JPH06124415A - 複合型薄膜磁気ヘッド - Google Patents
複合型薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH06124415A JPH06124415A JP27284192A JP27284192A JPH06124415A JP H06124415 A JPH06124415 A JP H06124415A JP 27284192 A JP27284192 A JP 27284192A JP 27284192 A JP27284192 A JP 27284192A JP H06124415 A JPH06124415 A JP H06124415A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の複合型薄膜磁気ヘッドで扱っていた従
来の磁気記憶媒体よりも高い保磁力の磁気記録媒体に対
して磁気情報の記録・再生ができる複合型薄膜磁気ヘッ
ドを提供する。 【構成】 再生用の磁気抵抗効果素子７を有するととも
に、記録用のインダクティブヘッドを有する複合型薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記記録用のインダクティブヘッ
ドのギャップ層２を形成する記録用上部磁性層４ａと下
部磁性層１あるいは再生用シールド磁性層５のうち、少
なくとも一方に高磁束密度の磁性層を配置したことを特
徴とする。
来の磁気記憶媒体よりも高い保磁力の磁気記録媒体に対
して磁気情報の記録・再生ができる複合型薄膜磁気ヘッ
ドを提供する。 【構成】 再生用の磁気抵抗効果素子７を有するととも
に、記録用のインダクティブヘッドを有する複合型薄膜
磁気ヘッドにおいて、前記記録用のインダクティブヘッ
ドのギャップ層２を形成する記録用上部磁性層４ａと下
部磁性層１あるいは再生用シールド磁性層５のうち、少
なくとも一方に高磁束密度の磁性層を配置したことを特
徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、媒体対向面で上部磁性
層と下部磁性層とがギャップ層を介して対向し、かつ、
両磁性層間に絶縁層と導体層を順次形成されている記録
部と、再生用の磁気抵抗素子とを有してなる複合型の薄
膜磁気ヘッドに関する。
層と下部磁性層とがギャップ層を介して対向し、かつ、
両磁性層間に絶縁層と導体層を順次形成されている記録
部と、再生用の磁気抵抗素子とを有してなる複合型の薄
膜磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置に用いられる磁
気ヘッドにおいては、磁気ディスク媒体に対する高密度
化および高効率化が進められ、その形状もますます小型
化されるとともに、高精度化がなされている。このよう
な要求に対し、磁気記録に寄与する磁極先端部での磁界
分布が急俊で高密度な磁気記録を可能とする小型の薄膜
磁気ヘッドが種々提案され、実用化されている。
気ヘッドにおいては、磁気ディスク媒体に対する高密度
化および高効率化が進められ、その形状もますます小型
化されるとともに、高精度化がなされている。このよう
な要求に対し、磁気記録に寄与する磁極先端部での磁界
分布が急俊で高密度な磁気記録を可能とする小型の薄膜
磁気ヘッドが種々提案され、実用化されている。
【０００３】図９は、従来の複合型の薄膜磁気ヘッドの
１例を示すものである。
１例を示すものである。
【０００４】図９に示す複合型の薄膜磁気ヘッドＡは、
下部磁性層１とギャップ層２が積層され、その上に層間
絶縁層で被包されたコイル導体３が積層され、それらの
上に上部磁性層４が積層されている記録用のインダクテ
ィブヘッドＸと、再生用の２つのシールド磁性層５、５
間に介在するギャップ層６に磁気抵抗効果素子（ＭＲ）
７を有する再生用ヘッドＹとが絶縁膜８を介して積層さ
れた構造となっている。ここで現在、前記各磁性層１、
４、５はパーマロイから構成されることが一般的であ
る。
下部磁性層１とギャップ層２が積層され、その上に層間
絶縁層で被包されたコイル導体３が積層され、それらの
上に上部磁性層４が積層されている記録用のインダクテ
ィブヘッドＸと、再生用の２つのシールド磁性層５、５
間に介在するギャップ層６に磁気抵抗効果素子（ＭＲ）
７を有する再生用ヘッドＹとが絶縁膜８を介して積層さ
れた構造となっている。ここで現在、前記各磁性層１、
４、５はパーマロイから構成されることが一般的であ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この構造の複合型薄膜
磁気ヘッドの最大の欠点は、下部磁性層１および上部磁
性層４をパーマロイにより構成しているため、保磁力の
高い磁気記録媒体に対しては磁気情報の書き込みが難し
いという問題がある。
磁気ヘッドの最大の欠点は、下部磁性層１および上部磁
性層４をパーマロイにより構成しているため、保磁力の
高い磁気記録媒体に対しては磁気情報の書き込みが難し
いという問題がある。
【０００６】そのため、現在多用されているパーマロイ
よりも磁気特性に優れた磁性材料を使用して前記両磁性
層１、４を形成するならば、記録特性が向上することは
種々のシュミレーションおよび実験からも明らかであ
る。
よりも磁気特性に優れた磁性材料を使用して前記両磁性
層１、４を形成するならば、記録特性が向上することは
種々のシュミレーションおよび実験からも明らかであ
る。
【０００７】しかし、現存する高磁束密度の膜、例えば
アモルファス合金膜、Ｆｅ−Ｎ合金膜などによって両磁
性層１、４を構成しようとすると、これらはいずれも熱
に不安定であったり、耐腐食性に問題があり、実用的で
はなかった。
アモルファス合金膜、Ｆｅ−Ｎ合金膜などによって両磁
性層１、４を構成しようとすると、これらはいずれも熱
に不安定であったり、耐腐食性に問題があり、実用的で
はなかった。
【０００８】本発明は、このような問題点を克服し、従
来の複合型薄膜磁気ヘッドで扱っていた従来の磁気記憶
媒体よりも高い保磁力の磁気記録媒体に対して磁気情報
の記録・再生ができる複合型薄膜磁気ヘッドを提供する
こと目的とする。
来の複合型薄膜磁気ヘッドで扱っていた従来の磁気記憶
媒体よりも高い保磁力の磁気記録媒体に対して磁気情報
の記録・再生ができる複合型薄膜磁気ヘッドを提供する
こと目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッドは、再生用の
磁気抵抗効果素子を有するとともに、記録用のインダク
ティブヘッドを有する複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記記録用のインダクティブヘッドのギャップ層を形成
する記録用上部磁性層と下部磁性層あるいは再生用シー
ルド磁性層のうち、少なくとも一方に高磁束密度の磁性
層を配置したことを特徴とする。
に請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッドは、再生用の
磁気抵抗効果素子を有するとともに、記録用のインダク
ティブヘッドを有する複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記記録用のインダクティブヘッドのギャップ層を形成
する記録用上部磁性層と下部磁性層あるいは再生用シー
ルド磁性層のうち、少なくとも一方に高磁束密度の磁性
層を配置したことを特徴とする。
【００１０】請求項２に記載の複合型薄膜磁気ヘッド
は、請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、
高磁束密度の磁性層は飽和磁束密度ＢｓがＢｓ≧１．５
Ｔであり、厚さｄが０＜ｄ≦０．５μｍであるＣｏ−Ｎ
ｉ−Ｆｅ系の材料により形成されていることを特徴とす
る。
は、請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、
高磁束密度の磁性層は飽和磁束密度ＢｓがＢｓ≧１．５
Ｔであり、厚さｄが０＜ｄ≦０．５μｍであるＣｏ−Ｎ
ｉ−Ｆｅ系の材料により形成されていることを特徴とす
る。
【００１１】
【作用】前述した構成からなる本発明の複合型薄膜磁気
ヘッドによれば、記録用ギャップの少なくとも１側方に
高磁束密度の磁性層を配したので、高い飽和磁束密度で
磁気記録を行うことができる。
ヘッドによれば、記録用ギャップの少なくとも１側方に
高磁束密度の磁性層を配したので、高い飽和磁束密度で
磁気記録を行うことができる。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１から図６につい
て説明する。
て説明する。
【００１３】図１は本発明の第１実施例の複合型薄膜磁
気ヘッドＢを示す断面図、図２は本発明の第２実施例の
複合型薄膜磁気ヘッドＣを示す断面図、図３は本発明の
第３実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＤを示す断面図、図
４は本発明の第４実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＥを示
す断面図、図５は本発明の第５実施例の複合型薄膜磁気
ヘッドＦを示す断面図、図６は本発明の第６実施例の複
合型薄膜磁気ヘッドＧを示す断面図である。
気ヘッドＢを示す断面図、図２は本発明の第２実施例の
複合型薄膜磁気ヘッドＣを示す断面図、図３は本発明の
第３実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＤを示す断面図、図
４は本発明の第４実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＥを示
す断面図、図５は本発明の第５実施例の複合型薄膜磁気
ヘッドＦを示す断面図、図６は本発明の第６実施例の複
合型薄膜磁気ヘッドＧを示す断面図である。
【００１４】なお、従来と同一部分には同一符号をもっ
て説明する。
て説明する。
【００１５】図１は従来と同様に構成された複合型薄膜
磁気ヘッドの記録用上部磁性層のギャップ側のみに高磁
束密度の磁性層を設けた本発明の第１実施例である。
磁気ヘッドの記録用上部磁性層のギャップ側のみに高磁
束密度の磁性層を設けた本発明の第１実施例である。
【００１６】図１に示す複合型薄膜磁気ヘッドＢは、図
９に示す従来の複合型薄膜磁気ヘッドＡと同様な構成で
あり、下部磁性層１とギャップ層２が積層され、その上
に層間絶縁層で被包されたコイル導体３が積層され、そ
れらの上に上部磁性層４が積層されている記録用のイン
ダクティブヘッドと、再生用の２つのシールド磁性層
５、５間に介在するギャップ層６に磁気抵抗効果素子
（ＭＲ）７を有する再生用ヘッドとが絶縁膜８を介して
積層された構造となっている。
９に示す従来の複合型薄膜磁気ヘッドＡと同様な構成で
あり、下部磁性層１とギャップ層２が積層され、その上
に層間絶縁層で被包されたコイル導体３が積層され、そ
れらの上に上部磁性層４が積層されている記録用のイン
ダクティブヘッドと、再生用の２つのシールド磁性層
５、５間に介在するギャップ層６に磁気抵抗効果素子
（ＭＲ）７を有する再生用ヘッドとが絶縁膜８を介して
積層された構造となっている。
【００１７】本実施例において従来の複合型薄膜磁気ヘ
ッドＡと異なっているのは、上部磁性層４が主磁性層４
ａと副磁性層４ｂとから構成されている点である。
ッドＡと異なっているのは、上部磁性層４が主磁性層４
ａと副磁性層４ｂとから構成されている点である。
【００１８】前記主磁性層４ａは、従来構造の複合型薄
膜磁気ヘッドＡにおいて用いられている上部磁性層４の
構成材料と同等のものから構成されている。例えば、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金のパーマロイ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
等があげられる。前記主磁性層４ａの厚さは、通常の薄
膜磁気ヘッドとほぼ同等であり、具体的には１〜数μｍ
程度である。従ってこの主磁性層４ａは、飽和磁束密度
も従来とほぼ同程度となる。
膜磁気ヘッドＡにおいて用いられている上部磁性層４の
構成材料と同等のものから構成されている。例えば、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系合金のパーマロイ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
等があげられる。前記主磁性層４ａの厚さは、通常の薄
膜磁気ヘッドとほぼ同等であり、具体的には１〜数μｍ
程度である。従ってこの主磁性層４ａは、飽和磁束密度
も従来とほぼ同程度となる。
【００１９】一方、前記副磁性層４ｂは、飽和磁束密度
Ｂｓがパーマロイよりも高い材料、例えばＣｏ−Ｎｉ−
Ｆｅ系合金膜、Ｃｏ−Ｆｅ系合金膜等から構成されてお
り、この副磁性層４ｂの厚さｄは、０＜ｄ≦０．５μｍ
の範囲とすることが望ましい。
Ｂｓがパーマロイよりも高い材料、例えばＣｏ−Ｎｉ−
Ｆｅ系合金膜、Ｃｏ−Ｆｅ系合金膜等から構成されてお
り、この副磁性層４ｂの厚さｄは、０＜ｄ≦０．５μｍ
の範囲とすることが望ましい。
【００２０】このように構成された複合型薄膜磁気ヘッ
ドＢは、従来の複合型薄膜磁気ヘッドＡと同様に磁気デ
ィスク等の磁気記録媒体に対して磁気信号の書き込みと
読み出しを行う際に、副磁性層４ｂの飽和磁束密度が高
いので、保磁力の高い磁気記録媒体にも対応できる。
ドＢは、従来の複合型薄膜磁気ヘッドＡと同様に磁気デ
ィスク等の磁気記録媒体に対して磁気信号の書き込みと
読み出しを行う際に、副磁性層４ｂの飽和磁束密度が高
いので、保磁力の高い磁気記録媒体にも対応できる。
【００２１】図２の本発明の第２実施例の複合型薄膜磁
気ヘッドＣは、従来の複合型薄膜磁気ヘッドＡと異なっ
ている点は、記録用上部磁性層４と下部磁性層１との両
方のギャップ層２側に高磁束密度の磁性膜を設けた点で
ある。つまり、前記上部磁性層４および下部磁性層１は
それぞれ主磁性層４ａ、１ａと、高磁束密度材料からな
る副磁性層４ｂ、１ｂとにより構成されている。
気ヘッドＣは、従来の複合型薄膜磁気ヘッドＡと異なっ
ている点は、記録用上部磁性層４と下部磁性層１との両
方のギャップ層２側に高磁束密度の磁性膜を設けた点で
ある。つまり、前記上部磁性層４および下部磁性層１は
それぞれ主磁性層４ａ、１ａと、高磁束密度材料からな
る副磁性層４ｂ、１ｂとにより構成されている。
【００２２】また、図３の複合型薄膜磁気ヘッドＤは、
記録用のインダクティブヘッドの下部磁性層１と再生用
シールド磁性層５の一方を兼用し、記録用上部磁性層４
のギャップ側のみに高磁束密度の磁性膜を設けた本発明
の第３実施例である。つまり、従来の複合型薄膜磁気ヘ
ッドＡから絶縁膜８部分を削除し、インダクティブヘッ
ドの下部磁性層１とインダクティブヘッド側の再生用シ
ールド磁性層５とを一体化させた中間磁性層９を設け、
上部磁性層４は主磁性層４ａと、高磁束密度材料からな
る副磁性層４ｂとにより構成されている。
記録用のインダクティブヘッドの下部磁性層１と再生用
シールド磁性層５の一方を兼用し、記録用上部磁性層４
のギャップ側のみに高磁束密度の磁性膜を設けた本発明
の第３実施例である。つまり、従来の複合型薄膜磁気ヘ
ッドＡから絶縁膜８部分を削除し、インダクティブヘッ
ドの下部磁性層１とインダクティブヘッド側の再生用シ
ールド磁性層５とを一体化させた中間磁性層９を設け、
上部磁性層４は主磁性層４ａと、高磁束密度材料からな
る副磁性層４ｂとにより構成されている。
【００２３】そして、図４に示した複合型薄膜磁気ヘッ
ドＥは、前述した第３実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＤ
を、さらに、記録用上部磁性層４と下部磁性層１との両
方のギャップ層２側に高磁束密度の磁性膜を設けた本発
明の第４実施例である。つまり、従来の複合型薄膜磁気
ヘッドＡから絶縁膜８部分を削除し、記録用のインダク
ティブヘッドの下部磁性層１とインダクティブヘッド側
の再生用シールド磁性層５とを一体化させた中間磁性層
９を設け、上部磁性層４および下部磁性層１はそれぞれ
主磁性層４ａ、１ａと、高磁束密度材料からなる副磁性
層４ｂ、１ｂとにより構成されている。
ドＥは、前述した第３実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＤ
を、さらに、記録用上部磁性層４と下部磁性層１との両
方のギャップ層２側に高磁束密度の磁性膜を設けた本発
明の第４実施例である。つまり、従来の複合型薄膜磁気
ヘッドＡから絶縁膜８部分を削除し、記録用のインダク
ティブヘッドの下部磁性層１とインダクティブヘッド側
の再生用シールド磁性層５とを一体化させた中間磁性層
９を設け、上部磁性層４および下部磁性層１はそれぞれ
主磁性層４ａ、１ａと、高磁束密度材料からなる副磁性
層４ｂ、１ｂとにより構成されている。
【００２４】図５に示した複合型薄膜磁気ヘッドＦは、
記録用のインダクティブヘッドのギャップ層２と再生用
ギャップ層６とを一体・兼用して磁気抵抗効果素子７を
介在させ、下部磁性層１、上部磁性層４と再生用シール
ド磁性層５、５とをそれぞれ一体化させて、記録用上部
磁性層４のギャップ２側のみに高磁束密度の磁性膜を設
けた本発明の第５実施例である。つまり、形状的には従
来のインダクティブヘッドと同様であり、ギャップ層２
は再生用ギャップ層６と一体化され、磁気抵抗効果素子
７をギャップ部に配設されており、下部磁性層１、上部
磁性層４は再生用シールド磁性層５、５とそれぞれ一体
化され、兼用されている。そして、上部磁性層４は主磁
性層４ａと、高磁束密度材料からなる副磁性層４ｂとに
より構成されている。
記録用のインダクティブヘッドのギャップ層２と再生用
ギャップ層６とを一体・兼用して磁気抵抗効果素子７を
介在させ、下部磁性層１、上部磁性層４と再生用シール
ド磁性層５、５とをそれぞれ一体化させて、記録用上部
磁性層４のギャップ２側のみに高磁束密度の磁性膜を設
けた本発明の第５実施例である。つまり、形状的には従
来のインダクティブヘッドと同様であり、ギャップ層２
は再生用ギャップ層６と一体化され、磁気抵抗効果素子
７をギャップ部に配設されており、下部磁性層１、上部
磁性層４は再生用シールド磁性層５、５とそれぞれ一体
化され、兼用されている。そして、上部磁性層４は主磁
性層４ａと、高磁束密度材料からなる副磁性層４ｂとに
より構成されている。
【００２５】そして、図６に示した複合型薄膜磁気ヘッ
ドＧは、前述の第５実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＦ
を、さらに、記録用上部磁性層４と下部磁性層１との両
方のギャップ層２側に高磁束密度の磁性膜を設けた本発
明の第６実施例である。つまり、形状的には従来のイン
ダクティブヘッドと同様であり、ギャップ層２は再生用
ギャップ層６と一体化され、磁気抵抗効果素子７をギャ
ップ部に配設されており、下部磁性層１は再生用シール
ド磁性層５、５と一体化され、兼用されている。そし
て、上部磁性層４および下部磁性層１はそれぞれ主磁性
層４ａ、１ａと、高磁束密度材料からなる副磁性層４
ｂ，１ｂとにより構成されている。
ドＧは、前述の第５実施例の複合型薄膜磁気ヘッドＦ
を、さらに、記録用上部磁性層４と下部磁性層１との両
方のギャップ層２側に高磁束密度の磁性膜を設けた本発
明の第６実施例である。つまり、形状的には従来のイン
ダクティブヘッドと同様であり、ギャップ層２は再生用
ギャップ層６と一体化され、磁気抵抗効果素子７をギャ
ップ部に配設されており、下部磁性層１は再生用シール
ド磁性層５、５と一体化され、兼用されている。そし
て、上部磁性層４および下部磁性層１はそれぞれ主磁性
層４ａ、１ａと、高磁束密度材料からなる副磁性層４
ｂ，１ｂとにより構成されている。
【００２６】これらの第２実施例から第６実施例におけ
る複合型薄膜磁気ヘッドＣ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇにおける主
磁性層４ａ、１ａは、先に説明した第１実施例の主磁性
層４ａ、１ａと同等の材料から構成されており、副磁性
層４ｂ、１ｂは先の第１実施例の副磁性層４ｂ、１ｂと
同等の材料から構成されている。そして、これらの主磁
性層４ａ、１ａ、副磁性層４ｂ、１ｂの厚さはそれぞれ
第１実施例の場合と同様とされている。
る複合型薄膜磁気ヘッドＣ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇにおける主
磁性層４ａ、１ａは、先に説明した第１実施例の主磁性
層４ａ、１ａと同等の材料から構成されており、副磁性
層４ｂ、１ｂは先の第１実施例の副磁性層４ｂ、１ｂと
同等の材料から構成されている。そして、これらの主磁
性層４ａ、１ａ、副磁性層４ｂ、１ｂの厚さはそれぞれ
第１実施例の場合と同様とされている。
【００２７】これらの複合型薄膜磁気ヘッドＣ、Ｄ、
Ｅ、Ｆ、Ｇにおいても第１実施例の複合型薄膜磁気ヘッ
ドＢと同様な効果を得ることができる。
Ｅ、Ｆ、Ｇにおいても第１実施例の複合型薄膜磁気ヘッ
ドＢと同様な効果を得ることができる。
【００２８】図１から図６に示す構造の複合型薄膜磁気
ヘッドにおいて、主磁性層と副磁性層の厚さをそれぞれ
０〜２μｍの範囲で各々変更して得られた複合型薄膜磁
気ヘッドによる磁気特性を測定した。
ヘッドにおいて、主磁性層と副磁性層の厚さをそれぞれ
０〜２μｍの範囲で各々変更して得られた複合型薄膜磁
気ヘッドによる磁気特性を測定した。
【００２９】図７に、飽和磁束密度Ｂｓが１．５Ｔ（テ
スラ）であって、透磁率（μ）が３０００を越す材料で
磁性層全てを構成した磁気ヘッド、前記と同等の飽和磁
束密度で透磁率が５００を越す材料で磁性層全てを構成
した磁気ヘッドおよび飽和磁束密度が１．０Ｔであっ
て、透磁率が２０００を越す材料で磁性層全てを構成し
た磁気ヘッドにおいて、それぞれの記録磁界と起磁力と
の関係を示す。
スラ）であって、透磁率（μ）が３０００を越す材料で
磁性層全てを構成した磁気ヘッド、前記と同等の飽和磁
束密度で透磁率が５００を越す材料で磁性層全てを構成
した磁気ヘッドおよび飽和磁束密度が１．０Ｔであっ
て、透磁率が２０００を越す材料で磁性層全てを構成し
た磁気ヘッドにおいて、それぞれの記録磁界と起磁力と
の関係を示す。
【００３０】図７に示す結果から、保持力の高い磁気記
憶媒体に書き込みできるために必要な３．５ＫＯｅ以上
の磁界の大きさを起磁力０．５ＡＴで得るためには飽和
磁束密度Ｂｓは少なくとも１．５Ｔは必要で、透磁率μ
は少なくとも５００は必要とすることが分る。
憶媒体に書き込みできるために必要な３．５ＫＯｅ以上
の磁界の大きさを起磁力０．５ＡＴで得るためには飽和
磁束密度Ｂｓは少なくとも１．５Ｔは必要で、透磁率μ
は少なくとも５００は必要とすることが分る。
【００３１】図８に、前記１．５Ｔの飽和磁束密度を示
す磁性層の厚さを増減した場合の磁性層の厚さと記録磁
界と再生出力の関係を示す。
す磁性層の厚さを増減した場合の磁性層の厚さと記録磁
界と再生出力の関係を示す。
【００３２】図８によると、透磁率が５００の膜を使っ
た場合、比較的膜厚の薄い領域（０＜ｄ≦０．５μｍ）
では、記録磁界の上昇が見られ、それ以上では低透磁率
の悪影響（飽和しづらい）が出て向上しないことがわか
り、０＜ｄ＜０．５μｍで使用すれば十分である。ま
た、実施例図４、図５、図６の場合、透磁率が高いこと
が要求されるため、高磁束密度の膜厚ｄは０＜ｄ＜０．
５μｍの範囲とし、残部は透磁率の高いパーマロイで構
成する方がよい。
た場合、比較的膜厚の薄い領域（０＜ｄ≦０．５μｍ）
では、記録磁界の上昇が見られ、それ以上では低透磁率
の悪影響（飽和しづらい）が出て向上しないことがわか
り、０＜ｄ＜０．５μｍで使用すれば十分である。ま
た、実施例図４、図５、図６の場合、透磁率が高いこと
が要求されるため、高磁束密度の膜厚ｄは０＜ｄ＜０．
５μｍの範囲とし、残部は透磁率の高いパーマロイで構
成する方がよい。
【００３３】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、必要に応じて変更することができる。
のではなく、必要に応じて変更することができる。
【００３４】
【発明の効果】このように本発明の複合型薄膜磁気ヘッ
ドは構成され作用するものであるから、高磁束密度の磁
性層とパーマロイなどからなる主磁性層から構成される
ので、主磁性層と高磁束密度の磁性層とを合わせた磁性
層全体として高い飽和磁束密度で磁気記録と再生とを行
うことができる等の効果がある。
ドは構成され作用するものであるから、高磁束密度の磁
性層とパーマロイなどからなる主磁性層から構成される
ので、主磁性層と高磁束密度の磁性層とを合わせた磁性
層全体として高い飽和磁束密度で磁気記録と再生とを行
うことができる等の効果がある。
【図１】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの第１実施例を
示す断面図
示す断面図
【図２】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの第２実施例を
示す断面図
示す断面図
【図３】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの第３実施例を
示す断面図
示す断面図
【図４】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの第４実施例を
示す断面図
示す断面図
【図５】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの第５実施例を
示す断面図
示す断面図
【図６】本発明の複合型薄膜磁気ヘッドの第６実施例を
示す断面図
示す断面図
【図７】本発明で用いた高磁束密度の磁性層を有する複
