DE102016220413B4 - Unterdrücken der alterung von metallpartikeln der platingruppe in einem katalysator - Google Patents
Unterdrücken der alterung von metallpartikeln der platingruppe in einem katalysator Download PDFInfo
- Publication number
- DE102016220413B4 DE102016220413B4 DE102016220413.0A DE102016220413A DE102016220413B4 DE 102016220413 B4 DE102016220413 B4 DE 102016220413B4 DE 102016220413 A DE102016220413 A DE 102016220413A DE 102016220413 B4 DE102016220413 B4 DE 102016220413B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pgm
- particles
- barrier
- precursor
- bis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 31
- 230000032683 aging Effects 0.000 title claims abstract description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title description 37
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 title description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 154
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 81
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 claims abstract description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 56
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 38
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims abstract description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 15
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 5
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims abstract 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 58
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 claims description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 20
- -1 bis(cyclopentadienyl)zirconium(IV) dihydride Chemical compound 0.000 claims description 12
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N barium nitrate Chemical compound [Ba+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O IWOUKMZUPDVPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012692 Fe precursor Substances 0.000 claims description 3
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MLHSFTRXWHJIHL-ORWWTJHYSA-N (e)-5-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylhept-4-en-3-one;zinc Chemical compound [Zn].CC(C)(C)C(\O)=C/C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(\O)=C/C(=O)C(C)(C)C MLHSFTRXWHJIHL-ORWWTJHYSA-N 0.000 claims description 2
- RTCLHEHPUHREBC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecamethylhexasilinane Chemical compound C[Si]1(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si](C)(C)[Si]1(C)C RTCLHEHPUHREBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J 2-ethylhexanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O OFYFURKXMHQOGG-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- LIEOGMBLMOOSAY-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C)C(C)([Mg]C2(C)C(C)=C(C)C(C)=C2C)C(C)=C1C Chemical compound CC1=C(C)C(C)([Mg]C2(C)C(C)=C(C)C(C)=C2C)C(C)=C1C LIEOGMBLMOOSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SLISBIGHDKUEHU-UHFFFAOYSA-N O1CCCC1.C(C)(C)C1=C(C(C=C1)(C(C)C)[Ba]C1(C(=C(C=C1)C(C)C)C(C)C)C(C)C)C(C)C Chemical compound O1CCCC1.C(C)(C)C1=C(C(C=C1)(C(C)C)[Ba]C1(C(=C(C=C1)C(C)C)C(C)C)C(C)C)C(C)C SLISBIGHDKUEHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PPCCWSFFJCBJCW-UHFFFAOYSA-N O1CCCC1.CC1=C(C(=C(C1(C)[Ba]C1(C(=C(C(=C1C)C)C)C)C)C)C)C Chemical compound O1CCCC1.CC1=C(C(=C(C1(C)[Ba]C1(C(=C(C(=C1C)C)C)C)C)C)C)C PPCCWSFFJCBJCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- USZGMDQWECZTIQ-UHFFFAOYSA-N [Mg](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 Chemical compound [Mg](C1C=CC=C1)C1C=CC=C1 USZGMDQWECZTIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YHAIWWPSNOBRSZ-UHFFFAOYSA-J [Si][Ti](Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound [Si][Ti](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHAIWWPSNOBRSZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- MHRNQQUEUYMEEH-UHFFFAOYSA-N [[[ethyl(dimethyl)silyl]amino]-dimethylsilyl]ethane Chemical compound CC[Si](C)(C)N[Si](C)(C)CC MHRNQQUEUYMEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VCALGUJWYYNHDY-ZJCTYWPYSA-L barium(2+);(z)-2,2,6,6-tetramethyl-5-oxohept-3-en-3-olate;hydrate Chemical compound O.[Ba+2].CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(C)(C)C VCALGUJWYYNHDY-ZJCTYWPYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 2
- KDKNVCQXFIBDBD-UHFFFAOYSA-N carbanide;1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentane;zirconium(2+) Chemical compound [CH3-].[CH3-].[Zr+2].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C KDKNVCQXFIBDBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(C)Cl SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)Cl GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dimethylazanide Chemical compound CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VJDVOZLYDLHLSM-UHFFFAOYSA-N diethylazanide;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC[N-]CC.CC[N-]CC.CC[N-]CC.CC[N-]CC VJDVOZLYDLHLSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N dimethylazanide;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C DWCMDRNGBIZOQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FHQRQPAFALORSL-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyl(trimethyl)silane Chemical compound C[SiH](C)[Si](C)(C)C FHQRQPAFALORSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UTUAUBOPWUPBCH-UHFFFAOYSA-N dimethylsilylidene(dimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)=[Si](C)C UTUAUBOPWUPBCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LNKYFCABELSPAN-UHFFFAOYSA-N ethyl(methyl)azanide;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C LNKYFCABELSPAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SRLSISLWUNZOOB-UHFFFAOYSA-N ethyl(methyl)azanide;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C SRLSISLWUNZOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ORJFXWYTRPGGRK-UHFFFAOYSA-N hydroxy-tris(2-methylbutan-2-yloxy)silane Chemical compound CCC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)CC)OC(C)(C)CC ORJFXWYTRPGGRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HLDBBQREZCVBMA-UHFFFAOYSA-N hydroxy-tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]silane Chemical compound CC(C)(C)O[Si](O)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C HLDBBQREZCVBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JNZRJYXUMDPPRK-UHFFFAOYSA-N methyl-[methyl(diphenyl)silyl]-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si]([Si](C)(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 JNZRJYXUMDPPRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UGJHADISJBNSFP-UHFFFAOYSA-N n-bis(tert-butylamino)silyl-2-methylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)N[SiH](NC(C)(C)C)NC(C)(C)C UGJHADISJBNSFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IBUPNBOPJGCOSP-UHFFFAOYSA-N n-trimethylsilylbutan-2-amine Chemical compound CCC(C)N[Si](C)(C)C IBUPNBOPJGCOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N silicon tetrabromide Chemical compound Br[Si](Br)(Br)Br AIFMYMZGQVTROK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N tetrakis(dimethylamido)titanium Chemical compound CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TURVSLXVJYZFII-UHFFFAOYSA-N zinc;1,2,3,4,5-pentafluorobenzene-6-ide Chemical compound [Zn+2].FC1=[C-]C(F)=C(F)C(F)=C1F.FC1=[C-]C(F)=C(F)C(F)=C1F TURVSLXVJYZFII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FXUGBFBGCBGWKX-KKUWAICFSA-L CC(C)O[Ti](OC(C)C)(O\C(=C/C(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C)O\C(=C/C(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(O\C(=C/C(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C)O\C(=C/C(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C FXUGBFBGCBGWKX-KKUWAICFSA-L 0.000 claims 1
- DOOFPPIHJGRIGW-ATMONBRVSA-L calcium;(z)-2,2,6,6-tetramethyl-5-oxohept-3-en-3-olate Chemical compound [Ca+2].CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(C)(C)C DOOFPPIHJGRIGW-ATMONBRVSA-L 0.000 claims 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 claims 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 230000008569 process Effects 0.000 description 24
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 14
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 12
- 229910017771 LaFeO Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical group 0.000 description 11
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 7
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 7
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- UEXQBEVWFZKHNB-UHFFFAOYSA-N intermediate 29 Natural products C1=CC(N)=CC=C1NC1=NC=CC=N1 UEXQBEVWFZKHNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910018512 Al—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQYGMYFKPQCQBN-UHFFFAOYSA-N [Mn].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1 Chemical group [Mn].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1 BQYGMYFKPQCQBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- CTUFHBVSYAEMLM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;platinum Chemical compound [Pt].CC(O)=O.CC(O)=O CTUFHBVSYAEMLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N platinum(2+);dinitrate Chemical compound [Pt+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O NWAHZABTSDUXMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 235000010215 titanium dioxide Nutrition 0.000 description 2
- WLITYJBILWOYFF-GECNZSFWSA-N (z)-5-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylhept-4-en-3-one;(e)-5-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylhept-4-en-3-one;iron Chemical compound [Fe].CC(C)(C)C(\O)=C/C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(\O)=C/C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(\O)=C\C(=O)C(C)(C)C WLITYJBILWOYFF-GECNZSFWSA-N 0.000 description 1
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018626 Al(OH) Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000012695 Ce precursor Substances 0.000 description 1
- 229910021638 Iridium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000237983 Trochidae Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- FOSZYDNAURUMOT-UHFFFAOYSA-J azane;platinum(4+);tetrachloride Chemical compound N.N.N.N.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Pt+4] FOSZYDNAURUMOT-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Inorganic materials [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDYNTRMQDURVDM-UHFFFAOYSA-N bis(trimethylsilyl)azanide;lanthanum(3+) Chemical compound [La+3].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C.C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C.C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C ZDYNTRMQDURVDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUXRFZXYYNXEBG-CDEMTMJJSA-L calcium;(z)-6,6,7,7,8,8,8-heptafluoro-2,2-dimethyl-5-oxooct-3-en-3-olate;(e)-6,6,7,7,8,8,8-heptafluoro-2,2-dimethyl-5-oxooct-3-en-3-olate Chemical compound [Ca+2].CC(C)(C)C(\[O-])=C/C(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F.CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F UUXRFZXYYNXEBG-CDEMTMJJSA-L 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010531 catalytic reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910002110 ceramic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- XDHJNPINFJSJJB-UHFFFAOYSA-N cobalt;1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentane Chemical compound [Co].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C XDHJNPINFJSJJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHCQFTZSIGZRTR-UHFFFAOYSA-N cobalt;ethylcyclopentane Chemical compound [Co].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1 YHCQFTZSIGZRTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- DYPIGRVRIMDVFA-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;lanthanum(3+) Chemical compound [La+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 DYPIGRVRIMDVFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- SRBXXQDKBKTWOC-UHFFFAOYSA-J diazanium;hexachloroosmium(2-) Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Os+4] SRBXXQDKBKTWOC-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFEOTYVTTQCYAZ-UHFFFAOYSA-N dimanganese decacarbonyl Chemical group [Mn].[Mn].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] QFEOTYVTTQCYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- GKKLDIHVIQZCPZ-UHFFFAOYSA-N ethylcyclopentane;iron Chemical compound [Fe].CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC[C]1[CH][CH][CH][CH]1 GKKLDIHVIQZCPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 206010021198 ichthyosis Diseases 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNVQLDDPGAWSSB-UHFFFAOYSA-H iridium(3+);trisulfate Chemical compound [Ir+3].[Ir+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O VNVQLDDPGAWSSB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- OZHNSXNGSKKWMC-UHFFFAOYSA-N iron;1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentane Chemical compound [Fe].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C OZHNSXNGSKKWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SORGMJIXNUWMMR-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);propan-2-olate Chemical compound [La+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SORGMJIXNUWMMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEFBYUADNJXASA-UHFFFAOYSA-N lanthanum;1,2,3,4-tetramethylcyclopentane Chemical compound [La].C[C]1[CH][C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[CH][C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[CH][C](C)[C](C)[C]1C MEFBYUADNJXASA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALEXWXWETMUIKL-UHFFFAOYSA-N manganese;1,2,3,4,5-pentamethylcyclopentane Chemical compound [Mn].C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[C](C)[C](C)[C](C)[C]1C ALEXWXWETMUIKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZUYKXOCSUIEU-UHFFFAOYSA-N manganese;1,2,3,4-tetramethylcyclopentane Chemical compound [Mn].C[C]1[CH][C](C)[C](C)[C]1C.C[C]1[CH][C](C)[C](C)[C]1C LQZUYKXOCSUIEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate Chemical compound CC(C)[O-] OGHBATFHNDZKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);triacetate Chemical compound [Rh+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O SVOOVMQUISJERI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- YAYGSLOSTXKUBW-UHFFFAOYSA-N ruthenium(2+) Chemical compound [Ru+2] YAYGSLOSTXKUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPEVHDGLPIIAGH-UHFFFAOYSA-N ruthenium(3+) Chemical compound [Ru+3] BPEVHDGLPIIAGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- WQTMVGGQTAPQJQ-ATMONBRVSA-L strontium;(z)-2,2,6,6-tetramethyl-5-oxohept-3-en-3-olate Chemical compound [Sr+2].CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(C)(C)C.CC(C)(C)C(\[O-])=C\C(=O)C(C)(C)C WQTMVGGQTAPQJQ-ATMONBRVSA-L 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- CALMYRPSSNRCFD-UHFFFAOYSA-J tetrachloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)Cl CALMYRPSSNRCFD-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KHHOLOMEVBPRQY-UHFFFAOYSA-K trichloroosmium;hydrate Chemical compound O.Cl[Os](Cl)Cl KHHOLOMEVBPRQY-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N zirconium(4+) ion Chemical compound [Zr+4] GBNDTYKAOXLLID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J33/00—Protection of catalysts, e.g. by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/38—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals
- B01J23/40—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of noble metals of the platinum group metals
- B01J23/42—Platinum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
- C23C16/0281—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating of metallic sub-layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45555—Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/101—Three-way catalysts
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/103—Oxidation catalysts for HC and CO only
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/18—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control
- F01N3/20—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by methods of operation; Control specially adapted for catalytic conversion ; Methods of operation or control of catalytic converters
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N3/00—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust
- F01N3/08—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous
- F01N3/10—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust
- F01N3/24—Exhaust or silencing apparatus having means for purifying, rendering innocuous, or otherwise treating exhaust for rendering innocuous by thermal or catalytic conversion of noxious components of exhaust characterised by constructional aspects of converting apparatus
- F01N3/28—Construction of catalytic reactors
- F01N3/2803—Construction of catalytic reactors characterised by structure, by material or by manufacturing of catalyst support
- F01N3/2825—Ceramics
- F01N3/2828—Ceramic multi-channel monoliths, e.g. honeycombs
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2510/00—Surface coverings
- F01N2510/06—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction
- F01N2510/068—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction characterised by the distribution of the catalytic coatings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2510/00—Surface coverings
- F01N2510/06—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction
- F01N2510/068—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction characterised by the distribution of the catalytic coatings
- F01N2510/0682—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction characterised by the distribution of the catalytic coatings having a discontinuous, uneven or partially overlapping coating of catalytic material, e.g. higher amount of material upstream than downstream or vice versa
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2510/00—Surface coverings
- F01N2510/06—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction
- F01N2510/068—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction characterised by the distribution of the catalytic coatings
- F01N2510/0684—Surface coverings for exhaust purification, e.g. catalytic reaction characterised by the distribution of the catalytic coatings having more than one coating layer, e.g. multi-layered coatings
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
- Y02T10/12—Improving ICE efficiencies
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
Verfahren zur Verhinderung der Alterung von Platingruppenmetall-(PGM)-Partikeln (16) in einem Katalysator (10), das Verfahren umfassend:das Aufbringen von PGM-Partikeln (16) auf einen Träger (18);das Passivieren einer Oberfläche der PGM-Partikel (16) durch Beaufschlagen der PGM-Partikel (16) mit Kohlenmonoxid bei einer Temperatur von 200 °C oder darunter zur Zuführung von -CO Gruppen zu der Oberfläche; unddas Durchführen von Atomlagenabscheidung (ALD) zum selektiven Aufbau einer Barriere (24) rund um die PGM-Partikel auf dem Träger (18), wobei das Verfahren vor dem Passivieren ferner beinhaltet:das Beaufschlagen der PGM-Partikel (16) mit einem Reduktionsgas bei einem Temperaturbereich von etwa 150 °C bis etwa 500 °C zur Eliminierung von -O-Atomen und - OH-Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel (16), wobei das Reduktionsgas aus einer aus Wasserstoff, Ammoniak, wasserfreiem Ammoniak, wässrigem Ammoniak, Harnstoff und Mischungen dieser Stoffe bestehenden Gruppe ausgewählt wird; oderdas Beaufschlagen der PGM-Partikel (16) mit Kohlenmonoxid bei einer Temperatur von über 200 °C zur Eliminierung von -O-Atomen und -OH-Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel (16),während die -O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der Oberfläche (18a) des Trägers (18) intakt bleiben und zur Bildung einer ersten Schicht der Barriere (24) herangezogen werden.
Description
- TECHNISCHES GEBIET
- Die vorliegende Offenbarung bezieht sich im Allgemeinen auf Katalysatoren, und im Besonderen auf die Verhinderung der Alterung von Platingruppenmetall-(PGM)-Partikeln in einem Katalysator.
- HINTERGRUND
- Fahrzeuge mit einem Verbrennungsmotor (ICE) beinhalten ein Abgasnachbehandlungssystem zur Behandlung der Abgase des Motors. Die Konfiguration des Nachbehandlungssystems hängt teilweise davon ab, ob der Motor ein Dieselmotor ist (der in der Regel mit magerer Verbrennung arbeitet und bei allen Betriebsbedingungen hohe Konzentrationen von Sauerstoff in den Abgasen enthält) oder ein stöchiometrischer Ottomotor (der bei einem nahezu stöchiometrischen Luft-/Kraftstoff [A/F]-Verhältnis arbeitet). Das Nachbehandlungssystem für Dieselmotorabgase beinhaltet einen DieselOxidationskatalysator (DOC), der zur Oxidation von Kohlenmonoxid (CO) und Kohlenwasserstoffen (HC) fähig ist. Das Nachbehandlungssystem für die Abgase eines stöchiometrischen Ottomotors beinhaltet einen Dreiwegkatalysator (TWC), der nach dem Prinzip der nichtselektiven katalytischen Reduktion von NOx durch CO und HC arbeitet.
- In
DE 10 2009 010 279 A1 sind Bipolarplatten von Brennstoffzellen offenbart, die eine Metallschicht aufweisen, welche durch Atomlagenabscheidung hergestellt wurde. - Die
JP 2006 192 357 A - Schichtsysteme mit mindestens einer PVD oder CVD-Schicht und einer durch Atomlagenabscheidung hergestellten Schicht sind in
GB 2 455 993 A - KURZDARSTELLUNG
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verhinderung der Alterung von Platingruppenmetall-(PGM)-Partikeln in einem Katalysator. Das Verfahren umfasst: das Aufbringen von PGM-Partikeln auf einen Träger; das Passivieren einer Oberfläche der PGM-Partikel durch Beaufschlagen der PGM-Partikel mit Kohlenmonoxid bei einer Temperatur von 200 °C oder darunter zur Zuführung von -CO Gruppen zu der Oberfläche; und das Durchführen von Atomlagenabscheidung (ALD) zum selektiven Aufbau einer Barriere rund um die PGM-Partikel auf dem Träger, wobei das Verfahren vor dem Passivieren ferner beinhaltet: das Beaufschlagen der PGM-Partikel mit einem Reduktionsgas bei einem Temperaturbereich von etwa 150 °C bis etwa 500 °C zur Eliminierung von -O-Atomen und - OH-Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel, wobei das Reduktionsgas aus einer aus Wasserstoff, Ammoniak, wasserfreiem Ammoniak, wässrigem Ammoniak, Harnstoff und Mischungen dieser Stoffe bestehenden Gruppe ausgewählt wird; oder das Beaufschlagen der PGM-Partikel mit Kohlenmonoxid bei einer Temperatur von über 200 °C zur Eliminierung von -O-Atomen und -OH-Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel, während die -O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der Oberfläche des Trägers intakt bleiben und zur Bildung einer ersten Schicht der Barriere herangezogen werden.
- Figurenliste
- Merkmale von Beispielen der vorliegenden Offenbarung erscheinen mit Bezug auf die folgende detaillierte Beschreibung und die Zeichnungen, in denen gleiche Bezugszahlen ähnlichen, wenn auch vielleicht nicht identischen, Komponenten entsprechen. Der Kürze halber können Bezugszahlen oder Merkmale mit einer zuvor beschriebenen Funktion in Verbindung mit anderen Zeichnungen, in denen sie erscheinen, beschrieben sein oder auch nicht.
-
1 ist eine schematische Darstellung, die zwei Mechanismen zum PGM-Partikelwachstum oder Sintern zeigt; -
2A ist eine halbschematische Draufsicht auf ein Beispiel eines hierin offenbarten Katalysators; -
2B ist eine halbschematische Querschnittdarstellung des in2A dargestellten Katalysators entlang der Linie 2B-2B; -
3A-3D sind schematische Querschnittdarstellungen, die zusammen ein nicht erfindungsgemäßes Beispiel des hierin offenbarten Verfahrens zeigen; -
4A-4E sind schematische Querschnittdarstellungen, die zusammen ein erfindungsgemäßes Beispiel des hierin offenbarten Verfahrens zeigen; -
5 ist eine halbschematische Querschnittdarstellung mit einer Musteransicht eines mit einem Beispiel des hierin offenbarten Verfahrens gebildeten Katalysators; -
6A ist eine perspektivische, teilweise aufgeschnittene Beispielansicht eines Katalysators; und -
6B ist eine vergrößerte Darstellung eines Teils der6A . - DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
- DOCs und TWCs beinhalten oft einen mit einem Platingruppenmetall (PGM) geladenen Träger als aktiven katalytischen-/Katalysatorstoff. Mit steigender Abgastemperatur des Fahrzeugmotors (z. B. auf Temperaturen in einem Bereich von 150 °C bis etwa 1000 °C) wird bei dem auf den Träger geladenen PGM ein Partikelwachstum (d. h. Sintern) ausgelöst.
1 zeigt zwei Mechanismen für PGM-Partikelwachstum während des Fahrzeugbetriebs. Die Mechanismen beinhalten atomare und/oder kristallite PGM-Migration. Die erste PGM-Migrationsmechanismus bezieht eine Dampfphase ein, bezeichnet mit 12, und der zweite PGM-Migrationsmechanismus eine Oberflächendiffusion, bezeichnet mit 14. Im ersten Mechanismus kann eine von den auf den Träger 18 geladenen PGM-Partikeln 16 emittierter mobiler Typ (nicht dargestellt) die Dampfphase 12 durchqueren und mit anderen Metallpartikeln 20 in der Dampfphase 12 zu größeren PGM-Partikeln 16' agglomerieren. Im zweiten Mechanismus kann ein von den PGM-Partikeln 16 emittierter mobiler Typ (nicht dargestellt) entlang der Oberfläche 18a des Trägers 18 und diffundieren und mit anderen Metallpartikeln 22 auf der Oberfläche 18a zu größeren PGM-Partikeln 16' agglomerieren. - Eine Erhöhung der Größe der PGM-Partikel 16' führt zu einer schlechten PGM-Ausnutzung und unerwünschten Alterung des Katalysatormaterials. Genauer gesagt reduziert die erhöhte Partikelgröße die PGM-Dispersion, die ein Verhältnis der Anzahl der PGM-Oberflächenatome im Katalysator zur Gesamtzahl der PGM-Atome im Katalysator darstellt. Eine reduzierte PGM-Dispersion steht in direkter Beziehung zu einer Abnahme der aktiven Metallfläche (als Ergebnis des Partikelwachstums) und zeigt damit einen Verlust an aktiven Katalysatorstellen an. Der Verlust an aktiven Katalysatorreaktionsstellen führt zu einer schlechten PGM-Ausnutzungseffizienz und zeigt an, dass der Katalysator unerwünscht gealtert oder deaktiviert ist.
- Dabei hat sich gezeigt, dass etwa 1 % des PGM in einem gewöhnlichen TWC nach 160.000 bis 240.000 gefahrenen Kilometern (100.000 bis 150.000 Meilen) katalytisch aktiv bleibt (d. h. 99 % des PGM verschwendet sind). Ein Ansatz, um dem Sintereffekt entgegenzuwirken, ist die Nutzung einer ausreichend hohen PGM-Ladung zur Kompensation der Katalysatordeaktivierung. Jedoch werden dadurch die Kosten des TWC erhöht.
- Die hierin offenbarten Katalysatoren verhindern die Alterung durch die physikalische Trennung der PGM-Partikel 16 mit einer auf dem Träger 18 ausgebildeten Barriere. Durch die physische Trennung der PGM-Partikel 16 soll die Barriere Dampfphasenmigration und Oberflächendiffusion blockieren. Dadurch werden das PGM-Partikelwachstum/Sintern verlangsamt oder verhindert und mehrere aktive PGM-Stellen über die Zeit aufrechterhalten, und demnach altert der Katalysator langsamer als Katalysatoren ohne die Barriere. Außerdem, wird durch die Verlangsamung bzw. Verhinderung des Sinterns auch der Anstieg der Betriebstemperatur des Katalysators mit der Zeit verhindert.
- Mit Verweis auf die
2A und2B ist ein Beispiel des Katalysators 10 dargestellt. Im Besonderen zeigt die2A eine Draufsicht auf den Katalysator 10 und die2B zeigt eine Querschnittansicht des Katalysators 10. - Der Katalysator 10 beinhaltet den Träger 18. Der Träger 18 kann eine poröse Metalloxidstruktur sein. Die poröse Metalloxidstruktur kann aus Al2O3, CeO2, ZrO2, CeO2-ZrO2, SiO2, TiO2, MgO, ZnO, BaO, K2O, Na2O, CaO oder Kombinationen davon gebildet werden. Der Träger 18 kann auch eine Perowskitstruktur aufweisen, wie La0,9FeO3, LaFeO3, LaAlO3, Sr-gefördertes LaFeO3, Ce-gefördertes LaFeO3, LaMnO3 oder LaCoO3. Der Träger 18 kann in Form von Pulver, Kugeln oder einer anderen geeigneten Konfiguration ausgebildet sein. Der Träger 18 kann mehrere kleine Poren beinhalten. Mit der Anzahl der Poren wird die Oberfläche vergrößert, die dadurch in einem geringen Volumen viele PGM-Partikel 16 aufnehmen kann. In einem Beispiel beträgt das Porenvolumen des Trägers 18 etwa 0,5 ml/g bis etwa 2 ml/g.
- Der Katalysator 10 beinhaltet auch PGM-Partikel 16, die auf den Träger aufgetragen (z. B. dispergiert) sind 18. Mit „dispergiert auf‟ ist gemeint, dass die PGM-Partikel 16 an der Oberfläche 18a des Trägers 18 haften und auch innerhalb der Poren (nicht dargestellt) des Trägers 18 vorhanden sein können.
- In
2A und2B wird jedes Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D der PGM-Partikel 16 auf der Oberfläche 18a als ein einzelner PGM-Partikel dargestellt. Jedoch versteht es sich, dass jedes Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D der PGM-Partikel 16 mehrere zusammen agglomerierte PGM-Partikel 16 beinhalten kann. Als Beispiel kann jedes Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D einen kleinen Cluster der Partikel 16 beinhalten, wobei die Partikel 16 ähnlich bemessen oder nach Partikelgröße verteilt sind. Als weiteres Beispiel kann jedes Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D einen einzelnen Partikel 16 beinhalten, der durch die Barriere 24 von jedem anderen einzelnen Partikel 16 isoliert ist. - Die PGM-Partikel 16 werden zu aktivem katalytischem Material ausgebildet und können Palladium (Pd), Platin (Pt), Rhodium (Rh), Ruthenium (Ru), Osmium (Os), Iridium (Ir) oder verschiedene Kombinationen davon enthalten (z. B. Pd und Pt, Pt und Rh, Pd und Rh, Pd, Pt und Rh, Pt und Ir, Pd und Os oder jede andere Kombination). Die PGM-Partikel 16 sind in dem Katalysator 10 in einer Menge im Bereich von etwa 0,1 % bis etwa 10 % des Katalysators 10 enthalten.
- Der Katalysator 10 beinhaltet auch die Barriere 24, die auf zumindest einem Teil der Oberfläche 18a des Trägers 18 ausgebildet ist (z. B. auf den Bereichen, in denen keine PGM-Partikel 16 vorhanden sind). Wie in
2B gezeigt, trennt die Barriere 24 physisch jedes Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D der PGM-Partikel 16 von jedem anderen Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D der PGM-Partikel 16. Die Barriere 24 bildet im Wesentlichen eine Wand zwischen den PGM-Katalysatorpartikeln 16 auf der Oberfläche 18a des Trägers 18 und soll die Agglomeration der Partikel 16 durch die Dampfphase 12 oder durch Oberflächendiffusion 22 verhindern. Die Barriere 24 erstreckt sich nicht auf die PGM-Partikel 16, wodurch die PGM-Partikel 16 während des Fahrzeugbetriebs direkt mit dem Abgas beaufschlagt werden können. Wie in2A gezeigt, kann die Barriere 24 eine durchgehende Barriereschicht rund um jedes Erscheinen oder Auftreten 16A, 16B, 16C, 16D der PGM-Partikel 16 ausbilden. - Die Barriere 24 kann aus Al2O3, CeO2, ZrO2, CeO2-ZrO2, SiO2, TiO2, MgO, ZnO, BaO, CaO, La0,9FeO3, LaFeO3, LaAlO3, Sr-gefördertes LaFeO3, Ce-gefördertes LaFeO3, LaMnO3, LaCoO3, oder Kombinationen davon bestehen. In einem Beispiel ist der Träger 18 aus CeO2/Al2O3, und die Barriereschicht 24 ist aus Al2O3.
- Um die Migration der Partikel 16 zu verhindern, hat die Barriere 24 eine Höhe 24h von etwa 0,05X bis etwa 10X, worin X eine Abmessung zumindest eines der PGM-Partikel 16 ist. In einem Beispiel ist die Abmessung von zumindest einem der PGM-Partikel 16 ein Durchmesser oder eine Breite eines einzelnen Partikels 16 oder einer Agglomeration/eines Clusters von Partikeln 16. In einem weiteren Beispiel ist die Abmessung von zumindest einem der PGM-Partikel 16 eine Höhe eines einzelnen Partikels 16 oder einer Agglomeration/eines Clusters von Partikeln 16. Die Höhe 24h der Barriere 24 kann so gewählt werden, dass die Barriere 24 hoch genug ist, um die Migration zu verhindern, und niedrig genug, um die Abdeckung der benachbarten PGM-Partikel 16 durch die Barriere 24 zu verhindern und den Zugang des Abgases zu den PGM-Partikeln 16 nicht zu behindern. In einem Beispiel kann die Höhe 24h der Barriere im Bereich von etwa 0,15 nm (0,05x3) bis etwa 50 nm (10x5) liegen, wenn die Partikel 16 Abmessungen von etwa 3 nm bis etwa 5 nm aufweisen.
- Die Barriere 24 bildet auch die Räume 26A, 26B, 26C, 26D, die jeweils mit einem PGM-Partikel 16 besetzt sind. Die Höhe der Räume 26A, 26B, 26C, 26D entspricht der Höhe 24h der Barriere 24, während zumindest eine weitere Dimension (z. B. Länge, Breite, Durchmesser oder dergleichen) der Räume 26A, 26B, 26C, 26D von der Größe des Erscheinens oder Auftretens 16A, 16B, 16C, 16D des PGM-Partikels 16 im jeweiligen Raum abhängt. In einem Beispiel reichen die Dimensionen (andere als Höhe) der Räume 26A, 26B, 26C, 26D bis zu einer Größe von etwa 100 nm, was die Aufnahme größerer Partikel 16 oder Partikelagglomerationen/-cluster ermöglicht. In einem anderen Beispiel reichen die Dimensionen (andere als Höhe) der Räume 26A, 26B, 26C, 26D bis zu einer Größe von etwa 3 nm bis etwa 5 nm (z. B. entsprechend dem Durchmesser der Partikel 16).
- Die Barriere 24 blockiert die Oberflächendiffusion der PGM-Partikel 16. Weiterhin verhindert die Barriere 24 das PGM-Wachstum über Dampfphasenmigration. Alle mobilen Typen von PGM-Partikeln 16, die über die Dampfphase 12 migrieren, können sich (als Partikel 16") an den Seitenwänden 28 der Barriere 24 ablagern. Diese PGM Partikel 16" bleiben katalytisch aktiv.
- Der Katalysator 10 kann durch die verschiedenen hierin offenbarten Methoden gebildet werden. Die einzelnen Methoden beinhalten einen Prozess der abgewandelten Atomlagenabscheidung (ALD). Ein Beispiel ist in den
3A-3D dargestellt, und andere Beispiele sind in den4A-4E dargestellt. Diese Verfahren erhalten die PGM-Partikel 16 in einem metallischen Zustand oder einem passivierten Zustand, um -OH Gruppen oder andere Typen zu vermeiden, die ALD Wachstum auf der Oberfläche der Partikel 16 initiieren könnten. - Das Verfahren gemäß
3A-3D zeigt die Verwendung eines Reduktionsgases zum Lösen von Sauerstoff-(-O)-Atomen und/oder Hydroxyl-(-OH)-Gruppen von der Oberfläche der -Partikel 16. Das Entfernen dieser Atome und Gruppen nimmt den Partikeln 16 bei der nachfolgenden Barrierebildung durch ALD die Reaktionsfähigkeit. - Wie in
3A gezeigt, beinhaltet die Methode das Aufbringen der PGM-Partikel 16 auf dem Träger 18. Die PGM-Partikel 16 können auf den Träger 18 durch einen Imprägnierungsprozess aufgebracht werden. Zum Imprägnieren des Trägers mit PGM-Partikeln 16 wird eine PGM-Vorläufer-Lösung genutzt. Die PGM-Vorläufer-Lösung kann eine wässrige Lösung sein, die Wasser und einen PGM-Vorläufer enthält. Jede beliebige Anzahl von PGM, die Koordinationskomplexe enthält, kann als PGM-Vorläufer genutzt werden. Einige Beispiel PGM Vorläufer beinhalten Chloroplatinsäure (CPA), Tetraamminplatinchlorid (oder -nitrat oder -hydroxid), Platinnitrat, Platinacetat, Dinitrodiamin-Platin, Palladiumnitrat, Palladiumacetat, bis-acetylacetonato-Palladium, Rhodiumnitrat, Rhodiumacetat, Ruthenium-(III)-Chlorid, Ruthenium-(III)-Zinkacetylacetonat, Ruthenium-(II)-Hexaammindichlorid, Ruthenium-(III)-Hexaammindichlorid, Osmium-(III)-Chlorid-Hydrat, Ammonium-Hexachloroosmat (IV), Iridium-(IV)-Chlorid, Ammonium-Hexachloroiridat, Iridium-(III)-Chlorid, Iridiumsulfat usw. Jede dieser Vorläufer kann zur Bildung der PGM-Vorläufer-Lösung mit Wasser versetzt werden. Beispiele der PGM-Vorläuferlösung beinhalten eine Platinnitratlösung, eine Platinacetatlösung, eine Palladiumnitratlösung, eine Palladiumacetatlösung, eine Rhodiumnitratlösung bzw. Kombinationen derselben. Die Kombinationen können verwendet werden, um Mischungen verschiedener Typen von PGM-Partikeln 16 (z. B. eine Mischung aus Platin- und Palladium-Partikeln) zu bilden. - Die Konzentration der Vorläuferlösung hängt von der gewünschten Belastung der PGM-Partikel 16 auf dem Träger 18 und im Katalysator 10 ab. So entsprechen beispielsweise 10 g Gesamtmenge des Katalysators 10 mit 1,5 % Platin 0,15 g Platin (d. h. 1,5 % von 10 g). Die Massenverhältnis von reinem Platin zur Platinvorstufe kann verwendet werden, um zu bestimmen, wie viel der Platinvorstufe verwendet werden soll, um die gewünschte Platinmasse für den Katalysator 10 zu erzielen. Zur Trockenimprägnierung hängt die zur Bildung der wässrigen Lösung hinzugefügte Wassergesamtmenge von dem zum Füllen des Porenvolumens erforderlichen Wasservolumen ab, d. h. zum Erreichen beginnender Nässe. Die zur Bildung der wässrigen Lösung für die Nassimprägnierung hinzugefügte Wassergesamtmenge hängt von der Löslichkeit der PGM-Vorläufer ab. In diesem Beispiel kann diese Lösung zu 9,85 g trockenem Träger (d. h. 10 g gesamt - 0,15 g Platin = g Träger) zugegeben werden.
- Zur Tockenimprägnierung wird die PGM-Vorläuferlösung dem Träger 18 zugegeben, bis alle Poren des Trägers 18 mit der Lösung gefüllt sind. Es wird keine wird über die zum Füllen der Poren erforderliche Menge hinausgehende zusätzliche Lösung zugegeben (d. h. beginnende Nässe). Die PGM-Vorläuferlösung wird durch Kapillarwirkung in die Poren gezogen.
- Zur Nassimprägnierung wird der Träger 18 zunächst mit dem gleichen Lösungsmittel (z. B. Wasser) gefüllt, das für die PGM-Vorläuferlösung verwendet wird. Der befeuchtete Träger 18 wird dann mit der PGM-Vorläuferlösung behandelt. In diesem Beispiel wird kein hoher Druck in den Poren des Trägers 18 aufgebaut, sondern der PGM-Vorläufer migriert progressiv aus der PGM-Lösung in die Poren.
- Der imprägnierte Träger 18 wird dann zur Entfernung des Wassers getrocknet und calciniert, um die PGM-Vorläufer in PGM-Partikel 16 umzuwandeln. Das Trocknen kann in Luft bei einer Temperatur von etwa Raumtemperatur (z. B. 18 °C bis etwa 25 °C) bis etwa 150 °C für eine Dauer von etwa 12 Stunden bis 24 Stunden durchgeführt werden, und das Calcinieren kann bei einer Temperatur von etwa 300 °C bis etwa 650 °C für eine Dauer von etwa 1 Stunde bis etwa 4 Stunden durchgeführt werden. In einem Beispiel wird das Calcinieren bei etwa 550 °C für etwa 2 Stunden durchgeführt. Dieser Prozess baut die PGM-Vorläufer ab und bildet die PGM-Partikel 16 innerhalb der Poren des Trägers 18 und an zumindest einigen der Oberflächen 18a des Trägers 18.
- Wie in
3A dargestellt, weisen die PGM-Partikel 16 und der Träger 18 -OH-Gruppen an ihren jeweiligen Oberflächen 16a, 18a auf. An jeder dieser Flächen 16a, 18a können auch -O-Atome hängen. Ein abgewandelter ALD-Prozess (nicht erfindungsgemäß) wird durchgeführt, um die -O-Atome und/oder -OH-Gruppen von der Oberfläche 16a des Partikels 16 zu entfernen, während die -O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der Oberfläche 18a intakt bleiben (3B) und zur Bildung einer ersten Schicht 24A der Barriere 24 herangezogen werden (3C und3D ). - Der abgewandelte ALD-Prozess beginnt damit, dass die PGM-Partikel 16 und der Träger 18 bei einer Temperatur von 150 °C bis etwa 500 °C mit einem Reduktionsgas, oder bei einer Temperatur von über 200 °C mit Kohlenmonoxid für eine Zeit von etwa 0,5 Stunden bis 10 Stunden beaufschlagt werden. Bei diesen Temperaturen wird auf der PGM-Partikeloberfläche 16a ein katalytischer Effekt erzielt (der die Oberflächen -O- und/oder - OH-Gruppen reduziert), jedoch nicht auf der Trägeroberfläche 18a. Demnach kann dieser Prozess -O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der Oberfläche 16a der PGM-Partikel 16 reduzieren, ohne schädliche Wirkung auf zumindest einige O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der beaufschlagten Oberfläche 18a des Trägers 18. Als Ergebnis aus diesem Prozess reagieren die PGM-Partikel 16 während der anschließenden ALD-Schritte nicht, und zumindest einige der -O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der beaufschlagten Oberfläche 18a des Trägers 18en bleiben bei den nachfolgenden ALD-Schritten reaktiv.
- Das Reduktionsgas kann Wasserstoff (H2 wie in den
3A und3B dargestellt), Ammoniak (NH3), wasserfreies Ammoniak, wässriges Ammoniak, Harnstoff und Mischungen daraus sein. Das Reduktionsgas oder Kohlenmonoxid können allein zugeführt werden, oder es kann in einem Trägergas, wie Ar, He, Ne, Kr, Xe, Rn, N2 und dergleichen enthalten sein. Die Konzentration des Reduktionsgases oder Kohlenmonoxids kann in einem Bereich von etwa 2 Vol.-% (Vol.-%) bis etwa 100 Vol.-% liegen. In Beispielen, in denen die Konzentration des Reduktionsgases oder Kohlenmonoxids unter 100 Vol.-% liegt, versteht es sich, dass der Gasstrom des Trägergases als Ausgleich dient. - Der Durchsatz von Reduktionsgas oder Kohlenmonoxid (entweder allein oder in Kombination mit dem Trägergas) kann in einem Bereich von etwa 5 Standardkubikzentimetern pro Minute (sccm) bis etwa 50 sccm liegen.
- Wie in den
3A und3B gezeigt wird, der Träger 18, auf dem die PGM-Partikel 16 dispergiert sind, mit Wasserstoffgas beaufschlagt. Obwohl nicht dargestellt, versteht es sich, dass der Träger 18 mit den darauf dispergierten PGM-Partikeln 16 in eine Kammer eingeleitet werden kann, und die verschiedenen Schritte des abgewandelten ALD-Prozesses innerhalb der Kammer stattfinden können. In dem Beispiel gemäß3A und3B interagiert das Wasserstoffgas mit den -OH-Gruppen auf den PGM-Partikeln 16 wie folgt:H2 →2H* (1) OH + H* → H2O. (2) - Das Wasser kann durch die hohe Temperatur aus der Kammer verdampfen oder anderweitig aus der Kammer herausgezogen werden. Wie in
3B dargestellt, ist die Oberfläche 16a des/der PGM-Partikel(s) 16 sauber (d. h. frei von Oberflächen-OH und/oder -O). - Der abgewandelte ALD-Prozess beinhaltet dann die Beaufschlagung der sauberen PGM-Partikel 16 und des Trägers 18 mit einem Metalloxid-Vorläufer oder einem Metallmischoxid-Vorläufer (dargestellt in den
3B und3C ), und dann mit Wasserdampf (dargestellt in den3C und3D ), zur Bildung der ersten Schicht 24A der Barriere 24. Alle diese Beaufschlagungsschritte sind selbst begrenzend, weil sie die sequentiellen chemischen Oberflächenreaktionen mit bestimmten funktionellen Gruppen (z. B. -OH) einbeziehen. Da die PGM-Partikel 16 behandelt worden sind, um diese reaktiven funktionellen Gruppen zu reduzieren oder anderweitig zu eliminieren, wird die erste Schicht 24A der Barriere 24 nicht auf den PGM-Partikeln 16 gebildet. - Alle diese Beaufschlagungsschritte von
3B bis3D können bei einer Temperatur im Bereich zwischen Raumtemperatur (z. B. etwa 18 °C bis etwa 25 °C) und etwa 250 °C und einer Strömungsgeschwindigkeit von Ar, He oder anderer inerter Gase bei etwa 5 sccm bis etwa 50 sccm durchgeführt werden. Die Temperatur von Vorläufermaterial und Wasserdampf kann etwa bei Raumtemperatur bis etwa 100 °C liegen. - Wie in den
3B und3C gezeigt, werden die sauberen PGM-Partikel 16 und der Träger 18 als erste mit einem Metalloxid-Vorläufer oder einem Metallmischoxid-Vorläufer beaufschlagt. Der Metalloxid-Vorläufer in den3A-3B ist Al(CH3)3 (d. h. Trimethylaluminium). Es versteht sich, dass der zur Verwendung kommende Metalloxid-Vorläufer bzw. der Metallmischoxid-Vorläufer von der gewünschten Zusammensetzung der Barriere 24 abhängt. Wie oben erwähnt, kann die Barriere 24 aus jeder der Verbindungen Al2O3, CeO2, ZrO2, CeO2-ZrO2, SiO2, TiO2, MgO, ZnO, BaO, CaO, La0,9FeO3, LaFeO3, LaAlO3, Sr-gefördertes LaFeO3, Ce-gefördertes LaFeO3, LaMnO3, LaCoO3 oder Kombinationen daraus gebildet werden. - Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus Al2O3 kann der Vorläufer aus Trimethylaluminium, Triisobutylaluminium, tris-(Dimethylamido)-Aluminium(III) Aluminium-tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate) oder Kombinationen daraus bestehen.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus CeO2 kann der Vorläufer tris(i-propylclopentadienyl)-Cerium sein.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus ZrO2 kann der Vorläufer aus bis(Cyclopentadienyl)-Zirconium(IV)-Dihydrid, bis(Methyl-η5-cyclopentadienyl)Methoxymethylzirconium, dimethylbis(pentamethylcyclopentadienyl)-Zirconium(IV), tetrakis(dimethylamido)-Zirconium(IV) tetrakis(ethylmethylamido)Zirconium(IV), Zirconium(IV) dibutoxide(bis-2,4-pentanedionat)-Lösung, Zirconium(IV)-2-Ethylhexanoat, Zirkonium-tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat), oder Kombinationen daraus bestehen.
- Die CeO2-ZrO2 -Schicht 24A und -Barriere 24 können aus Kombinationen der CeO2 Vorläufer und einer oder mehrerer der ZrO2 Vorläufer gebildet werden.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus SiO2 kann der Vorläufer aus (3-aminopropyl)triethoxysilane, N-sec-butyl(trimethylsilyl)amin, Chlorpentamethyldisilan, 1,2-Dichlorotetramethyldisilan, 1,3-Diethyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazan, 1,2-Dimethyl-1,1,2,2-tetraphenyldisilan, Dodecamethylcyclohexasilan, Hexamethyldisilan, 2,4,6,8,10-pentamethylcyclopentasiloxan, Pentamethyldisilane, Silizium tetrabromide, Silizium-Titantetrachlorid, Tetraethylensilan, 2,4,6,8-Tetramethylcyclotetrasiloxan, 1,1,2,2-Tetramethyldisilan, Tetramethylsilan, N,N',N''-tri-tert-butylsilanetriamin, tris(tert-butoxy)silanol, tris(tert-pentoxy)silanol oder Kombinationen daraus bestehen.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus TiO2 kann der Vorläufer aus tetrakis(diethylamido)-Titan(IV), tetrakis(dimethylamido)titanium(IV), tetrakis(ethylmethylamido)-Titan(IV), Titan(IV)-oxid) diisopropoxidebis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), Titan(IV)-oxid) isopropoxid, Titantetrachlorid, oder Kombinationen daraus bestehen.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus MgO kann der Vorläufer aus bis(cyclopentadienyl)-Magnesium(II) und/oder bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Magnesium bestehen.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und damit der Barriere 24) aus ZnO kann der Vorläufer aus bis(pentafluorophenyl)-Zink, bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)-Zink-(II), Diethylzink oder Kombinationen daraus bestehen.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und schließlich der Barriere 24) aus BaO kann der Vorläufer aus Barium-bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat)-Hydrat, Bariumnitrat, bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Barium-Tetrahydrofuran-Addukt, bis(triisopropylcyclopentadienyl)-Barium-Tetrahydrofuran-Addukt oder Kombinationen daraus bestehen.
- Zur Bildung der Schicht 24A (und schließlich der Barriere 24) aus CaO kann der Vorläufer aus Kalzium-bis(6,6,7,7,8,8,8,-heptafluoro-2,2-dimethyl-3,5-octanedionat) Kalzium-bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat) oder Kombinationen daraus bestehen.
- Alle Kombinationen der vorgenannten Metalloxid-Vorläufer können zur Bildung von Metallmischoxid verwendet werden. Andere Metallmischoxid-Vorläufer können zur Bildung der zuvor erwähnten Perowskitstruktur-Metalloxide verwendet werden (z. B. La0,9FeO3, LaFeO3, LaAlO3, Sr-gefördertes LaFeO3, Ce-gefördertes LaFeO3, LaMnO3, und LaCoO3). Zur Bildung der Schicht 24A und Barriere 24 aus diesen Metalloxiden beinhalten die Metallmischoxid Vorläufer einen Lanthan-Vorläufer und einen anderen Metalloxid-Vorläufer, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Eisen-Vorläufer, einem Aluminium-Vorläufer, einem Cer/Zirkon-Vorläufer, einem Strontium-Vorläufer, einem Mangan-Vorläufer, einem Kobalt-Vorläufer und Kombinationen daraus. Alle der vorgenannten Aluminium- und Cer-Vorläufer können verwendet werden. Beispiele der anderen Vorläufer beinhalten die folgenden Substanzen: Lanthan-(III)-Isopropoxid, tris [N,N-bis(trimethylsilyl)amide]-Lanthan(III) , tris(cyclopentadienyl)-Lanthan(III) und/oder tris(tetramethylcyclopentadienyl)Lanthan(III) als Lanthan-Vorläufer; [1,1'bis(diphenylphosphino)ferrocene]tetracarbonylmolybdenum(0), bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Eisen(II), 1,1'-diethylferrocene, Eisen-(0)-Pentacarbonyl, und/oder Eisen-(III)-tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat) als Eisen-Vorläufer; wasserfreies Strontium-Tetramethylheptandionat als Strontium-Vorläufer; bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Mangan(II), bis(tetramethylcyclopentadienyl)-Mangan(II), bromopentacarbonyl-Mangan(I), Ethyl cycl opentadi enyl -Mangan(I) tricarbonyl, cyclopentadienyl-Mangan-(I)-Tricarbonyl, und/oder Mangan-(0)-Carbonyl als Mangan-Vorläufer; und/oder bis(cyclopentadienyl)-Kobalt(II), bis(ethylcyclopentadienyl)-Kobalt(II) und/oder bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Kobalt(II) als Kobalt-Vorläufer.
- Bei der Beaufschlagung mit dem/den Metalloxid- oder Metallmischoxid-Vorläufer(n) reagiert der Vorläufer mit -OH Gruppen auf dem Träger 18 auf den beaufschlagten Abschnitten der Oberfläche 18a zu einem Zwischenprodukt 29. In dem Beispiel, das Al(CH3)3 als Metalloxid-Vorläufer anwendet, reagiert das Al(CH3)3 mit -OH-Gruppen auf dem Träger 18 und bildet Al-(CH)2 (das Zwischenprodukt 29) auf den beaufschlagten Abschnitten der Oberfläche 18a.
- Dann wird (wie in den
3C ,3D dargestellt), Wasser zugeführt. Das Wasser kommt in Form von Wasserdampf, reagiert mit dem Zwischenprodukt 29 und bildet das gewünschte Metalloxid oder Metallmischoxid mit -OH Gruppen an der Oberfläche. Danach wird ein Zyklus des abgewandelten ALD-Prozesses abgeschlossen und eine Schicht 24A der Barriere 24 ist ausgebildet. - Insbesondere beinhalten die Ausgangskomponenten für die Bildung der in den
3A-3D dargestellten Schicht 24A Al(CH3)3 und Wasser. Die gesamte Reaktion mit diesen speziellen Ausgangskomponenten ist als Reaktion (3) dargestellt und die Teilreaktionen sind als Reaktionen (4) und (5) dargestellt:2Al(CH3)3 + 3H2O → Al2O3 + 6CH4 (3) Al (CH3)3(g) + :Al-O-H (s)→ :Al-O-Al(CH3)2 (s) + CH4 (4) 2H2O (g) + :O-Al(CH3)2 (s) → :Al-O-Al(OH)2 (s) + 2CH4. (5) - Die Reaktionen beruhen auf den vorhandenen -OH-Bindungen auf der Oberfläche 18a des Trägers 18. In vielen Zyklen werden abwechselnde Schichten aus Sauerstoff und Aluminium auf der Oberfläche 18a abgelegt und ergeben eine hydroxylierte Al2O3 Fläche. Wie oben erwähnt, ist ALD ein selbst begrenzender Oberflächen-Reaktionsprozess. So reagiert beispielsweise im ersten Halbzyklus Al(CH3)3 mit -OH Gruppen auf dem Träger 18 und bildet Al-(CH)2 auf den beaufschlagten Abschnitten der Oberfläche 18a. Dann wird Wasser zugeführt, mit Al-(CH)2 reagiert und wieder Al-OH bildet. Danach wird ein Zyklus abgeschlossen und eine Schicht (z. B. 24A) Al2O3 wurde gebildet.
- Die Metall(misch)oxid-Vorläufer und der Wasserdampf werden in Form einer Reihe von aufeinanderfolgenden, sich nicht überlappenden Impulsen eingeführt (z. B. in die Kammer mit dem Träger 18 mit den darauf dispergierten PGM-Partikeln 16). In jedem dieser Impulse reagieren Vorläufer- und Wasserdampf-Moleküle mit der Oberfläche in selbst begrenzender Weise, sodass die Reaktion beendet wird, wenn alle reaktiven Stellen (z. B. - OH-Gruppen) auf der Oberfläche 18a verbraucht sind.
- Die Art und Weise des in
3A-3D gezeigten abgewandelten ALD-Prozesses besteht darin, er eine Einzelschicht (z. B. Schicht 24A) pro Zyklus ablagert. Die Einzelschicht 24A bildet eine gleichmäßige (bzw. kontinuierliche) Beschichtung auf der beaufschlagten Oberfläche 18a. Der Prozess steuert präzise die Dicke jeder gebildeten Schicht 24A. So bildet beispielsweise ein abgewandelter ALD-Zyklus eine gleichmäßige Schicht 24A mit einer Dicke von ca. 1,1 Angström. - Wie in
3D dargestellt, können während des Prozesses -OH Gruppen wieder auf der Oberfläche 16a des PGM-Partikels 16 abgelegt werden. Demnach kann jeder Beaufschlagungsschritt (d. h. die Beaufschlagung mit Reduktionsgas, danach mit dem Metalloxid-Vorläufer und dann mit Wasserdampf) so oft wiederholt werden, wie es zur Ausbildung mehrerer Metalloxid- oder Metallmischoxidlagen und zum Aufbau der Barriere 24 rund um die (und nicht auf den) PGM-Partikel(n) 16 erforderlich ist. Es ist zu beachten, dass die während der Iterationen des Reduktionsprozesses verwendete Temperatur nicht hoch genug ist, um den katalytischen Effekt an der Oberfläche der Barriereschicht 24A zu initiieren, und damit die -OH-Gruppen nicht von dieser eliminiert. Demnach bilden aufeinanderfolgende Zyklen des abgewandelten ALD-Prozesses die Barriere 24 auf den vorher rund um die, nicht aber auf den PGM-Partikel(n) 16 ausgebildeten Schichten 24A. - Mit Verweis auf
4A-4E ist nun ein weiteres erfindungsgemäßes Beispiel des Verfahrens dargestellt. Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung von Kohlenmonoxid zur Passivierung der
Oberfläche 16a der PGM-Partikel 16 mit -CO Gruppen. Das Zuführen der -CO Gruppen nimmt den Partikeln 16 ihre Reaktionsfähigkeit während der nachfolgenden Bildung der Barriere mittels ALD. -
4A verdeutlicht die auf der Oberfläche 18a des Trägers 18 aufgetragenen PGM-Partikel 16. Die PGM-Partikel 16 können aus jeder der zuvor beschriebenen PGM bestehen und mittels jedes der in Bezug auf3A beschriebenen Verfahrens gebildet werden. - Wie in den
4A und4C gezeigt, kann der Träger 18 mit den darauf dispergierten PGM-Partikeln 16 dann mit Kohlenmonoxid (CO) beaufschlagt werden. Das CO kann allein oder in einem Trägergas, wie Ar, He, einem anderen Inertgas, N2, Formiergas und dergleichen zugeführt werden. Die CO-Konzentration kann im Bereich zwischen etwa 2 Vol.-% (Vol.-%) bis etwa 100 Vol.-% liegen. In den Beispielen, in denen die CO-Konzentration unter 100 Vol.-% liegt, ist zu beachten, dass der Gasstrom durch das Trägergas ausgeglichen wird. - Die Fördermenge des CO (entweder allein oder in Kombination mit dem Trägergas) kann im Bereich von etwa 5 Standardkubikzentimeter pro Minute (sccm) bis etwa 50 sccm liegen.
- Bei Temperaturen von über 200 °C kann das CO als Reduktionsgas zur Eliminierung der -O-Atome und/oder -OH-Gruppen von der Oberfläche der PGM-Partikel (wie in
6B gezeigt) dienen. Wenn CO mit diesen höheren Temperaturen zugeführt wird, ist es offensichtlich, dass es wahrscheinlich zu keiner CO-Absorption auf den PGM-Partikeln 16 kommt. Es funktioniert vielmehr als Reduktionsgas zur Eliminierung der -O-Atome und/oder -OH Gruppen. - Es ist zu beachten, dass ein anderes Reduktionsgas (einschließlich der vorstehend mit Verweis auf die
3A-3B beschriebenen) anstatt von CO zur Reinigung der PGM Oberfläche der Partikel 16A verwendet werden kann. - Gleich ob die Reduktion mit CO oder einem anderen Reduktionsgas erfolgt, versteht es sich, dass zumindest einige der O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der beaufschlagten Oberfläche 18a des Trägers 18 nicht negativ beeinflusst werden und bestehen bleiben.
- Wie in den
4B und4C gezeigt, kann die Temperatur auf 200 °C oder darunter gesenkt werden, während der Träger 18 mit den darauf dispergierten PGM-Partikeln 16 mit CO beaufschlagt wird. Alternativ kann bei Einsatz eines anderen Reduktionsgases zum Reinigen der PGM-Partikel 16 der Gasstrom des Reduktionsgases auf einen CO-Gasstrom umgestellt und die Temperatur auf 200 °C oder darunter gesenkt werden. Die CO-Absorption auf der Oberfläche der PGM-Partikel 16a tritt bei relativ niedrigen Prozesstemperaturen auf, und demnach kann zur Passivierung der Oberfläche der PGM-Partikel 16a mit -CO-Gruppen die Temperatur gesenkt werden. Die Adsorption von CO auf den PGM-Partikeln 16 scheint auf einem ähnlichen Mechanismus zu beruhen wie chemisorptionsbasierte Dispersionsmessungen. - Die passivierten PGM-Partikel 16P sind in
4C dargestellt. Die absorbierten - CO-Gruppen passivieren die Oberfläche 16a und nehmen den Partikeln 16P ihre Reaktionsfähigkeit für die nachfolgenden ALD-Prozessschritte (die auf dem Vorhandensein von -OH-Bindungen beruhen). Die -CO-Gruppen reagieren während der ALD Prozessschritte nicht, und damit verhindern die Gruppen, dass die Barriereschichten 24A auf den PGM-Partikeln 16 entstehen/wachsen. - Nachdem die Oberfläche der PGM-Partikel 16a mit -CO-Gruppen passiviert ist, wird die ALD durchgeführt, um die Barriere 24 auf dem Träger 18a rund um die passivierten PGM-Partikel 16P auszubilden. In dem Beispiel gemäß
4A-4E wird ein erster ALD-Zyklus unmittelbar nach der Passivierung durchgeführt, um die erste Schicht 24A der Barriere 24 auszubilden. Diese erste ALD-Zyklus beinhaltet einen Metall(misch)oxid-Vorläuferimpuls, gefolgt von einem Wasserimpuls. - Die ALD beinhaltet die Beaufschlagung der passivierten PGM-Partikel 16P und des Trägers 18 mit einem Metalloxid-Vorläufer oder einem Metallmischoxid-Vorläufer (in den
4C ,4D dargestellt), und dann mit Wasserdampf (in den4D ,4E dargestellt) zur Bildung der ersten Schicht 24A der Barriere 24. Alle diese Beaufschlagungsschritte sind selbst begrenzend, weil sie die sequentiellen chemischen Oberflächenreaktionen mit bestimmten funktionellen Gruppen (z. B. -OH) einbeziehen. Da die PGM-Partikel 16P durch die Behandlung mit -CO-Oberflächengruppen versehen wurden, bildet sich die erste Schicht 24A der Barriere 24 nicht auf den passivierten PGM-Partikeln 16P. - Alle diese Beaufschlagungsschritte von
4C bis4D können bei einer Temperatur im Bereich zwischen Raumtemperatur (z. B. etwa 18 °C bis etwa 25 °C) und etwa 250 °C und einer Strömungsgeschwindigkeit von etwa 5 sccm bis etwa 50 sccm durchgeführt werden. Die Temperatur von Vorläufermaterial und Wasserdampf kann etwa bei Raumtemperatur bis etwa 100 °C liegen. - Wie in den
4C und4D gezeigt, werden die passivierten PGM-Partikel 16P und der Träger 18 zuerst mit einem Metalloxid-Vorläufer oder einem Metallmischoxid-Vorläufer beaufschlagt. Der in den4C-4D dargestellte Metalloxid-Vorläufer ist Al(CH ist3)3 (d. h. Trimethylaluminium). Es ist zu beachten, dass der verwendete Metalloxid-Vorläufer oder Metallmischoxid-Vorläufer von der für die Barriere 24 gewünschten Zusammensetzung abhängt, und dass alle vorstehend beschriebenen Vorläufer verwendet werden können. - Bei der Beaufschlagung mit dem/den Metalloxid- oder Metallmischoxid-Vorläufer(n) reagiert der Vorläufer mit -OH Gruppen auf dem Träger 18 auf den beaufschlagten Abschnitten der Oberfläche 18a zu einem Zwischenprodukt 29. In dem Beispiel, das Al(CH3)3 als Metalloxid-Vorläufer anwendet, reagiert das Al(CH3)3 mit -OH-Gruppen auf dem Träger 18 und bildet Al-(CH)2 (das Zwischenprodukt 29) auf den beaufschlagten Abschnitten der Oberfläche 18a.
- Dann wird (wie in den
4D und4E dargestellt) Wasser zugeführt. Das Wasser kommt in Form von Wasserdampf, reagiert mit dem Zwischenprodukt 29 und bildet das gewünschte Metalloxid oder Metallmischoxid mit -OH Gruppen an der Oberfläche. Die -CO Gruppen passivieren die Oberfläche der PGM-Partikel 16 und verhindern so die Bildung von -OH-Gruppen auf derselben. Danach wird ein ALD-Zyklus abgeschlossen und eine Schicht 24A der Barriere 24 ausgebildet. - In diesem Verfahrensbeispiel können auf der Schicht 24A mit unterschiedlichen Mitteln aufeinanderfolgende Barriereschichten gebildet werden, wie jeweils durch Pfeile A, B, C in
4A-4E verdeutlicht. - Im Beispiel A können zur Bildung aufeinanderfolgender Barriereschichten die ALD-Schritte von
4C und4E so oft wie notwendig wiederholt werden, bis die gewünschte Dicke oder Höhe 24h der Barriere 24 erreicht ist. In einem spezifischen Beispiel kann die Gleichung (4) gefolgt von der Gleichung (5) sequentiell ausgeführt werden, bis die gewünschte Höhe 24h der Barriere 24 erreicht ist. In diesem Beispiel wird die Beaufschlagung mit CO als Vorbehandlungsprozess vor der Durchführung mehrerer ALD-Zyklen angewendet. - Das Beispiel B zur Bildung nachfolgenden Barriereschichten verwendet einen abgewandelten ALD Zyklus. Bei diesem abgewandelten ALD-Zyklus kann das CO-Adsorptionsverfahren als ein Schritt in jedem ALD-Zyklus eingesetzt werden, beispielsweise durch Verwendung eines CO-Impulses. In diesem Beispiel werden alle aufeinanderfolgenden Barriereschichten durch Beaufschlagung mit einem CO-Impuls gebildet, gefolgt von einem Metall(misch)oxid-Vorläuferimpuls, gefolgt von einem Wasserimpuls, gebildet. Das kann dazu dienen, sicherzustellen, dass die PGM-Partikeloberfläche 16a in dem abgewandelten ALD-Prozess passiviert bleibt.
- Das Beispiel C zur Bildung aufeinanderfolgender Barriereschichten verwendet auch einen abgewandelten ALD-Zyklus. In diesem Beispiel kann der Zyklus zum Reinigungsschritt zurückkehren. In dieser Stufe kann das Reduktionsgas (CO oder ein anderes Reduktionsgas mit hoher Temperatur) zur Reinigung der Oberfläche 16a der PGM-Partikel 16 in das System eingeführt werden. Das Verfahren geht dann mit der Passivierung der PGM-Partikeloberfläche 16a gefolgt von ALD-Schritten zur Bildung der aufeinanderfolgenden Barriereschichten weiter. Das kann dazu dienen, sicherzustellen, dass die PGM-Partikeloberfläche 16a in dem abgewandelten ALD-Prozess passiviert bleibt.
- In den Beispielen gemäß
4A-4E kann der Katalysator 10 sobald der Bildungsprozess die Barriere 24 abgeschlossen ist auf über 200 °C erhitzt oder mit Unterdruck von zumindest 10-2 Torr beaufschlagt werden, um die -CO Gruppen von der Oberfläche 16a der PGM-Partikel 16 zu eliminieren. In einem Beispiel eliminiert der niedrige Partialdruck die -CO Gruppen. - Obwohl nicht dargestellt in
4A-4E , versteht es sich, dass der Träger 18 mit dem darauf dispergierten PGM-Partikel 16 in eine Kammer eingeführt werden kann und dass die verschiedenen Prozessschritte innerhalb der Kammer ausgeführt werden können. - In den hierin offenbarten Beispielverfahren hat es sich erwiesen, dass eine Regelung der Barrierenhöhe 24a wünschenswert ist. Erstens, wenn die Höhe 24h der Barriere 24 zu weit über der Höhe der Partikel 16 liegt (z. B. >10X, wie oben beschrieben), kann das Fahrzeugabgas u. U. die PGM-Partikel 16 nicht erreichen und die Katalyse funktioniert nicht. Zweitens, wenn die Barriere 24 weit über die benachbarten PGM-Partikel 16 hinaus wächst, reagieren die während weiterer abgewandelter ALD Zyklen eingesetzten Chemikalien mit - OH-Gruppen oberhalb der PGM-Partikel 16 (z. B. an den jetzt beaufschlagten Seiten der Barriere 24). Dadurch wächst die Barriere 24 nach innen und bedeckt die Partikel 16 oder kapselt diese ein. Demnach sollte die Anzahl der ALD-Zyklen oder abgewandelten ALD-Zyklen geregelt werden können, um die gewünschte Höhe 24h für die Barriere 24 zu erzielen. So können beispielsweise weniger als 20 ALD-Zyklen oder abgewandelte ALD-Zyklen ausgeführt werden. In einem konkreten Beispiel können 5 ALD-Zyklen bzw. abgewandelte ALD-Zyklen bis 10 ALD-Zyklen oder abgewandelte ALD-Zyklen genutzt werden, um die Barriere 24 aufzubauen.
- Obwohl nicht dargestellt, können die Beispiele des hierin offenbarten Verfahrens auch eine Vorsinterung des Trägers 18 zu Beginn des Verfahrens, d. h. vor dem Aufbringen der PGM-Partikel 18 auf den Träger 18 beinhalten. Die Vorsinterung kann in einem Temperaturbereich von etwa 900 °C bis etwa 1000 °C erfolgen. Das Vorsintern kann die Fläche des Trägers 18 vor Bildung der Barriere 24 verkleinern. Das Reduzieren der Oberfläche des Trägers 18 bedeutet, dass weniger Oberfläche 18a für das Wachstum der Barriere 24 verfügbar ist (und damit weniger der Barriere 24). Weniger Barrierematerial 24 verringert die Gewichtserhöhung des fertiggestellten Katalysators 10.
-
5 zeigt eine mit dem in den3A-3D und4A-4E dargestellten Verfahren hergestellte Barriere 24. In diesem Beispiel ist die Barriere 24 aus mehreren Schichten 24A, 24B, 24C, 24D aus Al2O3 gebildet, und der Träger 18 ist aus CeO2/Al2O3. - Der PGM-Partikel 16 ist ohne Oberfläche -O-Atome, -OH-, oder -CO-Gruppen dargestellt. Demnach wurde der PGM-Partikel 16 auf der Oberfläche 18a gebildet und reduziert, wie zuvor mit Verweis auf die
3A-3D beschrieben, oder wurde auf der Oberfläche 18a gebildet und -CO Gruppen wurden zugeführt und anschließend entfernt, wie zuvor mit Verweis auf die4A-4E beschrieben. - Die entsprechenden Schritte werden wiederholt, wie in den
3A-3D oder4A-4E beschrieben, um mehrere Schichten aus Al2O3 aufzutragen und um die Barriere 24 zu bilden. Wie in5 dargestellt, werden die Aluminiumoxidschichten 24A, 24B, 24C, 24D selektiv auf der Trägeroberfläche 18a aufgetragen und der PGM-Partikel 16 wird nicht mit Aluminiumoxidschichten 24A, 24B, 24C, 24D abgedeckt. Dies geschieht aufgrund des Vorhandenseins von -OH-Gruppen, zunächst auf der Oberfläche 18a und anschließend auf jeder Schicht, sowie aufgrund des Fehlens von -OH-Gruppen (und in manchen Beispielen des Vorhandenseins von passivierenden -CO-Gruppen) auf dem PGM-Partikel 16. - Die hierin offenbarten Verfahren können ebenfalls verwendet werden, um die Betriebstemperatur des Katalysatorstoffs 10 sowie eines Fahrzeugkatalysators, in dem der Katalysatorstoff 10 verwendet wird, über die Betriebszeit aufrechtzuerhalten.
- Der Katalysatorstoff 10 kann auf ein monolithisches Substrat aufgebracht und in einem Fahrzeugkatalysator eingesetzt werden. Ein Beispiel für einen Fahrzeugkatalysator ist in
6A und ein Beispiel für ein monolithisches Substrat in den6A und6B dargestellt. - Der Fahrzeugkatalysator 30 beinhaltet das monolithische Substrat 32. Das monolithische Substrat 32 kann aus einer hochtemperaturfesten Keramik oder Metalllegierung gebildet werden (z. B. resistent bei 100 °C oder höher). Synthetisches Cordierit ist ein keramisches Magnesium-Aluminiumsilicat-Material, geeignet zur Verwendung als monolithisches Substrat 32. Eine ferritische Eisen-Chrom-AluminiumLegierung ist ein Beispiel einer Metalllegierung, die zur Verwendung als monolithisches Substrat 32 geeignet ist. Das monolithische Substrat 32 weist eine wabenförmige oder andere dreidimensionale Struktur auf.
- Eine vergrößerte Ansicht eines Teils des monolithischen Substrats 32 ist in
6B dargestellt. Das monolithische Substrat 32 beinhaltet eine große Anzahl von parallelen Strömungskanälen 34 zur Bildung eines ausreichenden Kontaktbereichs zwischen Abgas 35 und Katalysator 10 (in der Beschichtung 36 enthalten), ohne dass Überdruckverluste entstehen. - Die Beschichtung 36 beinhaltet den 10 hierin offenbarten Katalysator. In manchen Fällen kann die Beschichtung 36 auch ein Bindemittelmaterial (z. B. Sol-Bindern oder dergleichen) sein. Die Beschichtung 36 kann auf das monolithische Substrat 32 durch Washcoating oder ähnliche Verfahren aufgetragen werden.
- Zurück mit Verweis auf
6A ist das monolithische Substrat 32 im Katalysator 30 von einer Matte 38 umgeben, die wiederum von Isolation 40 umgeben ist. Die obere und untere Schale 42, 44 (aus Metall) können zwischen der Matte 38 und der Isolierung 40 angeordnet werden. Eine Isolierabdeckung 46 kann über der oberen Schale 42 und der darauf liegenden Isolierung 40 angebracht werden, und eine Abschirmung 48 kann angrenzend an der unteren Schale 44 und der Isolierung 40 angebracht werden. - Der Katalysator 30 kann einen Dieseloxidationskatalysator (DOC) sein, der bei einem Dieselmotor eingesetzt wird. Der DOC ist ein Zweiwegkatalysator, der Kohlenwasserstoffe und CO durch Oxidieren jeweils zu Wasser und CO2 eliminiert. Der DOC kann während der Kaltstarttemperaturperiode auch eine NOx-Speicherfähigkeit aufweisen. In derartigen Dieselmotoren kann die Reduktion von NOx zu Wasser und N2 in einer separaten Einheit erfolgen und auch die Einspritzung von Harnstoff in die Abgase einbeziehen.
- Der Fahrzeugkatalysator 30 kann auch ein Dreiwegkatalysator (TWC) sein, der bei einem stöchiometrischen Ottomotor eingesetzt wird. Der TWC ist eine Dreiwegkatalysator, der NOx zu N2 und HC und CO jeweils zu Wasser und CO2 oxidiert.
- Es ist selbstverständlich, dass die hierin dargestellten Bereiche den angegebenen Bereich und einen beliebigen Wert oder Teilbereich innerhalb des angegebenen Bereichs beinhalten. So ist beispielsweise ein Bereich von 900 °C bis etwa 1000 °C so auszulegen, dass er nicht nur die ausdrücklich angegebenen Grenzen von 900 °C bis etwa 1000 °C beinhaltet, sondern auch Einzelwerte wie 925 C, 980 °C usw. sowie Teilbereiche von 915 °C bis etwa 975 °C usw. Weiterhin, wenn „etwa“ verwendet wird, um einen Wert zu beschreiben, ist dies in der Weise zu verstehen, das geringfügige Variationen des angegebenen Wertes umfasst werden (bis zu +/- 10 %).
- Die Bezugnahme in dieser Beschreibung auf „ein Beispiel“, „ein weiteres Beispiel“, „Beispiel“ usw. bedeutet, dass ein bestimmtes Element (z. B. Merkmal, Struktur und/oder Eigenschaft), die in Verbindung mit dem Beispiel beschrieben ist, in zumindest einem hier beschriebenen Beispiel enthalten ist und in anderen Beispielen vorhanden sein kann oder nicht. Darüber hinaus versteht es sich, dass die beschriebenen Elemente für jedes Beispiel in jeder geeigneten Weise in den verschiedenen Beispielen kombiniert werden können, sofern der Zusammenhang nicht eindeutig etwas anderes vorschreibt.
- Beim Beschreiben und Beanspruchen der hier offenbarten Beispiele schließen die Singularformen „ein“, „eine“ und „der/die/das“ Mehrzahlbezüge ein, sofern der Zusammenhang nicht eindeutig etwas anderes vorschreibt.
- Zwar wurden mehrere Beispiele im Detail beschrieben, es versteht sich jedoch, dass die offenbarten Beispiele abgewandelt werden können. Daher ist die vorstehende Beschreibung als nicht einschränkend anzusehen.
Claims (7)
- Verfahren zur Verhinderung der Alterung von Platingruppenmetall-(PGM)-Partikeln (16) in einem Katalysator (10), das Verfahren umfassend: das Aufbringen von PGM-Partikeln (16) auf einen Träger (18); das Passivieren einer Oberfläche der PGM-Partikel (16) durch Beaufschlagen der PGM-Partikel (16) mit Kohlenmonoxid bei einer Temperatur von 200 °C oder darunter zur Zuführung von -CO Gruppen zu der Oberfläche; und das Durchführen von Atomlagenabscheidung (ALD) zum selektiven Aufbau einer Barriere (24) rund um die PGM-Partikel auf dem Träger (18), wobei das Verfahren vor dem Passivieren ferner beinhaltet: das Beaufschlagen der PGM-Partikel (16) mit einem Reduktionsgas bei einem Temperaturbereich von etwa 150 °C bis etwa 500 °C zur Eliminierung von -O-Atomen und - OH-Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel (16), wobei das Reduktionsgas aus einer aus Wasserstoff, Ammoniak, wasserfreiem Ammoniak, wässrigem Ammoniak, Harnstoff und Mischungen dieser Stoffe bestehenden Gruppe ausgewählt wird; oder das Beaufschlagen der PGM-Partikel (16) mit Kohlenmonoxid bei einer Temperatur von über 200 °C zur Eliminierung von -O-Atomen und -OH-Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel (16), während die -O-Atome und/oder -OH-Gruppen auf der Oberfläche (18a) des Trägers (18) intakt bleiben und zur Bildung einer ersten Schicht der Barriere (24) herangezogen werden.
- Verfahren nach
Anspruch 1 , worin das Passivieren, als Vorbehandlung vor der Durchführung mehrerer ALD-Zyklen ausgeführt wird. - Verfahren nach
Anspruch 1 , worin das Ausführen der ALD beinhaltet: das Ausführen, unmittelbar nach dem Passivieren der Oberfläche, eines ersten ALD-Zyklus zur Bildung einer ersten Barriereschicht (24A), wobei der erste ALD-Zyklus einen Metalloxid-Vorläufer-Impuls und einen Wasser-Impuls beinhaltet, bei welchen Metalloxid-Vorläufer beziehungsweise Wasserdampf in Form einer Reihe von aufeinanderfolgenden, sich nicht überlappenden Impulsen eingeführt werden; und danach das Ausführen eines abgewandelten ALD-Zyklus zur Bildung aller nachfolgenden Barriereschichten (24B, 24C, 24D), worin der abgewandelte ALD-Zyklus einen CO Impuls beinhaltet, gefolgt von einem Metalloxid-Vorläufer-Impuls, gefolgt von einem Wasser-Impuls. - Verfahren nach
Anspruch 1 , worin das Reduktionsgas in einer Menge von etwa 2 Vol.-% bis 100 Vol.-% vorhanden ist und worin das Reduktionsgas in einem Trägergas mitgeführt wird, wenn die Menge des Reduktionsgases unter 100 Vol.-% liegt, ausgewählt aus einer aus Ar, He, Ne, Kr, Xe, Rn, und N2 bestehenden Gruppe. - Verfahren nach
Anspruch 1 , das ferner das Eliminieren der -CO Gruppen aus der Oberfläche der PGM-Partikel (16) umfasst, nachdem die Barriere (24) ausgebildet ist. - Verfahren nach
Anspruch 1 , worin das Kohlenmonoxid in einer Menge von etwa 2 Vol.-% bis 100 Vol.-% vorhanden ist und worin das Kohlenmonoxid in einem Trägergas mitgeführt wird, wenn die Menge des Kohlenmonoxids unter 100 Vol.-% liegt, ausgewählt aus einer aus Ar, He, Ne, Kr, Xe, Rn, und N2 bestehenden Gruppe. - Verfahren nach
Anspruch 1 , worin: die ALD mit einem Metalloxid-Vorläufer ausgeführt wird, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Trimethylaluminium, Triisobutylaluminium, tris(dimethylamido)-Aluminium(III) Aluminium-tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat), bis(cyclopentadienyl)Zirconium-(IV)-Dihydrid, tris(i-propylclopentadienyl)-Cerium, bis(methyl-η5-cyclopentadienyl)methoxymethyl-Zirconium, dimethylbis(pentamethylcyclopentadienyl)-Zirconium(IV), tetrakis(dimethylamido)-Zirconium(IV) tetrakis(ethylmethylamido)-Zirconium(IV), Dibutoxid(bis-2,4-pentanedionat)-Lösung, Zirconium-(IV)-2-Ethylhexanoat, Zirkonium-tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat), (3-aminopropyl)triethoxysilane, N-sec-butyl(trimethylsilyl)amin, Chlorpentamethyldisilan, 1,2-dichlorotetramethyldisilan, 1,3-diethyl-1,1,3,3-tetramethyldisilazan, 1,2-dimethyl-1,1,2,2-tetraphenyldisilan, dodecamethylcyclohexasilan, Hexamethyldisilan, 2,4,6,8,10-pentamethylcyclopentasiloxan, Pentamethyldisilan, Silizium-Tetrabromid, Silizium-Titantetrachlorid, Tetraethylensilan, 2,4,6,8-tetramethylcyclotetrasiloxan, 1,1,2,2-tetramethyldisilan, Tetramethylsilan, N,N',N''-tri-tert-butylsilanetriamin, tris(tert-butoxy)-Silanol, tris(tert-pentoxy)-Silanol, tetrakis(diethylamido)-Titan(IV), tetrakis(dimethylamido)-Titan(IV), tetrakis(ethylmethylamido)-Titan(IV), Titan(IV) Diisopropoxidebis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat), Titan(IV)- isopropoxid, Titantetrachlorid, bis(cyclopentadienyl)-Magnesium(II), bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Magnesium, bis(pentafluorophenyl)-Zink, bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)zinc(II), Diethylzink, Barium bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate)-Hydrat, Bariumnitrat, bis(pentamethylcyclopentadienyl)-Barium-Tetrahydrofuran-Addukt, bis(triisopropylcyclopentadienyl)-Barium-Tetrahydrofuran-Addukt, Kalzium-bis(6,6,7,7,8,8,8,-heptafluoro-2,2-dimethyl-3,5-octanedionat), Kalziumbis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionat), und Kombinationen daraus; oder die ALD mit einem Metallmischoxid-Vorläufer ausgeführt wird, einschließlich eines Lanthan-Vorläufers und eines anderen Metalloxid-Vorläufers, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Eisen-Vorläufer, einem Aluminium-Vorläufer, einem Cer/Zirkon-Vorläufer, einem Strontium-Vorläufer, einem Mangan-Vorläufer, einem Kobalt-Vorläufer und Kombinationen daraus.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562245544P | 2015-10-23 | 2015-10-23 | |
US62/245,544 | 2015-10-23 | ||
US15/276,154 | 2016-09-26 | ||
US15/276,154 US10422036B2 (en) | 2015-10-23 | 2016-09-26 | Suppressing aging of platinum group metal particles in a catalytic converter |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102016220413A1 DE102016220413A1 (de) | 2017-04-27 |
DE102016220413B4 true DE102016220413B4 (de) | 2023-03-09 |
Family
ID=58490549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102016220413.0A Active DE102016220413B4 (de) | 2015-10-23 | 2016-10-18 | Unterdrücken der alterung von metallpartikeln der platingruppe in einem katalysator |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10422036B2 (de) |
CN (1) | CN106607103B (de) |
DE (1) | DE102016220413B4 (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10422036B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-09-24 | GM Global Technology Operations LLC | Suppressing aging of platinum group metal particles in a catalytic converter |
WO2018049067A1 (en) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Atomic layer deposition with passivation treatment |
US10159960B2 (en) | 2016-10-25 | 2018-12-25 | GM Global Technology Operations LLC | Catalysts with atomically dispersed platinum group metal complexes |
US10035133B2 (en) | 2016-10-25 | 2018-07-31 | GM Global Technology Operations LLC | Catalysts with atomically dispersed platinum group metal complexes and a barrier disposed between the complexes |
US10562017B2 (en) | 2017-01-05 | 2020-02-18 | GM Global Technology Operations LLC | Ion adsorption of oxide layers to hinder catalyst sintering |
US10376872B2 (en) | 2017-01-05 | 2019-08-13 | GM Global Technology Operations LLC | Solution-based approach to make porous coatings for sinter-resistant catalysts |
US10596563B2 (en) | 2017-01-27 | 2020-03-24 | GM Global Technology Operations LLC | Sinter-resistant stable catalyst systems by trapping of mobile platinum group metal (PGM) catalyst species |
CN108470832B (zh) * | 2018-01-16 | 2021-12-21 | 华中科技大学鄂州工业技术研究院 | 高稳定性钙钛矿薄膜及其制备方法 |
US10919026B2 (en) | 2018-08-07 | 2021-02-16 | GM Global Technology Operations LLC | Methods for preparing catalyst systems |
US10695749B2 (en) | 2018-08-07 | 2020-06-30 | GM Global Technology Operations LLC | Sinter-resistant catalyst systems |
CN113058598A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-07-02 | 北京工业大学 | 一种改进的ALD方法沉积CeO2的方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006192357A (ja) | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化用触媒 |
GB2455993A (en) | 2007-12-28 | 2009-07-01 | Hauzer Techno Coating Bv | Article coated by ALD and CVD/PVD |
DE102009010279A1 (de) | 2008-02-27 | 2009-10-01 | GM Global Technology Operations, Inc., Detroit | Kostengünstige bipolare Brennstoffzellenplatte und Verfahren zur Herstellung derselben |
Family Cites Families (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1090216A (zh) | 1992-08-28 | 1994-08-03 | 联合碳化化学品及塑料技术公司 | 来自内燃机及固定排放源的动力设备的废气的处理用催化剂 |
US5856263A (en) | 1992-08-28 | 1999-01-05 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Catalysts comprising substantially pure alpha-alumina carrier for treating exhaust gases |
JP3314897B2 (ja) | 1994-08-03 | 2002-08-19 | トヨタ自動車株式会社 | 排気ガス浄化用触媒の製造方法 |
US6022825A (en) | 1998-01-08 | 2000-02-08 | Johnson Matthey Public Limited Company | Thermally durable low H2 S three-way catalysts |
EP1250952A1 (de) | 2001-04-18 | 2002-10-23 | OMG AG & Co. KG | Katalysator sowie Filter und Verfahren zur Beseitigung von Russpartikeln aus dem Abgas eines Dieselmotors |
BR0114205A (pt) | 2000-09-29 | 2003-10-07 | Omg Ag & Co Kg | Filtro de fuligem catalìtico e seu uso no tratamento de gases de descarga pobres |
US20020082163A1 (en) | 2000-12-22 | 2002-06-27 | Yan Jiyang | Reverse-layered, catalyzed adsorber system |
JP5031168B2 (ja) | 2002-08-22 | 2012-09-19 | 株式会社デンソー | 触媒体 |
