり、その結果、磁極部分層１
４Ａの媒体対向面側の端部より発生される、記録媒体の
面に垂直な方向の磁界を大きくすることが可能になる。

【００６７】また、磁極部分層１４Ａの後端面が、この
後端面と磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面とのな
す角度が９０°を超えるように傾いている場合には、磁
極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側の面において
磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂが磁気的に接続
する部分の面積が大きくなる。これによって、ヨーク部
分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａへより効率よく磁束を
導くことが可能になる。

【００６８】また、本実施の形態では、図２に示したよ
うに、磁極部分層１４Ａの後端面と同様に、磁極部分層
１４Ａの幅方向の両側面も、磁極部分層１４Ａのギャッ
プ層９側の面に垂直な方向に対して傾いている。すなわ
ち、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面と磁極部分
層１４Ａの幅方向の両側面とのなす角度θ_２は、理論上
は、０°＜θ_２＜９０°および９０°＜θ_２＜１８０°
の範囲内の値となる。磁極部分層１４Ａの幅方向の両側
面は、各側面と磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面
とのなす角度が９０°を超えるように傾いているのが好
ましい。すなわち、角度θ_２は、９０°＜θ_２＜１８０
°の範囲内の値であることが好ましい。角度θ_２は、９
２〜１１０°であることがより好ましい。

【００６９】ここで、図２に示した断面および図６に示
した断面において、非磁性層１５の側面と非磁性層１５
の磁極部分層１４Ａとは反対側の面とが交わる点をａ_２
とし、磁極部分層１４Ａの側面と磁極部分層１４Ａの非
磁性層１５側の面とが交わる点をｂ_２とし、磁極部分層
１４Ａの側面と磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面
とが交わる点をｃ_２とする。線分ｂ_２ｃ_２の長さは、磁
極部分層１４Ａの膜厚ｄと前述の角度θ_２を用いて、以
下の式（２）で表される。

【００７０】 ｂ_２ｃ_２＝ｄ／｜ｓｉｎθ_２｜ …（２）

【００７１】従って、本実施の形態における線分ｂ_２ｃ
_２の長さは、比較例における線分ｂ _２ｃ_２の長さよりも
大きくなる。すなわち、磁極部分層１４Ａの幅方向の両
側面において磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂが
磁気的に接続する部分の面積は、比較例に比べて本実施
の形態の方が大きくなる。また、｜ｓｉｎθ_２｜が小さ
くなればなるほど、線分ｂ_２ｃ_２の長さが大きくなり、
それと共に、磁極部分層１４Ａの側面において磁極部分
層１４Ａとヨーク部分層１４Ｂが磁気的に接続する部分
の面積が大きくなる。これにより、磁極部分層１４Ａの
側面を介してヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａ
へ効率よく磁束を導くことが可能になり、その結果、磁
極部分層１４Ａの媒体対向面側の端部より発生される、
記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくすることが可
能になる。

【００７２】また、本実施の形態に係るヘッドにおい
て、媒体対向面ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａの面
の形状は、記録媒体の進行方向Ｔの後側（スライダにお
ける空気流入端側）に配置される下辺が上辺よりも小さ
い台形形状とするのが好ましい。これにより、本実施の
形態に係る薄膜磁気ヘッドを垂直磁気記録方式に用いた
場合には、スキュー角が生じたときの記録トラック幅の
変化を抑えることができ、長手磁気記録方式に用いた場
合にはトラック幅をより縮小することが可能となる。媒
体対向面ＡＢＳに露出する磁極部分層１４Ａの面におい
て、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の辺と磁極部分
層１４Ａの幅方向の各辺とのなす角度は、９２〜１１０
°であることがより好ましい。

【００７３】また、本実施の形態では、ヨーク部分層１
４Ｂと磁気的に接続される磁極部分層１４Ａの後端面お
よび幅方向の両側面を含む断面において、ヨーク部分層
１４Ｂの厚みは磁極部分層１４Ａの厚みよりも大きくな
っている。そのため、磁極部分層１４Ａとヨーク部分層
１４Ｂとの接続部分の近傍において、ヨーク部分層１４
Ｂ側での磁束の飽和を防止することができる。これによ
り、ヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａへ効率よ
く磁束を導くことが可能になり、その結果、磁極部分層
１４Ａの媒体対向面側の端部より発生される、記録媒体
の面に垂直な方向の磁界を大きくすることが可能にな
る。

【００７４】ここで、磁極部分層１４Ａの後端面および
幅方向の両側面において磁極部分層１４Ａとヨーク部分
層１４Ｂとが磁気的に接続する部分におけるヨーク部分
層１４Ｂの厚みをＴ_Ｙ、その接続部分における磁極部分
層１４Ａの厚みをＴ_Ｐ、ヨーク部分層１４Ｂの飽和磁束
密度をＢ_ＳＹ、磁極部分層１４Ａの飽和磁束密度をＢ
_ＳＰとすると、ヨーク部分層１４Ｂ側での磁束の飽和を
防止するためには、以下の式（３）の関係となるのが好
ましい。

【００７５】 Ｔ_Ｙ／Ｔ_Ｐ＞Ｂ_ＳＰ／Ｂ_ＳＹ …（３）

【００７６】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドは、垂
直磁気記録方式に用いるのに適している。この薄膜磁気
ヘッドを垂直磁気記録方式に用いる場合、第２の磁性層
１４の磁極部分層１４Ａにおける第１の部分１４Ａ₁が
主磁極となり、第１の磁性層８の磁極部分が補助磁極と
なる。なお、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドを垂直
磁気記録方式に用いる場合には、記録媒体としては２層
媒体と単層媒体のいずれをも使用することが可能であ
る。

【００７７】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドでは、
第２の磁性層１４が磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１
４Ｂとを有し、ヨーク部分層１４Ｂは、磁極部分層１４
Ａに磁束を導くための十分な体積を有し、また、磁極部
分層１４Ａの飽和磁束密度がヨーク部分層１４Ｂの飽和
磁束密度以上であることから、第２の磁性層１４の途中
における磁束の飽和を防止することができる。

【００７８】また、本実施の形態では、薄膜コイル１０
のうち磁性層８，１４の間に配置された部分の第２の磁
性層１４側の面は、媒体対向面ＡＢＳにおけるギャップ
層９の第２の磁性層１４側の端部の位置および連結部１
４Ｃの上端部の位置よりも第１の磁性層８側の位置に配
置されている。そして、ヨーク部分層１４Ｂは、連結部
１４Ｃの上端部と磁極部分層１４Ａの後端面とを磁気的
に接続している。従って、ヨーク部分層１４Ｂは、連結
部１４Ｃと磁極部分層１４Ａとの間に短い磁気経路で且
つ強い磁気的結合を形成することができる。

【００７９】これらのことから、本実施の形態によれ
ば、第２の磁性層１４の磁極部分より発生される、記録
媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくし、且つ磁路長を
短縮して高周波特性を向上させることが可能になる。磁
極部分層１４Ａに高飽和磁束密度材を用いた場合には、
特に、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくするこ
とができ、保磁力の大きな記録媒体への記録も可能とな
る。

【００８０】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
では、記録媒体の面に垂直な方向の磁界は長手方向の磁
界よりも大きく、ヘッドが発生する磁気エネルギを効率
よく、記録媒体に伝達することができる。従って、この
薄膜磁気ヘッドによれば、記録媒体の熱揺らぎの影響を
受けにくくして、線記録密度を高めることができる。

【００８１】図１に示したように、本実施の形態に係る
薄膜磁気ヘッドは、第１の磁性層８を記録媒体の進行方
向Ｔの後側（薄膜磁気ヘッドを含むスライダにおける空
気流入端側）に配置し、第２の磁性層１４を記録媒体の
進行方向Ｔの前側（薄膜磁気ヘッドを含むスライダにお
ける空気流出端側）に配置するのが好ましい。しかし、
本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドを垂直磁気記録方式
に用いる場合には、第１の磁性層８と第２の磁性層１４
の配置は、上記の配置とは逆でもよい。

【００８２】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、第２の磁性層１４のヨーク
部分層１４Ｂは、その内部において連結部１４Ｃの上端
部と磁極部分層１４Ａの後端面との間を最短距離で結ぶ
磁気経路が形成されるような形状を有している。これに
より、特に磁路長を短縮でき、高周波特性を向上させる
ことが可能になる。

【００８３】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、媒体対向面ＡＢＳにおける
磁極部分層１４Ａと第１の磁性層８との間の距離は、連
結部１４Ｃの厚み以上としている。そして、ヨーク部分
層１４Ｂは、磁極部分層１４Ａの後端面との接続位置か
ら連結部１４Ｃとの接続位置にかけて、徐々に第１の磁
性層８に近づいている。これにより、特に磁路長を短縮
でき、高周波特性を向上させることが可能になる。

【００８４】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層１４Ｂの少な
くとも一部は、第１の磁性層８側に突出する弧状に形成
されている。これにより、ヨーク部分層１４Ｂの一部
が、薄膜コイル１０に近くなり、薄膜コイル１０によっ
て発生される磁界をヨーク部分層１４Ｂで効率よく吸収
することが可能になる。

【００８５】また、図３に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層１４Ｂは、磁
極部分層１４Ａの後端面と幅方向の両側面とに磁気的に
接続されている。これにより、磁極部分層１４Ａの体積
が小さくても、ヨーク部分層１４Ｂと磁極部分層１４Ａ
との接続部分の面積を増やすことができ、この接続部分
における磁束の飽和を防止することができる。その結
果、磁束を効率よくヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層
１４Ａへ導くことができ、記録媒体に印加される磁界を
大きくすることができる。

【００８６】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ヨーク部分層１４Ｂの媒体
対向面ＡＢＳ側の端部は、媒体対向面ＡＢＳから離れた
位置に配置されている。これにより、ヨーク部分層１４
Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の端部より発生される磁界によ
って記録媒体に情報の書き込みが生じることを防止する
ことができる。

【００８７】また、図４に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、磁極部分層１４Ａのヨーク
部分層１４Ｂと接する部分の幅は、磁極部分層１４Ａの
媒体対向面ＡＢＳにおける幅よりも大きくなっている。
これにより、磁極部分層１４Ａのヨーク部分層１４Ｂと
接する部分の面積を大きくすることができ、この部分で
の磁束の飽和を防止することができる。その結果、磁束
を効率よくヨーク部分層１４Ｂから磁極部分層１４Ａへ
導くことができ、且つ磁極部分層１４Ａの媒体対向面Ａ
ＢＳにおける露出面積を小さくすることで、記録媒体に
印加される磁界を大きくすることができる。

【００８８】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
において、媒体対向面ＡＢＳから磁極部分層１４Ａの後
端面までの長さは２μｍ以上とすることにより、磁極部
分層１４Ａの厚みや幅を大きくすることなく、磁極部分
層１４Ａのヨーク部分層１４Ｂと接する部分の面積を大
きくして、この部分での磁束の飽和を防止することがで
きる。その結果、磁束を効率よくヨーク部分層１４Ｂか
ら磁極部分層１４Ａへ導くことができる。

【００８９】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、磁極部分層１４Ａのギャッ
プ層９とは反対側の面の全面に接する非磁性層１５を備
えている。非磁性層１５がない場合には、磁極部分層１
４Ａをドライエッチングによって形成する際や、ヨーク
部分層１４Ｂを電気めっき法によって形成する際に、磁
極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側の面がダメー
ジを受け、この面に例えば０．１〜０．３μｍ程度の凹
凸が生じる。本実施の形態では、非磁性層１５を設けて
いることから、磁極部分層１４Ａをドライエッチングに
よって形成する際や、ヨーク部分層１４Ｂを電気めっき
法によって形成する際に、磁極部分層１４Ａのギャップ
層９とは反対側の面がダメージを受けることを防止で
き、その面を平坦にすることができる。特に、本実施の
形態では、非磁性層１５を設けることにより、磁極部分
層１４Ａの後端面および幅方向の両側面と磁極部分層１
４Ａの非磁性層１５側の面とが交差するエッジ（図１に
おける点ｂ_１や図２における点ｂ_２を含むエッジ）を保
護することができ、磁極部分層１４Ａの後端面や幅方向
の両側面において磁極部分層１４Ａとヨーク部分層１４
Ｂが磁気的に接続する部分の面積を十分に確保すること
ができる。また、本実施の形態では、非磁性層１５が媒
体対向面ＡＢＳに露出しているので、媒体対向面ＡＢＳ
において、磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側
の端部を平坦に保つことができる。これにより、媒体対
向面ＡＢＳにおいて磁極部分層１４Ａより発生される磁
界を、トラックに交差する方向について均一化すること
ができる。その結果、記録媒体におけるビットパターン
形状の歪みを抑えて、線記録密度を向上させることがで
きる。

【００９０】また、本実施の形態では、ヨーク部分層１
４Ｂの媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、非磁性層１５を介
して磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側の面に
隣接し、非磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａに磁気
的に接続されている。その結果、磁極部分層１４Ａのギ
ャップ層９とは反対側の面からも、非磁性層１５を介し
てヨーク部分層１４Ｂからも磁極部分層１４Ａの媒体対
向面ＡＢＳ側へ磁束を導くことができる。

【００９１】また、非磁性層１５を、磁極部分層１４Ａ
を構成する材料、およびギャップ層９のうちの磁極部分
層１４Ａと接する部分を構成する材料よりもドライエッ
チングに対するエッチング速度が小さい材料で構成した
場合には、磁極部分層１４Ａをドライエッチングによっ
て形成する際に、磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは
反対側の面がダメージを受けることを防止することがで
きる。

【００９２】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、薄膜コイル１０のうち第１
の磁性層８と第２の磁性層１４の間に配置された部分
は、第１の磁性層８と第２の磁性層１４の中間の位置よ
りも第１の磁性層８に近い位置に配置されている。これ
により、第２の磁性層１４よりも体積の大きな第１の磁
性層８によって、薄膜コイル１０から発生する磁界を効
率よく吸収でき、薄膜コイル１０が第２の磁性層１４に
近い場合に比べて、第１の磁性層８および第２の磁性層
１４における磁界の吸収率を高めることができる。

【００９３】また、図１に示したように、本実施の形態
に係る薄膜磁気ヘッドでは、ギャップ層９は、形成時に
流動性を有する材料よりなり、少なくとも薄膜コイル１
０の巻線間に充填された第１の部分（絶縁層９Ｂ）と、
この第１の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が優れ
た材料よりなり、薄膜コイル１０および第１の部分を覆
い、第１の磁性層８および第２の磁性層１４に接する第
２の部分（絶縁層９Ａ，９Ｃ）とを有している。ギャッ
プ層９の第２の部分は、媒体対向面ＡＢＳに露出してい
る。薄膜コイル１０の巻線間に隙間なく非磁性材料を充
填することは、スパッタリング法では困難であるが、有
機系の材料のように流動性を有する非磁性材料を用いた
場合には容易である。しかし、有機系の材料は、ドライ
エッチングに対する耐性、耐食性、耐熱性、剛性等の点
で信頼性に乏しい。本実施の形態では、上述のように、
形成時に流動性を有する材料によって薄膜コイル１０の
巻線間に充填された第１の部分（絶縁層９Ｂ）を形成
し、この第１の部分よりも耐食性、剛性および絶縁性が
優れた材料によって、薄膜コイル１０および第１の部分
を覆い、第１の磁性層８および第２の磁性層１４に接す
る第２の部分（絶縁層９Ａ，９Ｃ）を形成するようにし
たので、薄膜コイル１０の巻線間に隙間なく非磁性材料
を充填でき、且つギャップ層９の信頼性を高めることが
できる。

【００９４】また、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
は、再生素子としてのＭＲ素子５を備えている。これに
より、誘導型電磁変換素子を用いて再生を行う場合に比
べて、再生性能を向上させることができる。また、ＭＲ
素子５は、シールド層３，６によってシールドされてい
るので、再生時の分解能を向上させることができる。

【００９５】次に、図７ないし図１４を参照して、本実
施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説明
する。

【００９６】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法では、まず、基板１の上に絶縁層２を形成する。次
に、絶縁層２の上に下部シールド層３を形成する。次
に、下部シールド層３の上に、絶縁層４の一部となる絶
縁膜を形成し、この絶縁膜の上にＭＲ素子５と、このＭ
Ｒ素子５に接続される図示しないリードとを形成する。
次に、ＭＲ素子５およびリードを、絶縁層４の他の一部
となる新たな絶縁膜で覆い、ＭＲ素子５およびリードを
絶縁層４内に埋設する。

