JP2000019520A - ラビング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ラビングロールの押し込み量を的確に制御す
ることによって所定の表面配向力を持つ配向膜を得るこ
とができるラビング装置を提供する。 【解決手段】 本発明のラビング装置は、基板上に形成
された配向膜にラビング処理を施すラビングロールと、
ラビングロールを回転駆動するＡＣサーボモータと、ラ
ビングロール軸とＡＣサーボモータとの間に両者に直結
させて設けられたトルクメータと、トルクメータから検
出されたトルクに基づいてラビングロールと基板との相
対位置を調節する相対位置制御手段とを具備している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セルの配向膜
等のラビング処理に用いるラビング装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置を構成する液晶セルは、２
枚の基板の間に液晶層を挟持し、液晶分子を駆動するス
イッチング素子や電極、さらに、偏光板、液晶分子にプ
レチルト角を与える配向膜等を有して概略構成されるも
のである。配向膜は、ポリイミド系樹脂等の有機高分子
膜からなり、配向膜の表面をポリアミド等の合成繊維か
らなる布で擦るというラビング処理を施すことによっ
て、液晶層に所定方向の配向が付与される。この種のラ
ビング装置においては、図８に示すように、配向膜８が
設けられた基板１を搬送体２上に載置し、搬送体２の移
動により基板１を水平方向に移送するとともに、ラビン
グ布３が貼着されたラビングロール４を適切な圧力で配
向膜８に押し付けながら回転させ、配向膜８のラビング
処理を行う。

【０００３】ラビング処理においては、表面配向力（配
向膜が液晶分子を配向させるために液晶分子に与えるエ
ネルギー）が配向膜全体にわたって所定の大きさでかつ
均一になるように配向処理をすることが重要である。通
常、ラビング処理は、ラビングロールの回転数を一定速
度にし、かつ、搬送体による基板の移送速度も一定にし
て行っている。ところが、ラビング処理を繰り返すうち
に次第にラビング布が磨耗する、配向膜の平坦度が均一
でない等、種々の原因によって配向膜に対するラビング
ロールの接触の程度が変わるため、所定の表面配向力が
得られない、表面配向力が場所によって不均一になる、
といった問題が生じていた。

【０００４】ところで、ラビング処理時にラビングロー
ルが配向膜に与える摩擦仕事量と表面配向力とが一定の
関係にあり、所定の表面配向力を持つ配向膜を得るに
は、摩擦仕事量が上記所定の表面配向力に対応する値と
なるように制御してラビング処理を行えばよいことが見
いだされた。この摩擦仕事量とは、摩擦力に摩擦力が作
用する領域の長さ（ラビングロールの軸方向と配向膜の
移送方向が垂直な場合、ラビングロールの軸方向の長
さ）をかけた値である。また、摩擦力は、配向膜に対す
るラビングロールの押し込み量の影響を強く受ける。つ
まり、ラビングロールと搬送体との距離を近付けてラビ
ングロールの押し込み量を大きくすると摩擦力が大きく
なり、ラビングロールと搬送体との距離を離してラビン
グロールの押し込み量を小さくすると摩擦力が小さくな
るという関係である。

【０００５】したがって、所定の表面配向力を持つ配向
膜を得るためには、配向膜に対するラビングロールの押
し込み量を調節して摩擦力、ひいては摩擦仕事量を制御
すればよいことになる。図８に示す従来のラビング装置
においては、ラビングロール４の回転速度を一定になる
よう設定した時、ラビングロール４の押し込み量が大き
いとトルクが大きくなるために駆動モータ５の負荷電流
が大きくなるという関係を利用して、予め種々の押し込
み量に対応する摩擦仕事量とその時の負荷電流を把握し
ておくようにし、ラビングロール４の押し込み量を駆動
モータ５の負荷電流で間接的に制御していた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ラビン
グロールの押し込み量を駆動モータの負荷電流で制御す
る従来の方法においては、モータの発熱、モータの回転
軸を支持するベアリングの磨耗等、種々の要因によって
駆動モータの負荷電流−トルク特性自体が経時的に変化
（ドリフト）する。また、ラビング処理中のラビング布
の磨耗、配向膜を構成するポリイミド膜の焼成条件等に
よっても摩擦仕事量は変化する。つまり、駆動モータの
特性変動、ラビング布の状態変化、さらには配向膜の膜
質等の影響により、ラビングロールの押し込み量が一定
であっても摩擦仕事量が変化し、駆動モータの負荷電流
がさらに摩擦仕事量の変化分以上に経時的に変化してい
た。このことは、ラビングロール押し込み量と摩擦仕事
量との相関グラフにおいて原点の位置が経時的に変化す
ることを意味し、負荷電流を通じてラビングロールの押
し込み量を正確に制御するのは困難であった。本発明
は、上記の課題を解決するためになされたものであっ
て、ラビングロールの押し込み量を的確に制御すること
によって所定の表面配向力を持つ配向膜を得ることがで
きるラビング装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第１のラビング装置は、基板上に形成さ
れた配向膜に押し付けられるラビングロールと、このラ
ビングロールを回転駆動する回転駆動装置と、ラビング
ロール軸と回転駆動装置との間に両者に直結させて設け
られたトルクメータと、このトルクメータから検出され
たトルクに基づいてラビングロールと基板との相対位置
を調節する相対位置制御手段とを具備したことを特徴と
するものである。