JP3867232B2 (ja) | 2004-03-25 | 2007-01-10 | 株式会社 東北テクノアーチ | 触媒ナノ粒子 |
US20090170693A1 (en) | 2005-11-30 | 2009-07-02 | Shigeru Ikeda | Catalyst Included in Hollow Porous Capsule and Method for Producing the Same |
EP2059360B1 (de) | 2006-08-30 | 2019-04-17 | Umicore AG & Co. KG | Kern-/schalen-katalysatorteilchen und verfahren zu ihrer herstellung |
US8158195B2 (en) | 2007-02-09 | 2012-04-17 | Nissan Motor Co., Ltd. | Catalytic converter and manufacturing method thereof |
US8038951B2 (en) | 2007-08-09 | 2011-10-18 | Basf Corporation | Catalyst compositions |
DE102007047434A1 (de) | 2007-10-04 | 2009-04-09 | Bayer Technology Services Gmbh | Sinterstabiler Katalysator für die Hydrierung und Dehydrierungen und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2009247968A (ja) | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Denso Corp | 触媒材料の製造方法およびそれによって製造される触媒材料ならびに触媒体 |
US8377400B2 (en) | 2008-10-03 | 2013-02-19 | GM Global Technology Operations LLC | Methods and systems for oxidizing nitric oxide in a gas stream |
US8268274B2 (en) | 2008-10-03 | 2012-09-18 | GM Global Technology Operations LLC | Catalyst combinations and methods and systems for oxidizing nitric oxide in a gas stream |
US7964167B2 (en) | 2008-10-03 | 2011-06-21 | GM Global Technology Operations LLC | Method and architecture for oxidizing nitric oxide in exhaust gas from hydrocarbon fuel source with a fuel lean combustion mixture |
DE102008060259A1 (de) | 2008-12-03 | 2010-06-10 | Bayer Technology Services Gmbh | Katalysator für Oxidationsreaktionen in Gegenwart von Chlorwasserstoff und/oder Chlor und Verfahren zu dessen Herstellung, sowie dessen Verwendung |
US8211392B2 (en) | 2009-01-16 | 2012-07-03 | Basf Corporation | Diesel oxidation catalyst composite with layer structure for carbon monoxide and hydrocarbon conversion |
US8409518B2 (en) | 2009-03-16 | 2013-04-02 | GM Global Technology Operations LLC | Sulfur tolerant perovskite supported catalysts |
US8513155B2 (en) | 2009-03-16 | 2013-08-20 | GM Global Technology Operations LLC | Perovskite-type compounds for use in lean NOx traps |
KR20110001004A (ko) | 2009-06-29 | 2011-01-06 | 주식회사 엑스에프씨 | 연료전지용 촉매 및 이를 포함하는 저가습 막전극 집합체 |
CN101602017B (zh) | 2009-07-22 | 2011-08-24 | 大连理工大学 | 利用低温等离子体制备负载型金属催化剂的方法 |
US8343888B2 (en) | 2009-10-01 | 2013-01-01 | GM Global Technology Operations LLC | Washcoating technique for perovskite catalysts |
US8618010B2 (en) | 2009-11-24 | 2013-12-31 | Exxonmobil Research And Engineering Company | Interstitial metal hydride catalyst activity regeneration process |
KR101092606B1 (ko) | 2009-12-22 | 2011-12-13 | 한국과학기술연구원 | 중공 구조를 가진 금속 및 금속산화물 나노 섬유와 그 제조방법 |
WO2011127095A2 (en) | 2010-04-05 | 2011-10-13 | Gonano Technologies, Inc. | Catalytic converters, insert materials for catalytic converters, and methods of making |
JP2011230104A (ja) | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化触媒及びその製造方法 |
JP5806536B2 (ja) | 2010-07-23 | 2015-11-10 | 川研ファインケミカル株式会社 | 触媒前駆体分散液、触媒及び排気ガスの浄化方法 |
US8349761B2 (en) | 2010-07-27 | 2013-01-08 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Dual-oxide sinter resistant catalyst |
US8057767B1 (en) | 2010-08-10 | 2011-11-15 | GM Global Technology Operations LLC | Base metal oxides oxidation catalyst |
US8404201B2 (en) | 2010-08-10 | 2013-03-26 | GM Global Technology Operations LLC | Mn, Ce and Zr mixed oxides oxidation catalyst |
US20120042631A1 (en) | 2010-08-20 | 2012-02-23 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Catalyst materials for ammonia oxidation in lean-burn engine exhaust |
US8466083B2 (en) | 2010-08-27 | 2013-06-18 | GM Global Technology Operations LLC | Bi-functional catalyst materials for lean exhaust NOx reduction |
US8539760B2 (en) | 2010-09-14 | 2013-09-24 | GM Global Technology Operations LLC | Catalyst materials for NOx oxidation in an exhaust aftertreatment system that uses passive ammonia SCR |
US8226915B2 (en) | 2010-11-29 | 2012-07-24 | GM Global Technology Operations LLC | Coated perovskite-based catalysts, catalyst combinations and methods of treating a gas stream |
US8318119B2 (en) | 2010-12-17 | 2012-11-27 | GM Global Technology Operations LLC | Method for preparing perovskite oxide-based catalyst particles |
US8943811B2 (en) | 2010-12-22 | 2015-02-03 | GM Global Technology Operations LLC | Perovskite-based catalysts, catalyst combinations and methods of making and using the same |
US9732687B2 (en) | 2010-12-22 | 2017-08-15 | GM Global Technology Operations LLC | Perovskite oxide compounds for use in exhaust aftertreatment systems |
US8545779B2 (en) | 2011-01-13 | 2013-10-01 | GM Global Technology Operations LLC | Sulfur-tolerant perovskite NOx oxidation catalysts |
US8959894B2 (en) | 2011-03-24 | 2015-02-24 | GM Global Technology Operations LLC | Manganese-based oxides promoted lean NOx trap (LNT) catalyst |
US9186654B2 (en) | 2011-11-03 | 2015-11-17 | GM Global Technology Operations LLC | Low cost lean NOx reduction catalyst system |
GB2497597A (en) | 2011-12-12 | 2013-06-19 | Johnson Matthey Plc | A Catalysed Substrate Monolith with Two Wash-Coats |
US8920756B2 (en) | 2012-05-07 | 2014-12-30 | GM Global Technology Operations LLC | Silver promoted close-coupled NOx absorber |
KR102068969B1 (ko) | 2012-06-06 | 2020-01-22 | 우미코레 아게 운트 코 카게 | 가솔린 미립자 필터의 업스트림에 사용하기 위한 시동 촉매 |
US9533286B2 (en) | 2012-08-21 | 2017-01-03 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Sinter resistant catalytic material and process of producing the same |
US8992869B2 (en) | 2012-12-20 | 2015-03-31 | Caterpillar Inc. | Ammonia oxidation catalyst system |
KR20160061367A (ko) * | 2013-09-23 | 2016-05-31 | 에스디씨머티리얼스, 인코포레이티드 | 고 표면적 촉매 |
EP3077084B1 (de) | 2013-12-06 | 2019-02-06 | Johnson Matthey Public Limited Company | Kaltstartkatalysator und dessen verwendung in abgasanlagen |
US9446395B2 (en) | 2014-02-19 | 2016-09-20 | Ford Global Technologies, Llc | Low temperature catalyst/hydrocarbon trap |
US9744529B2 (en) | 2014-03-21 | 2017-08-29 | Basf Corporation | Integrated LNT-TWC catalyst |
US20150361913A1 (en) | 2014-06-14 | 2015-12-17 | GM Global Technology Operations LLC | Method and apparatus for controlling an internal combustion engine with a lambda sensor |
US9863922B2 (en) | 2014-10-29 | 2018-01-09 | GM Global Technology Operations LLC | NOx sensor calibration and application in lean NOx trap aftertreat systems |
US9597635B2 (en) | 2014-12-04 | 2017-03-21 | GM Global Technology Operations LLC | Zeolite promoted silver based catalyst for NOx storage |
US10145281B2 (en) | 2015-01-29 | 2018-12-04 | GM Global Technology Operations LLC | Synergistic combinations of low temperature NOx adsorbers |
US10422036B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-09-24 | GM Global Technology Operations LLC | Suppressing aging of platinum group metal particles in a catalytic converter |
-
2016
- 2016-09-26 US US15/276,154 patent/US10422036B2/en active Active
- 2016-10-18 DE DE102016220413.0A patent/DE102016220413B4/de active Active
- 2016-10-19 CN CN201610908992.7A patent/CN106607103B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006192357A (ja) | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Toyota Motor Corp | 排ガス浄化用触媒 |
GB2455993A (en) | 2007-12-28 | 2009-07-01 | Hauzer Techno Coating Bv | Article coated by ALD and CVD/PVD |
DE102009010279A1 (de) | 2008-02-27 | 2009-10-01 | GM Global Technology Operations, Inc., Detroit | Kostengünstige bipolare Brennstoffzellenplatte und Verfahren zur Herstellung derselben |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106607103B (zh) | 2019-08-27 |
US10422036B2 (en) | 2019-09-24 |
DE102016220413A1 (de) | 2017-04-27 |
CN106607103A (zh) | 2017-05-03 |
US20170114458A1 (en) | 2017-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102016220413B4 (de) | Unterdrücken der alterung von metallpartikeln der platingruppe in einem katalysator | |
DE102016219133A1 (de) | Abgaskatalysatoren mit altersunterdrückenden Katalysatoren | |
DE69936631T2 (de) | Mehrschichtiger Edelmetall-enthaltender Abgaskatalysator und seine Herstellung | |
DE102017124761A1 (de) | Katalysatoren mit atomar dispergierten platingruppenkomplexen und einer zwischen den komplexen angeordneten barriere | |
DE102017124764A1 (de) | Katalysatoren mit atomar dispergierten komplexen der platingruppe | |
EP2054153B1 (de) | Katalytisch beschichteter dieselpartikelfilter, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung | |
DE60111282T2 (de) | Seltene Erde enthaltende Dreiwegkatalysatoren | |
DE69825908T2 (de) | Katalysators für brennkraftmaschine mit magergemischverbrennung | |
EP1181970B1 (de) | Abgasreinigungskatalysator für motornahen Einsatz und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE102017214566A1 (de) | Abgaskatalysatoren mit altersunterdrückenden katalysatoren | |
EP2414079B1 (de) | Alterungsstabiler katalysator zur oxidation von no zu no2 in abgasströmen | |
DE19908394A1 (de) | Katalysatormaterial und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE202007019526U1 (de) | NOx-Speichermaterialien und -Fallen, die gegenüber Wärmealterung beständig sind | |
DE102016219132A1 (de) | Niedertemperatur-Oxidationskatalysatoren | |
DE2317536A1 (de) | Verfahren zum herstellen von edelmetallkatalysatoren | |
DE112014005210T5 (de) | Abgasreinigungskatalysator | |
DE2712009A1 (de) | Verfahren zum katalytischen reinigen von gasfoermigen medien | |
DE60030198T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Dreiwegkatalysators | |
DE69932387T2 (de) | Stickoxidfallenkatalysator für Verbrennungskraftmaschinen mit Magergemischverbrennung | |
DE102016218365A1 (de) | Bilden von altersunterdrückenden katalysatoren | |
DE102016218366A1 (de) | Abgaskatalysatoren mit altersunterdrückenden katalysatoren | |
DE69918395T2 (de) | Sol-Gel-hergestellte Metalloxide auf Aluminiumoxidbasis zur Absorption von Stickoxiden in oxidierendem Abgas | |
DE3826155C2 (de) | ||
DE19713432A1 (de) | Material für einen Abgasreinigungskatalysator, ein dieses Material enthaltender Abgasreinigungskatalysator und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP2382041B1 (de) | Vanadiumfreier diesel-oxidationskatalysator und vefahren zu dessen herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R082 | Change of representative |
Representative=s name: MANITZ FINSTERWALD PATENT- UND RECHTSANWALTSPA, DE Representative=s name: MANITZ FINSTERWALD PATENTANWAELTE PARTMBB, DE |
|
R016 | Response to examination communication | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final |