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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleitervorrichtung
und insbesondere auf eine Halbleitervorrichtung mit einem Guardring
(Feldbegrenzungsring).
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Im
Allgemeinen ist bei einer Leistungshalbleitervorrichtung eine Fähigkeit,
eine hohe Durchbruchsspannung bezüglich der Hauptspannung
aufrecht zu erhalten, erforderlich. Für solch eine Aufrechterhaltung
der Durchbruchsspannung werden im Allgemeinen Guardringstrukturen
verwendet. Grundlegende Strukturen und Aufbauten, in denen diese angewendet
werden, sind beispielsweise in dem folgenden Dokument oder ähnlichen
offenbart:
B. Jayant Baliga, "Power Semiconductor
Devices", USA, PWS PUBLISHING COMPANY, Seite 98–103
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Eine
Guardringstruktur wird mit einer Verunreinigungsregion auf einem
schwebenden Potential, die einen Emitter umgibt, vorgesehen zum
Verringern des elektrischen Feldes an der Oberfläche und
zum Aufrechterhalten einer Durchbruchsspannung.
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Wenn
Guardringe bis hin zum Ende eines Halbleitersubstrates vorgesehen
werden, gelangt eine elektrische Feldspitze in dem Halbleitersubstrat in
die Nähe seines Zentralabschnitts, in dem eine Elementausbildungsregion
vorgesehen ist. Daher werden die Guardringe nicht bis zum Ende des
Halbleitersubstrates hin ausgebildet.
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Abstände
zwischen den Guardringen werden so eingestellt, dass eine elektrische
Feldspitze unmittelbar unterhalb einer Guardringelektrode, die an
dem äußersten Guardring angebracht ist, maximal
ist. Leider begrenzt dies die Verbesserung der Durchbruchsspannung
unmittelbar unterhalb der an dem äußersten Guardring
angebrachten Guardringelektrode.
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Ferner
erfordert der Guardringaufbau leider eine große Fläche
zum Aufrechterhalten der Durchbruchsspannung.
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Die
vorliegende Erfindung wurde im Lichte des vorstehenden Problems
durchgeführt und ihre Aufgabe ist das Vorsehen einer Halbleitervorrichtung,
welche eine Stabilisierung der Durchbruchsspannung erlaubt.
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Die
Aufgabe wird gelöst durch eine Halbleitervorrichtung nach
Anspruch 1. Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
beschrieben.
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Eine
Halbleitervorrichtung der vorliegenden Erfindung beinhaltet: ein
Halbleitersubstrat mit einer Hauptoberfläche mit einer
Elementausbildungsregion; einen Guardring (Feldbegrenzungsring),
der in der Hauptoberfläche des Halbleitersubstrates so ausgebildet
ist, dass er einen Umfang der Elementausbildungsregion bei Betrachtung
in einer Draufsicht umgibt; eine Guardringelektrode, die auf der Hauptoberfläche
des Halbleitersubstrates ausgebildet ist und elektrisch mit dem
Guardring verbunden ist; eine Kanal-Stopperregion, die in der Hauptoberfläche
des Halbleitersubstrates so ausgebildet ist, dass sie bei Betrachtung
in der Draufsicht außerhalb des Guardrings angeordnet ist;
eine Kanal-Stopperelektrode, die auf der Hauptoberfläche
des Halbleitersubstrates ausgebildet ist und elektrisch mit der
Kanal-Stopperregion verbunden ist; und eine Feldplatte, die über
dem Halbleitersubstrat angeordnet ist und von diesem isoliert ist,
wobei die Feldplatte einen ersten Abschnitt aufweist, der zwischen
der Hauptoberfläche des Halbleitersubstrates und der Guardringelektrode
angeordnet ist, und einen zweiten Abschnitt, der zwischen der Hauptoberfläche
des Halbleitersubstrates und der Kanal-Stopperelektrode angeordnet ist,
wobei der erste Abschnitt einen Abschnitt aufweist, der bei Betrachtung
in der Draufsicht mit der Guardringelektrode überlappt,
und der zweite Abschnitt einen Abschnitt aufweist, der mit der Kanal-Stopperelektrode
bei Betrachtung in der Draufsicht überlappt.