【００９７】次に、絶縁層４の上に上部シールド層６を
形成し、その上に非磁性層７を形成する。次に、この非
磁性層７の上に、第１の磁性層８を所定の形状に形成す
る。次に、図示しないが、非磁性層７および第１の磁性
層８をアルミナ等の非磁性材料で覆い、第１の磁性層８
が露出するまで非磁性材料を研磨して、第１の磁性層８
の上面を平坦化する。なお、図７ないし図１４では、基
板１ないし非磁性層７を省略している。

【００９８】次に、図７に示したように、第１の磁性層
８の上に、アルミナ等の非導電性且つ非磁性の材料をス
パッタして、絶縁層９Ａを形成する。次に、周知のフォ
トリソグラフィ技術とドライエッチング技術とを用い
て、連結部１４Ｃを形成すべき位置において、絶縁層９
Ａにコンタクトホール９ａを形成する。次に、周知のフ
ォトリソグラフィ技術および成膜技術（例えば電気めっ
き法）を用いて、絶縁層９Ａの上に薄膜コイル１０を形
成する。次に、周知のフォトリソグラフィ技術を用い
て、少なくとも薄膜コイル１０の巻線間に充填される絶
縁層９Ｂを形成する。

【００９９】次に、図８に示したように、周知のフォト
リソグラフィ技術および成膜技術（例えば電気めっき
法）を用いて、コンタクトホール９ａが形成された位置
において第１の磁性層８の上に連結部１４Ｃを形成す
る。連結部１４Ｃの厚みは、例えば２〜４μｍとする。
次に、スパッタ法を用いて、薄膜コイル１０、絶縁層９
Ａ、絶縁層９Ｂおよび連結部１４Ｃを覆うように絶縁層
９Ｃを形成する。この時点における絶縁層９Ｃの厚み
は、連結部１４Ｃを十分に覆うことができる厚みであれ
ばよく、例えば５μｍとする。

【０１００】次に、図９に示したように、例えば化学機
械研磨を用いて、絶縁層９Ｃおよび連結部１４Ｃの上面
を平坦化する。この時点で、第１の磁性層８の上面から
絶縁層９Ｃおよび連結部１４Ｃの上面までの距離は、例
えば２〜４μｍとする。なお、この時点では、必ずしも
連結部１４Ｃを露出させる必要はなく、後の工程で露出
させてもよい。また、媒体対向面における絶縁層９Ａお
よび絶縁層９Ｃの厚みの総和は、記録ヘッド（誘導型電
磁変換素子）のギャップ長となる。

【０１０１】次に、図１０に示したように、絶縁層９Ｃ
および連結部１４Ｃの上に、磁極部分層１４Ａを構成す
る材料よりなる被エッチング層１４Ａｅを形成する。被
エッチング層１４Ａｅの厚みは、好ましくは０．１〜
０．８μｍとし、更に好ましくは０．３〜０．８μｍと
する。被エッチング層１４Ａｅの形成方法は、電気めっ
き法でもよいし、スパッタ法でもよい。被エッチング層
１４Ａｅの表面の粗さが大きい場合（例えば、算術平均
粗さＲａが１２オングストローム以上の場合）の場合
は、化学機械研磨等によって被エッチング層１４Ａｅの
表面を研磨して平坦化することが好ましい。

【０１０２】次に、被エッチング層１４Ａｅの上に、非
磁性層１５ｅを形成する。非磁性層１５ｅの厚みは、好
ましくは０．５μｍ以下とする。

【０１０３】次に、図示しないが、非磁性層１５ｅの上
に、スパッタ法により、電気めっき法のための電極層を
形成する。この電極層の厚みは０．１μｍ以下とし、材
料は例えば鉄−ニッケル合金とする。

【０１０４】次に、図１１に示したように、上記電極層
の上に、磁極部分層１４Ａおよび非磁性層１５の形状を
決定するためのマスク３２を形成する。このマスク３２
の厚みは１〜４μｍとし、材料は例えば鉄−ニッケル合
金とする。マスク３２の材料は、後で行われるドライエ
ッチングに対する耐性に優れた材料であることが好まし
い。マスク３２の材料が鉄−ニッケル合金の場合には、
マスク３２の形成方法としては、例えばフレームめっき
法が用いられる。また、マスク３２はフォトレジストに
よって形成してもよい。この場合には、マスク３２はフ
ォトリソグラフィ技術を用いて形成される。

【０１０５】次に、図１２に示したように、マスク３２
を用いて、イオンミリング等のドライエッチング技術に
よって、非磁性層１５ｅおよび被エッチング層１４Ａｅ
をエッチングして、非磁性層１５および磁極部分層１４
Ａの外形を決定する。また、このエッチングにより、媒
体対向面における磁極部分層１４Ａの幅を、トラック幅
の規格に一致するように規定してもよい。

【０１０６】本実施の形態では、上記のエッチングの際
に、磁極部分層１４Ａの後端面および両側面の少なくと
も一部に傾斜を付ける。このとき、媒体対向面に露出す
る磁極部分層１４Ａの面の形状も決定する。上記各面に
傾斜を付ける方法としては、例えば、エッチング方法と
してイオンミリングを用いる場合には、イオンの照射方
向を基板の面（非磁性層１５および磁極部分層１４Ａの
面）に垂直な方向に対して傾いた方向から照射する方法
が挙げられる。磁極部分層１４Ａの後端面と両側面、お
よび媒体対向面に露出する磁極部分層１４Ａの面におけ
る磁極部分層１４Ａの幅方向の各辺が、磁極部分層１４
Ａのギャップ層９側の面となす角度は、全て９２〜１１
０゜であることが好ましい。この場合には、一度のエッ
チングで同時に、磁極部分層１４Ａの後端面と両側面、
および媒体対向面に露出する磁極部分層１４Ａの面の形
状を決定することができる。

【０１０７】エッチングは、図１２に示した絶縁層９Ｃ
の斜面ｇの上端が、磁極部分層１４Ａの後端面と磁極部
分層１４Ａのギャップ層９側の面とが交わる位置と一致
したところで終了するとよい。このとき、マスク３２
は、非磁性で、耐食性等の点で信頼性が十分にあれば残
っていてもよいし、不要ならば除去してもよい。

【０１０８】上記のエッチングにより、非磁性層１５お
よび磁極部分層１４Ａの外形が決定されるのと同時に、
連結部１４Ｃが露出する。なお、このときに連結部１４
Ｃが露出するように、連結部１４Ｃの厚みは予め所望の
厚み以上に大きくしておく。

【０１０９】次に、図示しないが、非磁性層１５、絶縁
層９Ｃおよび連結部１４Ｃの上に、スパッタ法により、
電気めっき法のための電極層を形成する。この電極層の
厚みは０．１μｍ以下とし、材料は例えば鉄−ニッケル
合金とし、下地にＴｉ（チタン）を成膜してもよい。

【０１１０】次に、図１３に示したように、上記電極層
の上に、フォトレジストによって、ヨーク部分層１４Ｂ
の形状に対応した空隙部を有するレジストフレーム３５
を形成する。

【０１１１】次に、図１４に示したように、レジストフ
レーム３５を用いて、電気めっき法（フレームめっき
法）によって、電極層の上にヨーク部分層１４Ｂを形成
する。次に、レジストフレーム３５を除去する。なお、
ヨーク部分層１４Ｂは、リフトオフ法を用いて形成する
ことも可能であるが、ヨーク部分層１４Ｂの形状を下地
の形状に追従させるためには電気めっき法を用いるのが
最も好ましい。

【０１１２】次に、図示しないが、電極層のうち、ヨー
ク部分層１４Ｂの下に存在する部分以外の部分をドライ
エッチングで除去する。

【０１１３】次に、図１に示したように、第２の磁性層
１４を覆うように保護層１７を形成する。次に、保護層
１７の上に配線や端子等を形成し、スライダ単位で基板
を切断し、媒体対向面ＡＢＳの研磨、浮上用レールの作
製等を行って、薄膜磁気ヘッドが完成する。

【０１１４】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法によれば、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドと同
様の作用、効果の他に、以下のような作用、効果が得ら
れる。

