JP3037009B2 - 液晶装置の量産方法 - Google Patents
液晶装置の量産方法Info
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- JP3037009B2 JP3037009B2 JP35920492A JP35920492A JP3037009B2 JP 3037009 B2 JP3037009 B2 JP 3037009B2 JP 35920492 A JP35920492 A JP 35920492A JP 35920492 A JP35920492 A JP 35920492A JP 3037009 B2 JP3037009 B2 JP 3037009B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶装置の量産方法に
係り、詳しくは、量産される液晶装置の配向規制力を一
定にする方法に関する。
係り、詳しくは、量産される液晶装置の配向規制力を一
定にする方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶装置の生産は、要素実験又は
試作生産等により製造条件を十分に確立し、この条件に
基づき大量に生産するものであった。これは、製造環境
に多少の変動が生じても液晶装置の特性への影響が少な
いからである。
試作生産等により製造条件を十分に確立し、この条件に
基づき大量に生産するものであった。これは、製造環境
に多少の変動が生じても液晶装置の特性への影響が少な
いからである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＳＴＮ
形や強誘電性液晶を用いた液晶装置等の様に液晶分子と
基板とのなす角度、即ちプレチルト角が液晶装置の特性
に強い影響を与えるものが用いられるようになってき
た。プレチルト角は基板の表面状態、特に一軸性配向処
理の条件に敏感に影響を受け、この為液晶装置の量産工
程においてプレチルト角のばらつきを抑え、液晶装置特
性を一定に保つことが極めて困難であった。
形や強誘電性液晶を用いた液晶装置等の様に液晶分子と
基板とのなす角度、即ちプレチルト角が液晶装置の特性
に強い影響を与えるものが用いられるようになってき
た。プレチルト角は基板の表面状態、特に一軸性配向処
理の条件に敏感に影響を受け、この為液晶装置の量産工
程においてプレチルト角のばらつきを抑え、液晶装置特
性を一定に保つことが極めて困難であった。
【０００４】そこで、本発明は、量産工程におけるプレ
チルト角のバラツキを抑え、安定した特性を持つ液晶装
置の量産方法を提供することを目的とする。
チルト角のバラツキを抑え、安定した特性を持つ液晶装
置の量産方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述事情に鑑
みなされたものであって、透明基板に透明電極を形成す
る透明電極形成工程と、該透明基板に絶縁体膜を形成す
る絶縁体膜形成工程と、該絶縁体膜上に配向制御膜を形
成する配向制御膜形成工程と、該配向制御膜に配向規制
力を付与する配向処理工程と、を順次実施して液晶装置
を量産する液晶装置の量産方法において、前記工程によ
って液晶装置を所定数量産する度に、その特性が測定し
やすいように一部の製造条件を異ならせて前記工程によ
ってモニター用液晶装置を試作し、該試作したモニター
用液晶装置の特性を測定し、かつ、その測定結果が一定
になるように、前記異ならせた製造条件以外の製造条件
を補正してなる、ことを特徴とする。
みなされたものであって、透明基板に透明電極を形成す
る透明電極形成工程と、該透明基板に絶縁体膜を形成す
る絶縁体膜形成工程と、該絶縁体膜上に配向制御膜を形
成する配向制御膜形成工程と、該配向制御膜に配向規制
力を付与する配向処理工程と、を順次実施して液晶装置
を量産する液晶装置の量産方法において、前記工程によ
って液晶装置を所定数量産する度に、その特性が測定し
やすいように一部の製造条件を異ならせて前記工程によ
ってモニター用液晶装置を試作し、該試作したモニター
用液晶装置の特性を測定し、かつ、その測定結果が一定
になるように、前記異ならせた製造条件以外の製造条件
を補正してなる、ことを特徴とする。
【０００６】この場合、前記量産される液晶装置と前記
モニター用液晶装置とが、前記絶縁体膜形成工程、前記
配向制御膜形成工程及び前記配向処理工程において製造
条件を共通にする、と良い。また、前記量産される液晶
装置及び前記モニター用液晶装置が、前記各工程の他
に、一方の透明基板にギャップ材を散布するギャップ材
の散布工程と、一対の透明基板を貼り合わせる透明基板
貼り合わせ工程と、液晶を注入する液晶注入工程と、を
順次実施して製造され、かつ、前記モニター用液晶装置
を試作する際における前記ギャップ材の散布工程、前記
透明基板貼り合わせ工程及び前記液晶注入工程の製造条
件を、特性が測定しやすいように前記量産される液晶装
置の場合の製造条件とは異ならせると良い。さらに、前
記測定される特性が、前記モニター用液晶装置のプレチ
ルト角であり、かつ、前記補正される製造条件が、前記
配向処理工程における配向処理条件であり、かつ、該補
正によって前記量産される液晶装置のプレチルト角が一
定にされる、ようにすると良い。またさらに、前記液晶
が強誘電性液晶であると良い。
モニター用液晶装置とが、前記絶縁体膜形成工程、前記
配向制御膜形成工程及び前記配向処理工程において製造
条件を共通にする、と良い。また、前記量産される液晶
装置及び前記モニター用液晶装置が、前記各工程の他
に、一方の透明基板にギャップ材を散布するギャップ材
の散布工程と、一対の透明基板を貼り合わせる透明基板
貼り合わせ工程と、液晶を注入する液晶注入工程と、を
順次実施して製造され、かつ、前記モニター用液晶装置
を試作する際における前記ギャップ材の散布工程、前記
透明基板貼り合わせ工程及び前記液晶注入工程の製造条
件を、特性が測定しやすいように前記量産される液晶装
置の場合の製造条件とは異ならせると良い。さらに、前
記測定される特性が、前記モニター用液晶装置のプレチ
ルト角であり、かつ、前記補正される製造条件が、前記
配向処理工程における配向処理条件であり、かつ、該補
正によって前記量産される液晶装置のプレチルト角が一
定にされる、ようにすると良い。またさらに、前記液晶
が強誘電性液晶であると良い。
【０００７】
【作用】以上構成に基づき、液晶装置を所定数量産する
度にモニター用液晶装置を試作し、該試作したモニター
用液晶装置の特性を測定し、かつ、製造条件を該測定結
果に基づき補正することにより、量産される液晶装置の
特性が一定となる。
度にモニター用液晶装置を試作し、該試作したモニター
用液晶装置の特性を測定し、かつ、製造条件を該測定結
果に基づき補正することにより、量産される液晶装置の
特性が一定となる。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を図を参照しながら説明す
る。図１は液晶装置の主要な製造工程を示したものであ
り、また図２は液晶装置の断面図を示している。以下各
工程に沿って液晶装置の構成を述べる。 (1) 透明電極の形成工程（Ｓ１） １．１ｍｍ厚のガラス基板２（透明基板）上に複数の帯
状の透明電極３を形成する。この透明電極３にはＩｎ2
Ｏ3 やＩＴＯ等が使用され、その膜厚は２０００Å程度
に設定される。 (2) 絶縁体膜の形成工程（Ｓ２） この後ショート防止用の絶縁体膜４４としてＳｉＯ2 を
スパッタリング法等により形成する。この絶縁体膜４と
しては、ＳｉＯ2 の他にＴａ2 Ｏ5 等の無機絶縁物質で
もよく、またＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ａｌ等のうち少
なくとも１元素を含む、有機金属化合物を塗布・焼成し
て得られる無機系絶縁体膜を用いることもできる。ま
た、膜厚は２００Å〜３０００Åの範囲であればよい。 (3) 配向制御膜の形成工程（Ｓ３） さらに、絶縁体膜４の上にはポリイミド形成液をスピン
ナーで塗布し、２７０℃，１時間加熱してポリイミドの
配向制御膜５を成膜する。この配向制御膜５としては、
ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリエステルイミド、ポリパラキシリレン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポ
リ塩化ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース
樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂やアクリル樹脂などの
有機絶縁物質を用いてもよく、また膜厚は５０Å〜１０
００Åの範囲であればよい。 (4) ラビング処理工程（Ｓ４） そして、この配向制御膜５の表面をナイロン性のラビン
グ布で一方向にラビング処理することによって、ラビン
グ方向と実質的に同一方向の配向規制力となる一軸性配
向軸が付与される。 (5) ギャップ材の散布工程（Ｓ５） このようにして制作されたガラス基板２を２枚用意し、
一方のガラス基板２に平均粒径約１．５μｍのビーズス
ペーサ７（シリカビーズ、アルミナビーズ等）を散布す
る。 (6) ガラス基板貼り合わせ工程（Ｓ６） そして、他方のガラス基板２にエポキシ樹脂の接着剤で
あるシール接着剤６をスクリーン印刷法で形成し、これ
ら２枚のガラス基板２を所定の間隔に保持して対向さ
せ、熱処理を施してシール接着剤６を固化させた。 (7) 液晶注入工程（Ｓ７） その後、強誘電性液晶８が注入されて液晶装置が製造さ
れる。
る。図１は液晶装置の主要な製造工程を示したものであ
り、また図２は液晶装置の断面図を示している。以下各
工程に沿って液晶装置の構成を述べる。 (1) 透明電極の形成工程（Ｓ１） １．１ｍｍ厚のガラス基板２（透明基板）上に複数の帯
状の透明電極３を形成する。この透明電極３にはＩｎ2
Ｏ3 やＩＴＯ等が使用され、その膜厚は２０００Å程度
に設定される。 (2) 絶縁体膜の形成工程（Ｓ２） この後ショート防止用の絶縁体膜４４としてＳｉＯ2 を
スパッタリング法等により形成する。この絶縁体膜４と
しては、ＳｉＯ2 の他にＴａ2 Ｏ5 等の無機絶縁物質で
もよく、またＳｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ａｌ等のうち少
なくとも１元素を含む、有機金属化合物を塗布・焼成し
て得られる無機系絶縁体膜を用いることもできる。ま
た、膜厚は２００Å〜３０００Åの範囲であればよい。 (3) 配向制御膜の形成工程（Ｓ３） さらに、絶縁体膜４の上にはポリイミド形成液をスピン
ナーで塗布し、２７０℃，１時間加熱してポリイミドの
配向制御膜５を成膜する。この配向制御膜５としては、
ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリエステルイミド、ポリパラキシリレン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポ
リ塩化ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース
樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂やアクリル樹脂などの
有機絶縁物質を用いてもよく、また膜厚は５０Å〜１０
００Åの範囲であればよい。 (4) ラビング処理工程（Ｓ４） そして、この配向制御膜５の表面をナイロン性のラビン
グ布で一方向にラビング処理することによって、ラビン
グ方向と実質的に同一方向の配向規制力となる一軸性配
向軸が付与される。 (5) ギャップ材の散布工程（Ｓ５） このようにして制作されたガラス基板２を２枚用意し、
一方のガラス基板２に平均粒径約１．５μｍのビーズス
ペーサ７（シリカビーズ、アルミナビーズ等）を散布す
る。 (6) ガラス基板貼り合わせ工程（Ｓ６） そして、他方のガラス基板２にエポキシ樹脂の接着剤で
あるシール接着剤６をスクリーン印刷法で形成し、これ
ら２枚のガラス基板２を所定の間隔に保持して対向さ
せ、熱処理を施してシール接着剤６を固化させた。 (7) 液晶注入工程（Ｓ７） その後、強誘電性液晶８が注入されて液晶装置が製造さ
れる。
【０００９】インライン方式の量産工程ではガラス基板
が上記工程を順次通過することにより連続的に製造され
る。
が上記工程を順次通過することにより連続的に製造され
る。
【００１０】本発明においては、例えば、製品用のガラ
ス基板を２０枚投入する毎に、プレチルト角をモニター
する為のガラス基板を２枚を投入する様にして、所定周
期で工程管理を行う。なお、プレチルト角は、Ｊｐａ
ｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ １１９（１９８
０）Ｎｏ．１０ Ｓｈｏｉｔ ｎｏｔｅｓ ２０１３に
記載されている方法（クリスタルローテション法）等に
従って測定することができる。この測定法は簡便に高精
度な評価が可能である反面、以下の点において製品仕様
の液晶装置のプレチルト角の測定が難いという欠点を持
っている。 （１）測定精度を高めるためには、注入された液晶の厚
みが少なくとも１０μｍ以上あること。 （２）ラビング処理されたガラス基板が反平行に貼り合
わされていること。 （３）注入された液晶がＮ相、Ｃｈ相、又はＳｍＡ相の
状態であること。 （４）少なくとも、測定系の入射光であるレーザ光のス
ポット径より広い面積で、透明電極パターン等による不
連続性がないこと。
ス基板を２０枚投入する毎に、プレチルト角をモニター
する為のガラス基板を２枚を投入する様にして、所定周
期で工程管理を行う。なお、プレチルト角は、Ｊｐａ
ｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ １１９（１９８
０）Ｎｏ．１０ Ｓｈｏｉｔ ｎｏｔｅｓ ２０１３に
記載されている方法（クリスタルローテション法）等に
従って測定することができる。この測定法は簡便に高精
度な評価が可能である反面、以下の点において製品仕様
の液晶装置のプレチルト角の測定が難いという欠点を持
っている。 （１）測定精度を高めるためには、注入された液晶の厚
みが少なくとも１０μｍ以上あること。 （２）ラビング処理されたガラス基板が反平行に貼り合
わされていること。 （３）注入された液晶がＮ相、Ｃｈ相、又はＳｍＡ相の
状態であること。 （４）少なくとも、測定系の入射光であるレーザ光のス
ポット径より広い面積で、透明電極パターン等による不
連続性がないこと。
【００１１】以上の理由の為、モニター専用の液晶装置
が必要になる。しかしモニターである為には現実（製
品）の特性を反映させる必要がある。そこで、プレチル
ト角が絶縁体膜及び配向制御膜形成及びラビング処理に
最も強く影響されることを利用して、この工程を共通に
することによりモニターを可能にする。図３はこのこと
を示す工程流れ図である。なお、モニター用の液晶装置
は、２０μｍのシリカビーズの平均粒径を２０μｍとし
た。
が必要になる。しかしモニターである為には現実（製
品）の特性を反映させる必要がある。そこで、プレチル
ト角が絶縁体膜及び配向制御膜形成及びラビング処理に
最も強く影響されることを利用して、この工程を共通に
することによりモニターを可能にする。図３はこのこと
を示す工程流れ図である。なお、モニター用の液晶装置
は、２０μｍのシリカビーズの平均粒径を２０μｍとし
た。
【００１２】そして、モニターのプレチルト角から液晶
装置の特性を判定（Ｓ８，Ｓ９）し、所定の特性になる
様にラビング処理の条件を補正して、常にプレチルト角
を予め設定された設定値を近づける様に調整（Ｓ１０）
した。
装置の特性を判定（Ｓ８，Ｓ９）し、所定の特性になる
様にラビング処理の条件を補正して、常にプレチルト角
を予め設定された設定値を近づける様に調整（Ｓ１０）
した。
【００１３】これにより、製品のプレチルト角のバラツ
キが抑えられ、安定した特性を持つ液晶装置の製造が可
能になった。
キが抑えられ、安定した特性を持つ液晶装置の製造が可
能になった。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
モニター用液晶装置の特性を測定することによって、液
晶装置間のバラツキや液晶装置の良否を判定することが
可能になるとともに、製造条件を該測定結果に基づき補
正することにより、安定した特性を持つ液晶装置の生産
が可能になった。また、本発明によれば、モニター用液
晶装置は、一部の製造条件を異ならせた特定の状態で製
造するため、その特性の測定が容易となる。
モニター用液晶装置の特性を測定することによって、液
晶装置間のバラツキや液晶装置の良否を判定することが
可能になるとともに、製造条件を該測定結果に基づき補
正することにより、安定した特性を持つ液晶装置の生産
が可能になった。また、本発明によれば、モニター用液
晶装置は、一部の製造条件を異ならせた特定の状態で製
造するため、その特性の測定が容易となる。
【図１】本発明に実施例の説明に適用される液晶装置の
製造工程を示す図。
製造工程を示す図。
【図２】本発明に実施例の説明に適用される液晶装置の
断面図。
断面図。
【図３】本発明に実施例の説明に適用される液晶装置の
量産工程を示す図。
量産工程を示す図。
２ ガラス基板（透明基板） ３ 透明電極 ４ 絶縁体膜 ５ 配向制御膜 Ｓ１ 透明電極形成工程 Ｓ２ 絶縁体膜形成工程 Ｓ３ 配向制御膜形成工程 Ｓ４ ラビング処理
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1337 G02F 1/13 101
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板に透明電極を形成する透明電極
形成工程と、該透明基板に絶縁体膜を形成する絶縁体膜
形成工程と、該絶縁体膜上に配向制御膜を形成する配向
制御膜形成工程と、該配向制御膜に配向規制力を付与す
る配向処理工程と、を順次実施して液晶装置を量産する
液晶装置の量産方法において、 前記工程によって液晶装置を所定数量産する度に、その
特性が測定しやすいように一部の製造条件を異ならせて
前記工程によってモニター用液晶装置を試作し、 該試作したモニター用液晶装置の特性を測定し、かつ、 その測定結果が一定になるように、前記異ならせた製造
条件以外の製造条件を補正してなる、 ことを特徴とする液晶装置の量産方法。 - 【請求項２】 前記量産される液晶装置と前記モニター
用液晶装置とが、前記絶縁体膜形成工程、前記配向制御
膜形成工程及び前記配向処理工程において製造条件を共
通にする、 請求項１記載の液晶装置の量産方法。 - 【請求項３】 前記量産される液晶装置及び前記モニタ
ー用液晶装置が、前記各工程の他に、一方の透明基板に
ギャップ材を散布するギャップ材の散布工程と、一対の
透明基板を貼り合わせる透明基板貼り合わせ工程と、液
晶を注入する液晶注入工程と、を順次実施して製造さ
れ、かつ、 前記モニター用液晶装置を試作する際における前記ギャ
ップ材の散布工程、前記透明基板貼り合わせ工程及び前
記液晶注入工程の製造条件を、特性が測定しやすいよう
に前記量産される液晶装置の場合の製造条件とは異なら
せた、 請求項１又は請求項２記載の液晶装置の量産方法。 - 【請求項４】 前記測定される特性が、前記モニター用
液晶装置のプレチルト角であり、かつ、 前記補正される製造条件が、前記配向処理工程における
配向処理条件であり、かつ、 該補正によって前記量産される液晶装置のプレチルト角
が一定にされる、 請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶装置の量産
方法。 - 【請求項５】 前記液晶が強誘電性液晶である、 請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶装置の量産
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35920492A JP3037009B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 液晶装置の量産方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35920492A JP3037009B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 液晶装置の量産方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06194659A JPH06194659A (ja) | 1994-07-15 |
| JP3037009B2 true JP3037009B2 (ja) | 2000-04-24 |
Family
ID=18463294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35920492A Expired - Fee Related JP3037009B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 液晶装置の量産方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3037009B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11160198A (ja) | 1997-12-02 | 1999-06-18 | Nec Corp | 液晶初期配向角測定方法及び液晶初期配向角測定装置 |
| KR100841630B1 (ko) | 2002-08-22 | 2008-06-27 | 엘지디스플레이 주식회사 | 일체화된 액정표시소자 제조라인 및 이를 이용한액정표시소자 제조방법 |
-
1992
- 1992-12-24 JP JP35920492A patent/JP3037009B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06194659A (ja) | 1994-07-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |