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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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1. Gebiet der Erfindung
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Die
Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Reiben einer Ausrichtungsschicht,
und insbesondere betrifft sie eine Vorrichtung zum Reiben einer
Ausrichtungsschicht eines Flüssigkristalldisplays
(LCD), die eine große
Ausrichtungsschicht dadurch gleichmäßig reiben kann, dass ein Einfluss
aufgrund einer Belastung durch eine Reibwalze mit vergrößerten Abmessungen
minimiert werden kann.
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2. Hintergrund
der Erfindung
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Einhergehend
mit der Weiterentwicklung verschiedener tragbarer elektrischer Geräte wie Mobiltelefonen,
persönlichen
digitalen Assistenten (PDAs), Notebookcomputern usw., werden auch
verschiedene Typen von Flachtafeldisplays, wie Flüssigkristalldisplays
(LCDs), Plasmadisplaytafeln (PDPs), Feldemissionsdisplays (FEDs)
und Vakuumfluoreszenzdisplays (VFDs) mit kompaktem Aufbau, geringem
Gewicht und niedrigem Energieverbrauch weiterentwickelt. Dank der
Einfachheit, mit der sie angesteuert werden, und Dank ihrer hervorragender
Fähigkeiten,
Bilder anzuzeigen, werden LCDs in weitem Umfang verwendet.
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Ein
LCD ist ein transmissives Display zum Anzeigen von Bildern durch
Einstellen der durch eine Flüssigkristallschicht
strahlenden Lichtmenge entsprechend der Orientierungsrichtung von
Flüssigkristallmolekülen. Demgemäß muss für ein LCD
ein Ausrichtungsprozess ausgeführt
werden, um so alle Flüssigkristallmoleküle mit einer
gleichmäßigen Richtung
zu versehen. Allgemein sind viele Verfahren als Ausrichtungsbearbeitungsverfahren
für eine
Ausrichtungsschicht bekannt. Ein Ausrichtungsverfahren mittels eines
Reibvorgangs wird aktuell am häufigsten
verwendet. Beim Reibausrichtungsverfahren wird als Erstes eine Ausrichtungsschicht
auf einem Substrat hergestellt, und dann wird die hergestellte Ausrichtungsschicht
unter Verwendung eines Reibetuchs gerieben, um an der Oberfläche der
Ausrichtungsschicht entsprechend gleichmäßige Mikrogräben auszubilden.
Eine Ausrichtungsschicht, die Dank des Reibvorgangs an ihrer Oberfläche über Mikrogräben verfügt, tritt
mit den Flüssigkristallmolekülen in Wechselwirkung,
um jedes Flüssigkristallmolekül mit einer Ausrichtung-Kontrollkraft
zu versehen, um dadurch die Flüssigkristallmoleküle über die
gesamte Oberfläche
der Ausrichtungsschicht in wünschenswerten Richtungen
auszurichten.
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Jedoch
verursacht das Ausrichtungsschichtverfahren durch Reiben die folgenden
Probleme. Das Reiben kann so ausgeführt werden, dass das Reibetuch
auf eine Reibwalze gewickelt wird und dann die auf der Oberfläche hergestellte
Ausrichtungsschicht mit dieser in Kontakt gebracht wird, um sie
danach in einer Richtung zu bewegen. Indessen wird ein LCD in jüngerer Zeit
bei elektrischen Geräten
wie Fernsehen und tragbaren elektrischen Geräten verwendet, und demgemäß nimmt
die Größe von LCDs
stark zu (ferner ist ein Ausgangssubstrat zum Herstellen von LCD-Tafeln
viel größer), was
zu einer Zunahme der Größe und des
Gewichts der Reibwalze führt,
wenn ein Ausrichtungsprozess für
ein großes
LCD durch Reiben ausgeführt
wird.
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Indessen
ist die Ausrichtung-Kontrollkraft oder eine Oberflächenfixierkraft
der durch die Reibwalze geriebenen Ausrichtungsschicht durch die
in ihr ausgebildeten Mikrogräben
bestimmt, und die Tiefe derselben differiert abhängig vom Druck, den die Reibwalze
auf die Ausrichtungsschicht ausübt.
Jedoch erschwert es eine Vergrößerung der
Breite und des Gewichts einer Reibwalze, den auf das Ausgangssubstrat
ausgeübten
Druck gleichmäßig zu halten,
was zur Herstellung eines fehlerhaften LCD durch fehlerhaftes Reiben
der Ausrichtungsschicht führt.
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ZUSAMMENFASSUNG
DER ERFINDUNG
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Daher
ist es eine Aufgabe der Erfindung, eine Reibvorrichtung zum jederzeitigen
Reiben einer Ausrichtungsschicht mit gleichmäßiger Intensität durch
Verhindern einer Abwärtsbewegung
(oder Absenkung) einer Reibwalze aufgrund der Schwerkraft durch
Verteilen der durch eine Reibvorrichtung ausgeführten Belastung zu schaffen.
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Um
diese und andere Vorteile zu erzielen, und gemäß dem Zweck der Erfindung,
wie sie realisiert wurde und hier umfassend beschrieben wird, ist eine
Reibvorrichtung mit Folgendem geschaffen: einem Rahmen; einem Reibetisch,
auf den ein Substrat mit einer Ausrichtungsschicht geladen wird;
einer Reibwalze, die in einem oberen Teil des Reibetischs innerhalb
des Rahmens angeordnet ist; und einem Kopf, der im oberen Teil des
Rahmens angeordnet ist, um so die Reibwalze abzustützen.
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Der
Rahmen verfügt über eine
R-Führung, und
der Kopf verfügt über einen
LB-Block, wobei die R-Führung
in eine Führungsnut
des LB-Blocks eingesetzt ist, um den Kopf so zu führen, dass
er entsprechend gedreht wird.
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Die
vorstehenden und andere Aufgaben, Merkmale, Erscheinungsformen und
Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung
derselben in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen deutlicher
werden.
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KURZE
BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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Die
beigefügten
Zeichnungen, die enthalten sind, um für ein weiteres Verständnis der
Erfindung zu sorgen, und die in diese Beschreibung eingeschlossen
sind und einen Teil derselben bilden, veranschaulichen Ausführungsformen
der Erfindung, und sie dienen gemeinsam mit der Beschreibung dazu,
die Prinzipien derselben zu erläutern.
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In
den Zeichnungen ist Folgendes dargestellt.
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1 ist
eine schematische Schnittansicht, die den Aufbau eines LCD gemäß der Erfindung zeigt;
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2 ist
ein Flussdiagramm zum Veranschaulichen eines Verfahrens zum Herstellen
eines LCD gemäß der Erfindung;
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3 ist
eine schematische Ansicht, die einen Reibvorgang veranschaulicht;
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4 ist
eine Ansicht, die den Aufbau einer Reibvorrichtung gemäß der Erfindung
zeigt;
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5A ist
eine vergrößerte Ansicht
eines Bereichs A in der 4, die eine R-Führung und
einen LB-Block der Reibvorrichtung gemäß der Erfindung zeigt; und
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5B ist
eine Draufsicht, die die R-Führung
und den LB-Block in der Reibvorrichtung gemäß der Erfindung zeigt.
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DETAILLIERTE
BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
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Nun
erfolgt unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen eine detaillierte
Beschreibung der Erfindung.
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Ein
Flüssigkristalldisplay
(LCD) zeigt Information unter Verwendung einer Brechungsindexanisotropie
eines Flüssigkristalls
auf einem Schirm an, wobei ein an eine Flüssigkristallschicht angelegtes Signal
die Anordnungsrichtung der Flüssigkristalle ändert, um
das Transmissionsvermögen
für Licht, das
durch die Flüssigkristallschicht
strahlt, so zu steuern, dass Bilder angezeigt werden.
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Wie
es in der 1 dargestellt ist, verfügt ein LCD1 über ein
unteres Substrat 5, ein oberes Substrat 3 sowie
eine zwischen dem unteren Substrat 5 und dem oberen Substrat 3 angeordnete
Flüssigkristallschicht 7.