合型薄膜磁気ヘッドによる起磁力と記録磁界との関係を
示す図
合型薄膜磁気ヘッドによる起磁力と記録磁界との関係を
示す図
【図８】本発明で用いた複合型薄膜磁気ヘッドによる高
磁束密度の磁性層の厚さと記録磁界と再生出力の関係を
示す図
磁束密度の磁性層の厚さと記録磁界と再生出力の関係を
示す図
【図９】従来の複合型薄膜磁気ヘッドの１例を示す断面
図
図
１ 下部磁性層 １ａ 主磁性層 １ｂ 副磁性層 ２ ギャップ層 ３ コイル導体 ４ 上部磁性層 ４ａ 主磁性層 ４ｂ 副磁性層 ５ シールド磁性層 ６ ギャップ層 ７ 磁気抵抗効果素子 ８ 絶縁膜 ９ 中間磁性層
Claims (2)
- 【請求項１】 再生用の磁気抵抗効果素子を有するとと
もに、記録用のインダクティブヘッドを有する複合型薄
膜磁気ヘッドにおいて、前記記録用のインダクティブヘ
ッドのギャップ層を形成する記録用上部磁性層と下部磁
性層あるいは再生用シールド磁性層のうち、少なくとも
一方に高磁束密度の磁性層を配置したことを特徴とする
複合型薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１に記載の複合型薄膜磁気ヘッド
において、高磁束密度の磁性層は、飽和磁束密度Ｂｓが
Ｂｓ≧１．５Ｔであり、厚さｄが０＜ｄ≦０．５μｍで
あるＣｏ−Ｎｉ−Ｆｅ系の材料により形成されているこ
とを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27284192A JPH06124415A (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27284192A JPH06124415A (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124415A true JPH06124415A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17519524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27284192A Pending JPH06124415A (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124415A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6001468A (en) * | 1997-07-04 | 1999-12-14 | Fujitsu Limited | Magnetic head |
| WO2000004535A1 (fr) * | 1998-07-15 | 2000-01-27 | Nec Corporation | Tete magnetique a film mince, son procede de fabrication, et stockage magnetique |
| US6274256B1 (en) | 1998-02-03 | 2001-08-14 | Alps Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
| WO2003083837A1 (fr) * | 2002-04-01 | 2003-10-09 | Fujitsu Limited | Tete magnetique a couche mince et procede de production de cette derniere |
Citations (2)
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| JPH04232606A (ja) * | 1990-12-28 | 1992-08-20 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
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-
1992
- 1992-10-12 JP JP27284192A patent/JPH06124415A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990223 |