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Gemäß der
vorliegenden Erfindung beinhaltet die Feldplatte den ersten Abschnitt,
der zwischen der Hauptoberfläche des Halbleitersubstrates
und der Guardringelektrode angeordnet ist, und den zweiten Abschnitt,
der zwischen der Hauptoberfläche des Halbleitersubstrates
und der Kanal-Stopperelektrode angeordnet ist. Bei Betrachtung in
der Draufsicht weist der erste Abschnitt den Abschnitt auf, der mit
der Guardringelektrode überlappt. Bei Betrachtung in der
Draufsicht weist der zweite Abschnitt den Abschnitt auf, der mit
der Kanal-Stopperelektrode überlappt. Folglich kann die
Feldplatte kapazitiv an die Guardringelektrode und die Kanal-Stopperelektrode
angekoppelt werden zum Verhindern einer Feldlinienkonzentration
des elektrischen Feldes unmittelbar unterhalb der Guardringelektrode,
die an den äußersten Guardring angebracht ist.
Somit kann eine stabilisierte Durchbruchsspannung erhalten werden.
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Weitere
Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben
sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen unter
Bezugnahme auf die Zeichnungen. Von den Figuren zeigen:
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1 eine
Draufsicht, die in schematischer Weise eine Halbleitervorrichtung
bei einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
zeigt,
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2 eine
schematische Querschnittsansicht entlang einer Linie II-II von 1,
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3 eine
Draufsicht, die in schematischer Weise eine Halbleitervorrichtung
bei einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
zeigt,
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4 eine
schematische Querschnittsansicht entlang einer Linie IV-IV von 3,
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5 eine
schematische Querschnittsansicht einer Halbleitervorrichtung einer
dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die
einen Querschnitt entlang der Linie IV-IV von 3 zeigt,
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6 eine
schematische Querschnittsansicht einer Halbleitervorrichtung einer
vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, die
einen Querschnitt entlang der Linie IV-IV von 3 zeigt,
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7 eine
schematische Querschnittsansicht einer Halbleitervorrichtung eines
Vergleichsbeispiels, das einen Querschnitt entlang der Linie IV-IV von 3 zeigt
und
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8 die
Verteilung des elektrischen Feldes an der Oberfläche (elektrisches
Feld und Abstand) bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung und bei dem Vergleichsbeispiel.
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Erste Ausführungsform
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Zunächst
wird eine Konfiguration einer Halbleitervorrichtung einer ersten
Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beschrieben.
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Bezug
nehmend auf 1 und 2 weist eine
Halbleitervorrichtung 20 der vorliegenden Ausführungsform
hauptsächlich ein Halbleitersubstrat 1, eine Kollektorelektrode 5,
eine Feldoxidschicht 6, eine Emitterelektrode 7a,
Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e,
eine Kanal-Stopperelektrode 7f und Feldplatten 9a, 9b, 10 auf.
Aus Gründen der besseren Darstellung ist in 1 eine
Passivierungsschicht 8 nicht gezeigt.
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Hauptsächlich
Bezug nehmend auf 1 hat die Halbleitervorrichtung 20 bei
Betrachtung in der Draufsicht einen Zentralabschnitt, der mit einer Ausbildungsregion 14 für
ein Leistungshalbleiterelement, wie zum Beispiel einen IGBT (Bipolartransistor mit
isoliertem Gate) versehen ist. Bei Betrachtung in der Draufsicht
sind die Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e so
ausgebildet, dass sie einen Umfang der Elementausbildungsregion 14 umgeben.
Bei Betrachtung in der Draufsicht sind die Feldplatte 10 und die
Kanal-Stopperelektrode 7f so ausgebildet, dass sie den
Umfang der Guardringelektrode 7e umgeben.
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Hauptsächlich
Bezug nehmend auf 2 weist das Halbleitersubstrat 1 ein
n–-Substrat 1b, eine p-Typ-Einbettungsschicht 2a,
Guardringe 2b, 2c, 2d, 2e, eine
Kanal-Stopperregion 3 und eine n-Typ-Pufferschicht 4 auf.
Das Halbleitersubstrat 1 hat eine Hauptoberfläche 1a.
In der Hauptoberfläche 1a des Halbleitersubstrates 1 sind
die p-Typ-Einbettungsschicht 2a, die Guardringe 2b, 2c, 2d, 2e und die
Kanal-Stopperregion 3 ausgebildet.
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Die
eingebettete p-Typ-Schicht 2a ist in der Elementausbildungsregion 14 ausgebildet
und bildet beispielsweise eine Basisregion des IGBT. Eine Grenze
zwischen der p-Typ-Einbettungsschicht 2a und dem n–-Substrat 1b bildet einen
Hauptübergang.
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Die
Guardringe 2b, 2c, 2d, 2e sind
vorgesehen zum Aufrechterhalten der Durchbruchsspannung. Die Kanal-Stopperregion 3 ist
außerhalb des äußersten Guardrings 2e ausgebildet.
Die Kanal-Stopperregion 3 ist vorgesehen, um zu verhindern,
dass sich eine Verarmungsschicht zu dem Ende der Hauptoberfläche 1a (bzw.
dem Rand des Substrates) erstreckt.
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Auf
dem Halbleitersubstrat 1 und über diesem sind
eine Feldoxidschicht 6 und eine Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 ausgebildet.
Auf der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 sind eine Emitterelektrode 7a,
Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e und eine
Kanal-Stopperelektrode 7f ausgebildet. Die Emitterelektrode 7a ist
elektrisch mit der p-Typ-Einbettungsschicht 2a über
ein Kontaktloch verbunden, das in der Feldoxidschicht 6 und
der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 vorgesehen ist.
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Die
Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e sind entsprechend
elektrisch mit den Guardringen 2b, 2c, 2d, 2e über
Kontaktlöcher verbunden, die in der Feldoxidschicht 6 und
der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 ausgebildet sind.
Die Kanal-Stopperelektrode 7f ist elektrisch mit der Kanal-Stopperregion 3 über
ein Kontaktloch verbunden, das in der Feldoxidschicht 6 und
der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 vorgesehen ist.
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Zwischen
der Feldoxidschicht 6 und der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 sind
Feldplatten 9a, 9b ausgebildet. Die Feldplatte 9a (erster
Abschnitt) ist zwischen der Hauptoberfläche 1a des
Halbleitersubstrates 1 und der Guardringelektrode 7e angeordnet.
Bei Betrachtung in der Draufsicht weist die Feldplatte 9a (erster
Abschnitt) einen Abschnitt 91 auf, der mit der Guardringelektrode 7e überlappt.
Der Überlappungsabschnitt 91 und die Guardringelektrode 7e bilden
einen Kondensator C1.
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Die
Feldplatte 9b (zweiter Abschnitt) ist zwischen der Hauptoberfläche 1a des
Halbleitersubstrates 1 und der Kanal-Stopperelektrode 7f angeordnet. Bei
Betrachtung in der Draufsicht weist die Feldplatte 9b (zweiter
Abschnitt) einen Abschnitt 92 auf, der mit der Kanal-Stopperelektrode 7f überlappt.
Der Überlappungsabschnitt 92 und die Kanal-Stopperelektrode 7f bilden
einen Kondensator C4.
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Auf
der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 ist die Feldplatte 10 (dritter
Abschnitt) ausgebildet. Die Feldplatte 10 (dritter Abschnitt)
gehört zur gleichen Schicht wie die Guardringelektrode 7e und
die Kanal-Stopperelektrode 7f. Mit anderen Worten, die Feldplatte 10 (dritter
Abschnitt), die Guardringelektrode 7e und die Kanal-Stopperelektrode 7f sind durch
die gleiche Schicht, die beispielsweise aus Aluminium besteht, ausgebildet.
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Weiterhin
weist bei Betrachtung in der Draufsicht die Feldplatte 10 (dritter
Abschnitt) einen Abschnitt 93a auf, der mit der Feldplatte 9a (erster
Abschnitt) überlappt. Der Überlappungsabschnitt 93a und
die Feldplatte 9a bilden einen Kondensator C2. Bei Betrachtung
in der Draufsicht weist die Feldplatte 10 (dritter Abschnitt)
einen Abschnitt 93b auf, der mit der Feldplatte 9b (zweiter
Abschnitt) überlappt. Der Überlappungsabschnitt 93b und
die Feldplatte 9b bilden einen Kondensator C3.
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Die
Feldplatten 9a, 9b, 10 sind elektrisch
isoliert von dem Halbleitersubstrat 1, der Guardringelektrode 7e und
der Kanal-Stopperelektrode 7f.
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Die
Guardringe 2b, 2c, 2d, 2e und
die Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e haben
schwebende Potentiale. Die Guardringelektrode 7e und die
Feldplatte 9a, die Feldplatte 9a und die Feldplatte 10,
die Feldplatte 10 und die Feldplatte 9b, und die
Feldplatte 9b und die Kanal-Stopperelektrode 7f haben schwebende
Potentiale.
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Der
Kondensator C1 stellt eine Koppelkapazität zwischen der
Guardringelektrode 7e und der Feldplatte 9a bereit.
Der Kondensator C4 stellt eine Koppelkapazität zwischen
der Feldplatte 9b und der Kanal-Stopperelektrode 7f bereit.
Der Kondensator C2 liefert eine Koppelkapazität der Feldplatte 9a und der
Feldplatte 10. Der Kondensator C3 liefert eine Koppelkapazität
zwischen der Feldplatte 9b und der Feldplatte 10.
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Es
sollte beachtet werden, dass ein Abstand zwischen dem Halbleitersubstrat 1 und
den Feldplatten 9a, 9b vorzugsweise größer
ist als ein Abstand zwischen den Feldplatten 9a, 9b und
der Feldplatte 10. Dadurch ist die Koppelkapazität
zwischen dem Halbleitersubstrat 1 und den Feldplatten 9a, 9b kleiner
als die Koppelkapazität zwischen den Feldplatten 9a, 9b und
der Feldplatte 10. Dies hält die Potentiale der
Feldplatten 9a, 9b, 10 davon ab, unter
einem Einfluss des Potentials der Hauptoberfläche 1a des Halbleitersubstrates 1 zu
schwanken.
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Die
Passivierungsschicht 8 ist auf der Emitterelektrode 7a,
den Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e,
der Kanal-Stopperelektrode 7f, der Feldplatte 10 und
der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 ausgebildet.
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Das
Halbleitersubstrat 1 hat eine Oberfläche entgegengesetzt
der Hauptoberfläche 1a. Auf dieser Oberfläche
ist die n-Typ-Pufferschicht 4 ausgebildet. Auf der n-Typ-Pufferschicht 4 ist
die Kollektorelektrode 5 ausgebildet.
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Die
Emitterelektrode 7a, die Guardringelektroden 7b, 7c, 7d, 7e,
die Kanal-Stopperelektrode 7f und die Feldplatte 10 sind
beispielsweise aus Aluminium ausgebildet. Die Feldplatten 9a, 9b sind
beispielsweise aus polykristallinem Silizium ausgebildet. Die Materialien,
die verwendet werden können, sind jedoch nicht auf Aluminium
bzw. polykristallines Silizium beschränkt. Die genannten
Strukturen können aus anderen Materialien ausgebildet werden.
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Die
Konfiguration der Halbleitervorrichtung 20 kann unter Verwendung
eines Prozessablaufs für eine allgemeine Halbleitervorrichtung,
wie z. B. einen IGBT, ausgebildet werden. Beispielswei se können
in dem Prozessablauf ein Schritt des Einbettens einer Gateelektrode
und ein Schritt des Ausbildens einer Emitterelektrode angewendet
werden.
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Als
nächstes wird ein Betrieb einer Halbleitervorrichtung der
vorliegenden Ausführungsform beschrieben.
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In
der Halbleitervorrichtung 20 der vorliegenden Ausführungsform
liefert der Kondensator C1 eine Koppelkapazität zwischen
der Guardringelektrode 7e und der Feldplatte 9a.
Der Kondensator C4 liefert eine Koppelkapazität zwischen
der Feldplatte 9b und der Kanal-Stopperelektrode 7f.
Der Kondensator C2 liefert eine Koppelkapazität zwischen
der Feldplatte 9a und der Feldplatte 10. Der Kondensator
C3 liefert eine Koppelkapazität zwischen der Feldplatte 9b und
der Feldplatte 10.
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Auf
diese Weise liefern die Kondensatoren C1–C4 eine Koppelkapazität
der Guardringelektrode 7e, der Feldplatten 9a, 9b, 10 und
der Kanal-Stopperelektrode 7f. Die Guardringelektrode 7e,
die Feldplatten 9a, 9b, 10 und die Kanal-Stopperelektrode 7f haben
höhere Potentiale je weiter außen sie angeordnet
sind.
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Da
die Halbleitervorrichtung 20 der vorliegenden Ausführungsform
mit der Mehrzahl von Guardringen 2b, 2c, 2d, 2e versehen
ist, erstreckt sich die Verarmungsschicht zunächst zu dem
Guardring 2b hin. Dies verringert das elektrische Feld
an einem Eckabschnitt des Hauptübergangs, der an der Grenze
zwischen der p-Typ-Einbettungsschicht 2a und dem n–-Substrat 1b angesiedelt
ist. Die Verarmungsschicht erstreckt sich dann zu dem Guardring 2c hin, wodurch
das elektrische Feld unmittelbar unterhalb der Guardringelektrode 7b,
die an dem Guardring 2b angebracht ist, verringert wird.
Auf diese Weise gestattet die Mehrzahl von Guardringen 2b, 2c, 2d, 2e die
Ausdehnung der Verarmungsschicht zu dem äußersten
Guardring 2e hin, wodurch das elektrische Feld vermindert
wird.
