DE19629658A1 - Cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold und Goldlegierungen - Google Patents
Cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold und GoldlegierungenInfo
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- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical group [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 27
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 5
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 title claims abstract description 5
- -1 disulfide sulfonic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 6
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical class OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 6
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910002065 alloy metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000337 buffer salt Substances 0.000 claims description 3
- 150000003463 sulfur Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 abstract description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L Copper gluconate Chemical class [Cu+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O OCUCCJIRFHNWBP-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 4
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 3
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 3
- 229940006193 2-mercaptoethanesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- ZNEWHQLOPFWXOF-UHFFFAOYSA-N coenzyme M Chemical compound OS(=O)(=O)CCS ZNEWHQLOPFWXOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 2
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 2
- 229940082569 selenite Drugs 0.000 description 2
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L selenite(2-) Chemical compound [O-][Se]([O-])=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VDMJCVUEUHKGOY-JXMROGBWSA-N (1e)-4-fluoro-n-hydroxybenzenecarboximidoyl chloride Chemical compound O\N=C(\Cl)C1=CC=C(F)C=C1 VDMJCVUEUHKGOY-JXMROGBWSA-N 0.000 description 1
- CKUJRAYMVVJDMG-IYEMJOQQSA-L (2r,3s,4r,5r)-2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanoate;tin(2+) Chemical compound [Sn+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O CKUJRAYMVVJDMG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 1
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLVSRWOIZZXQAD-UHFFFAOYSA-N 2,3-disulfanylpropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(S)CS JLVSRWOIZZXQAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFDCEMJGLQHKFZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfoethyldisulfanyl)ethanesulfonic acid 3-(3-sulfopropyldisulfanyl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound S(=O)(=O)(O)CCCSSCCCS(=O)(=O)O.S(=O)(=O)(O)CCSSCCS(=O)(=O)O PFDCEMJGLQHKFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDGZXSVPVMNXMW-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1S JDGZXSVPVMNXMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYKHFQKONWMWQM-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1h-pyridine-3-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1S WYKHFQKONWMWQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 2-thiobarbituric acid Chemical compound O=C1CC(=O)NC(=S)N1 RVBUGGBMJDPOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMPMFQXUJXPWSL-UHFFFAOYSA-N 3-(3-sulfopropyldisulfanyl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCSSCCCS(O)(=O)=O LMPMFQXUJXPWSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBDVFOBWBHMJDG-UHFFFAOYSA-N 3-mercapto-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCS OBDVFOBWBHMJDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMIOLXGZINEJLR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylphthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S)=C1C(O)=O PMIOLXGZINEJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940120146 EDTMP Drugs 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WOFVPNPAVMKHCX-UHFFFAOYSA-N N#C[Au](C#N)C#N Chemical class N#C[Au](C#N)C#N WOFVPNPAVMKHCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPLZHWQMZBPGKJ-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Sn].[Au] Chemical compound [Cu].[Sn].[Au] MPLZHWQMZBPGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N arsenous acid Chemical class O[As](O)O GCPXMJHSNVMWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- QRJOYPHTNNOAOJ-UHFFFAOYSA-N copper gold Chemical compound [Cu].[Au] QRJOYPHTNNOAOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLPBDLUXKZVASR-UHFFFAOYSA-N copper;2-sulfanylpropane-1-sulfonic acid Chemical compound [Cu].CC(S)CS(O)(=O)=O NLPBDLUXKZVASR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- PQTCMBYFWMFIGM-UHFFFAOYSA-N gold silver Chemical compound [Ag].[Au] PQTCMBYFWMFIGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBKIUFWVEIBQRT-UHFFFAOYSA-N gold(1+) Chemical compound [Au+] ZBKIUFWVEIBQRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBFFVNGXJWSKI-UHFFFAOYSA-M gold(1+);sulfanide Chemical compound [Au]S GUBFFVNGXJWSKI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FGLLPUGTJZFSHD-UHFFFAOYSA-K gold(3+) 2-sulfanylethanesulfonate Chemical compound [Au+3].[O-]S(=O)(=O)CCS.[O-]S(=O)(=O)CCS.[O-]S(=O)(=O)CCS FGLLPUGTJZFSHD-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SRCZENKQCOSNAI-UHFFFAOYSA-H gold(3+);trisulfite Chemical class [Au+3].[Au+3].[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O.[O-]S([O-])=O SRCZENKQCOSNAI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- GUHWIVJIPFKUSF-UHFFFAOYSA-N gold;2-sulfanylbenzoic acid Chemical compound [Au].OC(=O)C1=CC=CC=C1S GUHWIVJIPFKUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- BFPJYWDBBLZXOM-UHFFFAOYSA-L potassium tellurite Chemical compound [K+].[K+].[O-][Te]([O-])=O BFPJYWDBBLZXOM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- CRDYSYOERSZTHZ-UHFFFAOYSA-M selenocyanate Chemical compound [Se-]C#N CRDYSYOERSZTHZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 1
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004328 sodium tetraborate Substances 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITVSCPRJNYAGV-UHFFFAOYSA-L tellurite Chemical compound [O-][Te]([O-])=O SITVSCPRJNYAGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N thiouracil Chemical compound O=C1C=CNC(=S)N1 ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/62—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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Description
Die Erfindung betrifft ein cyanidfreies galvanisches Bad
zur Abscheidung von Gold- und Goldlegierungsüberzügen, mit
0,5 bis 30 g/l Gold in Form einer schwefelhaltigen
Komplexverbindung, 0 bis 50 g/l eines Legierungsmetalls in
Form wasserlöslicher Verbindungen von Silber, Kupfer,
Indium, Cadmium, Zink, Zinn, Wismut, Arsen und/oder
Antimon, 1 bis 200 g/l der freien schwefelhaltigen
Verbindung, 0 bis 200 g/l Leit- und Puffersalzen in Form
von Alkaliboraten, -phosphaten, -citraten, -tartraten
und/oder -gluconaten und gegebenenfalls Netzmitteln und
Glanzbildnern.
Zur galvanischen Abscheidung von Gold werden heute
überwiegend Elektrolyte auf der Basis von
Goldcyanidkomplexen verwendet, die zumindest im alkalischen
Bereich auch größere Mengen giftiger Alkalicyanide
enthalten. Im sauren und neutralen Bereich entweicht das
bei der Elektrolyse freiwerdendes Cyanid zumindest
teilweise als hochtoxische Blausäure. Neben der starken
Toxizität bereiten cyanidische Bäder Probleme bei der
Entgiftung des Cyanids, die in der Praxis überwiegend mit
Alkalihypochlorit erfolgt. Dabei können sich sogenannte
adsorbierbare Halogenverbindungen (AOX) bilden, die
Schwierigkeiten in der Abwasseraufbereitung verursachen.
Die Bemühungen zur Herstellung galvanischer Goldbäder ohne
den Einsatz des giftigen Komplexbildner Cyanid reichen
deshalb lange zurück. Außer Bädern auf der Basis von
Goldsulfitkomplexen konnte jedoch bisher kein technisch
verwertbares Bad hergestellt werden.
Derartige Goldsulfito-Komplexe haben jedoch den Nachteil
einer geringen Stabilität und bilden selbst bei hohem
Überschuß an freien Sulfitionen bei längerem Stehen der
Lösung elementares Gold, womit die Lösung unbrauchbar wird.
Auch galvanische Bäder, die das Gold in Form eines
Thiosulfatokomplexes enthalten (DE-PS 24 45 538), sind
nicht wesentlich stabiler. Sie zersetzen sich, wie auch
andere bekannte Goldkomplexe mit schwefelhaltigen
Verbindungen zum Teil bei längerem Stehen. In der
EP-OS 0 611 840 werden die Goldthiosulfatokomplexe daher
durch Zusatz von Sulfinaten stabilisiert. Die anwendbare
Stromdichte ist bei diesen Bädern begrenzt und bei
Stromdichten über 1 A/dm² tritt meist eine Zersetzung ein.
Außerdem entstehen bei diesen Bädern normalerweise
Geruchsbelästigungen.
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein
cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold- und
Goldlegierungsüberzügen zu entwickeln, mit 0,5 bis 30 g/l
Gold in Form einer schwefelhaltigen Komplexverbindung, 0
bis 50 g/l eines Legierungsmetalls in Form einer
wasserlöslichen Verbindung von Silber, Kupfer, Indium,
Cadmium, Zink, Zinn, Wismut, Arsen und/oder Antimon, 1 bis
200 g/l der freien schwefelhaltigen Verbindung, 0 bis 200
g/l Leit- und Puffersalzen in Form von Alkali
boraten, -phosphaten, -citraten, -tartraten und/oder -gluconaten und
gegebenenfalls Netzmitteln und Glanzbildnern, das auch über
längere Zeit stabil sein, mit Stromdichten über 1 A/dm²
betrieben werden und weitestgehend geruchsneutral sein
sollte.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß als
schwefelhaltige Verbindung des Goldkomplexes eine
Mercaptosulfonsäure, eine Disulfidsulfonsäure, eine
aromatische oder eine heterocylische Mercaptoverbindung,
einzeln oder zu mehreren, eingesetzt wird.
Geeignet sind auch die Alkalisalze dieser Verbindungen.
Vorzugsweise enthalten die Bäder 1 bis 200 g/l der
schwefelhaltigen Verbindung oder deren Alkalisalze im
Überschuß gegenüber der stöchiometrischen Zusammensetzung
des entsprechenden Goldkomplexes.
Weiterhin ist es von Vorteil, wenn die Bäder 0,01 bis 10
g/l Netzmittel in Form von Tensiden und 0,1 bis 1000 mg/l
Glanzbildner in Form von Selen- und/oder Tellurverbindungen
enthalten.
Vorteilhafterweise wird das Bad bei einem pH-Wert von 7 bis
12 betrieben.
Die schwefelhaltigen Verbindungen, die für die
erfindungsgemäßen Bäder geeignet sind, zeigen eine gute
Wasserlöslichkeit und eine große Stabilität, verbunden mit
einem geringen Dampfdruck, so daß kein übler Geruch
wahrnehmbar ist.
Als schwefelhaltige Verbindungen können eingesetzt werden:
- 1. Verbindungen mit der Struktur
R-CH(SH)-(CX₂)n-SO₃Hmit
R = -H, Alkylrest, Arylrest oder -SO₃H,
X = -H, Alkylrest, Arylrest, -OH oder -NH₂,
n = 0-6.
Insbesondere geeignet sind:
2-Mercaptoethansulfonsäure,
3-Mercaptopropansulfonsäure,
2,3-Dimercaptopropansulfonsäure
und Homologe
sowie die anlogen Disulfidsulfonsäureverbindungen wie
Bis-(2-Sulfoethyl)-disulfid
Bis-(3-Sulfopropyl)-disulfid sowie Homologe.
Die Verbindungen werden bevorzugt in Form ihrer Alkalisalze eingesetzt. - 2. Aromatische Mercaptoverbindungen der folgenden
Struktur:
mit R = -H, -OH, -COOH, -SO₃H, -NH₂, Alkyl- oder Aryl-.
Insbesondere können eingesetzt werden:
Mercaptobenzoesäure,
Mercaptophthalsäure,
Mercaptdbenzolsulfonsäure,
Mercaptophenolsulfonsäure
sowie ihre Alkalisalze. - 3. Heterocyclische Mercaptoverbindungen, zum Beispiel:
Mercaptonicotinsäure,
Thiobarbitursäure,
2-Thiouracil
sowie ihre Alkalisalze.
Die entsprechenden Goldkomplexe werden durch einfache
Umsetzung von löslichen Goldverbindungen, wie z. B.
Tetrachlorogoldsäure, Natriumauratlösungen oder ähnlichen,
mit der stöchiometrischen Menge oder einem Überschuß an
Mercaptoverbindung in wäßriger Lösung erhalten. Zu
beachten ist die für die Reduktion zu Gold-(I)
erforderliche stöchiometrische Menge an Mercaptoverbindung.