Das untere Substrat 5 wird als Treiberbauteilarray-Substrat
bezeichnet. Obwohl es nicht dargestellt ist, ist das untere Substrat 5 mit
einer Vielzahl von Pixeln versehen, von denen jedes mit einem Treiberbauteil
wie einem Dünnfilmtransistor
(TFT) versehen ist. Das obere Substrat 3 bezeichnet ein Farbfiltersubstrat,
das über
eine Farbfilterschicht zum Realisieren einer wesentlichen Farbe
verfügt. Außerdem sind
das untere Substrat 5 und das obere Substrat 3 mit
einer Pixelelektrode bzw. einer gemeinsamen Elektrode versehen,
und sie sind mit einer Ausrichtungsschicht beschichtet, um Flüssigkristallmoleküle der Flüssigkristallschicht 7 auszurichten.
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Das
untere und das obere Substrat 5 und 3 sind durch
ein Dichtmittel 9 miteinander verbunden. Die Flüssigkristallschicht 7 wird
zwischen dem unteren und dem oberen Substrat 5 und 3,
die miteinander verbunden sind, hergestellt, um Flüssigkristallmoleküle mittels
des auf dem unteren Substrats 5 hergestellten Treiberbauteils
anzusteuern, wodurch die Menge des die Flüssigkristallschicht 7 durchstrahlenden
Lichts kontrolliert wird, um so Information anzuzeigen.
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Ein
Herstellprozess für
dieses LCD ist in einen Herstellprozess für das Treiberbauteilarray-Substrat
zum Herstellen des Treiber bauteils auf dem unteren Substrat 5,
einen Farbfilter-Herstellprozess zum
Herstellen des Farbfilters auf dem oberen Substrat 3 sowie
einen Zellenprozess unterteilt. Der Herstellprozess für dieses
LCD wird nun unter Bezugnahme auf die 2 erläutert.
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Als
Erstes wird eine Vielzahl von Gateleitungen und eine Vielzahl von
Datenleitungen entsprechend dem Herstellprozess für das Treiberbauteilarray
auf dem unteren Substrat 5 hergestellt, um Pixelbereiche
auszubilden. In jedem Pixelbereich wird ein TFT, das ein mit jeder
Gateleitung und jeder Datenleitung verbundenes Treiberbauteil ist,
hergestellt (S101). Es wird auch der Herstellprozess für das Treiberbauteilarray
ausgeführt,
um eine mit dem TFT verbundene Pixelelektrode herzustellen, um dadurch
die Flüssigkristallschicht 7 anzusteuern,
wenn ein Signal über
den TFT angelegt wird.
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Außerdem wird
auf dem oberen Substrat 3 eine Farbfilterschicht zum Realisieren
der Farben R, G und B mittels eines Farbfilterprozesses hergestellt, und
darauf wird auch eine gemeinsame Elektrode hergestellt (S104).
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Anschließend wird
eine jeweilige Ausrichtungsschicht auf das obere und das untere
Substrat 3 und 5 aufgetragen. Dann wird diese
Ausrichtungsschicht gerieben, um für eine Ausrichtung-Kontrollkraft oder
eine Oberflächenfixierkraft
(d.h. einen Vorkippwinkel und eine Orientierungsrichtung) an den Flüssigkristallmolekülen der
Flüssigkristallschicht 7 zu
sorgen, die zwischen dem oberen und dem unteren Substrat 3 und 5 angeordnet
ist (S102 und S105). Danach wird ein Abstandshalter auf dem unteren Substrat 5 verteilt,
um einen Zellenzwischenraum auf einem konstanten Wert zu erhalten,
und an den Außenumfang
des oberen Substrats 3 wird ein Dichtmittel 9 aufgedruckt,
um danach das untere Substrat 5 und das obere Substrat
dadurch miteinander zu ver binden, dass ein Druck auf sie ausgeübt wird
(S103, S106 und S107).
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Das
untere und das obere Substrat 5 und 3 werden,
andererseits, als Glassubstrat mit großen Abmessungen hergestellt.
Anders gesagt, werden mehrere Plattenbereiche auf dem großen Glassubstrat
hergestellt, und der TFT (d.h. das Treiberbauteil) und die Farbfilterschicht
werden in jedem Tafelbereich hergestellt. Demgemäß muss das Glassubstrat zerschnitten
und bearbeitet werden, um LCD-Tafeleinheiten herzustellen (S108).
Anschließend
wird ein Flüssigkristall
durch eine Flüssigkristall-Einfüllöffnung in
die bearbeiteten LCD-Tafeleinheiten eingefüllt, und dann wird die Einfüllöffnung dicht
verschlossen, um die Flüssigkristallschicht 7 auszubilden. Dann
wird jede LCD-Tafeleinheit getestet, um so die Herstellung einer
LCD-Tafel abzuschließen
(S109 und S110).
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Die
Ausrichtungsschicht der LCD-Tafel, die aus Polyimid oder Polyamid
hergestellt wird, wird durch Schleuderbeschichten oder ein Siebdruckverfahren
aufgebracht. Die aufgebrachte Ausrichtungsschicht wird dann für eine bestimmte
Zeit getrocknet, und anschließend
wird ihre Orientierungsrichtung durch einen Reibeprozess festgelegt.
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Der
Reibeprozess wird unter Verwendung einer Reibwalze ausgeführt, auf
die ein Reibtuch gewunden ist. Die 3 ist eine
schematische Ansicht, die den Reibvorgang der Ausrichtungsschicht
veranschaulicht.
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Wie
es in der 3 dargestellt ist, kann der Reibvorgang
so ausgeführt
werden, dass ein Substrat 3 mit einer Ausrichtungsschicht 10 auf
einen Reibetisch 30 gebracht wird, der durch mehrere Beine 32 gehalten
wird, und dann eine Reibwalze 35 in einem Zustand gedreht
wird, in dem der Reibetisch 30 mit der Ausrichtungsschicht 10 in
Kontakt steht, um in dieser Mikrogräben aus zubilden, um dadurch
dieselbe mit einer Ausrichtung-Kontrollkraft
oder einer Oberflächenfixierkraft
zu versehen.
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Auf
die Oberfläche
der Reibwalze 35 ist ein Reibetuch 38 gewunden,
um so die Mikrogräben
in der Ausrichtungsschicht 10 durch Reiben an dieser in einem
Zustand in Kontakt mit ihr auszubilden. Dabei wird die Reibwalze 35 zentrisch
um eine Welle 36 gedreht, um in einer bestimmten Richtung
auf der Ausrichtungsschicht 10 bewegt zu werden.
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Nun
wird eine Reibvorrichtung zum Ausführen des Reibvorgangs gemäß der Erfindung
unter Bezugnahme auf die beigefügten
Zeichnungen erläutert.
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Die 4 ist
eine Ansicht, die eine Reibvorrichtung gemäß der Erfindung zeigt. Wie
es in der 4 dargestellt ist, verfügt eine
Reibvorrichtung 20 gemäß der Erfindung über einen
Sockel 52, einen auf diesem installierten Rahmen 50,
einen Kopf 60, der in einem oberen Teil des Rahmens 50 drehbar
angeordnet ist, ein innerhalb des Rahmens 50 installiertes Halteelement 70,
das über
Achsen 72 mit dem Kopf 60 verbunden ist, eine
Hub- und Senkeinheit 67, die am Halteelement 70 installiert
ist, um die Reibwalze 35 anzuheben und abzusenken, eine
R-Führung 54, die
im oberen Teil des Rahmens 50 angeordnet ist, einen Block 69 für einen.
Linearbewegung (LB-Block) 69 mit einer Führungsnut,
in die die R-Führung 54 eingesetzt
ist, und einen Reibetisch 30 innerhalb des Rahmens 50,
d.h. auf dem Sockel 52.
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Am
Kopf 60 ist ein Motor 62 angeordnet. Der Kopf 60 wird
durch diesen Motor 62 gedreht. Hierbei ist die R-Führung 54 mit
der im LB-Block 69 ausgebildeten Führungsnut gekoppelt, um so
den Kopf 60 für eine
Drehung zu führen.
Die 5A zeigt einen Zustand, in dem die R-Führung 54 mit
dem LB-Block 69 verbunden ist. Obwohl es nicht dargestellt
ist, ist in den LB-Block 69 eine Kugel oder Rolle eingesetzt, um
so die Erzeugung von Reibung zu ver hindern, wenn die R-Führung 54 in
ihn eingesetzt und dann bewegt wird.
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Die 5B ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die im oberen Teil
des Rahmens 50 angebrachte R-Führung 54 mit dem LB-Block 69 verbunden
ist. Wie es in der 5B dargestellt ist, ist die
R-Führung 54 in
Kreisform im oberen Teil des Rahmens 50 angeordnet. Der
LB-Block 69 führt
im oberen Teil des Rahmens 50 eine Drehbewegung entlang
der R-Führung 54 aus.
Der LB-Block 69 ist an den beiden Enden des Kopfs 60 installiert,
und demgemäß gibt die
Drehbewegung des LB-Blocks 69 diejenige des Kopfs 60 vor.
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Der
Kopf 60 ist andererseits über die Achsen 72 mit
dem Halteelement 70 verbunden. Hierbei sind ein Raum, in
dem die Achsen 72 eingesetzt sind, und ein im oberen Teil
des Rahmens 50 ausgebildeter Bewegungsraum vorhanden. D.h.,
dass auch die Achsen 72 eine Drehbewegung ausführen, wenn
der Kopf 60 gedreht wird. Demgemäß ist der Raum für die Drehbewegung
der Achsen 72 im oberen Teil des Rahmens 50 ausgebildet.
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Das
Halteelement 70 hält
die Reibwalze 35. Das Halteelement 70 ist mit
den Hub- und Absenkeinheiten 67 versehen, um die Reibwalze 35 anzuheben
oder abzusenken. Obwohl es nicht detailliert dargestellt ist, ist
die Hub- und Absenkeinheit 67 mit einem Linearbewegungs(LM)motor,
einem Linearmotor, einer Zahnstange mit Ritzel oder dergleichen versehen.
Wenn der Motor 80 angetrieben wird, führen die Hub- und Absenkeinheiten 67 Hub-
und Absenkvorgänge
der Reibwalze 35 aus.
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Durch
die Drehung des Kopfs 60 wird das mit diesem verbundene
Halteelement 70 gedreht. Auch wird durch die Drehung des
Halteelements die Reibwalze 35 gedreht. Die Reibwalze 35 wird
aus dem folgenden Grund gedreht. Im Allgemeinen werden die Ausrichtungsschichten
in einer Richtung diagonal zum Substrat ausgebildet (wobei sie auch
in einer anderen Richtung ausgebildet werden können), und ihre Orientierungsrichtung
hängt von
den Modi oder Größen von
LCDs ab. Demgemäß muss,
um verschiedene Orientierungsrichtungen zu realisieren, d.h. um
verschiedene Reiberichtungen zu realisieren, die Reibwalze 35 für ihren
Reibvorgang um einen bestimmten Winkel gedreht werden.
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Die
Reibvorrichtung gemäß der Erfindung mit
dieser Konfiguration kann dadurch gekennzeichnet werden, dass der
Kopf 60 im oberen Teil des Rahmens 50 angeordnet
wird, was wie folgt zu verstehen ist.
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In
jüngerer
Zeit ist durch die Flächenvergrößerung von
LCD-Tafeln die Fläche der
auf diesen hergestellten Ausrichtungsschichten vergrößert, was wiederum
zu einer Zunahme der Größe und des
Gewichts des Kopfs 60 sowie der Größe und des Gewichts der die
Ausrichtungsschicht 10 reibenden Reibwalze 35 führt. So
wird die Reibvorrichtung 20 aufgrund der Gewichtszunahme
der Reibwalze 35 und derjenigen des Kopfs 60 stark
durch die Schwerkraft beeinflusst. Hierbei ergibt sich die die Reibwalze 35 beeinflussende
Schwerkraft aus dem Gewichtsgewicht der Reibvorrichtung 20 mit
dem Kopf 60 sowie aus dem Gewicht der Reibwalze 35.
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Die
Reibwalze 35 wird durch die Schwerkraft durchgebogen. Wenn
die Reibwalze 35 abgesenkt wird, um mit der Ausrichtungsschicht 10 in
Kontakt gebracht zu werden, ist es unmöglich, den Abstand zwischen
ihr und der Ausrichtungsschicht 10 gleichmäßig zu halten.
Demgemäß wird,
wenn der Reibvorgang in einem Zustand ausgeführt wird, in dem der Abstand
zwischen der Reibwalze 35 und der Ausrichtungsschicht 10 nicht
gleichmäßig ist,
die Ausrichtungsschicht 10 fehlerhaft gerieben.
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Wie
es bei der Erfindung angegeben ist, wirkt, wenn der Kopf 60 im
oberen Teil des Rahmens 50 angeordnet ist, sein Gewicht
auf den Rahmen 50, wodurch das auf die Reibwalze 35 wirkende
Gewicht relativ verringert ist. Demgemäß kann der Abstand zwischen
der Ausrichtungsschicht 10 und der Reibwalze 35 gleichmäßiger aufrecht
erhalten werden. Außerdem
kann, da der Kopf 60 im oberen Teil der Reibwalze 35 angeordnet
ist, die Reibvorrichtung stabil installiert werden, um so eine Minimierung
der Beeinflussung durch die Schwerkraft oder eine äußere Kraft
zu ermöglichen.
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Ferner
führen
die R-Führung 54 und
der LB-Block 69 den schweren, auf dem Rahmen 50 zu drehenden
Kopf 60, und demgemäß ist es
möglich, die
Drehung des Kopfs 60 gleichmäßiger und genauer einzustellen.
D.h., dass es möglich
ist, eine instabile Drehung des Kopfs aufgrund seines Gewichts während seines
Drehvorgangs zu verhindern.
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Demgemäß wird,
bei der Reibvorrichtung 20 mit dieser Konfiguration, wenn
das Substrat 3 mit der Ausrichtungsschicht 10 auf
den auf dem Sockel 52 installierten Reibetisch 30 geladen
wird, der Kopf 60 abhängig
vom Ansteuerungsmodus oder der Größe eines herzustellenden LCD,
d.h. abhängig
von der Richtung des an der Ausrichtungsschicht 10 ausgeführten Reibevorgangs,
um einen bestimmten Winkel entlang der R-Führung gedreht. Der Kopf 60,
der um den eingestellten Winkel gedreht wurde, wird dann durch eine
am Rahmen 50 ausgebildete Fixiereinheit (nicht dargestellt)
fixiert. Auf diese Weise wird, wenn sich der Kopf 60 dreht,
die Reibwalze 35 gedreht und dann fixiert. In diesem Zustand
wird der Motor 80 der Hub- und Absenkeinheit 67 angesteuert,
und dadurch wird diese Einheit so betrieben, dass sie die Reibwalze 35 absenkt.
Hierbei kann, da die Hub- und Absenkeinheit 67 mit einem
LM-Motor, einem Linearmotor oder einer Zahnstange mit Ritzel versehen
ist, das Problem verhindert werden, gemäß dem die Reibwalze 35 auf
der Seite der Hub- und Absenkeinheit 67 aufgrund ihres
hohen Gewichts durch die Schwerkraft nach unten bewegt wird. Daher
ist es möglich,
wenn die Reibwalze 35 mit der Ausrichtungsschicht 10 in
Kontakt steht, zwischen diesen immer ei nen konstanten Abstand aufrecht
zu erhalten, was es ermöglicht,
die Ausrichtungsschicht dauernd mit gleichmäßiger Intensität zu reiben.