【０００８】本発明の第２のラビング装置は、基板上に
形成された配向膜に押し付けられるラビングロールと、
このラビングロールを回転駆動する回転駆動装置と、ラ
ビングロール軸の一端側と回転駆動装置との間に両者に
直結させて設けられラビングロール軸の一端側のねじれ
歪を計測する第１の歪ゲージと、ラビングロール軸の他
端側に設けられてラビングロール軸の他端側のねじれ歪
を計測する第２の歪ゲージと、第１の歪ゲージと第２の
歪ゲージから検出された歪に基づいてトルクを算出しこ
のトルクに基づいてラビングロールと基板との相対位置
を調節する相対位置制御手段とを具備したことを特徴と
するものである。

【０００９】本発明の第３のラビング装置は、基板上に
形成された配向膜に押し付けられるラビングロールと、
このラビングロールを回転駆動する回転駆動装置と、基
板を載置するステージと、このステージに備えられ、ラ
ビングロールが基板に加える力を測定する歪センサと、
この歪センサで測定された力に基づいてラビングロール
と基板との相対位置を調節する相対位置制御手段とを具
備したことを特徴とするものである。

【００１０】駆動モータの負荷電流を用いてラビングロ
ールの押し込み量を制御する従来の構成に代えて、本発
明の第１のラビング装置においては、トルクメータをラ
ビングロール軸と回転駆動装置との間に直結し、このト
ルクメータによりトルクを検出し、さらに、検出された
トルクに基づいて相対位置制御手段がラビングロールと
基板との相対位置を調節する構成とした。この構成を採
用したことにより、押し込み量を一定にした時の摩擦仕
事量の変化が、駆動モータの負荷電流を通じてではな
く、トルクを通じてモニターされるため、摩擦仕事量の
変化がより直接的に把握できるようになる。つまり、本
発明のラビング装置の場合、ラビングロール押し込み量
と摩擦仕事量との相関グラフにおいて原点の位置が変化
しないことになる。そして、トルクの変化に基づいて、
相対位置制御手段がラビングロールと基板との相対位置
を調節するため、摩擦仕事量の変化に応じてラビングロ
ールの押し込み量が適切に制御され、所望の表面配向力
を有する配向膜を形成することができる。

【００１１】なお、ここで用いるトルクメータは、一例
として、図７に示すものを挙げることができる。このト
ルクメータ２０は、内部に内歯歯車２１が一体化した回
転中空円筒２２を有し、これをモータ２３により常時回
転させ、一端を駆動側、他端を負荷側に連結した軸２６
に設けられた外歯歯車２４と上記内歯歯車２１との間の
相対速度差により生じる電磁界変化をコイル２５により
交流電圧として検出するものである。

【００１２】また、本発明の第２のラビング装置におい
ては、ラビングロール軸の両端部のうち、回転駆動装置
に連結される側に第１の歪ゲージを設置し、他端側に第
２の歪ゲージを設置する構成とした。これら歪ゲージ
は、各設置位置におけるラビングロール軸のねじれ歪を
計測するものであり、計測された２つのねじれ歪量に基
づいてトルクを算出することができる。本装置では、相
対位置制御手段においてトルクが算出され、このトルク
に基づいて上記ラビングロールと基板との相対位置が調
節される。この構成により、ラビング処理時の摩擦仕事
量の変化に応じて各歪ゲージでのねじれ歪量が変化し、
その変化に応じたトルクが算出されるため、ラビングロ
ールの押し込み量が適切に制御され、所望の表面配向力
を有する配向膜を形成することができる。

【００１３】また、本発明の第３のラビング装置におい
ては、基板を載置するステージに歪センサを設け、この
歪センサによりラビングロールが基板に加える力を測定
し、さらに測定された力に基づいて相対位置制御手段が
ラビングロールと基板との相対位置を調節する構成とし
た。この構成を採用したことにより、実際にラビングロ
ールから基板に加えられる力を測定することができ、そ
の変化に基づいて、相対位置制御手段がラビングロール
と基板との相対位置を調節するため、ラビングロールの
押し込み量が適切に制御され、所望の表面配向力を有す
る配向膜を形成することができる。また、本装置におい
ては、複数の歪センサをステージの全面にわたって設け
ることで、ラビングロールから基板の各部にどの程度の
力が加えられているかを分析する、面内分布の測定も可
能である。

【００１４】なお、本発明のラビング装置においては、
ラビングロールと基板との相対位置を調節するに際し、
基板に対してラビングロール側を移動可能とする構成、
ラビングロールに対して基板側を移動可能とする構成、
もしくは基板、ラビングロールの双方を移動可能とする
構成のいずれを採用してもよい。また、ラビングロール
の支持機構とラビングロール下で基板を移動させる移動
機構とがいずれも石製の基台上に設置されることが望ま
しい。基板へのラビングロールの押し込み量を制御する
にあたって、ラビングロールと基板との相対位置を高精
度に調節する必要があり、ラビングロールの支持機構や
基板の移動機構は基台上に堅固に設置される必要があ
る。その点、基台を石製とした場合、基台が振動を吸収
することができるため、ラビングロールと基板との相対
位置を高精度に調節することが可能になる。ここで好適
に用いられる基台の材料としては、グラナイト（御影
石）等を挙げることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面により本発明について
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態例のみに
限定されるものではない。図１は第１の実施の形態のラ
ビング装置を示す平面図、図２は正面図であり、このラ
ビング装置３１は３本のラビングロール３２、３３、３
４を備え、これらラビングロールにより配向膜付きガラ
ス基板のラビング処理を行うものである。ラビングロー
ル３２、３３、３４と基板との相対位置の調節に関して
は、ラビングロールの位置を固定し、基板側がラビング
ロールに接近、離反する構成を採用している。

【００１６】図２に示すように、鋼製の架台４１上にグ
ラナイトからなる定盤４２が固定され、この定盤上にラ
ビング処理を行うべきガラス基板を移動させる基板移動
機構とラビングロールの支持機構が設置されている。定
盤４２上にガラス基板を載置するステージ４３が設けら
れ、ガラス基板は真空吸着等の手段によりステージ４３
に保持される。また、ステージ４３の下部にステージを
回転させるためのθモータ４４が設置され、このθモー
タ４４の作動によりステージ４３に保持されたガラス基
板が回転するようになっている。定盤４２上にはＡＣサ
ーボモータ４５とボールネジ４６からなる基板移動機構
が設けられており、ＡＣサーボモータ４５の作動によ
り、基板を保持したステージ４３がボールネジ４６上を
図中左側から右側に向けて移動する構成となっている。
さらに、ステージ４３は、図示しない上下動機構により
１０μｍステップで上下方向に移動可能となっている。

【００１７】図１に示すように、定盤４２上におけるス
テージ４３の移動領域を挟んだ位置にロール支持部４７
ａ、４７ｂがそれぞれ固定されている。このロール支持
部４７ａ、４７ｂも定盤４２と同様、グラナイト製であ
る。そして、これらロール支持部４７ａ、４７ｂ間に３
本のラビングロール３２、３３、３４が高さ一定に架設
されている。したがって、本装置では、上記θモータ４
４によるステージ４３の回転によって、基板上の配向膜
のラビング方向を調整する構成となっている。

【００１８】図１に示すように、ラビングロール３２、
３３、３４の軸の一端にラビングロールを回転駆動する
ためのＡＣサーボモータ（回転駆動装置）３５、３６、
３７が連結され、ラビングロール軸とＡＣサーボモータ
との間にはトルクメータ３８、３９、４０が直結して設
けられている。トルクメータは、例えば内歯歯車を設け
た回転中空円筒と、外歯歯車を設けたトーションバー
と、コイルとを有するものであり、トーションバーの両
端がラビングロール軸とモータの回転軸にそれぞれ連結
され、外歯歯車と内歯歯車との間の相対速度差により生
じる電磁界変化をコイルにより交流電圧として検出し、
ラビングロールに発生したトルクを交流電圧信号として
出力するものである。各ラビングロールにはそれぞれＡ
Ｃサーボモータとトルクメータとが設けられ、各ラビン
グロールが独立して回転駆動するとともに、各ラビング
ロールにおけるトルクを別個に検出するようになってい
る。

【００１９】また、ラビングロール３２、３３、３４、
ステージ４３等の各種の動作、ラビングロールの回転速
度、ステージの移動速度等の種々の処理条件を制御する
制御部（図示略）が設けられており、その制御部内に、
ステージの上下動機構を制御することによりラビングロ
ールと基板との相対位置を調節する相対位置制御部が設
けられている。この相対位置制御部は、各トルクメータ
が検出したトルクが信号として入力された後、そのトル
クに応じたラビングロールの基板への押し込み量を算出
し、ステージの上下動機構に制御信号を出力することに
よりラビングロールと基板との相対位置を調節する機能
を持つものである。

【００２０】次に、上記構成のラビング装置の動作につ
いて説明する。装置の初期状態において、ステージ４３
は図１中のボールネジ４６の左端にあり、ラビング処理
時よりも低い位置にある。まず、表面に配向膜を有する
ガラス基板がステージ４３上に導入され、真空吸着等に
より保持される。次に、ステージ４３がラビング時の所
定の高さにまで上昇するとともに、各ラビングロールが
回転を開始する。そして、ステージ４３が水平移動し、
ラビングロール３２、３３、３４の下方の位置にて基板
のラビング処理が行われる。ラビング処理後、更にステ
ージ４３はボールネジ４６右端に向けて水平移動し、基
板の吸着を解除しながら下降する。最後に、ラビング処
理済みの基板が排出されて、１枚の基板の処理が終了す
る。

【００２１】第１の実施の形態のラビング装置３１にお
いては、トルクメータ３８、３９、４０をラビングロー
ル軸とＡＣサーボモータ３５、３６、３７との間に直結
して設け、これらのトルクメータにより検出したトルク
に基づいて相対位置制御手段がラビングロール３２、３
３、３４と基板との相対位置を調節する構成とした。こ
の構成により、摩擦仕事量の変化がトルクを通じてモニ
ターされるため、ラビングロールの押し込み量が一定で
あっても摩擦仕事量が変化した場合に、その摩擦仕事量
の変化がより直接的に把握でき、ラビングロール押し込
み量と摩擦仕事量との相関グラフにおける原点の位置が
変化しないことになる。したがって、摩擦仕事量の変化
に応じてラビングロールの押し込み量が適切に制御さ
れ、所望の表面配向力を有する配向膜を形成することが
できる。

【００２２】図３はこの効果を実証するものであり、第
１の実施の形態のラビング装置を用いた際のラビングロ
ール押し込み量と摩擦仕事量との相関を示すグラフであ
る。図３に示すように、第１の実施の形態のラビング装
置を用い、押し込み変位量と摩擦力の関係をグラフ化し
たところ、高い相関を持つ直線状のグラフが得られた。
これにより、第１の実施の形態のラビング装置において
は、押し込み変位量を決定すれば、それに応じて摩擦力
が一義的に決定されることが確認された。

【００２３】ところで、従来のラビング装置の場合、図
８に示したように、駆動モータ５とラビングロール４を
プーリ１１、１２やタイミングベルト１０を介して接続
したものが多く、摩擦仕事量の変化がラビングロール４
の回転むら、タイミングベルト１０の伸縮、ひいてはモ
ータ５の回転むらにつながり、モータ５の負荷電流によ
る押し込み量の制御を困難にする要因の一つとなってい
た。これに対して、第１の実施の形態の場合、ラビング
ロール３２、３３、３４にＡＣサーボモータ３５、３
６、３７が直結されており、プーリやタイミングベルト
等の動力伝達機構が介在していないため、ラビングロー
ルの回転数を高精度に制御することができる。また、従
来の構成に比べて動力伝達ロスがなく、ラビングロール
の回転むらがなくなるため、これに起因する摩擦仕事量
の変化を小さく抑えることができる。