Soll das galvanische Bad frei von Chloridionen sein, so ist
Gold zunächst mit Ammoniaklösung als Knallgold zu fällen,
gründlich zu waschen und in einer wäßrigen Lösung der
Mercaptoverbindung aufzulösen.
Die Lösung der Mercaptogoldverbindung kann direkt zur
Bereitung des galvanischen Bades verwendet werden. Das Bad
muß einen Überschuß an Mercaptoverbindung von 1-200 g/l
enthalten.
Die Mitabscheidung weiterer Metalle neben Gold aus diesem
System zur Beeinflussung der Schichteigenschaften ist
möglich. Interessant ist die Mitabscheidung von Silber,
Kupfer, Indium, Cadmium, Zinn, Zink, Wismut sowie der
Halbmetalle Arsen und Antimon. Sie werden entweder in Form
der entsprechenden Mercaptokomplexverbindungen eingesetzt,
wie bevorzugt bei Silber und Kupfer, oder in Form anderer
Komplexe mit Hydroxiionen, mit Nitrolotriessigsäure, oder
Ehtylendiamintetraessigsäure (EDTE), als Komplexe mit
Hydroxicarbonsäuren, wie Gluconsäure, Citronensäure und
Weinsäure, als Komplexe mit Dicarbonsäuren, wie Oxalsäure,
mit Aminen, wie Ethylendiamin, mit Phosphonsäuren, wie
1-Hydroxiethandiphosphonsäure,
Aminotrimethylenphosphonsäure oder
Ethylendiamintetramethylenphosphonsäure.
So wird Wismut bevorzugt als Citrat oder EDTE-Komplex, Zinn
bevorzugt als Oxalatostannat(IV) oder Zinn(II)-
Gluconat-Komplex und Indium als Gluconat- bzw. EDTE-Komplex
eingesetzt. Arsen und Antimon dient vorwiegend zur
Härtesteigerung und Glanzbildung. Arsen wird bevorzugt in
Form von Alkaliarsenitverbindungen, Antimon bevorzugt in
Form von Alkaliantimonyltartrat eingesetzt. Die
Konzentration der Legierungsmetalle kann in weiten Grenzen
zwischen 10 mg/l und 50 g/l variieren. Die Konzentration
der freien Komplexbildner im Bad kann zwischen 0,1 und 200
g/l liegen.
Durch Zugabe weiterer Glanzbildner, wie Verbindungen von
Selen und Tellur, beispielsweise als Alkaliselenocy
anat, -selenit oder -tellurit in Konzentrationen von
0,1 mg/l-1 g/l können glänzende Legierungsschichten erhalten werden.
Der Zusatz von Leit- und Puffersubstanzen, wie Borate,
Tetraborate, Phosphate, Citrate, Tartrate oder Gluconate
der Alkalimetalle in Konzentrationen von 1-200 g/l erhöhen
die Leitfähigkeit und Streufähigkeit des Bades.
Der Zusatz von 0,01-10 g/l Netzmittel reduziert nicht nur
die Oberflächenspannung, sondern kann auch die Glanzbildung
positiv beeinflussen. Verwendung finden z. B. ionische und
nichtionische Tenside vom Ethylenoxidaddukttyp, wie
Alkyl(Fettsäure-) oder Nonylphenolpolyglycolether mit
Endgruppen als Alkohol, Sulfat, Sulfonat oder Phosphat
sowie perfluorierte Verbindungen, wie
Perfluoralkancarboxylate oder -sulfonate sowie kationische
Tenside, z. B. Tetraalkyammoniumperfluoroalkansulfonate.
Erfindungsgemäß enthalten die Bäder somit:
0,5-30 g/l Gold als Komplex mit Mercaptoverbindungen aus der Gruppe der Mercaptosulfonsäuren, Disulfidsulfonsäuren, aromatische oder heterocyclische Mercaptoverbindungen bzw. ihrer Alkalisalze.
1-200 g/l freie Mercaptoverbindungen bzw. der Alkalisalze.
0-200 g/l Leit- und Puffersubstanzen aus der Gruppe der Alkaliborate, -phosphate, -ci trate, -tartrate, -gluconate.
0-50 g/l Legierungsmetall aus der Gruppe Silber, Kupfer, Cadmium, Indium, Zinn, Zink, Wismut, Arsen und Antimon in Form der genannten Komplexe und Verbindungen.
0-1000 mg/l Glanzbildner aus der Gruppe Selen und Tellur in Form von Selenit, Selenocyanat oder Tellurid der Alkalimetalle.
0-10 g/l Netzmittel z. B. ionische und nichtionische Tenside vom Ehtylenoxidaddukttyp wie Alkyl(Fettsäure-) oder Nonylphenolpolyglycolether mit Endgruppen als Alkohol, Sulfat, Sulfonat oder Phosphat sowie perfluorierte Verbindungen wie Perfluoralkancarboxylate oder Sulfonate sowie kationische Tenside, z. B. Tetraalkyammoniumperfluoroalkansulfonate.
0,5-30 g/l Gold als Komplex mit Mercaptoverbindungen aus der Gruppe der Mercaptosulfonsäuren, Disulfidsulfonsäuren, aromatische oder heterocyclische Mercaptoverbindungen bzw. ihrer Alkalisalze.
1-200 g/l freie Mercaptoverbindungen bzw. der Alkalisalze.
0-200 g/l Leit- und Puffersubstanzen aus der Gruppe der Alkaliborate, -phosphate, -ci trate, -tartrate, -gluconate.
0-50 g/l Legierungsmetall aus der Gruppe Silber, Kupfer, Cadmium, Indium, Zinn, Zink, Wismut, Arsen und Antimon in Form der genannten Komplexe und Verbindungen.
0-1000 mg/l Glanzbildner aus der Gruppe Selen und Tellur in Form von Selenit, Selenocyanat oder Tellurid der Alkalimetalle.
0-10 g/l Netzmittel z. B. ionische und nichtionische Tenside vom Ehtylenoxidaddukttyp wie Alkyl(Fettsäure-) oder Nonylphenolpolyglycolether mit Endgruppen als Alkohol, Sulfat, Sulfonat oder Phosphat sowie perfluorierte Verbindungen wie Perfluoralkancarboxylate oder Sulfonate sowie kationische Tenside, z. B. Tetraalkyammoniumperfluoroalkansulfonate.
Folgende Beispiele sollen die Erfindung näher erläutern:
- 1. 5 g Gold als Gold-2-Mercaptoethansulfonat-Komplex, 20 g 2-Mercaptoethansulfonsäure und 50 g Dikaliumphosphat werden zu einem Liter gelöst. Der pH-Wert wird mit Natronlauge auf pH 10 eingestellt. Bei der anschließenden Elektrolyse bei 50°C und 1,5 A/dm² wird auf einer Kupferkathode ein glatter, gleichmäßig haftender Goldüberzug von 5 µm Dicke erhalten. Das Bad ist nahezu geruchsfrei und zeigt auch bei längerer Elektrolyse keine Zersetzungserscheinungen.
- 2. 8 g Gold als Gold-2-Mercaptobenzoesäure-Komplex und 30 g Natriumtetraborat werden zu einem Liter gelöst. Der pH-Wert wird mit Kalilauge auf 11 eingestellt. Bei der Elektrolyse bei 60°C und 1,2 A/dm² erhält man auf einer Kupferkathode ebenfalls eine glatte, duktile Goldschicht. Das Bad zeigt bei längerer Benutzung ebenfalls keine Zersetzungserscheinungen.
- 3. Setzt man dem Bad aus Beispiel 1 2 g eines Kupfer-2-Mercaptopropansulfonsäure-Komplexes zu, so erhält man bei der Elektrolyse rötliche Gold-Kupferschichten.
- 4. Setzt man dem Bad aus Beispiel 3 weitere 0,3 g Kaliumoxalatostannat(IV) und 400 µg Kaliumselenocyanat als Glanzbildner zu und elektrolysiert bei 50°C und 2 A/dm², so erhält man glänzende, rosefarbene Überzüge einer Gold-Kupfer-Zinn-Legierung.
- 5. 4 g Gold und 2 g Silber als Bis- 3-Sulfopropyl)-disulfid-Komplexe, 30 g (3-Sulfopropyl)-disulfid, 50 g Natriumgluconat und 20 mg Kaliumtellurit werden zu einem Liter gelöst. Der pH-Wert wird mit Natronlauge auf 12 eingestellt. Bei der Elektrolyse bei 55°C und 1,5 A/dm² erhält man auf einer Kupferkathode eine glänzende, grünlich-gelbe duktile Schicht einer Gold-Silber-Legierung.
Claims (4)
1. Cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold-
und Goldlegierungsüberzügen, mit 0,5 bis 30 g/l Gold in
Form einer schwefelhaltigen Komplexverbindung, 0 bis
50 g/l eines Legierungsmetalls in Form wasserlöslicher
Verbindungen von Silber, Kupfer, Indium, Cadmium, Zink,
Zinn, Wismut, Arsen und/oder Antimon, 1 bis 200 g/l der
freien schwefelhaltigen Verbindung, 0 bis 200 g/l Leit-
und Puffersalzen in Form von Alkaliboraten,
-phosphaten, -citraten, -tartraten und/oder -gluconaten
und gegebenenfalls Netzmitteln und Glanzbildnern,
dadurch gekennzeichnet,
daß als schwefelhaltige Verbindung des Goldkomplexes
eine Mercaptosulfonsäure, eine Disulfidsulfonsäure,
eine aromatische oder eine heterocyclische
Mercaptoverbindung, einzeln oder zu mehreren eingesetzt
wird.
2. Cyanidfreies galvanisches Bad nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß es 1 bis 200 g/l freie Mercaptosulfonsäure,
Disulfidsulfonsäure, aromatische oder heterozyclische
Mercaptoverbindung neben dem Goldkomplex enthält.
3. Cyanidfreies galvanisches Bad nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß es 0,01 bis 10 g/l Netzmittel in Form eines Tensids
und 0,1 bis 1000 mg/l Glanzmittel in Form von Selen-
und/oder Tellurverbindungen enthält.
4. Cyanidfreies galvanisches Bad nach einem der Ansprüche
1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß es bei einem pH-Wert von 7 bis 12 betrieben wird.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19629658A DE19629658C2 (de) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | Cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold und Goldlegierungen |
PCT/EP1997/003903 WO1998003700A1 (de) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen |
KR1019980702064A KR20000064256A (ko) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | 금 및 금 합금을 전착시키기 위한 시안화물 비함유 전기 도금욕 |
US09/043,416 US6165342A (en) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Cyanide-free electroplating bath for the deposition of gold and gold alloys |
DE59706393T DE59706393D1 (de) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen |
EP97933686A EP0907767B1 (de) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen |
JP10506567A JPH11513078A (ja) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | 金又は金合金の析出のためのシアン化物不含の電気メッキ浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19629658A DE19629658C2 (de) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | Cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold und Goldlegierungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19629658A1 true DE19629658A1 (de) | 1998-01-29 |
DE19629658C2 DE19629658C2 (de) | 1999-01-14 |
Family
ID=7800576
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19629658A Expired - Fee Related DE19629658C2 (de) | 1996-07-23 | 1996-07-23 | Cyanidfreies galvanisches Bad zur Abscheidung von Gold und Goldlegierungen |
DE59706393T Expired - Fee Related DE59706393D1 (de) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59706393T Expired - Fee Related DE59706393D1 (de) | 1996-07-23 | 1997-07-21 | Cyanidfreies galvanisches bad zur abscheidung von gold und goldlegierungen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6165342A (de) |
EP (1) | EP0907767B1 (de) |
JP (1) | JPH11513078A (de) |
KR (1) | KR20000064256A (de) |
DE (2) | DE19629658C2 (de) |
WO (1) | WO1998003700A1 (de) |
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|
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|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |