JPH0229624A - 強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法 - Google Patents
強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法Info
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- JPH0229624A JPH0229624A JP17963088A JP17963088A JPH0229624A JP H0229624 A JPH0229624 A JP H0229624A JP 17963088 A JP17963088 A JP 17963088A JP 17963088 A JP17963088 A JP 17963088A JP H0229624 A JPH0229624 A JP H0229624A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶素子に関し、更に詳しくは、強誘電性液晶
素子の配向膜の製造方法に係わるものである。
素子の配向膜の製造方法に係わるものである。
強誘電性液晶素子はメモリー性やμ秒単位の高速応答性
を有することから大容量デイスプレィや高速液晶シャッ
ターなどに実用化が期待されている。ところで強誘電性
液晶素子を実用化する場合。
を有することから大容量デイスプレィや高速液晶シャッ
ターなどに実用化が期待されている。ところで強誘電性
液晶素子を実用化する場合。
配向処理に技術的問題点がある。
現在試みられている強誘電性液晶の配向方法は、有機薄
膜をラビング処理する方法と、酸化金属などの無機物を
斜方蒸着する方法とに太き(分けられる。
膜をラビング処理する方法と、酸化金属などの無機物を
斜方蒸着する方法とに太き(分けられる。
一般にラビング処理による配向方法では層構造のくい違
いによる二種類の線状配向欠陥がラビング軸方向とその
軸方向に対してほぼ垂直な方向に無数に現われるため、
黒レベルと白レベルのコントラスト比が著しく低下する
上、強誘電性液晶の大きな特徴であるメモリー性も有し
に(い。
いによる二種類の線状配向欠陥がラビング軸方向とその
軸方向に対してほぼ垂直な方向に無数に現われるため、
黒レベルと白レベルのコントラスト比が著しく低下する
上、強誘電性液晶の大きな特徴であるメモリー性も有し
に(い。
これに対しSiO斜方蒸着処理による配向方法では、上
述の線状配向欠陥は全(見られず、ラビング処理配向に
よる場合より高いコントラスト比が得られる上、メモリ
ー性も有しJP−’5−い。特に特開昭62−1927
24号公報に示されている方法のように1対の基板の対
向面に互いに逆の傾斜のSiO斜方蒸着膜を形成する。
述の線状配向欠陥は全(見られず、ラビング処理配向に
よる場合より高いコントラスト比が得られる上、メモリ
ー性も有しJP−’5−い。特に特開昭62−1927
24号公報に示されている方法のように1対の基板の対
向面に互いに逆の傾斜のSiO斜方蒸着膜を形成する。
逆傾斜配向の構成にすると、順傾斜配向による場合に比
べ配向むらなとも認められず良好な配向を得ることがで
きる。
べ配向むらなとも認められず良好な配向を得ることがで
きる。
しかしながらSiO斜方蒸着配向膜を用いた逆傾斜配向
による強誘電性液晶素子も、ラビング配向処理やSiO
斜方蒸着による順傾斜配向処理の液晶素子と同様に圧力
、衝撃および振動に弱い。
による強誘電性液晶素子も、ラビング配向処理やSiO
斜方蒸着による順傾斜配向処理の液晶素子と同様に圧力
、衝撃および振動に弱い。
例えば、6インチ表示画面の逆傾斜配向液晶素子のガラ
ス面の中央に6に、9層7以上の圧力をかげるとスタテ
ィック駆動時のコントラスト比が20程度から14以下
に減少する不良配向領域が1cr/を以上生ずる。この
不良配向領域は圧力と共に増大し、12kg/c!lの
圧力で表示ガラス面のほぼ6割の面積がこの不良配向領
域となる。しかもこの不良配向領域を元に戻すためには
素子に摂氏90度以上の熱をかげたのちに徐冷しなけれ
ばならず、強誘電性液晶素子をこのままの状態で実用化
することは非常に困難である。
ス面の中央に6に、9層7以上の圧力をかげるとスタテ
ィック駆動時のコントラスト比が20程度から14以下
に減少する不良配向領域が1cr/を以上生ずる。この
不良配向領域は圧力と共に増大し、12kg/c!lの
圧力で表示ガラス面のほぼ6割の面積がこの不良配向領
域となる。しかもこの不良配向領域を元に戻すためには
素子に摂氏90度以上の熱をかげたのちに徐冷しなけれ
ばならず、強誘電性液晶素子をこのままの状態で実用化
することは非常に困難である。
従って本発明は圧力や衝撃、振動に強く、実用化可能な
強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法を提供することを
目的とする。
強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法を提供することを
目的とする。
本発明は、対向面に透明電極を有する一対の基板間に強
誘電性液晶を挾持する強誘電性液晶素子の配向膜の製造
方法を2工程とし、第1の工程では、前記基板の対向面
に互いに逆の傾斜の無機絶縁物斜方蒸着膜を形成し、第
2の工程では、前記斜方蒸着膜の上に第1の工程とは逆
の方向から斜方蒸着を行い、2層の無機絶縁物斜方蒸着
配向膜を形成する製造方法である。
誘電性液晶を挾持する強誘電性液晶素子の配向膜の製造
方法を2工程とし、第1の工程では、前記基板の対向面
に互いに逆の傾斜の無機絶縁物斜方蒸着膜を形成し、第
2の工程では、前記斜方蒸着膜の上に第1の工程とは逆
の方向から斜方蒸着を行い、2層の無機絶縁物斜方蒸着
配向膜を形成する製造方法である。
本発明の方法によると互いに逆の方向から蒸着された2
層の無機絶縁物斜方蒸着膜を用いることにより強誘電性
液晶の配向状態が安定になり、圧力や衝撃に強い信頼性
のある強誘電性液晶素子が実現できる。
層の無機絶縁物斜方蒸着膜を用いることにより強誘電性
液晶の配向状態が安定になり、圧力や衝撃に強い信頼性
のある強誘電性液晶素子が実現できる。
2層の無機絶縁物斜方蒸着膜という手法はメイヤーホフ
ア−らにより無機絶縁物にSiOを用いてネマチック液
晶の配向制御に適用されている。
ア−らにより無機絶縁物にSiOを用いてネマチック液
晶の配向制御に適用されている。
〔アプライド フィジカル レターズ(Applied
physicalLetters ) 、 29 、
(1976年)、691頁〕。
physicalLetters ) 、 29 、
(1976年)、691頁〕。
この方法の大きな特徴は2回目の蒸着は90度方向を変
えて行い、蒸着時間を加減することにより、液晶のプレ
チルト角を0度から6度程度まで制御できるというもの
である。
えて行い、蒸着時間を加減することにより、液晶のプレ
チルト角を0度から6度程度まで制御できるというもの
である。
本発明は上述の2層蒸着@によるプレチルト角の制御を
強誘電性液晶の配向制御に適用するものである。以下図
面に基づいて本発明の詳細な説明する。
強誘電性液晶の配向制御に適用するものである。以下図
面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第7図において、tb)は液晶層厚2〜3μで基板界面
の影響をほとんど受けていない液晶配列(バルクの液晶
配列)であり、液晶分子76は上ガラス基板72と下ガ
ラス基板710間で逆傾斜配向状態をとっている。また
、界面付近のプレチルト角θは強誘電性液晶分子のコー
ン角と一致して22度前後であり、破線で表わされた強
誘電性液晶特有の層構造の境界線74は上下ガラス基板
72.71に対しほぼ垂直となっている。
の影響をほとんど受けていない液晶配列(バルクの液晶
配列)であり、液晶分子76は上ガラス基板72と下ガ
ラス基板710間で逆傾斜配向状態をとっている。また
、界面付近のプレチルト角θは強誘電性液晶分子のコー
ン角と一致して22度前後であり、破線で表わされた強
誘電性液晶特有の層構造の境界線74は上下ガラス基板
72.71に対しほぼ垂直となっている。
以上のような層構造をとる液晶分子の配列を歪まさずに
配向処理をした2枚のガラス基板で挟持する場合、ガラ
ス基板上に22度前後のプレチルト角を与える配向処理
をしなければならず、この条件が満たされないと液晶分
子の配列に不都合を生ずる。
配向処理をした2枚のガラス基板で挟持する場合、ガラ
ス基板上に22度前後のプレチルト角を与える配向処理
をしなければならず、この条件が満たされないと液晶分
子の配列に不都合を生ずる。
例えば、SiO斜方蒸着膜が1層の場合、液晶分子に与
えるプレチルト角は30度強であり、(C)に示すよう
に界面付近の液晶分子の配列方向77および78によっ
て層構造が折れ曲がり配向欠陥となりやすく、圧力や衝
撃に弱い液晶素子となってしまう。
えるプレチルト角は30度強であり、(C)に示すよう
に界面付近の液晶分子の配列方向77および78によっ
て層構造が折れ曲がり配向欠陥となりやすく、圧力や衝
撃に弱い液晶素子となってしまう。
これに対して、2層のSiO斜方蒸着膜はプレチルト角
を低下させることができ、2回目の蒸着時間制御により
、(alに示すように界面付近の液晶分子の配列方向7
5.76をコーン角の22度前後に一致させることがで
きる。したがって圧力や衝撃に強い歪みのない層構造を
持った強誘電性液晶素子を提供できると考えられる。
を低下させることができ、2回目の蒸着時間制御により
、(alに示すように界面付近の液晶分子の配列方向7
5.76をコーン角の22度前後に一致させることがで
きる。したがって圧力や衝撃に強い歪みのない層構造を
持った強誘電性液晶素子を提供できると考えられる。
以下実施例を参照して本発明の詳細な説明する。
(実施例1)
第1図は本発明の実施例を表わす2層SiO斜方蒸着膜
の模式断面図であり、透明電極付ガラス基板11に対し
て7度の方向12から斜方蒸着により形成されたSiO
突起物14上に、さらに逆方向16から1回目の半分の
蒸着時間をかげて形成されたSiO突起物15が付着し
て膜厚600にの2層SiO斜方蒸着膜を形成している
。
の模式断面図であり、透明電極付ガラス基板11に対し
て7度の方向12から斜方蒸着により形成されたSiO
突起物14上に、さらに逆方向16から1回目の半分の
蒸着時間をかげて形成されたSiO突起物15が付着し
て膜厚600にの2層SiO斜方蒸着膜を形成している
。
第2図は本発明の2層SiO斜方蒸着膜を用いた液晶素
子の模式断面図であり、2層SiO斜方蒸着膜26およ
び24が互いに逆傾斜配向状態で付着した厚さ1.In
の6インチサイズの透明電極付ガラス基板21および2
20間にコーン角21度のチッソ製液晶C8−1014
25が2.5μの液晶層厚を保って挾持されている。
子の模式断面図であり、2層SiO斜方蒸着膜26およ
び24が互いに逆傾斜配向状態で付着した厚さ1.In
の6インチサイズの透明電極付ガラス基板21および2
20間にコーン角21度のチッソ製液晶C8−1014
25が2.5μの液晶層厚を保って挾持されている。
以上の液晶素子に第3図に示すように、上偏光板の偏光
軸33が液晶素子31中の蒸着方向62と21度の角度
をなし、下偏光板の偏光軸34が蒸着方向62と69度
の角度をなすように偏光板を配置したのち、±IOVで
5 Hzの矩形波を印加しながら素子の中央部1crl
の領域に圧力を印加しコントラスト比の低下を測定した
。この場合の測定結果を第4図に示す。比較のため同一
液晶材料で配向膜のみポリイミドラビング処理膜並びに
1層SiO斜方蒸着膜と、本発明とは異なる2種類の液
晶素子の測定結果も合わせて示した。
軸33が液晶素子31中の蒸着方向62と21度の角度
をなし、下偏光板の偏光軸34が蒸着方向62と69度
の角度をなすように偏光板を配置したのち、±IOVで
5 Hzの矩形波を印加しながら素子の中央部1crl
の領域に圧力を印加しコントラスト比の低下を測定した
。この場合の測定結果を第4図に示す。比較のため同一
液晶材料で配向膜のみポリイミドラビング処理膜並びに
1層SiO斜方蒸着膜と、本発明とは異なる2種類の液
晶素子の測定結果も合わせて示した。
第4図かられかるように本発明の素子は他のどの配向膜
を用いた素子よりも圧力に対して強く8に#/crlの
圧力をかけてもコントラスト比の低下はほとんどない。
を用いた素子よりも圧力に対して強く8に#/crlの
圧力をかけてもコントラスト比の低下はほとんどない。
また本発明の素子に加振器で20Gの衝撃や振動を加え
ても配向の異常、コントラスト比の低下は認められなか
った。
ても配向の異常、コントラスト比の低下は認められなか
った。
(実施例2)
第5図は本発明の配向膜を用いた液晶素子の他の実施例
を表わす模式図であり、上ガラス基板の蒸着方向52と
下ガラス基板の蒸着方向56が交差角度ψをなして液晶
素子51を構成しており、実施例1と同一のSiO斜方
蒸着配向膜が付着した2枚のガラス基板の間隙にコーン
角26度のチッソ製液晶C8−1013が液晶層厚2.
5μを保って挾持されている。また、上偏光板の偏光軸
54は上ガラス基板の蒸着方向52と(26−49)の
角度をなし、下偏光板の偏光軸55は下−ガラス@
1 基板の蒸着方向56と(6’ 4 2ψ)の角度をそれ
ぞれなしている。
を表わす模式図であり、上ガラス基板の蒸着方向52と
下ガラス基板の蒸着方向56が交差角度ψをなして液晶
素子51を構成しており、実施例1と同一のSiO斜方
蒸着配向膜が付着した2枚のガラス基板の間隙にコーン
角26度のチッソ製液晶C8−1013が液晶層厚2.
5μを保って挾持されている。また、上偏光板の偏光軸
54は上ガラス基板の蒸着方向52と(26−49)の
角度をなし、下偏光板の偏光軸55は下−ガラス@
1 基板の蒸着方向56と(6’ 4 2ψ)の角度をそれ
ぞれなしている。
以上の液晶素子に±IOVで5 tlzの矩形波を印加
しながら素子の中央部1dの領域に8kII/dの圧力
を印加しコントラスト比の低下を測定した。
しながら素子の中央部1dの領域に8kII/dの圧力
を印加しコントラスト比の低下を測定した。
この場合の測定結果を第6図に示す。第6図かられかる
ようにコントラスト比の低下は交差角ψが15度前後で
極めて小さ(,10%以下であった。
ようにコントラスト比の低下は交差角ψが15度前後で
極めて小さ(,10%以下であった。
尚、実施例の中で無機絶縁物の蒸着源としてSiOを例
に上げたが、CeO2、Sio、AlF、なども同一の
効果が認められた。
に上げたが、CeO2、Sio、AlF、なども同一の
効果が認められた。
以上の実施例で述べたように、本発明によれば蒸着方向
を変えた2層SiO斜方蒸着配向膜を用いることにより
、強誘電性液晶分子個有のコーン角に適合した配向膜面
形状が得られるため、圧力や撮動、衝撃に強い安定な液
晶分子の配向状態を有する液晶素子を得ることができる
。
を変えた2層SiO斜方蒸着配向膜を用いることにより
、強誘電性液晶分子個有のコーン角に適合した配向膜面
形状が得られるため、圧力や撮動、衝撃に強い安定な液
晶分子の配向状態を有する液晶素子を得ることができる
。
従って本発明の配向膜の製造方法を用いれば。
信頼性のある強誘電性液晶素子が実現できる。
第1図は本発明の2層SiO斜方蒸着配向膜を表わす模
式断面図、第2図は本発明の液晶素子の模式断面図、第
3図は本発明の一実施例を示す液晶素子の蒸着方向と偏
光軸との関係を表わす模式図、第4図は圧力によるコン
トラスト比の変化を表わすグラフ、第5図は本発明の他
の実施例を示す液晶素子の蒸着方向と偏光軸との関係を
表わす模式図、第6図は交差角度によるコントラスト比
の変化を示すグラフ、第7図は液晶の配向状態を表わす
模式図である。 11・・・・・・透明電極付ガラス基板、12・・・・
・・1回目の斜方蒸着方向、16・・・・・・2回目の
斜方蒸着方向、14・・・・・・1回斜方蒸着によるS
iO突起物、15・・・・・・2回斜方蒸着によるSi
O突起物。 第2図 第6図 第3図 第4図 第7図 液j”aie−ツリ ン夜−11−レCンクシJ
式断面図、第2図は本発明の液晶素子の模式断面図、第
3図は本発明の一実施例を示す液晶素子の蒸着方向と偏
光軸との関係を表わす模式図、第4図は圧力によるコン
トラスト比の変化を表わすグラフ、第5図は本発明の他
の実施例を示す液晶素子の蒸着方向と偏光軸との関係を
表わす模式図、第6図は交差角度によるコントラスト比
の変化を示すグラフ、第7図は液晶の配向状態を表わす
模式図である。 11・・・・・・透明電極付ガラス基板、12・・・・
・・1回目の斜方蒸着方向、16・・・・・・2回目の
斜方蒸着方向、14・・・・・・1回斜方蒸着によるS
iO突起物、15・・・・・・2回斜方蒸着によるSi
O突起物。 第2図 第6図 第3図 第4図 第7図 液j”aie−ツリ ン夜−11−レCンクシJ
Claims (1)
- 対向面に透明電極を有する一対の基板間に強誘電性液晶
を挾持する強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法におい
て、第1の工程では、前記基板の対向面に互いに逆の傾
斜の無機絶縁物斜方蒸着膜を形成し、第2の工程では、
前記斜方蒸着膜の上に第1の工程とは逆の方向から斜方
蒸着を行い、2層の無機絶縁物斜方蒸着配向膜を形成す
ることを特徴とする強誘電性液晶素子の配向膜の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17963088A JPH0229624A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17963088A JPH0229624A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0229624A true JPH0229624A (ja) | 1990-01-31 |
Family
ID=16069125
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17963088A Pending JPH0229624A (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 強誘電性液晶素子の配向膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0229624A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005181794A (ja) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Sony Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
JP2007322652A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Canon Inc | アクティブマトリクス基板、液晶表示装置及びアクティブマトリクス基板の製造方法 |
KR100801039B1 (ko) * | 2007-01-29 | 2008-02-04 | 안원모 | 케이슨용 차수판 |
CN103505070A (zh) * | 2012-06-25 | 2014-01-15 | 神宝股份有限公司 | 无烟烤炉 |
-
1988
- 1988-07-19 JP JP17963088A patent/JPH0229624A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005181794A (ja) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Sony Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
JP4556426B2 (ja) * | 2003-12-22 | 2010-10-06 | ソニー株式会社 | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
JP2007322652A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Canon Inc | アクティブマトリクス基板、液晶表示装置及びアクティブマトリクス基板の製造方法 |
KR100801039B1 (ko) * | 2007-01-29 | 2008-02-04 | 안원모 | 케이슨용 차수판 |
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