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Es
wird davon ausgegangen, dass in diesem Fall eine elektrische Feldspitze
unmittelbar unterhalb die Guardringelektrode 7e gelangt,
die an dem äußersten Guardring 2e angebracht
ist. Die Feldplatten 9a, 9b, 10 verringern
jedoch die elektrische Feldlinienkonzentration unmittelbar unterhalb
der Guardringelektrode 7e, die an dem äußersten
Guardring 2e angebracht ist, wodurch das Oberflächenpotential des
Halbleitersubstrates 1 stabilisiert wird.
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Im
Folgenden werden Funktionsweisen und Wirkungen der Halbleitervorrichtung
der vorliegenden Erfindung im Vergleich zu einem Vergleichsbeispiel
erläutert.
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Bezug
nehmend auf 7 unterscheidet sich eine Halbleitervorrichtung
des Vergleichsbeispiels von jener der vorliegenden Ausführungsform hauptsächlich
darin, dass keine Feldplatten 9a, 9b, 10 ausgebildet
sind. In der Halbleitervorrichtung 20 des Vergleichsbeispiels
gelangt eine maximale elektrische Feldspitze an einen Punkt X unmittelbar
unterhalb der Guardringelektrode 7e, die an dem äußersten
Guardring 2e angebracht ist.
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Bezug
nehmend auf 8 stellt eine durchgezogene
Linie in dieser Figur die Verteilung des elektrischen Feldes der
Halbleitervorrichtung des Vergleichsbeispiels dar. Eine gestrichelte
Linie in 8 stellt die Verteilung des
elektrischen Oberflächenfeldes der Halbleitervorrichtung
der vorliegenden Ausführungsform dar. Die Kennzeichnung
des Punktes X in der Figur kennzeichnet einen Abstand des Punktes
X und ein elektrisches Feld bei die sem, wobei der Punkt X unmittelbar
unterhalb der Guardringelektrode 7e liegt, die an dem äußersten
Guardring 2e von 7 angebracht
ist. Wie in 8 gezeigt ist, ist bei dem Vergleichsbeispiel
eine elektrische Feldspitze maximal an dem Punkt X.
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Im
Gegensatz dazu ist die Halbleitervorrichtung 20 der vorliegenden
Ausführungsform mit den Feldplatten 9a, 9b, 10 versehen,
die außerhalb der Guardringelektrode 7e, welche
an dem äußersten Guardring 2e angebracht
ist, ausgebildet sind. Zusätzlich liefern die Kondensatoren
C1–C4 eine Koppelkapazität der Guardringelektrode 7e,
der Feldplatten 9a, 9b, 10 und der Kanal-Stopperelektrode 7f. Dies
verringert den Einfluss des elektrischen Feldes unmittelbar unterhalb
der Guardringelektrode 7e, welche an dem äußersten
Guardring 2e angebracht ist, wodurch eine elektrische Feldlinienkonzentration verhindert
wird. Dadurch kann die Durchbruchsspannung erhöht werden.
Auf diese Weise wird eine stabilisierte Durchbruchsspannung erzielt.
Wie in 8 gezeigt, ist eine elektrische Feldspitze nicht
unmittelbar unterhalb der Guardringelektrode 7e, die an
dem äußersten Guardring 2e angebracht
ist, maximal.
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Zusätzlich
erzielt die Halbleitervorrichtung 20 der vorliegenden Ausführungsform
ein stabilisiertes elektrisches Feld zwischen dem äußersten
Guardring 2e und der Kanal-Stopperregion 3. Folglich
kann die Distanz zwischen dem äußerten Guardring 2e und
der Kanal-Stopperregion 3 verringert werden, um eine Verringerung
der Fläche des Halbleitersubstrates 1 zu erzielen.
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Zweite Ausführungsform
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Eine
Halbleitervorrichtung einer zweiten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung unterscheidet sich von der Halbleitervorrichtung
der ersten Ausführungsform hauptsächlich in der
Konfiguration der Feldplatten.
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Bezug
nehmend auf 3 und 4 weist das
Halbleitersubstrat 1 eine Hauptoberfläche 1a auf, über
der Feldplatten 9a, 9b ausgebildet sind mit einer zwischen
die Hauptoberfläche 1a und die Feldplatten 9a, 9b gefügten
Feldoxidschicht 6. Aus Gründen der besseren Darstellung
ist in 3 eine Passivierungsschicht 8 nicht dargestellt.
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Auf
den Feldplatten 9a, 9b ist eine Isolationsschicht 13 ausgebildet,
auf welcher eine Feldplatte 9c (dritter Abschnitt) ausgebildet
ist. Auf der Feldplatte 9c ist eine Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 ausgebildet.