【０１１５】本実施の形態では、磁極部分層１４Ａを形
成する工程は、ギャップ層９および連結部１４Ｃの上
に、磁極部分層１４Ａを構成する材料よりなる被エッチ
ング層１４Ａｅを形成する工程と、被エッチング層１４
Ａｅをドライエッチングによって選択的にエッチングし
て、磁極部分層１４Ａの外形を決定すると共に連結部１
４Ｃを露出させる工程とを含む。本実施の形態では、被
エッチング層１４Ａｅをドライエッチングすることによ
って、磁極部分層１４Ａの後端面から連結部１４Ｃの上
端部にかけて緩やかな傾斜を持つように、ヨーク部分層
１４Ｂの下地の形状が決定される。従って、この下地の
上にヨーク部分層１４Ｂを形成することにより、連結部
１４Ｃと磁極部分層１４Ａとの間を最短距離で結ぶ磁気
経路を形成することが可能になる。

【０１１６】また、本実施の形態において、被エッチン
グ層１４Ａｅを形成する工程の後で、研磨により、被エ
ッチング層１４Ａｅの上面を平坦化した場合には、媒体
対向面ＡＢＳにおいて、磁極部分層１４Ａのギャップ層
９とは反対側の端部を完全に平坦化することができる。
これにより、媒体対向面ＡＢＳにおいて磁極部分層１４
Ａより発生される磁界を、トラックに交差する方向につ
いて均一化することができ、その結果、記録媒体におけ
るビットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度を向
上させることができる。

【０１１７】また、本実施の形態では、被エッチング層
１４Ａｅを形成する工程の前に、研磨により、被エッチ
ング層１４Ａｅの下地となる絶縁層９Ｃおよび連結部１
４Ｃの上面を平坦化している。これにより、媒体対向面
ＡＢＳにおいて、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の
端部を平坦化することができる。また、被エッチング層
１４Ａｅをスパッタ法によって形成する場合には、被エ
ッチング層１４Ａｅの成膜時の膜厚均一性がよいため、
媒体対向面ＡＢＳにおいて、磁極部分層１４Ａのギャッ
プ層９とは反対側の端部も平坦化することができる。こ
れらのことから、媒体対向面ＡＢＳにおいて磁極部分層
１４Ａより発生される磁界を、トラックに交差する方向
について均一化することができ、その結果、記録媒体に
おけるビットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度
を向上させることができる。

【０１１８】また、本実施の形態において、磁極部分層
１４Ａを形成する工程は、被エッチング層１４Ａｅを形
成し、被エッチング層１４Ａｅの上に非磁性層１５ｅを
形成し、非磁性層１５ｅの上に、磁極部分層１４Ａの形
状に対応したマスク３２を形成し、このマスク３２を用
いて、非磁性層１５ｅおよび被エッチング層１４Ａｅを
エッチングして、磁極部分層１４Ａの外形を決定してい
る。従って、本実施の形態によれば、被エッチング層１
４Ａｅの上面を非磁性層１５ｅで保護した状態で磁極部
分層１４Ａの外形を決定でき、磁極部分層１４Ａの後端
面および幅方向の両側面と磁極部分層１４Ａの非磁性層
１５側の面とが交差するエッジを保護することができる
と共に、媒体対向面において磁極部分層１４Ａのギャッ
プ層９とは反対側の端部の平坦性を維持することができ
る。

【０１１９】また、本実施の形態において、ドライエッ
チングに対する耐性に優れたマスク３２を用いた場合に
は、磁極部分層１４Ａを構成する材料がドライエッチン
グに対する耐性に優れている場合でも、マスク３２を用
いたドライエッチングによって磁極部分層１４Ａの外形
を決定することが可能になる。

【０１２０】また、本実施の形態において、ヨーク部分
層１４Ｂを形成する工程は、電気めっき法によってヨー
ク部分層１４Ｂを形成してもよい。この場合には、ヨー
ク部分層１４Ｂを容易に形成できると共に、ヨーク部分
層１４Ｂを、その下地の形状によく追従した形状に形成
することが可能になる。

【０１２１】［第２の実施の形態］次に、本発明の第２
の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
について説明する。まず、図１５ないし図１７を参照し
て、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成について
説明する。図１５は本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の構成を示す断面図である。なお、図１５は媒体対向面
および基板の面に垂直な断面を示している。また、図１
５において記号Ｔで示す矢印は、記録媒体の進行方向を
表している。図１６は図１５のＣ−Ｃ線断面図である。
図１７は図１５に示した薄膜磁気ヘッドの要部を示す斜
視図である。

【０１２２】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドは、第
１の実施の形態におけるヨーク部分層１４Ｂのうち、非
磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａの上面に隣接する
部分を除いた構成になっている。本実施の形態では、ヨ
ーク部分層１４Ｂの周囲には、アルミナ等の非導電性且
つ非磁性の材料よりなる保護層１７Ａが設けられてい
る。ヨーク部分層１４Ｂのギャップ層９とは反対側の面
のうち、磁極部分層１４Ａの後端面および幅方向の両側
面において磁極部分層１４Ａに対して磁気的に接続され
る部分の近傍は、非磁性層１５のギャップ層９とは反対
側の面および保護層１７Ａの上面と共に平坦化されてい
る。そして、これらの平坦化された面の上に、第１の実
施の形態における保護層１７と同様の保護層１７Ｂが設
けられている。本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドのそ
の他の構成は、第１の実施の形態と同様である。

【０１２３】次に、図１８および図１９を参照して、本
実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説
明する。なお、図１８および図１９では、基板１ないし
非磁性層７を省略している。本実施の形態に係る薄膜磁
気ヘッドの製造方法では、図１４に示したように、ヨー
ク部分層１４Ｂを形成する工程までは、第１の実施の形
態と同様である。

【０１２４】本実施の形態では、次に、図１８に示した
ように、非磁性層１５およびヨーク部分層１４Ｂを覆う
ように保護層１７Ａを形成する。

【０１２５】次に、図１９に示したように、例えば化学
機械研磨を用いて、非磁性層１５が露出するまで保護層
１７Ａを研磨して、ヨーク部分層１４Ｂのギャップ層９
とは反対側の面のうち、磁極部分層１４Ａの後端面およ
び幅方向の両側面のうちの少なくとも一部において磁極
部分層１４Ａに対して磁気的に接続される部分の近傍
を、非磁性層１５のギャップ層９とは反対側の面および
保護層１７Ａの上面と共に平坦化する。なお、図１９で
は、ヨーク部分層１４Ｂのギャップ層９とは反対側の面
の一部のみが保護層１７Ａより露出しているが、ヨーク
部分層１４Ｂのギャップ層９とは反対側の面の全体が保
護層１７Ａより露出するようにしてもよい。

【０１２６】次に、図１５に示したように、積層面の全
体を覆うように保護層１７Ｂを形成する。次に、保護層
１７Ｂの上に配線や端子等を形成し、スライダ単位で基
板を切断し、媒体対向面ＡＢＳの研磨、浮上用レールの
作製等を行って、薄膜磁気ヘッドが完成する。

【０１２７】本実施の形態によれば、ヨーク部分層１４
Ｂのギャップ層９とは反対側の面のうち、磁極部分層１
４Ａの後端面および幅方向の両側面において磁極部分層
１４Ａに対して磁気的に接続される部分の近傍を、非磁
性層１５のギャップ層９とは反対側の面と共に平坦化し
たので、磁極部分より発生される磁界のうち、記録媒体
の面に垂直な方向の成分の割合を大きくすることが可能
になる。

【０１２８】本実施の形態におけるその他の作用および
効果は、第１の実施の形態ではヨーク部分層１４Ｂが非
磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａの上面に対して磁
気的に接続されるのに対し、本実施の形態ではそれがな
いことによる違い以外は、第１の実施の形態と同様であ
る。

【０１２９】なお、本実施の形態では、非磁性層１５を
設けずに、磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側
の面を保護層１７Ａの上面と共に平坦化してもよい。こ
の場合には、非磁性層１５を設けなくとも、媒体対向面
において磁極部分層１４Ａのギャップ層９とは反対側の
端部の平坦性を維持することができる。