So wird, während
die Reibwalze 35 mit der Ausrichtungsschicht 10 in
Kontakt steht, diese Reibwalze 35 gedreht, wenn ihre Achse 36 durch
einen Motor (nicht dargestellt) gedreht wird. Gleichzeitig wird
der Reibetisch 30 (oder die Reibwalze 35) entlang
einer eingestellten Reiberichtung bewegt, um Mikrogräben in der Ausrichtungsschicht 10 auszubilden.
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Demgemäß wirkt,
bei der Erfindung, da der Kopf 60 der Reibvorrichtung 20 im
oberen Teil des Rahmens 50 angeordnet ist, die meiste Last
auf den Rahmen 50, und dadurch kann die Belastung gesenkt
werden, die tatsächlich
auf die Reibwalze 35 wirkt. Demgemäß ist es möglich, die Stabilität der Reibvorrichtung 2C zu
verbessern und auch ein Absenken (eine Durchhänge- oder Abwärtsbewegung) der
Reibwalze 35 aufgrund der Schwerkraft zu verhindern, um
dadurch ein Reiben der Ausrichtungsschicht 10 dauernd mit
gleichmäßiger Intensität zu ermöglichen.
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Wie
oben beschrieben, ist, bei der Erfindung, der Kopf der Reibvorrichtung
im oberen Teil des Rahmens installiert, und so wird das Gewicht
der Reibvorrichtung teilweise durch diesen abgestützt. Demgemäß kann der
Einfluss durch die Last minimiert werden, um es so zu ermöglichen,
die Reibvorrichtung stabil zu installieren. Auch kann durch dauerndes
Aufrechterhalten eines gleichmäßigen Abstands zwischen
der Reibwalze und der Ausrichtungsschicht die Ausrichtungsschicht
mit gleichmäßiger Intensität gerieben
werden. Außerdem
wird, bei der Erfindung, die R-Führung dazu
verwendet, den zu drehenden Kopf zu führen, was zu einer genauen,
gleichmäßigen Drehung
der Reibwalze führt.
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Andererseits
wurde, in der oben angegebenen Erläuterung, der spezielle Aufbau
der Reibvorrichtung gemäß der Erfindung
angegeben, wodurch doch der Schutzumfang der Erfindung nicht eingeschränkt ist,
sondern dies diente zu einer zweckdienlichen Er läuterung. Beispielsweise sind,
gemäß der oben
angegebenen Erläuterung,
die R-Führung
und der LB-Block dazu verwendet, den zu drehenden Kopf zu führen, jedoch
ist der Aufbau nicht auf die Verwendung einer Führung mit dem speziellen Aufbau
eingeschränkt.
Es können
verschiedene Typen von Führungen
angepasst werden, wenn sie den Kopf stabil drehen können. Außerdem muss
die Hub- und Absenkeinheit, die mit dem Halteelement verbunden ist,
nicht auf den Motor mit dem speziellen Aufbau beschränkt werden.
Vielmehr kann jede Konstruktion verwendet werden, solange sie die
Reibwalze anheben und absenken kann, ohne dass sie nach unten bewegt
(oder abgesenkt) wird.
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Da
die Erfindung auf verschiedene Formen realisiert werden kann, ohne
dass von ihrem Grundgedanken oder wesentlichen Eigenschaften abgewichen
wird, ist es auch zu beachten, dass die oben beschriebenen Ausführungsformen
nicht durch irgendwelche Einzelheiten der vorstehenden Beschreibung,
solange nichts anderes speziell angegeben ist, beschränkt sind,
sondern dass die Auslegung vielmehr innerhalb des Grundgedankens
und Schutzumfangs erfolgen soll, wie er in den beigefügten Ansprüchen definiert
ist, weswegen alle Änderungen
und Modifizierungen, die in den Umfang der Ansprüche, oder Äquivalente eines derartigen
Umfangs, durch die beigefügten
Ansprüche
umfasst sein sollen.