【００２４】また、第１の実施の形態のラビング装置に
おいては、ラビングロールを支持するロール支持部４７
ａ、４７ｂ、ステージの移動機構を支持する定盤４２を
ともにグラナイト製としたため、これらロール支持部や
定盤が振動を吸収し、ラビングロールと基板との相対位
置を高精度に調節することができ、表面配向力の均一な
配向膜を得ることができる。

【００２５】なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態
に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない
範囲において種々の変更を加えることが可能である。例
えば上記実施の形態では、ラビングロールと駆動モータ
との間にトルクメータを直結して設け、検出されたトル
クに基づいてラビングロールと基板との相対位置を調節
する構成としたが、この構成に代えて、図４に示す構成
としてもよい。すなわち、図４に示すように、ラビング
ロール５１の軸の一端側と駆動モータ５２との間にラビ
ングロール軸の一端側のねじれ歪を計測する第１の歪ゲ
ージ５３ａを直結して設け、ラビングロール５１の軸の
他端側にラビングロール軸の他端側のねじれ歪を計測す
る第２の歪ゲージ５３ｂを設ける。そして、第１の歪ゲ
ージと第２の歪ゲージから検出された歪に基づいてトル
クを算出し、このトルクに基づいてラビングロールと基
板との相対位置を調節する相対位置制御手段（図示略）
を設ける。

【００２６】この構成においても、第１、第２の歪ゲー
ジによって計測された２つのねじれ歪量に基づいてトル
クを算出することができる。そして、相対位置制御手段
においてトルクが算出され、このトルクに基づいてラビ
ングロールと基板との相対位置が調節される。この構成
により、ラビング処理時の摩擦仕事量の変化に応じて各
歪ゲージでのねじれ歪量が変化し、その変化に応じたト
ルクが算出されるため、ラビングロールの押し込み量が
適切に制御され、所望の表面配向力を有する配向膜が形
成されるといった上記実施の形態と同様の効果を奏する
ことができる。

【００２７】あるいは、図５に示すように、ステージの
対向する端部に歪センサを設け、ラビングロールから基
板に加えられる力（摩擦力）を測定するという構成とし
てもよい。すなわち、図５に示すように、基板を載置す
るステージ６１の対向する位置にロードセル（歪セン
サ）６２ａ、６２ｂを設け、このロードセル６２ａ、６
２ｂによりラビングロール６３が基板６４に加える力を
測定する。そして、測定された力に基づいて相対位置制
御手段（図示略）がラビングロール６３と基板６４との
相対位置を調節する。

【００２８】図５において、ステージ６１が図中右方向
に移動し、ラビングロール６３が時計回りに回転する場
合、基板６４には矢印Ｆ方向の力が加わることになる。
この力Ｆは、水平方向の力Ｆｘと垂直方向の力Ｆｚに分
解することができる。この水平方向の力Ｆｘをラビング
の強度とする。ロードセル６２ａにはこの力Ｆｘが加わ
るのでプラスの負荷を受ける。逆に、ロードセル６２ｂ
は力Ｆｘで引っ張られるのでマイナスの負荷を受けるこ
とになる。これにより、基板に加えられる力を測定する
ことができる。

【００２９】この構成を採用したことにより、実際にラ
ビングロールから基板に加えられる力をロードセルを用
いて測ることができ、その変化に基づいて、相対位置制
御手段がラビングロールと基板との相対位置を調節する
ため、ラビングロールの押し込み量が適切に制御され、
所望の表面配向力を有する配向膜が形成されるといった
上記実施の形態と同様の効果を奏することができる。

【００３０】また、本装置においては、複数のロードセ
ルをステージの全面にわたって設けることで、ラビング
ロールから基板の各部にどの程度の力が加えられている
かを分析する、面内分布の測定も可能である。図６に示
すように、ステージ６１の移動方向と平行に設けられた
一対のロードセル６２ａ、６２ｂと直交する方向に一対
のロードセル６５ａ、６５ａを設けることで、ラビング
ロール軸に平行な方向の力を測定することができる。さ
らに、ステージ６１の上面に複数のロードセル６５ｂ、
６５ｂ…を設けることで、ステージ６１の上面に加わる
力の面内分布を測定することもできる。

