JP2960621B2 - ラビング装置、ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法 - Google Patents
ラビング装置、ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法Info
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶分子を配向させる
為に配向制御膜に配向規制力を付与するラビング装置、
ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造
方法に係り、詳しくは、均一な配向規制力を再現性よく
安定に行う為のラビング装置、ラビング方法、液晶装置
の製造装置及び液晶装置の製造方法に関する。
為に配向制御膜に配向規制力を付与するラビング装置、
ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造
方法に係り、詳しくは、均一な配向規制力を再現性よく
安定に行う為のラビング装置、ラビング方法、液晶装置
の製造装置及び液晶装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶装置は、透明電極が設けられ
た２枚の透明基板を所定の間隙で貼り合わされた構造を
している。そしてこの透明基板上には液晶と直接接して
液晶の配向性（配向規制力）を制御する配向膜（配向制
御膜）が設けられている。詳細な説明を図に沿っておこ
なう。図４は、液晶装置の断面を示したもので、透明基
板であるガラス基板１ａ，１ｂがスペーサ４により所定
の間隔で保持され、その周端部が接着剤６で接着されて
いる。また、ガラス基板１ａ（１ｂ）には、複数の透明
電極２ａ（２ｂ）からなる電極群が帯状のパターンで形
成されている。３はガラス基板１ａ，１ｂの間隙に挟持
された液晶である。そして、１組の偏光子７，８がこれ
らを挟み込んで、液晶装置が構成されている。なお、９
ａ，９ｂはショート防止用の絶縁体膜で、その上に配向
膜５ａ，５ｂが被着されている。
た２枚の透明基板を所定の間隙で貼り合わされた構造を
している。そしてこの透明基板上には液晶と直接接して
液晶の配向性（配向規制力）を制御する配向膜（配向制
御膜）が設けられている。詳細な説明を図に沿っておこ
なう。図４は、液晶装置の断面を示したもので、透明基
板であるガラス基板１ａ，１ｂがスペーサ４により所定
の間隔で保持され、その周端部が接着剤６で接着されて
いる。また、ガラス基板１ａ（１ｂ）には、複数の透明
電極２ａ（２ｂ）からなる電極群が帯状のパターンで形
成されている。３はガラス基板１ａ，１ｂの間隙に挟持
された液晶である。そして、１組の偏光子７，８がこれ
らを挟み込んで、液晶装置が構成されている。なお、９
ａ，９ｂはショート防止用の絶縁体膜で、その上に配向
膜５ａ，５ｂが被着されている。
【０００３】この配向膜５ａ，５ｂは、成膜後表面を配
向処理して配向規制力が付与されている。このような配
向規制力を付与する配向処理方法の１つとしてラビング
法が一般的である。ラビング法は、パイル系の布等で一
方向に配向膜表面を摺擦し、その擦った方向に液晶を配
向させる手法である。なお、ラビング処理には、基板
（以下透明基板を単に基板と称す）全面に均一な配向処
理を施すことが必要とされ、図５に示す様に行われてい
る。ラビングローラ１０は円柱状のローラ１１にラビン
グ布１２を貼りつけ、このラビングローラ１０を基板１
ａ（１ｂ）に所定の当接力で当接させる。この時の押し
込み量は、基板平面に垂直方向にラビングローラ１０を
上下させることにより制御することができる。この方法
で、ある一定量ラビングローラ１０を基板に押し込んだ
状態でラビングローラ１０を回転させ、同時に基板１ａ
（１ｂ）、又は、ラビングローラ１０を平行移動させる
ことで基板全面に配向処理が施されている。
向処理して配向規制力が付与されている。このような配
向規制力を付与する配向処理方法の１つとしてラビング
法が一般的である。ラビング法は、パイル系の布等で一
方向に配向膜表面を摺擦し、その擦った方向に液晶を配
向させる手法である。なお、ラビング処理には、基板
（以下透明基板を単に基板と称す）全面に均一な配向処
理を施すことが必要とされ、図５に示す様に行われてい
る。ラビングローラ１０は円柱状のローラ１１にラビン
グ布１２を貼りつけ、このラビングローラ１０を基板１
ａ（１ｂ）に所定の当接力で当接させる。この時の押し
込み量は、基板平面に垂直方向にラビングローラ１０を
上下させることにより制御することができる。この方法
で、ある一定量ラビングローラ１０を基板に押し込んだ
状態でラビングローラ１０を回転させ、同時に基板１ａ
（１ｂ）、又は、ラビングローラ１０を平行移動させる
ことで基板全面に配向処理が施されている。
【０００４】この際、基板全面にわたり、常に均一な配
向規制力を付与するには、前述の押し込み量、ローラ回
転数、ステージ（この場合、透明基板はステージに載置
されている）又はラビングローラ１０の移動速度を厳密
に制御することが必要である。ローラ回転数とステージ
又はラビングローラ１０の移動速度は、装置の精度上問
題なく制御することが可能である。一方、押し込み量
は、人間の目で調整する方法又は、ラビング布の平均厚
さをあらかじめ測定しておき、ラビングローラ１０の直
径と布の厚さから押し込み量を求めてメカニカルに押し
込む方法が行われている。
向規制力を付与するには、前述の押し込み量、ローラ回
転数、ステージ（この場合、透明基板はステージに載置
されている）又はラビングローラ１０の移動速度を厳密
に制御することが必要である。ローラ回転数とステージ
又はラビングローラ１０の移動速度は、装置の精度上問
題なく制御することが可能である。一方、押し込み量
は、人間の目で調整する方法又は、ラビング布の平均厚
さをあらかじめ測定しておき、ラビングローラ１０の直
径と布の厚さから押し込み量を求めてメカニカルに押し
込む方法が行われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、押し込
み量を人間の目で調整する方法は個人差が出やすく、ま
た、メカニカルに押し込む方法は、ラビング布間で厚さ
のバラツキが多く、この為均一な配向規制力を付与する
ことが困難であるといった問題があった。特に、強誘電
性液晶では液晶の配向状態及び液晶装置の駆動特性等が
敏感に影響を受け、配向規制力を一様に施すことが重要
な開発課題となっている。
み量を人間の目で調整する方法は個人差が出やすく、ま
た、メカニカルに押し込む方法は、ラビング布間で厚さ
のバラツキが多く、この為均一な配向規制力を付与する
ことが困難であるといった問題があった。特に、強誘電
性液晶では液晶の配向状態及び液晶装置の駆動特性等が
敏感に影響を受け、配向規制力を一様に施すことが重要
な開発課題となっている。
【０００６】そこで、本発明は、大きなガラス基板でも
均一な配向規制力が付与できるラビング装置、液晶装置
の製造装置及び液晶装置の製造方法を提供することを目
的とする。
均一な配向規制力が付与できるラビング装置、液晶装置
の製造装置及び液晶装置の製造方法を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、配向制御膜を有する基板に回
動するラビングローラを当接させ、且つ、摺擦させて前
記配向制御膜に配向規制力を付与するラビング装置にお
いて、前記ラビングローラが前記基板と当接する際の当
接力を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力成分
と、前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接力成
分とに分解して測定する測定手段と、前記当接力を調整
する調節手段と、を有することを特徴とする。
みなされたものであって、配向制御膜を有する基板に回
動するラビングローラを当接させ、且つ、摺擦させて前
記配向制御膜に配向規制力を付与するラビング装置にお
いて、前記ラビングローラが前記基板と当接する際の当
接力を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力成分
と、前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接力成
分とに分解して測定する測定手段と、前記当接力を調整
する調節手段と、を有することを特徴とする。
【０００８】この場合、前記測定手段からの信号に基づ
き、前記当接力の変動量を判断する変動量判断手段と、
該変動量判断手段からの信号により前記調整手段を制御
して前記当接力の変動を補正する補正手段と、を有する
ようにしてもよい。また、前記測定手段が圧電素子から
なる、ようにしてもよい。
き、前記当接力の変動量を判断する変動量判断手段と、
該変動量判断手段からの信号により前記調整手段を制御
して前記当接力の変動を補正する補正手段と、を有する
ようにしてもよい。また、前記測定手段が圧電素子から
なる、ようにしてもよい。
【０００９】また、本発明は、配向制御膜を有する基板
に回動するラビングローラを当接させ、且つ、摺擦させ
て前記配向制御膜に配向規制力を付与するラビング方法
において、前記ラビングローラが前記基板と当接する際
の当接力を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力
成分と、前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接
力成分とに分解して測定し、該測定結果に基づいて、前
記当接力を調整する、ことを特徴とする。
に回動するラビングローラを当接させ、且つ、摺擦させ
て前記配向制御膜に配向規制力を付与するラビング方法
において、前記ラビングローラが前記基板と当接する際
の当接力を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力
成分と、前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接
力成分とに分解して測定し、該測定結果に基づいて、前
記当接力を調整する、ことを特徴とする。
【００１０】さらに、本発明は、配向制御膜を有する基
板に回動するラビングローラを当接させ、且つ、摺擦さ
せて前記配向制御膜に配向規制力を付与する液晶装置の
製造装置において、前記ラビングローラが前記基板と当
接する際の当接力を、前記基板の板面に垂直な方向に働
く当接力成分と、前記ラビングローラが摺擦する方向に
働く当接力成分とに分解して測定する測定手段と、前記
当接力を調整する調節手段と、を有することを特徴とす
る。
板に回動するラビングローラを当接させ、且つ、摺擦さ
せて前記配向制御膜に配向規制力を付与する液晶装置の
製造装置において、前記ラビングローラが前記基板と当
接する際の当接力を、前記基板の板面に垂直な方向に働
く当接力成分と、前記ラビングローラが摺擦する方向に
働く当接力成分とに分解して測定する測定手段と、前記
当接力を調整する調節手段と、を有することを特徴とす
る。
【００１１】またさらに、本発明は、配向制御膜を有す
る基板に回動するラビングローラを当接させ、且つ、摺
擦させて前記配向制御膜に配向規制力を付与する液晶装
置の製造方法において、前記ラビングローラが前記基板
と当接する際の当接力を、前記基板の板面に垂直な方向
に働く当接力成分と、前記ラビングローラが摺擦する方
向に働く当接力成分とに分解して測定し、該測定結果に
基づいて、前記当接力を調整する、ことを特徴とする。
る基板に回動するラビングローラを当接させ、且つ、摺
擦させて前記配向制御膜に配向規制力を付与する液晶装
置の製造方法において、前記ラビングローラが前記基板
と当接する際の当接力を、前記基板の板面に垂直な方向
に働く当接力成分と、前記ラビングローラが摺擦する方
向に働く当接力成分とに分解して測定し、該測定結果に
基づいて、前記当接力を調整する、ことを特徴とする。
【００１２】
【作用】以上構成の基づき、ラビングローラが基板に当
接し、且つ、摺擦して配向制御膜に配向規制力を付与す
る際の当接力を測定手段により測定し、常に所定の当接
力で摺擦して均一な配向規制力を付与すべく調整手段に
より当接力を調節する。
接し、且つ、摺擦して配向制御膜に配向規制力を付与す
る際の当接力を測定手段により測定し、常に所定の当接
力で摺擦して均一な配向規制力を付与すべく調整手段に
より当接力を調節する。
【００１３】
＜実施例１＞本発明の実施例１を図面に沿って説明す
る。なお、ラビングローラ１０の構成は従来の技術と略
同じなので同一符号を付して説明を省略する。図１は、
本実施例１に係るラビング処理の様子を示した模式図
で、ラビング処理は起毛パイルを有するラビング布１２
をローラ１１に巻つけたラビングローラ１０を矢印Ｂの
方向に回転させながらガラス基板１ａ（１ｂ）に押しつ
け、この状態でステージ３１を矢印Ａ方向に移動させる
ことにより行われる。この際、ラビングローラ１０がガ
ラス基板１ａ（１ｂ）に及ぼす当接力である荷重量を３
次元的（ステージ移動方向の荷重量成分をｆｙ、垂直方
向の荷重量成分をｆｚとする）に測定する圧電素子等の
荷重量測定装置３２（測定手段）がステージ３１に設け
られ、ガラス基板１ａ（１ｂ）はその上に載置される構
成となっている。
る。なお、ラビングローラ１０の構成は従来の技術と略
同じなので同一符号を付して説明を省略する。図１は、
本実施例１に係るラビング処理の様子を示した模式図
で、ラビング処理は起毛パイルを有するラビング布１２
をローラ１１に巻つけたラビングローラ１０を矢印Ｂの
方向に回転させながらガラス基板１ａ（１ｂ）に押しつ
け、この状態でステージ３１を矢印Ａ方向に移動させる
ことにより行われる。この際、ラビングローラ１０がガ
ラス基板１ａ（１ｂ）に及ぼす当接力である荷重量を３
次元的（ステージ移動方向の荷重量成分をｆｙ、垂直方
向の荷重量成分をｆｚとする）に測定する圧電素子等の
荷重量測定装置３２（測定手段）がステージ３１に設け
られ、ガラス基板１ａ（１ｂ）はその上に載置される構
成となっている。
【００１４】上記ラビング装置では、図２に示すように
ｆｚ及びｆｙは押し込み量と比例関係が認められる。そ
こで、このｆｚ及びｆｙと押し込み量との関係をそれぞ
れのラビングローラ１０について求めておくならば、ｆ
ｚ及びｆｙをモニターすることにより押し込み量を制御
することが可能となる。これにより、ガラス基板１ａ
（１ｂ）上の配向膜に、一定の配向規制力を均一に付与
することが可能となる。
ｆｚ及びｆｙは押し込み量と比例関係が認められる。そ
こで、このｆｚ及びｆｙと押し込み量との関係をそれぞ
れのラビングローラ１０について求めておくならば、ｆ
ｚ及びｆｙをモニターすることにより押し込み量を制御
することが可能となる。これにより、ガラス基板１ａ
（１ｂ）上の配向膜に、一定の配向規制力を均一に付与
することが可能となる。
【００１５】なお、荷重量測定装置３２は、かならずし
もステージ３１内に設置する必要はなく、ラビングロー
ラ１０の移動範囲内に設置してもよい。
もステージ３１内に設置する必要はなく、ラビングロー
ラ１０の移動範囲内に設置してもよい。
【００１６】上述のラビング装置を用いて、本実施例１
の効果を評価した。評価に用いた液晶装置は、１．１ｍ
ｍ厚のガラス基板１ａ（１ｂ）にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による透明電極が形成され、そ
の上にショート防止用の絶縁体膜としてＳｉＯ2 をスパ
ッタ法により６００Å積層した。そしてポリイミド形成
液を塗布し、３００℃、約１時間の加熱焼成処理を施し
てポリイミド配向膜を形成した。
の効果を評価した。評価に用いた液晶装置は、１．１ｍ
ｍ厚のガラス基板１ａ（１ｂ）にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ
Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による透明電極が形成され、そ
の上にショート防止用の絶縁体膜としてＳｉＯ2 をスパ
ッタ法により６００Å積層した。そしてポリイミド形成
液を塗布し、３００℃、約１時間の加熱焼成処理を施し
てポリイミド配向膜を形成した。
【００１７】また、ナイロンの起毛パイルを有す布を巻
き付けたラビングローラ１０を５本用意し、図１に示す
様に、ステージ３１内に荷重量測定装置３２を内蔵した
ラビング装置に第１番目のラビングローラ１０をセット
し、ステージ３１をラビングローラ１０の下の位置まで
移動し、ラビングローラ１０を回転させ、ｆｚ＝５０ｇ
／ｃｍ、ｆｙ＝２５ｇ／ｃｍ（これらの値は、荷重量を
ガラス基板１ａ（１ｂ）に接しているラビングローラ１
０の長さで割って規格化した値である）となるように、
押し込み量を調整してから一方向にラビング処理を施し
た。そして順次、第２番目…第５番目と同様に行った。
なお、この際、ｆｚ及びｆｙの値は、第１番目の値に対
し、それぞれΔｆｚ＝±１．５ｇ／ｃｍ、Δｆｙ＝±
０．７５ｇ／ｃｍの範囲に納まる様に調整した。この様
にして制作した５枚のガラス基板１ａ（１ｂ）に付与さ
れた配向規制力を評価するために、それぞれのガラス基
板１ａ（１ｂ）のほぼ中央部分を切り出し、以下の方法
でそれぞれのプレチルト角を測定した。
き付けたラビングローラ１０を５本用意し、図１に示す
様に、ステージ３１内に荷重量測定装置３２を内蔵した
ラビング装置に第１番目のラビングローラ１０をセット
し、ステージ３１をラビングローラ１０の下の位置まで
移動し、ラビングローラ１０を回転させ、ｆｚ＝５０ｇ
／ｃｍ、ｆｙ＝２５ｇ／ｃｍ（これらの値は、荷重量を
ガラス基板１ａ（１ｂ）に接しているラビングローラ１
０の長さで割って規格化した値である）となるように、
押し込み量を調整してから一方向にラビング処理を施し
た。そして順次、第２番目…第５番目と同様に行った。
なお、この際、ｆｚ及びｆｙの値は、第１番目の値に対
し、それぞれΔｆｚ＝±１．５ｇ／ｃｍ、Δｆｙ＝±
０．７５ｇ／ｃｍの範囲に納まる様に調整した。この様
にして制作した５枚のガラス基板１ａ（１ｂ）に付与さ
れた配向規制力を評価するために、それぞれのガラス基
板１ａ（１ｂ）のほぼ中央部分を切り出し、以下の方法
でそれぞれのプレチルト角を測定した。
【００１８】［プレチルト角αの測定］プレチルト角の
測定は、クリスタルローテーション法（Ｊｐａ．Ｊ．Ａ
ｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏ．１１９（１９８０）ＮＯ．Ｓ
ｈｏｒｔ Ｎｏｔｅｓ ２０３１）により求めた。ま
た、プレチルト角の測定用液晶としては強誘電性液晶
（チッソ社製強誘電性液晶ＣＳ−１４）に下記の構造式
で示される化合物を重量比で２０％混合したものを標準
液晶として封入し測定を行った。
測定は、クリスタルローテーション法（Ｊｐａ．Ｊ．Ａ
ｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏ．１１９（１９８０）ＮＯ．Ｓ
ｈｏｒｔ Ｎｏｔｅｓ ２０３１）により求めた。ま
た、プレチルト角の測定用液晶としては強誘電性液晶
（チッソ社製強誘電性液晶ＣＳ−１４）に下記の構造式
で示される化合物を重量比で２０％混合したものを標準
液晶として封入し測定を行った。
【００１９】
【化１】 なお、この混合した液晶組成物は、１０〜５５℃でＳｍ
Ａ相を示めした。
Ａ相を示めした。
【００２０】測定手順は、液晶装置を上下ガラス基板１
ａ（１ｂ）に垂直かつ配向処理軸を含む面で回転させな
がら、回転軸と４５°の角度をなす偏向面を持つヘリウ
ム・ネオンレーザ光を回転軸に垂直な方向から照射し
て、その反対側で入射偏向面と平行な透過軸を持つ偏向
板を通してフォトダイオードで透過光強度を測定した。
そして、干渉によってできた透過光強度の双曲線群の中
心となる角と液晶装置に垂直な線とのなす角度をΦｘと
して下式に代入してプレチルト角αを求めた。
ａ（１ｂ）に垂直かつ配向処理軸を含む面で回転させな
がら、回転軸と４５°の角度をなす偏向面を持つヘリウ
ム・ネオンレーザ光を回転軸に垂直な方向から照射し
て、その反対側で入射偏向面と平行な透過軸を持つ偏向
板を通してフォトダイオードで透過光強度を測定した。
そして、干渉によってできた透過光強度の双曲線群の中
心となる角と液晶装置に垂直な線とのなす角度をΦｘと
して下式に代入してプレチルト角αを求めた。
【００２１】
【数１】 上述の方法で測定したプレチルト角αは、表１に示す様
にほぼ一定の配向規制力を与えることができた。
にほぼ一定の配向規制力を与えることができた。
【００２２】
【表１】 次に、上記方法の効果が本発明の実施例１に寄るもので
あることを確認する為に、同様の方法で配向膜まで形成
したガラス基板１ａ（１ｂ）と６本のラビングローラ１
０とを用意し、押し込み量の調整を人間の目とダイヤル
ゲージとにより行った。第１番目〜第３番目のラビング
ローラ１０は、パイルの毛先がガラス基板１ａ（１ｂ）
に接触する最下降部分で全面にわたりほぼ平均的に接触
するラビングローラ１０の位置を原点とし、次にダイヤ
ルゲージを用いてラビングローラ１０をガラス基板１ａ
（１ｂ）平面に垂直な方向に０．３０ｍｍ降下させた。
この状態でラビングローラ１０を回転させ、ステージ３
１を平行移動させ１枚のガラス基板１ａ（１ｂ）をラビ
ング処理した。また、第４番目〜第６番目のラビングロ
ーラ１０では、予めラビング布の平均総厚（基布からパ
イル先までの厚さ）を測定しておきこの寸法とラビング
ローラ１０の半径から押し込み量を計算して、ガラス基
板１ａ（１ｂ）に対し押し込み量が０．３０ｍｍになる
ように、機械的にラビングローラ１０の位置を決定し
た。表２はこのようにしてラビング処理を行った時のプ
レチルト角を示したものである。
あることを確認する為に、同様の方法で配向膜まで形成
したガラス基板１ａ（１ｂ）と６本のラビングローラ１
０とを用意し、押し込み量の調整を人間の目とダイヤル
ゲージとにより行った。第１番目〜第３番目のラビング
ローラ１０は、パイルの毛先がガラス基板１ａ（１ｂ）
に接触する最下降部分で全面にわたりほぼ平均的に接触
するラビングローラ１０の位置を原点とし、次にダイヤ
ルゲージを用いてラビングローラ１０をガラス基板１ａ
（１ｂ）平面に垂直な方向に０．３０ｍｍ降下させた。
この状態でラビングローラ１０を回転させ、ステージ３
１を平行移動させ１枚のガラス基板１ａ（１ｂ）をラビ
ング処理した。また、第４番目〜第６番目のラビングロ
ーラ１０では、予めラビング布の平均総厚（基布からパ
イル先までの厚さ）を測定しておきこの寸法とラビング
ローラ１０の半径から押し込み量を計算して、ガラス基
板１ａ（１ｂ）に対し押し込み量が０．３０ｍｍになる
ように、機械的にラビングローラ１０の位置を決定し
た。表２はこのようにしてラビング処理を行った時のプ
レチルト角を示したものである。
【００２３】
【表２】 この結果は、荷重量を測定する本実施例１に比べ従来の
方法はバラツキが大きく、本発明が有効であることを示
している。 ＜実施例２＞本発明の実施例２を図面に沿って説明す
る。なお、本実施例２におけるラビング装置の構成は実
施例１と略同じなので同一符号を付して説明を省略す
る。本実施例２においてはラビング処理中にガラス基板
１ａ（１ｂ）に加わっている３次元的荷重量を測定し
て、その荷重量がある一定値になるように押し込み量を
調整することが可能であった。しかしラビング処理中に
何らかの理由で押し込み量が変化してもこれを補正する
手段が無かった。本実施例２では、図３に示す様にラビ
ング処理中の荷重量を一定にする為に、荷重量演算手段
３３（変動量判断手段）、押し込み量調整手段３４（補
正手段）及びローラ補正手段３５（補正手段）を設け
た。そして、荷重量測定装置３２から出力された荷重量
信号に基づき、荷重量演算手段３３が本来負荷すべき所
定の荷重量からのズレを図２により取得したデータ等に
より判断する。そして、そのズレ量にしたがって押し込
み量調整手段３４がローラ補正手段３５に押し込み量を
出力して、ラビングローラ１０の押し込み量が補正され
る。
方法はバラツキが大きく、本発明が有効であることを示
している。 ＜実施例２＞本発明の実施例２を図面に沿って説明す
る。なお、本実施例２におけるラビング装置の構成は実
施例１と略同じなので同一符号を付して説明を省略す
る。本実施例２においてはラビング処理中にガラス基板
１ａ（１ｂ）に加わっている３次元的荷重量を測定し
て、その荷重量がある一定値になるように押し込み量を
調整することが可能であった。しかしラビング処理中に
何らかの理由で押し込み量が変化してもこれを補正する
手段が無かった。本実施例２では、図３に示す様にラビ
ング処理中の荷重量を一定にする為に、荷重量演算手段
３３（変動量判断手段）、押し込み量調整手段３４（補
正手段）及びローラ補正手段３５（補正手段）を設け
た。そして、荷重量測定装置３２から出力された荷重量
信号に基づき、荷重量演算手段３３が本来負荷すべき所
定の荷重量からのズレを図２により取得したデータ等に
より判断する。そして、そのズレ量にしたがって押し込
み量調整手段３４がローラ補正手段３５に押し込み量を
出力して、ラビングローラ１０の押し込み量が補正され
る。
【００２４】上記構成のラビング装置を用い、実施例１
と同様な方法で配向膜が形成された３０枚のガラス基板
１ａ（１ｂ）に対し、一本のラビングローラ１０で連続
的にラビング処理を行った。表３は配向規制力の評価と
して、１、６、１２、１８、３０番目の６枚のガラス基
板１ａ（１ｂ）のプレチルト角の測定を行った結果を示
している。
と同様な方法で配向膜が形成された３０枚のガラス基板
１ａ（１ｂ）に対し、一本のラビングローラ１０で連続
的にラビング処理を行った。表３は配向規制力の評価と
して、１、６、１２、１８、３０番目の６枚のガラス基
板１ａ（１ｂ）のプレチルト角の測定を行った結果を示
している。
【００２５】
【表３】 表３の結果は、本実施例２の特徴であるフィードバック
機能が有効であることを示している。なお、この効果が
確かにフィードバック機能によるものであることを再確
認する為に、上述と同じ製法によるガラス基板３０枚を
用意し、荷重量測定をせずに連続的に３０枚ラビング処
理を行った。この際、ラビングローラ１０の押し込み量
は、最初の位置から変化させず一定とし、押し込み量の
原点は目視で決定し、ダイヤルゲージで０．３０ｍｍに
セットした。表４はこの結果を示したものである。
機能が有効であることを示している。なお、この効果が
確かにフィードバック機能によるものであることを再確
認する為に、上述と同じ製法によるガラス基板３０枚を
用意し、荷重量測定をせずに連続的に３０枚ラビング処
理を行った。この際、ラビングローラ１０の押し込み量
は、最初の位置から変化させず一定とし、押し込み量の
原点は目視で決定し、ダイヤルゲージで０．３０ｍｍに
セットした。表４はこの結果を示したものである。
【００２６】
【表４】 以上から理解出来る様に荷重量を一定に保つ様に押し込
み量をフィードバックして補正・調整することで常に均
一な配向規制力を付与することが可能になる。
み量をフィードバックして補正・調整することで常に均
一な配向規制力を付与することが可能になる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によると、ラ
ビングローラが透明ガラス基板に当接する当接力を測定
することにより実際の当接力が知れ、このため均一な配
向規制力が再現性よく安定に付与することが可能となっ
た。
ビングローラが透明ガラス基板に当接する当接力を測定
することにより実際の当接力が知れ、このため均一な配
向規制力が再現性よく安定に付与することが可能となっ
た。
【図１】本発明の実施例１に適用されるラビング装置の
模式図。
模式図。
【図２】本発明の実施例１の説明に適用される押し込み
量と当接力の関係を示す図。
量と当接力の関係を示す図。
【図３】本発明の実施例２の説明に適用されるラビング
装置の原理図。
装置の原理図。
【図４】従来の技術の説明に適用される液晶装置の断面
図。
図。
【図５】従来の技術の説明に適用されるラビング処理を
説明する図。
説明する図。
１ａ，１ｂ ガラス基板（透明ガラス基板） ５ａ，５ｂ 配向膜（配向制御膜） １０ ラビングローラ ３２ 荷重量測定装置（測定手段） ３３ 荷重量演算手段（変動量判断手段） ３４ 押し込み量調整手段（補正手段） ３５ ローラ補正手段（補正手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−124320（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−32816（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−117619（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−175423（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−223437（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−289083（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02F 1/1337
Claims (6)
- 【請求項１】 配向制御膜を有する基板に回動するラビ
ングローラを当接させ、且つ、摺擦させて前記配向制御
膜に配向規制力を付与するラビング装置において、 前記ラビングローラが前記基板と当接する際の当接力
を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力成分と、
前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接力成分と
に分解して測定する測定手段と、 前記当接力を調整する調節手段と、 を有することを特徴とするラビング装置。 - 【請求項２】 前記測定手段からの信号に基づき、前記
当接力の変動量を判断する変動量判断手段と、該変動量
判断手段からの信号により前記調整手段を制御して前記
当接力の変動を補正する補正手段と、を有する請求項１
記載のラビング装置。 - 【請求項３】 前記測定手段が圧電素子からなる、請求
項１又は２記載のラビング装置。 - 【請求項４】 配向制御膜を有する基板に回動するラビ
ングローラを当接させ、且つ、摺擦させて前記配向制御
膜に配向規制力を付与するラビング方法において、 前記ラビングローラが前記基板と当接する際の当接力
を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力成分と、
前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接力成分と
に分解して測定し、 該測定結果に基づいて、前記当接力を調整する、 ことを特徴とするラビング方法。 - 【請求項５】 配向制御膜を有する基板に回動するラビ
ングローラを当接させ、且つ、摺擦させて前記配向制御
膜に配向規制力を付与する液晶装置の製造装置におい
て、 前記ラビングローラが前記基板と当接する際の当接力
を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力成分と、
前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接力成分と
に分解して測定する測定手段と、 前記当接力を調整する調節手段と、 を有することを特徴とする液晶装置の製造装置。 - 【請求項６】 配向制御膜を有する基板に回動するラビ
ングローラを当接させ、且つ、摺擦させて前記配向制御
膜に配向規制力を付与する液晶装置の製造方法におい
て、 前記ラビングローラが前記基板と当接する際の当接力
を、前記基板の板面に垂直な方向に働く当接力成分と、
前記ラビングローラが摺擦する方向に働く当接力成分と
に分解して測定し、 該測定結果に基づいて、前記当接力を調整する、 ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4359308A JP2960621B2 (ja) | 1992-12-26 | 1992-12-26 | ラビング装置、ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法 |
| US08/170,777 US5406397A (en) | 1992-12-26 | 1993-12-21 | Rubbing apparatus, apparatus for producing liquid crystal device and method for producing liquid crystal device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4359308A JP2960621B2 (ja) | 1992-12-26 | 1992-12-26 | ラビング装置、ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06202112A JPH06202112A (ja) | 1994-07-22 |
| JP2960621B2 true JP2960621B2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=18463840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4359308A Expired - Fee Related JP2960621B2 (ja) | 1992-12-26 | 1992-12-26 | ラビング装置、ラビング方法、液晶装置の製造装置及び液晶装置の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5406397A (ja) |
| JP (1) | JP2960621B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US5844650A (en) * | 1994-10-06 | 1998-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Rubbing treating apparatus and rubbing treating method including suction passages to hold masking sheets in place |
| KR0154770B1 (ko) * | 1994-12-21 | 1998-11-16 | 김광호 | 액정 표시 장치의 시야각 개선을 위한 러빙 장치 |
| JPH1090683A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-10 | Toshiba Corp | 配向処理方法及び配向膜基板 |
| KR100848556B1 (ko) * | 2002-03-25 | 2008-07-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 패널의 회전 버퍼 및 이를 이용한 러빙장치 |
| KR100565948B1 (ko) * | 2003-12-11 | 2006-03-30 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치의 액정셀 공정 |
| KR20070063237A (ko) * | 2005-12-14 | 2007-06-19 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 배향막 러빙 장치 |
| KR100939612B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-02-01 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막의 러빙장치 |
| KR100939611B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-02-01 | 엘지디스플레이 주식회사 | 배향막의 러빙시스템 및 러빙방법, 이를 이용한액정표시소자 제조방법 |
| KR20130101331A (ko) * | 2012-03-05 | 2013-09-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액티브 리타더 및 이를 갖는 표시 장치의 제조 방법 |
| CN104914627B (zh) * | 2015-07-09 | 2017-09-29 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | 一种取向装置 |
| JP6900279B2 (ja) | 2016-09-13 | 2021-07-07 | キヤノン株式会社 | トナー及びトナーの製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| JPS59124320A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-18 | Fujitsu Ltd | 液晶分子配向膜形成方法 |
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| JP2780176B2 (ja) * | 1988-08-19 | 1998-07-30 | 富士通株式会社 | 磁気ヘッド |
| JPH03131822A (ja) * | 1989-10-17 | 1991-06-05 | Speedfam Co Ltd | 液晶表示素子用ラビング装置 |
| JPH03156424A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-04 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示素子のラビング配向処理方法 |
| JPH05142542A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子のラビング配向処理方法 |
| US5315421A (en) * | 1992-04-28 | 1994-05-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Rubbing apparatus including double refraction phase difference measuring means and manufacturing method for liquid crystal display device |
-
1992
- 1992-12-26 JP JP4359308A patent/JP2960621B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-12-21 US US08/170,777 patent/US5406397A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06202112A (ja) | 1994-07-22 |
| US5406397A (en) | 1995-04-11 |
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