Auf der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 sind eine Guardringelektrode 7e und
eine Kanal-Stopperelektrode 7f ausgebildet. Mit anderen Worten,
die Feldplatte 9c (dritter Abschnitt) ist als eine Schicht
unterhalb (der Ebene) der Guardringelektrode 7e und der
Kanal-Stopperelektrode 7f ausgebildet.
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Bei
Betrachtung in der Draufsicht weist die Feldplatte 9c (dritter
Abschnitt) einen Abschnitt 93a auf, der mit der Feldplatte 9a (erster
Abschnitt) überlappt. Der Überlappungsabschnitt 93a und
die Feldplatte 9a bilden einen Kondensator C2. Bei Betrachtung
in der Draufsicht weist die Feldplatte 9c (dritter Abschnitt)
einen Abschnitt 93b auf, der mit der Feldplatte 9b (zweiter
Abschnitt) überlappt. Der Überlappungsabschnitt 93b und
die Feldplatte 9b bilden einen Kondensator C3.
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Die
Feldplatte 9c ist beispielsweise aus polykristallinem Silizium
ausgebildet, das mit Verunreinigungen in einer hohen Konzentration
dotiert ist.
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Der
restliche Aufbau der vorliegenden Ausführungsform entspricht
jenem der vorangegangenen ersten Ausführungsform. Daher
sind die gleichen Elemente mit den gleichen Bezugszeichen versehen und
eine Beschreibung derselben wird nicht wiederholt.
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Die
Konfiguration der Halbleitervorrichtung 20 kann unter Verwendung
eines Prozessablaufs für eine allgemeine Halbleitervorrichtung
ausgebildet werden. Die Halbleitervorrichtung 20 kann so
ausgebildet werden, dass sie eine gewünschte Struktur hat, indem
die Feldplatten 9a, 9b und die Feldplatte 9c als zwei
Schichten mit einer dazwischengefügten Isolationsschicht 13 ausgebildet
werden.
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Hierdurch
liefert die Halbleitervorrichtung der vorliegenden Ausführungsform
Funktionsweisen und Wirkungen ähnlich jenen der ersten
Ausführungsform.
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Da
die Feldplatten 9a, 9b, 9c so ausgebildet sind,
dass sie in der Feldoxidschicht 6, der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 und
der Isolationsschicht 13 eingeschlossen (enthalten) sind,
können Spannungsfluktuationen verhindert werden, die von
einem Verrutschen des Aluminiums (aluminum slide) herrühren,
was allgemein ein Problem in einem harzvergossenen Chip darstellt.
Der Begriff ”aluminum slide” (Verrutschen des
Aluminiums) bezieht sich hier auf ein Ablösen oder eine
Versetzung einer Aluminiumbahn, die durch eine auf die Aluminiumbahn
wirkende Kraft verursacht werden, die aus einer thermischen Spannung
resultiert, welche durch einen Unterschied im thermischen Ausdehnungskoeffizienten gegenüber
dem Harz entsteht.
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Dritte Ausführungsform
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Eine
Halbleitervorrichtung einer dritten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung unterscheidet sich von der Halbleitervorrichtung
der ersten Ausführungsform in der Konfiguration der Feldplatten.
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Bezug
nehmend auf 5 weist ein Halbleitersubstrat 1 eine
Hauptoberfläche 1a auf, über der die
Feldplatten 9a, 9b ausgebildet sind mit einer Feldoxidschicht 6,
die zwischen die Hauptoberfläche 1a und die Feldplatten 9a, 9b gefügt
ist. Die Feldplatten 9c (dritter Abschnitt) sind (lateral)
zwischen den Feldplatten 9a, 9b ausgebildet und
zwischen ihnen ist eine Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 vorgesehen.
Bei der vorliegenden Ausführungsform sind zwei Feldplatten 9c (dritter
Abschnitt) beschrieben, die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht
hierauf beschränkt. Eine einzige Feldplatte 9c oder
eine Mehrzahl von Feldplatten 9c können vorgesehen
sein. Die Feldplatten 9a, 9b, 9c sind
entlang einer Richtung angeordnet, in der sich die Hauptoberfläche 1a des Halbleitersubstrats 1 erstreckt.
Bei Betrachtung in der Richtung, in der sich die Hauptoberfläche 1a erstreckt, überlappen
die Feldplatten 9a, 9b, 9c mit ihren
benachbarten Feldplatten 9a, 9b, 9c.
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Bei
Betrachtung aus der Richtung, in der sich die Hauptoberfläche 1a erstreckt,
haben die Feldplatten 9c (dritter Abschnitt) einen Abschnitt 93a,
der mit der Feldplatte 9a (erster Abschnitt) überlappt,
also dieser gegenüber liegt. Der Überlap pungsabschnitt 93a und
die Feldplatte 9a bilden einen Kondensator C2. Bei Betrachtung
aus der Richtung, in der die Hauptoberfläche 1a sich
erstreckt, haben die Feldplatten 9c (dritter Abschnitt)
einen Abschnitt 93b, der mit der Feldplatte 9b (zweiter
Abschnitt) überlappt, also dieser gegenüber liegt.
Der Überlappungsabschnitt 93b und die Feldplatte 9b bilden
einen Kondensator C3. Bei Betrachtung in der Richtung, in der sich
die Hauptoberfläche 1a ausdehnt, haben die Feldplatten 9c (dritter
Abschnitt) Abschnitte 93c, die miteinander überlappen,
also einander gegenüber liegen. Die Überlappungsabschnitte 93c,
die einander gegenüberliegen, bilden einen Kondensator
C5.
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Die
Feldplatten 9c sind beispielsweise aus polykristallinem
Silizium ausgebildet, das mit Verunreinigungen in einer hohen Konzentration
dotiert ist.
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Der
restliche Aufbau der vorliegenden Ausführungsform entspricht
jenem der vorstehenden ersten Ausführungsform. Daher sind
die gleichen Elemente mit den gleichen Bezugszeichen versehen und
eine Beschreibung derselben wird nicht wiederholt.
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Die
Konfiguration der Halbleitervorrichtung 20 kann ausgebildet
werden unter Verwendung eines Prozessablaufs für eine allgemeine
Halbleiterverrichtung und die Feldplatten 9a, 9b und
die Feldplatte 9c können als eine einzige Schicht
ausgebildet werden.
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Somit
liefert die Halbleitervorrichtung der vorliegenden Ausführungsform
Funktionsweisen und Wirkungen ähnlich jenen der ersten
Ausführungsform.
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Die
Feldplatten 9a, 9b, 9c sind so ausgebildet,
dass sie in der Feldoxidschicht 6 und der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 enthalten
sind (bzw. durch diese Schichten umschlossen werden) und Spannungsfluktuationen,
die von einem Verrutschen des Aluminiums (”aluminum slide”)
resultieren, können verhindert werden.
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Da
die Feldplatten 9a, 9b und die Feldplatte 9c als
eine Schicht ausgebildet werden können, kann zusätzlich
die Anzahl der Schritte in dem Prozess verringert werden zum Erzielen
vereinfachter Prozessschritte.
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Vierte Ausführungsform
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Eine
Halbleitervorrichtung einer vierten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung unterscheidet sich von der Halbleitervorrichtung
der ersten Ausführungsform in der Konfiguration der Feldplatten.
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Bezug
nehmend auf 6 enthalten die Feldplatten 9a (erster
Abschnitt), 9b (zweiter Abschnitt), 9c (dritter
Abschnitt) eingebettete Elektroden 11a einer oberen Lage
und Elektroden 11b einer unteren Lage. Die eingebetteten
Elektroden einer oberen Lage 11a werden in Kontakt zu der
Oberseite der Elektroden 11b der unteren Lage vorgesehen.
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Das
Halbleitersubstrat 1 hat eine Hauptoberfläche 1a, über
der entsprechende Elektroden einer unteren Lage 11b der
Feldplatten 9a, 9b, 9c ausgebildet sind
mit einer Feldoxidschicht 6, die zwischen die Hauptoberfläche 1a und
die Elektroden der unteren Lage 11b gefügt ist.
Die Elektroden einer unteren Lage 11b sind benachbart zueinander
mit einer dazwischengefügten Isolationsschicht 13 vorgesehen. Die
eingebetteten Elektroden einer oberen Lage 11a sind in
Kontakt mit der Oberseite der Elektroden einer unteren Lage 11b ausgebildet.
Die eingebetteten Elektroden einer oberen Lage 11a sind
benachbart zueinander mit einer dazwischengefügten Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 vorgesehen.
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Bei
der vorliegenden Ausführungsform werden zwei Feldplatten 9c (dritter
Abschnitt) beschrieben. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht
hierauf beschränkt. Eine einzige Feldplatte 9c oder
eine Mehrzahl von Feldplatten 9c kann vorgesehen sein. Die
Feldplatten 9a, 9b, 9c sind entlang einer
Richtung angeordnet, in der sich die Hauptoberfläche 1a des
Halbleitersubstrates 1 erstreckt.
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In
der Richtung, in der sich die Hauptoberfläche 1 erstreckt,
weisen die Feldplatten 9c (dritter Abschnitt) einen Abschnitt 93a auf,
der mit der Feldplatte 9a (erster Abschnitt) überlappt,
also dieser gegenüber liegt. Der Überlappungsabschnitt 93a und
die Feldplatte 9a bilden einen Kondensator C2. In der Richtung,
in der sich die Hauptoberfläche 1a erstreckt,
weisen die Feldplatten 9c (dritter Abschnitt) einen Abschnitt 93b auf,
der mit der Feldplatte 9b (zweiter Abschnitt) überlappt,
also dieser gegenüber liegt. Der Überlappungsabschnitt 93b und
die Feldplatte 9b bilden einen Kondensator C3. Weiterhin weisen
in der Richtung, in der sich die Hauptoberfläche 1a erstreckt,
die Feldplatten 9c (dritter Abschnitt) Abschnitte 93c auf,
die miteinander überlappen, also einander gegenüber
liegen. Die Überlappungsabschnitte 93c, die einander
gegenüber liegen, bilden einen Kondensator C5.
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Jede
der eingebetteten Elektroden einer oberen Lage 11a der
Feldplatten 9a, 9b kann auf einem Abschnitt der
Oberseite jeder der Elektroden der unteren Lage 11b oder
auf dem Gesamtabschnitt der Oberseite derselben, also auf der gesamten
Oberseite, vorge sehen sein. Wenn jede der eingebetteten Elektroden
der oberen Lage 11a auf der gesamten Oberseite einer Elektrode
der unteren Lage 11b vorgesehen ist, können eine
elektrische Kapazität der Guardringelektrode 7e und
der Feldplatte 9a sowie eine elektrische Kapazität
der Kanal-Stopperelektrode 7f und der Feldplatte 9b groß sein.
Dies muss nicht heißen, dass eine größere
elektrische Kapazität besser ist und die elektrische Kapazitäten
können unter Berücksichtigung der Gesamtbedingungen,
wie beispielsweise der elektrischen Feldverteilung, festgelegt werden.
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Die
eingebetteten Elektroden einer oberen Lage 11a sind durch
die Feldoxidschicht 6, die Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 und
die Isolationsschicht 13 isoliert, können jedoch
einen Abschnitt aufweisen, der in Verbindung mit der Passivierungsschicht
steht.
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Die
weiteren Konfigurationen gemäß der vorliegenden
Ausführungsform entsprechen jenen der vorstehenden ersten
Ausführungsform. Daher werden gleiche Elemente mit den
gleichen Bezugszeichen versehen und eine Beschreibung derselben wird
nicht wiederholt.
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Der
Aufbau der Halbleitervorrichtung 20 kann ausgebildet werden
unter Verwendung eines Prozessablaufs für einen allgemeinen
Halbleiter und die eingebetteten Elektroden einer oberen Lage 11a können
in Kontakt zu den Oberseiten der Elektroden einer unteren Lage 11b ausgebildet
werden.
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Somit
liefert die Halbleitervorrichtung der vorliegenden Ausführungsform
Wirkungen und Funktionsweisen, die ähnlich jenen der ersten
Ausführungsform sind.
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Zusätzlich
können die Feldplatten 9a, 9b, 9c so
ausgebildet werden, dass sie in der Feldoxidschicht 6,
der Zwischenlagen-Isolationsschicht 12 und der Isolationsschicht 13 enthalten
sind, also von diesen Schichten umschlossen sind, wodurch Spannungsfluktuationen,
die von einem Verrutschen des Aluminiums (”aluminum slide”)
herrühren, verhindert werden.
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Weiterhin
bestehen die Feldplatten 9a, 9b, 9c aus
zwei Lagen, d. h. den eingebetteten Elektroden einer oberen Lage 11a und
den Elektroden einer unteren Lage 11b, was die Vergrößerung
der Dicke eines Abschnitts derselben entgegengesetzt (bzw. senkrecht)
zu der Richtung entlang der Hauptoberfläche 1a des
Halbleitersubstrates 1 erleichtert. Dies gestattet eine
vergrößerte Fläche, mit der sich die Feldplatten 9a, 9b, 9c gegenüber
liegen, wodurch eine Stabilisierung der Durchbruchsspannung erzielt wird.
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Die
oben beschriebenen Ausführungsformen können miteinander
kombiniert werden.
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Die
vorliegende Erfindung kann insbesondere auf eine Halbleitervorrichtung
mit einem Guardring angewendet werden.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Nicht-Patentliteratur
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- - B. Jayant
Baliga, ”Power Semiconductor Devices”, USA, PWS
PUBLISHING COMPANY, Seite 98–103 [0002]