【００３１】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
ラビング装置によれば、トルクメータや歪ゲージの採用
により摩擦仕事量の変化がトルクを通じて直接的にモニ
ターされるため、摩擦仕事量の変化に応じてラビングロ
ールの押し込み量が適切に制御され、所望の表面配向力
を有する配向膜を形成することができる。また、本発明
のラビング装置によれば、歪センサの採用によりラビン
グ時に基板に加えられる力が直接的にモニターされるた
め、基板に加えられる力の変化に応じてラビングロール
の押し込み量が適切に制御され、所望の表面配向力を有
する配向膜を形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１の実施の形態のラビング装置を示す平面
図である。

【図２】 第１の実施の形態のラビング装置を示す正面
図である。

【図３】 第１の実施の形態のラビング装置を用いた際
のラビングロール押し込み量と摩擦仕事量との相関を示
すグラフである。

【図４】 第２の実施の形態のラビング装置を示す概略
構成図である。

【図５】 第３の実施の形態のラビング装置を示す概略
構成図である。

【図６】 複数のロードセルを設けたステージの一例を
示す概略構成図である。

【図７】 トルクメータの一例を示す概略構成図であ
る。

【図８】 従来ののラビング装置を示す概略構成図であ
る。

【符号の説明】

３１ ……ラビング装置 ３２、３３、３４……ラビングロール ３５、３６、３７……ＡＣサーボモータ ３８、３９、４０……トルクメータ ４１……架台 ４２……定盤 ４３……ステージ ４４……θモータ ４５……ＡＣサーボモータ ４６……ボールネジ ４７ａ、４７ｂ……ロール支持部 ５１……ラビングロール ５２……駆動モータ ５３ａ……第１の歪ゲージ ５３ｂ……第２の歪ゲージ ６１……ステージ ６２ａ、６２ｂ……ロードセル（歪センサ） ６３……ラビングロール ６４……基板 ６５ａ、６５ｂ……ロードセル（歪センサ）

フロントページの続き (72)発明者 永井 拓也 東京都大田区雪谷大塚町１番７号 アルプ ス電気株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 MB02 MB05

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に形成された配向膜に押し付けら
   れるラビングロールと、該ラビングロールを回転駆動す
   る回転駆動装置と、ラビングロール軸と前記回転駆動装
   置との間に両者に直結させて設けられたトルクメータ
   と、該トルクメータから検出されたトルクに基づいて前
   記ラビングロールと基板との相対位置を調節する相対位
   置制御手段とを具備してなることを特徴とするラビング
   装置。
2. 【請求項２】 基板上に形成された配向膜に押し付けら
   れるラビングロールと、該ラビングロールを回転駆動す
   る回転駆動装置と、ラビングロール軸の一端側と前記回
   転駆動装置との間に両者に直結させて設けられて前記ラ
   ビングロール軸の一端側のねじれ歪を計測する第１の歪
   ゲージと、前記ラビングロール軸の他端側に設けられて
   前記ラビングロール軸の他端側のねじれ歪を計測する第
   ２の歪ゲージと、前記第１の歪ゲージと前記第２の歪ゲ
   ージから検出された歪に基づいてトルクを算出しこのト
   ルクに基づいて前記ラビングロールと基板との相対位置
   を調節する相対位置制御手段とを具備してなることを特
   徴とするラビング装置。
3. 【請求項３】 基板上に形成された配向膜に押し付けら
   れるラビングロールと、該ラビングロールを回転駆動す
   る回転駆動装置と、基板を載置するステージと、該ステ
   ージに備えられ、前記ラビングロールが前記基板に加え
   る力を測定する歪センサと、該歪センサで測定された力
   に基づいて前記ラビングロールと基板との相対位置を調
   節する相対位置制御手段とを具備してなることを特徴と
   するラビング装置。
4. 【請求項４】 ラビングロールの支持機構とラビングロ
   ールの下で基板を移動させる移動機構とがいずれも石製
   の基台上に設置されてなることを特徴とする請求項１な
   いし３のいずれか一項に記載のラビング装置。