DE102009037155B3 - Verfahren und Anlage zur Herstellung von Trichlorsilan - Google Patents
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140050648A1 (en) * | 2010-11-18 | 2014-02-20 | Evonik Degussa Gmbh | Preparation of chlorosilanes from very finely divided ultra-pure silicon |
| WO2014095221A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Evonik Industries Ag | Verfahren zur aufbereitung von silizium-haltigem feinkörnigen material bei der herstellung von chlorsilanen |
| WO2014095220A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur aufbereitung feinteiliger feststoffe bei der herstellung von chlorsilanen |
| EP2749534A4 (en) * | 2011-10-18 | 2015-08-12 | Toagosei Co Ltd | PROCESS FOR THE PREPARATION OF CHLOROPOLYSILANE AND FLUID BED REACTOR |
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| EP3100979A1 (de) | 2015-06-02 | 2016-12-07 | Evonik Degussa GmbH | Aufbereitung feinteiliger feststoffe bei der herstellung von chlorsilanen durch sintern bei niedrigen temperaturen |
| EP3053882A4 (en) * | 2013-09-30 | 2017-03-08 | LG Chem, Ltd. | Method for producing trichlorosilane |
| WO2020221421A1 (de) * | 2019-04-29 | 2020-11-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von trichlorsilan mit struktur-optimierten silicium-partikeln |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20160008784A1 (en) * | 2013-03-13 | 2016-01-14 | Sitec Gmbh | Temperature management in chlorination processes and systems related thereto |
| DE102013212908A1 (de) | 2013-07-02 | 2015-01-08 | Wacker Chemie Ag | Analyse der Zusammensetzung eines Gases oder eines Gasstromes in einem chemischen Reaktor und ein Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen in einem Wirbelschichtreaktor |
| WO2015089214A1 (en) * | 2013-12-10 | 2015-06-18 | Summit Process Design, Inc. | Process for producing trichlorosilane |
| KR101987129B1 (ko) * | 2016-09-19 | 2019-06-10 | 한화케미칼 주식회사 | 3염화 실란 합성용 유동층 반응기 |
| CN107433055B (zh) * | 2017-08-30 | 2019-10-08 | 上海华畅环保设备发展有限公司 | 沸腾床分离器中沸腾颗粒再生方法及装置 |
| CN109395675B (zh) * | 2018-09-14 | 2021-07-20 | 四川永祥多晶硅有限公司 | 一种固定流化工艺 |
| CN116639699B (zh) * | 2023-07-12 | 2024-02-02 | 江苏中圣高科技产业有限公司 | 一种制备三氯氢硅的生产工艺及系统 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2919086A1 (de) * | 1978-08-18 | 1980-03-06 | Schumacher Co J C | Verfahren zur herstellung von polykristallinem silizium |
| DE3311650A1 (de) * | 1982-03-31 | 1983-10-13 | Union Carbide Corp., 06817 Danbury, Conn. | Verfahren zur herstellung von hoch reinem silan sowie hoch reinem polykristallinem und einkristallinem silicium fuer solarzellen und halbleiter |
| DE19647162A1 (de) * | 1995-11-14 | 1997-05-15 | Tokuyama Corp | Zyklon und Wirbelschichtreaktor |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3024319C2 (de) * | 1980-06-27 | 1983-07-21 | Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen | Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
| JPS57118017A (en) * | 1981-01-16 | 1982-07-22 | Koujiyundo Silicon Kk | Manufacture of trichlorosilane |
| JPS57156318A (en) * | 1981-03-16 | 1982-09-27 | Koujiyundo Silicon Kk | Production of trichlorosilane |
| FR2530638A1 (fr) * | 1982-07-26 | 1984-01-27 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation d'un melange a base de trichlorosilane utilisable pour la preparation de silicium de haute purete |
| FR2533906A1 (fr) * | 1982-09-30 | 1984-04-06 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et dispositif pour la preparation de silane pur par reaction de chlorosilanes avec l'hydrure de lithium |
| US4526769A (en) * | 1983-07-18 | 1985-07-02 | Motorola, Inc. | Trichlorosilane production process |
| CN85107465A (zh) * | 1985-10-12 | 1987-04-15 | 北京有色冶金设计研究总院 | 四氯化硅氢化新工艺 |
| JP2519094B2 (ja) * | 1988-11-29 | 1996-07-31 | 高純度シリコン株式会社 | トリクロロシラン製造用流動反応装置 |
| JP3778631B2 (ja) * | 1995-11-14 | 2006-05-24 | 株式会社トクヤマ | サイクロン及びこれを備えた流動層反応装置 |
| DE19654154A1 (de) * | 1995-12-25 | 1997-06-26 | Tokuyama Corp | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
| JP3708648B2 (ja) * | 1995-12-25 | 2005-10-19 | 株式会社トクヤマ | トリクロロシランの製造方法 |
| JP3708649B2 (ja) * | 1995-12-25 | 2005-10-19 | 株式会社トクヤマ | 銅シリサイドを有する金属珪素粒子の製造方法 |
| DE10062413A1 (de) * | 2000-12-14 | 2002-07-04 | Solarworld Ag | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
| RU2274602C1 (ru) * | 2004-08-16 | 2006-04-20 | Федеральное государственное унитарное предприятие "Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет" | Способ получения трихлорсилана |
| DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
| JP5397580B2 (ja) * | 2007-05-25 | 2014-01-22 | 三菱マテリアル株式会社 | トリクロロシランの製造方法と製造装置および多結晶シリコンの製造方法 |
| CN101125654A (zh) * | 2007-09-04 | 2008-02-20 | 浙江开化合成材料有限公司 | 一种用于三氯氢硅生产的大型流化床反应器 |
| CN101279735A (zh) * | 2008-05-30 | 2008-10-08 | 中蓝晨光化工研究院有限公司 | 三氯氢硅的生产方法及其设备 |
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2919086A1 (de) * | 1978-08-18 | 1980-03-06 | Schumacher Co J C | Verfahren zur herstellung von polykristallinem silizium |
| DE3311650A1 (de) * | 1982-03-31 | 1983-10-13 | Union Carbide Corp., 06817 Danbury, Conn. | Verfahren zur herstellung von hoch reinem silan sowie hoch reinem polykristallinem und einkristallinem silicium fuer solarzellen und halbleiter |
| DE19647162A1 (de) * | 1995-11-14 | 1997-05-15 | Tokuyama Corp | Zyklon und Wirbelschichtreaktor |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20140050648A1 (en) * | 2010-11-18 | 2014-02-20 | Evonik Degussa Gmbh | Preparation of chlorosilanes from very finely divided ultra-pure silicon |
| US9139442B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-09-22 | Toagosei Co. Ltd. | Method for producing chloropolysilane and fluidized-bed reactor |
| EP2749534A4 (en) * | 2011-10-18 | 2015-08-12 | Toagosei Co Ltd | PROCESS FOR THE PREPARATION OF CHLOROPOLYSILANE AND FLUID BED REACTOR |
| DE102013201742A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Evonik Industries Ag | Verfahren zur Aufbereitung von Silizium-haltigem feinkörnigen Material bei der Herstellung von Chlorsilanen |
| DE102012224182A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-07-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Aufbereitung feinteiliger Feststoffe bei der Herstellung von Chlorsilanen |
| WO2014095220A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur aufbereitung feinteiliger feststoffe bei der herstellung von chlorsilanen |
| WO2014095221A1 (de) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Evonik Industries Ag | Verfahren zur aufbereitung von silizium-haltigem feinkörnigen material bei der herstellung von chlorsilanen |
| EP3053882A4 (en) * | 2013-09-30 | 2017-03-08 | LG Chem, Ltd. | Method for producing trichlorosilane |
| US9643851B2 (en) | 2013-09-30 | 2017-05-09 | Lg Chem, Ltd. | Method for producing trichlorosilane |
| EP3088358A1 (de) | 2015-04-28 | 2016-11-02 | Evonik Degussa GmbH | Verfahren zur aufbereitung feinteiliger feststoffe bei der herstellung von chlorsilanen |
| EP3100978A1 (de) | 2015-06-02 | 2016-12-07 | Evonik Degussa GmbH | Aufbereitung feinteiliger feststoffe bei der herstellung von chlorsilanen durch agglomerieren und kompaktierung |
| EP3100979A1 (de) | 2015-06-02 | 2016-12-07 | Evonik Degussa GmbH | Aufbereitung feinteiliger feststoffe bei der herstellung von chlorsilanen durch sintern bei niedrigen temperaturen |
| WO2020221421A1 (de) * | 2019-04-29 | 2020-11-05 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von trichlorsilan mit struktur-optimierten silicium-partikeln |
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