【０１３０】［第３の実施の形態］次に、本発明の第３
の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
について説明する。まず、図２０および図２１を参照し
て、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成について
説明する。図２０は本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の構成を示す断面図である。なお、図２０は媒体対向面
および基板の面に垂直な断面を示している。また、図２
０において記号Ｔで示す矢印は、記録媒体の進行方向を
表している。図２１は図２０のＤ−Ｄ線断面図である。

【０１３１】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドでは、
ヨーク部分層１４Ｂは、第１の磁性層８と磁極部分層１
４Ａのギャップ層９側の面とに接し、これらに対して磁
気的に接続された第１層１４Ｂ₁と、この第１層１４Ｂ₁
と磁極部分層１４Ａの後端面および幅方向の両側面とに
接し、これらに対して磁気的に接続された第２層１４Ｂ
₂とを含んでいる。

【０１３２】ヨーク部分層１４Ｂの第１層１４Ｂ₁は、
コンタクトホール９ａが形成された位置から媒体対向面
ＡＢＳに向けて、絶縁層９Ｃの媒体対向面ＡＢＳとは反
対側の端面の位置まで、第１の磁性層８および絶縁層９
Ｂの上に形成されている。コンタクトホール９ａの位置
における第１層１４Ｂ₁の厚みは、絶縁層９Ａと絶縁層
９Ｂの合計の厚みより大きく、例えば３μｍ以上であ
る。第１層１４Ｂ₁の媒体対向面ＡＢＳ側の端部は、媒
体対向面ＡＢＳから例えば１．５μｍ以上離れた位置で
あって、磁極部分層１４Ａの後端面よりは媒体対向面Ａ
ＢＳに近い位置に配置されている。第１層１４Ｂ₁を構
成する磁性材料は、例えば鉄−ニッケル系合金すなわち
パーマロイでもよいし、高飽和磁束密度材でもよい。

【０１３３】ヨーク部分層１４Ｂの第１層１４Ｂ₁にお
ける媒体対向面ＡＢＳ側の一部および絶縁層９Ｃの上面
は平坦化されている。磁極部分層１４Ａは、この平坦化
された第１層１４Ｂ₁および絶縁層９Ｃの上面の上に形
成されている。従って、ヨーク部分層１４Ｂの第１層１
４Ｂ₁は、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面の一
部に接し、これに対し磁気的に接続されている。

【０１３４】ヨーク部分層１４Ｂの第２層１４Ｂ₂は、
第１層１４Ｂ₁および非磁性層１５の上に配置されてい
る。第２層１４Ｂ₂は、第１層１４Ｂ₁と磁極部分層１４
Ａの後端面および幅方向の両側面とに接し、これらに対
して磁気的に接続されている。また、第２層１４Ｂ₂の
媒体対向面ＡＢＳ側の一部は、非磁性層１５を介して磁
極部分層１４Ａの上面に隣接し、非磁性層１５を介して
磁極部分層１４Ａに磁気的に接続されている。ヨーク部
分層１４Ｂの第２層１４Ｂ₂の厚みは、例えば０．５〜
２μｍである。第２層１４Ｂ₂を構成する磁性材料は、
例えば鉄−ニッケル系合金すなわちパーマロイでもよい
し、高飽和磁束密度材でもよい。

【０１３５】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドのその
他の構成は、第１の実施の形態と同様である。

【０１３６】次に、図２２ないし図２９を参照して、本
実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法について説
明する。なお、図２２ないし図２９では、基板１ないし
非磁性層７を省略している。本実施の形態に係る薄膜磁
気ヘッドの製造方法では、図７に示したように、絶縁層
９Ｂを形成する工程までは、第１の実施の形態と同様で
ある。

【０１３７】本実施の形態では、次に、図２２に示した
ように、周知のフォトリソグラフィ技術および成膜技術
（例えば電気めっき法）を用いて、コンタクトホール９
ａが形成された位置から媒体対向面ＡＢＳに向けて所定
の位置まで、第１の磁性層８および絶縁層９Ｂの上にヨ
ーク部分層１４Ｂの第１層１４Ｂ₁を形成する。この時
点で、第１層１４Ｂ₁の形状は、例えば、厚みが３μｍ
以上、奥行き（媒体対向面ＡＢＳに垂直な方向の長さ）
が２〜１０μｍ、幅が５〜２０μｍである。

【０１３８】次に、図２３に示したように、スパッタ法
を用いて、絶縁層９Ａ、絶縁層９Ｂおよびヨーク部分層
１４Ｂの第１層１４Ｂ₁を覆うように絶縁層９Ｃを形成
する。この時点で、絶縁層９Ｃの厚みは、第１層１４Ｂ
₁の厚み以上とする。

【０１３９】次に、図２４に示したように、例えば化学
機械研磨を用いて、ヨーク部分層１４Ｂの第１層１４Ｂ
₁が露出するまで絶縁層９Ｃの表面を研磨して、絶縁層
９Ｃおよび第１層１４Ｂ₁の上面を平坦化する。この時
点で、第１の磁性層８の上面から絶縁層９Ｃの上面まで
の距離は、例えば３〜６μｍとする。

【０１４０】次に、図２５に示したように、絶縁層９Ｃ
および第１層１４Ｂ₁の上に、第１の実施の形態と同様
の被エッチング層１４Ａｅおよび非磁性層１５ｅを順に
形成する。

【０１４１】次に、図示しないが、非磁性層１５ｅの上
に、スパッタ法により、電気めっき法のための電極層を
形成する。この電極層の厚みは０．１μｍ以下とし、材
料は例えば鉄−ニッケル合金とする。

【０１４２】次に、図２６に示したように、上記電極層
の上に、第１の実施の形態と同様に、磁極部分層１４Ａ
および非磁性層１５の形状を決定するためのマスク３２
を形成する。

【０１４３】次に、図２７に示したように、マスク３２
を用いて、イオンミリング等のドライエッチング技術に
よって、非磁性層１５ｅおよび被エッチング層１４Ａｅ
をエッチングして、非磁性層１５および磁極部分層１４
Ａの外形を決定する。第１の実施の形態と同様に、上記
のエッチングの際には、磁極部分層１４Ａの後端面およ
び両側面の少なくとも一部に傾斜を付ける。このとき、
媒体対向面に露出する磁極部分層１４Ａの面の形状も決
定する。マスク３２は、非磁性で、耐食性等の点で信頼
性が十分にあれば残っていてもよいし、不要ならば除去
してもよい。

【０１４４】次に、図示しないが、非磁性層１５、絶縁
層９Ｃおよびヨーク部分層１４Ｂの第１層１４Ｂ₁の上
に、スパッタ法により、電気めっき法のための電極層を
形成する。この電極層の厚みは０．１μｍ以下とし、材
料は例えば鉄−ニッケル合金とし、下地にＴｉ（チタ
ン）を成膜してもよい。

【０１４５】次に、図２８に示したように、上記電極層
の上に、フォトレジストによって、ヨーク部分層１４Ｂ
の第２層１４Ｂ_２の形状に対応した空隙部を有するレジ
ストフレーム３５を形成する。

【０１４６】次に、図２９に示したように、レジストフ
レーム３５を用いて、電気めっき法（フレームめっき
法）によって、電極層の上にヨーク部分層１４Ｂの第２
層１４Ｂ_２を形成する。次に、レジストフレーム３５を
除去する。

【０１４７】次に、図示しないが、電極層のうち、ヨー
ク部分層１４Ｂの第２層１４Ｂ_２の下に存在する部分以
外の部分をドライエッチングで除去する。

【０１４８】次に、図２０に示したように、第２の磁性
層１４を覆うように保護層１７を形成する。次に、保護
層１７の上に配線や端子等を形成し、スライダ単位で基
板を切断し、媒体対向面ＡＢＳの研磨、浮上用レールの
作製等を行って、薄膜磁気ヘッドが完成する。

【０１４９】本実施の形態では、ヨーク部分層１４Ｂ
は、磁極部分層１４Ａのギャップ層９側の面でも磁極部
分層１４Ａに対して磁気的に接続されている。従って、
本実施の形態によれば、磁極部分層１４Ａとヨーク部分
層１４Ｂとの磁気的な接続部分の面積を大きくすること
ができ、その結果、磁束を効率よくヨーク部分層１４Ｂ
から磁極部分層１４Ａへ導くことができる。

【０１５０】本実施の形態におけるその他の構成、作用
および効果は第１の実施の形態と同様である。

【０１５１】［第４の実施の形態］次に、本発明の第４
の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
について説明する。まず、図３０を参照して、本実施の
形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成について説明する。図
３０は本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドの構成を示す
断面図である。なお、図３０は媒体対向面および基板の
面に垂直な断面を示している。また、図３０において記
号Ｔで示す矢印は、記録媒体の進行方向を表している。

【０１５２】本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドは、第
３の実施の形態におけるヨーク部分層１４Ｂの第２層１
４Ｂ₂のうち、非磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａ
の上面に隣接する部分を除いた構成になっている。本実
施の形態では、第２層１４Ｂ ₂の周囲には、アルミナ等
の非導電性且つ非磁性の材料よりなる保護層１７Ａが設
けられている。第２層１４Ｂ₂のギャップ層９とは反対
側の面のうち、磁極部分層１４Ａの後端面および幅方向
の両側面において磁極部分層１４Ａに対して磁気的に接
続される部分の近傍は、非磁性層１５のギャップ層９と
は反対側の面および保護層１７Ａの上面と共に平坦化さ
れている。そして、これらの平坦化された面の上に、第
２の実施の形態と同様に保護層１７Ｂが設けられてい
る。本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッドのその他の構成
は、第３の実施の形態と同様である。

【０１５３】次に、本実施の形態に係る薄膜磁気ヘッド
の製造方法について説明する。本実施の形態に係る薄膜
磁気ヘッドの製造方法では、図２９に示したように、ヨ
ーク部分層１４Ｂの第２層１４Ｂ₂を形成する工程まで
は、第３の実施の形態と同様である。

【０１５４】本実施の形態では、次に、非磁性層１５お
よび第２層１４Ｂ₂を覆うように保護層１７Ａを形成す
る。次に、例えば化学機械研磨を用いて、非磁性層１５
が露出するまで保護層１７Ａを研磨して、第２層１４Ｂ
₂のギャップ層９とは反対側の面のうち、少なくとも磁
極部分層１４Ａに対して磁気的に接続される部分の近傍
を、非磁性層１５のギャップ層９とは反対側の面および
保護層１７Ａの上面と共に平坦化する。なお、図３０で
は、第２層１４Ｂ₂のギャップ層９とは反対側の面の一
部のみが保護層１７Ａより露出しているが、第２層１４
Ｂ₂のギャップ層９とは反対側の面の全体が保護層１７
Ａより露出するようにしてもよい。次に、図３０に示し
たように、積層面の全体を覆うように保護層１７Ｂを形
成する。次に、保護層１７Ｂの上に配線や端子等を形成
し、スライダ単位で基板を切断し、媒体対向面ＡＢＳの
研磨、浮上用レールの作製等を行って、薄膜磁気ヘッド
が完成する。

【０１５５】本実施の形態によれば、ヨーク部分層１４
Ｂの第２層１４Ｂ₂のギャップ層９とは反対側の面のう
ち、少なくとも磁極部分層１４Ａに対して磁気的に接続
される部分の近傍を、非磁性層１５のギャップ層９とは
反対側の面と共に平坦化したので、磁極部分より発生さ
れる磁界のうち、記録媒体の面に垂直な方向の成分の割
合を大きくすることが可能になる。

【０１５６】本実施の形態におけるその他の作用および
効果は、第３の実施の形態ではヨーク部分層１４Ｂの第
２層１４Ｂ₂が非磁性層１５を介して磁極部分層１４Ａ
の上面に対して磁気的に接続されるのに対し、本実施の
形態ではそれがないことによる違い以外は、第３の実施
の形態と同様である。

【０１５７】なお、本発明は上記各実施の形態に限定さ
れず、種々の変更が可能である。例えば、各実施の形態
では、ヨーク部分層１４Ｂは、磁極部分層１４Ａの後端
面および幅方向の両側面に磁気的に接続されているが、
磁極部分層１４Ａの後端面と幅方向の両側面のうち、い
ずれか一方にのみ磁気的に接続されていてもよい。

【０１５８】また、本発明では、磁極部分層１４Ａのヨ
ーク部分層１４Ｂとの接続面の少なくとも一部が、磁極
部分層１４Ａのギャップ層側の面に垂直な方向に対して
傾いていればよい。従って、例えば、上記接続面は湾曲
していてもよい。この場合には、点ｃ_１，ｃ_２における
角度θ_１，θ_２は９０°であってもよい。なお、接続面
は湾曲している場合には、「接続面の少なくとも一部を
含む断面」は、接続面の少なくとも一部に接する断面と
いうことになる。

【０１５９】また、本発明は、垂直磁気記録方式に用い
られる薄膜磁気ヘッドに限らず、長手磁気記録方式に用
いられる薄膜磁気ヘッドにも適用することができる。長
手磁気記録方式の場合には、ギャップ層が薄いため、磁
極部分層のギャップ層側のエッジからギャップ層へ磁束
が漏れやすく、そのため、記録媒体に印加される磁界が
小さくなる。一方、ヨーク部分層からの磁界を効率よく
磁極部分層が吸収するためには、磁極部分層の体積が大
きいことが必要である。そこで、本発明のように、磁極
部分層のヨーク部分層との接続面を、この接続面と磁極
部分層のギャップ層側の面とのなす角度が９０°を超え
るように傾ければ、磁極部分層のギャップ層側の面の面
積を大きくすることなく、磁極部分層の体積を増加させ
ることができる。すなわち、磁極部分層からギャップ層
への磁束の漏れを抑えながら、ヨーク部分層からの磁界
を効率よく磁極部分層によって吸収することが可能にな
る。

【０１６０】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１ないし１
１のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドによれば、第２の
磁性層が磁極部分層とヨーク部分層とを有するようにし
たので、記録媒体に印加される磁界の強度を低下させる
ことなくトラック幅を縮小することが可能になる。ま
た、本発明によれば、磁極部分層のヨーク部分層との接
続面の少なくとも一部が、磁極部分層のギャップ層側の
面に垂直な方向に対して傾いていることから、接続面が
磁極部分層のギャップ層側の面に垂直な場合に比べて接
続面の面積が大きくなり、接続面を介してヨーク部分層
から磁極部分層へ効率よく磁束を導くことが可能にな
る。これらのことから、本発明によれば、磁極部分より
発生される、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きく
することができ、且つ記録密度を向上させることができ
るという効果を奏する。

【０１６１】また、請求項２記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、接続面の少なくとも一部は、接続面の少なくとも
一部と磁極部分層のギャップ層側の面とのなす角度が９
０°を超えるように傾いているので、ヨーク部分層が磁
極部分層のギャップ層とは反対側の面においても磁極部
分層に対して磁気的に接続される場合に、磁極部分層と
ヨーク部分層が磁気的に接続する部分の面積が大きくな
り、ヨーク部分層から磁極部分層へより効率よく磁束を
導くことが可能になるという効果を奏する。

【０１６２】また、請求項３記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、接続面の少なくとも一部を含む断面において、ヨ
ーク部分層の厚みは磁極部分層の厚みよりも大きいの
で、磁極部分層とヨーク部分層との接続部分の近傍にお
いて、ヨーク部分層側での磁束の飽和を防止することが
できる。従って、本発明によれば、接続面を介してヨー
ク部分層から磁極部分層へ効率よく磁束を導くことが可
能になり、その結果、磁極部分より発生される、記録媒
体の面に垂直な方向の磁界を大きくすることが可能にな
るという効果を奏する。

【０１６３】また、請求項４または５記載の薄膜磁気ヘ
ッドによれば、ヨーク部分層は、更に、磁極部分層のギ
ャップ層とは反対側の面において、磁極部分層に対して
磁気的に接続されているので、磁極部分層とヨーク部分
層が磁気的に接続する部分の面積が大きくなり、ヨーク
部分層から磁極部分層へより効率よく磁束を導くことが
可能になるという効果を奏する。

【０１６４】また、請求項６または７記載の薄膜磁気ヘ
ッドによれば、更に、磁極部分層のギャップ層とは反対
側の面の全面に接する非磁性層を備えたので、磁極部分
層のギャップ層とは反対側の面が、薄膜磁気ヘッドの製
造工程においてダメージを受けることを防止でき、その
面を平坦に保つことができる。そのため、本発明によれ
ば、媒体対向面において、磁極部分層のギャップ層とは
反対側の端部を平坦に保ち、媒体対向面において磁極部
分層より発生される磁界を、トラックに交差する方向に
ついて均一化することができ、その結果、記録媒体にお
けるビットパターン形状の歪みを抑えて、線記録密度を
向上させることができるという効果を奏する。

【０１６５】また、請求項７記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、ヨーク部分層のギャップ層とは反対側の面のう
ち、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面および幅
方向の両側面のうちの少なくとも一部において磁極部分
層に対して磁気的に接続される部分の近傍は、非磁性層
のギャップ層とは反対側の面と共に平坦化されているの
で、磁極部分より発生される磁界のうち、記録媒体の面
に垂直な方向の成分の割合を大きくすることが可能にな
るという効果を奏する。

【０１６６】また、請求項８記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、ヨーク部分層は、更に、磁極部分層のギャップ層
側の面において、磁極部分層に対して磁気的に接続され
ているので、磁極部分層とヨーク部分層が磁気的に接続
する部分の面積が大きくなり、ヨーク部分層から磁極部
分層へより効率よく磁束を導くことが可能になるという
効果を奏する。

【０１６７】また、請求項９記載の薄膜磁気ヘッドによ
れば、磁極部分層の飽和磁束密度は、ヨーク部分層の飽
和磁束密度以上であるので、第２の磁性層の途中におけ
る磁束の飽和を防止することができるという効果を奏す
る。

【０１６８】また、請求項１０記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、再生素子としての磁気抵抗効果素子を備えたの
で、誘導型電磁変換素子を用いて再生を行う場合に比べ
て、再生性能を向上させることができるという効果を奏
する。

【０１６９】また、請求項１１記載の薄膜磁気ヘッドに
よれば、この薄膜磁気ヘッドが垂直磁気記録方式に用い
られるようにしたので、記録媒体の熱揺らぎの影響を受
けにくくして、線記録密度を高めることができるという
効果を奏する。

【０１７０】また、請求項１２ないし２０のいずれかに
記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、第２の磁性
層が磁極部分層とヨーク部分層とを有するようにしたの
で、記録媒体に印加される磁界の強度を低下させること
なくトラック幅を縮小することが可能になる。また、本
発明によれば、磁極部分層のヨーク部分層との接続面の
少なくとも一部が、磁極部分層のギャップ層側の面に垂
直な方向に対して傾いて配置されることから、接続面が
磁極部分層のギャップ層側の面に垂直な場合に比べて接
続面の面積が大きくなり、接続面を介してヨーク部分層
から磁極部分層へ効率よく磁束を導くことが可能にな
る。これらのことから、本発明によれば、磁極部分より
発生される、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きく
することができ、且つ記録密度を向上させることができ
るという効果を奏する。

【０１７１】また、請求項１３記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、接続面の少なくとも一部は、接続面
の少なくとも一部と磁極部分層のギャップ層側の面との
なす角度が９０°を超えるように傾いて配置されるの
で、ヨーク部分層が磁極部分層のギャップ層とは反対側
の面においても磁極部分層に対して磁気的に接続される
場合に、磁極部分層とヨーク部分層が磁気的に接続する
部分の面積が大きくなり、ヨーク部分層から磁極部分層
へより効率よく磁束を導くことが可能になるという効果
を奏する。

【０１７２】また、請求項１４記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、接続面の少なくとも一部を含む断面
において、ヨーク部分層の厚みは磁極部分層の厚みより
も大きいので、磁極部分層とヨーク部分層との接続部分
の近傍において、ヨーク部分層側での磁束の飽和を防止
することができる。従って、本発明によれば、接続面を
介してヨーク部分層から磁極部分層へ効率よく磁束を導
くことが可能になり、その結果、磁極部分より発生され
る、記録媒体の面に垂直な方向の磁界を大きくすること
が可能になるという効果を奏する。

【０１７３】また、請求項１５または１６記載の薄膜磁
気ヘッドの製造方法によれば、ヨーク部分層は、更に、
磁極部分層のギャップ層とは反対側の面において、磁極
部分層に対して磁気的に接続されるので、磁極部分層と
ヨーク部分層が磁気的に接続する部分の面積が大きくな
り、ヨーク部分層から磁極部分層へより効率よく磁束を
導くことが可能になるという効果を奏する。

【０１７４】また、請求項１７または１８記載の薄膜磁
気ヘッドの製造方法によれば、更に、磁極部分層のギャ
ップ層とは反対側の面の全面に接する非磁性層を形成す
る工程を備えたので、磁極部分層のギャップ層とは反対
側の面が、薄膜磁気ヘッドの製造工程においてダメージ
を受けることを防止でき、その面を平坦に保つことがで
きる。そのため、本発明によれば、媒体対向面におい
て、磁極部分層のギャップ層とは反対側の端部を平坦に
保ち、媒体対向面において磁極部分層より発生される磁
界を、トラックに交差する方向について均一化すること
ができ、その結果、記録媒体におけるビットパターン形
状の歪みを抑えて、線記録密度を向上させることができ
るという効果を奏する。

【０１７５】また、請求項１８記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、ヨーク部分層のギャップ層とは反対
側の面のうち、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端
面および幅方向の両側面のうちの少なくとも一部におい
て磁極部分層に対して磁気的に接続される部分の近傍
は、非磁性層のギャップ層とは反対側の面と共に平坦化
されるので、磁極部分より発生される磁界のうち、記録
媒体の面に垂直な方向の成分の割合を大きくすることが
可能になるという効果を奏する。

【０１７６】また、請求項１９記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、ヨーク部分層は、更に、磁極部分層
のギャップ層側の面において、磁極部分層に対して磁気
的に接続されるので、磁極部分層とヨーク部分層が磁気
的に接続する部分の面積が大きくなり、ヨーク部分層か
ら磁極部分層へより効率よく磁束を導くことが可能にな
るという効果を奏する。

【０１７７】また、請求項２０記載の薄膜磁気ヘッドの
製造方法によれば、磁極部分層の飽和磁束密度は、ヨー
ク部分層の飽和磁束密度以上であるので、第２の磁性層
の途中における磁束の飽和を防止することができるとい
う効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッ
ドの構成を示す断面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。

【図３】図１に示した薄膜磁気ヘッドの媒体対向面を示
す正面図である。

【図４】図１に示した薄膜磁気ヘッドの要部を示す斜視
図である。

【図５】比較例の薄膜磁気ヘッドの構成を示す断面図で
ある。

【図６】図５のＢ−Ｂ線断面図である。

【図７】本発明の第１の実施の形態に係る薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法における一工程を示す断面図である。

【図８】図７に続く工程を示す断面図である。

【図９】図８に続く工程を示す断面図である。

【図１０】図９に続く工程を示す断面図である。

【図１１】図１０に続く工程を示す断面図である。

【図１２】図１１に続く工程を示す断面図である。

【図１３】図１２に続く工程を示す断面図である。

【図１４】図１３に続く工程を示す断面図である。

【図１５】本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの構成を示す断面図である。

【図１６】図１５のＣ−Ｃ線断面図である。

【図１７】図１５に示した薄膜磁気ヘッドの要部を示す
斜視図である。

【図１８】本発明の第２の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法における一工程を示す断面図である。

【図１９】図１８に続く工程を示す断面図である。

【図２０】本発明の第３の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの構成を示す断面図である。

【図２１】図２０のＤ−Ｄ線断面図である。

【図２２】本発明の第３の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法における一工程を示す断面図である。

【図２３】図２２に続く工程を示す断面図である。

【図２４】図２３に続く工程を示す断面図である。

【図２５】図２４に続く工程を示す断面図である。

【図２６】図２５に続く工程を示す断面図である。

【図２７】図２６に続く工程を示す断面図である。

【図２８】図２７に続く工程を示す断面図である。

【図２９】図２８に続く工程を示す断面図である。

【図３０】本発明の第４の実施の形態に係る薄膜磁気ヘ
ッドの構成を示す断面図である。

【符号の説明】

３…下部シールド層、４…絶縁層、５…ＭＲ素子、６…
上部シールド層、７…非磁性層、８…第１の磁性層、９
…ギャップ層、９Ａ，９Ｂ，９Ｃ…絶縁層、１０…薄膜
コイル、１４…第２の磁性層、１４Ａ…磁極部分層、１
４Ｂ…ヨーク部分層、１４Ｃ…連結部、１５…非磁性
層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 乘附 康之 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D033 AA05 BA07 BA12 BB43 CA01 DA31 5D034 AA03 AA05 BA02 BB01 DA07

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録媒体に対向する媒体対向面と、 記録媒体の進行方向の前後に所定の間隔を開けて互いに
   対向するように配置された磁極部分を含むと共に、前記
   媒体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結
   された第１および第２の磁性層と、 非磁性材料よりなり、前記第１の磁性層と第２の磁性層
   との間に設けられたギャップ層と、 少なくとも一部が前記第１および第２の磁性層の間に、
   前記第１および第２の磁性層に対して絶縁された状態で
   設けられた薄膜コイルとを備え、 前記第２の磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面にお
   ける幅がトラック幅を規定する磁極部分層と、前記磁極
   部分と前記第１の磁性層とを磁気的に接続するヨーク部
   分層とを有し、 前記ヨーク部分層は、前記磁極部分層の媒体対向面とは
   反対側の端面および幅方向の両側面のうちの少なくとも
   一部において、前記磁極部分層に対して磁気的に接続さ
   れ、 前記磁極部分層の前記ヨーク部分層との接続面の少なく
   とも一部は、前記磁極部分層の前記ギャップ層側の面に
   垂直な方向に対して傾いていることを特徴とする薄膜磁
   気ヘッド。
2. 【請求項２】 前記接続面の少なくとも一部は、前記接
   続面の少なくとも一部と前記磁極部分層の前記ギャップ
   層側の面とのなす角度が９０°を超えるように傾いてい
   ることを特徴とする請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 前記接続面の少なくとも一部を含む断面
   において、前記ヨーク部分層の厚みは前記磁極部分層の
   厚みよりも大きいことを特徴とする請求項１または２記
   載の薄膜磁気ヘッド。
4. 【請求項４】 前記ヨーク部分層は、更に、前記磁極部
   分層の前記ギャップ層とは反対側の面において、前記磁
   極部分層に対して磁気的に接続されていることを特徴と
   する請求項１ないし３のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
   ド。
5. 【請求項５】 更に、前記磁極部分層の前記ギャップ層
   とは反対側の面に接する非磁性層を備え、前記ヨーク部
   分層は、前記非磁性層を介して前記磁極部分層の前記ギ
   ャップ層とは反対側の面に隣接し、前記非磁性層を介し
   て前記磁極部分層に磁気的に接続されていることを特徴
   とする請求項４記載の薄膜磁気ヘッド。
6. 【請求項６】 更に、前記磁極部分層の前記ギャップ層
   とは反対側の面の全面に接する非磁性層を備えたことを
   特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の薄膜磁
   気ヘッド。
7. 【請求項７】 前記ヨーク部分層の前記ギャップ層とは
   反対側の面のうち、前記磁極部分層の媒体対向面とは反
   対側の端面および幅方向の両側面のうちの少なくとも一
   部において前記磁極部分層に対して磁気的に接続される
   部分の近傍は、前記非磁性層の前記ギャップ層とは反対
   側の面と共に平坦化されていることを特徴とする請求項
   ６記載の薄膜磁気ヘッド。
8. 【請求項８】 前記ヨーク部分層は、更に、前記磁極部
   分層の前記ギャップ層側の面において、前記磁極部分層
   に対して磁気的に接続されていることを特徴とする請求
   項１ないし７のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
9. 【請求項９】 前記磁極部分層の飽和磁束密度は、前記
   ヨーク部分層の飽和磁束密度以上であることを特徴とす
   る請求項１ないし８のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッ
   ド。
10. 【請求項１０】 更に、再生素子としての磁気抵抗効果
    素子を備えたことを特徴とする請求項１ないし９のいず
    れかに記載の薄膜磁気ヘッド。
11. 【請求項１１】 垂直磁気記録方式に用いられることを
    特徴とする請求項１ないし１０のいずれかに記載の薄膜
    磁気ヘッド。
12. 【請求項１２】 記録媒体に対向する媒体対向面と、記
    録媒体の進行方向の前後に所定の間隔を開けて互いに対
    向するように配置された磁極部分を含むと共に、前記媒
    体対向面から離れた位置において互いに磁気的に連結さ
    れた第１および第２の磁性層と、非磁性材料よりなり、
    前記第１の磁性層と第２の磁性層との間に設けられたギ
    ャップ層と、少なくとも一部が前記第１および第２の磁
    性層の間に、前記第１および第２の磁性層に対して絶縁
    された状態で設けられた薄膜コイルとを備え、前記第２
    の磁性層は、磁極部分を含み、媒体対向面における幅が
    トラック幅を規定する磁極部分層と、前記磁極部分と前
    記第１の磁性層とを磁気的に接続するヨーク部分層とを
    有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、 前記第１の磁性層を形成する工程と、 前記ギャップ層を形成する工程と、 前記薄膜コイルを形成する工程と、 ヨーク部分層が、磁極部分層の媒体対向面とは反対側の
    端面および幅方向の両側面のうちの少なくとも一部にお
    いて、磁極部分層に対して磁気的に接続され、且つ、磁
    極部分層のヨーク部分層との接続面の少なくとも一部が
    磁極部分層のギャップ層側の面に垂直な方向に対して傾
    いて配置されるように、磁極部分層とヨーク部分層とを
    有する前記第２の磁性層を形成する工程とを備えたこと
    を特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
13. 【請求項１３】 前記接続面の少なくとも一部は、前記
    接続面の少なくとも一部と前記磁極部分層の前記ギャッ
    プ層側の面とのなす角度が９０°を超えるように傾いて
    配置されることを特徴とする請求項１２記載の薄膜磁気
    ヘッドの製造方法。
14. 【請求項１４】 前記接続面の少なくとも一部を含む断
    面において、前記ヨーク部分層の厚みは前記磁極部分層
    の厚みよりも大きいことを特徴とする請求項１２または
    １３記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
15. 【請求項１５】 前記ヨーク部分層は、更に、前記磁極
    部分層の前記ギャップ層とは反対側の面において、前記
    磁極部分層に対して磁気的に接続されることを特徴とす
    る請求項１２ないし１４のいずれかに記載の薄膜磁気ヘ
    ッドの製造方法。
16. 【請求項１６】 更に、前記磁極部分層の前記ギャップ
    層とは反対側の面に接する非磁性層を形成する工程を備
    え、前記ヨーク部分層は、前記非磁性層を介して前記磁
    極部分層の前記ギャップ層とは反対側の面に隣接し、前
    記非磁性層を介して前記磁極部分層に磁気的に接続され
    ることを特徴とする請求項１５記載の薄膜磁気ヘッドの
    製造方法。
17. 【請求項１７】 更に、前記磁極部分層の前記ギャップ
    層とは反対側の面の全面に接する非磁性層を形成する工
    程を備えたことを特徴とする請求項１２ないし１５のい
    ずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
18. 【請求項１８】 前記第２の磁性層を形成する工程は、
    前記非磁性層を形成する工程の後で、前記ヨーク部分層
    のうちの少なくとも前記磁極部分層に対して磁気的に接
    続される部分を形成する工程と、前記非磁性層およびヨ
    ーク部分層を覆うように保護層を形成する工程と、前記
    非磁性層が露出するまで前記保護層を研磨して、前記ヨ
    ーク部分層の前記ギャップ層とは反対側の面のうち、前
    記磁極部分層の媒体対向面とは反対側の端面および幅方
    向の両側面のうちの少なくとも一部において前記磁極部
    分層に対して磁気的に接続される部分の近傍を、前記非
    磁性層の前記ギャップ層とは反対側の面と共に平坦化す
    る工程とを含むことを特徴とする請求項１７記載の薄膜
    磁気ヘッドの製造方法。
19. 【請求項１９】 前記ヨーク部分層は、更に、前記磁極
    部分層の前記ギャップ層側の面において、前記磁極部分
    層に対して磁気的に接続されることを特徴とする請求項
    １２ないし１８のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドの製
    造方法。
20. 【請求項２０】 前記磁極部分層の飽和磁束密度は、前
    記ヨーク部分層の飽和磁束密度以上であることを特徴と
    する請求項１２ないし１９のいずれかに記載の薄膜磁気
    ヘッドの製造方法。