JPH1020311A - 液晶素子の配向膜のラビング処理方法およびラビング装置 - Google Patents
液晶素子の配向膜のラビング処理方法およびラビング装置Info
- Publication number
- JPH1020311A JPH1020311A JP8173971A JP17397196A JPH1020311A JP H1020311 A JPH1020311 A JP H1020311A JP 8173971 A JP8173971 A JP 8173971A JP 17397196 A JP17397196 A JP 17397196A JP H1020311 A JPH1020311 A JP H1020311A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rubbing
- alignment film
- roll
- contact strength
- carrier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133784—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by rubbing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1341—Filling or closing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 均一なラビング処理を施すことのできるラビ
ング処理方法およびラビング装置。 【解決手段】 配向膜１２の形成された基板が載置され
た搬送体を移送し、回転するラビングロール１８に配向
膜を接触させ、搬送体にかかる水平方向の力と、搬送体
の移送速度と、ラビングロールの回転数とを測定しつ
つ、得られた水平方向の力、搬送体の移送速度、ラビン
グロールの回転数の測定値に基づき、摩擦仕事面密度を
一定に保つように、ラビングロールと搬送体間の距離、
搬送体の移送速度、ラビングロールの回転数の少なくと
もいずれかを制御する。
ング処理方法およびラビング装置。 【解決手段】 配向膜１２の形成された基板が載置され
た搬送体を移送し、回転するラビングロール１８に配向
膜を接触させ、搬送体にかかる水平方向の力と、搬送体
の移送速度と、ラビングロールの回転数とを測定しつ
つ、得られた水平方向の力、搬送体の移送速度、ラビン
グロールの回転数の測定値に基づき、摩擦仕事面密度を
一定に保つように、ラビングロールと搬送体間の距離、
搬送体の移送速度、ラビングロールの回転数の少なくと
もいずれかを制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶素子の配向膜
のラビング処理方法およびラビング装置に関するもの
で、特に、均一なラビング処理に関するものである。
のラビング処理方法およびラビング装置に関するもの
で、特に、均一なラビング処理に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】軽量化または薄型化が可能で、また低電
圧駆動が行える液晶表示装置は、近年ますますの開発が
なされているが、なかでもその表示品位の向上と、生産
歩留りの向上ないし生産コストの低減は、急務な課題と
されている。液晶表示装置を構成する液晶素子は、２枚
の基板の間に、液晶分子を挾持し、さらにその液晶分子
を駆動するスイッチング素子や電極、さらに、偏光板
や、液晶分子にプレチルト角を与える配向膜を有して概
略構成される。配向膜はポリイミド系樹脂などの有機高
分子膜からなり、配向膜の表面上をポリアミド等の合成
繊維からなる布で擦るラビング処理を施すことにより、
所定方向の配向が付与されている。
圧駆動が行える液晶表示装置は、近年ますますの開発が
なされているが、なかでもその表示品位の向上と、生産
歩留りの向上ないし生産コストの低減は、急務な課題と
されている。液晶表示装置を構成する液晶素子は、２枚
の基板の間に、液晶分子を挾持し、さらにその液晶分子
を駆動するスイッチング素子や電極、さらに、偏光板
や、液晶分子にプレチルト角を与える配向膜を有して概
略構成される。配向膜はポリイミド系樹脂などの有機高
分子膜からなり、配向膜の表面上をポリアミド等の合成
繊維からなる布で擦るラビング処理を施すことにより、
所定方向の配向が付与されている。
【０００３】このラビング処理に使用されるラビング装
置としては、例えば、図１８に示すように、基板１４を
移送する搬送体１０と、その上方に配置されるラビング
布１６の貼着されたラビングロール１８と、ラビングロ
ール１８を回転させる回転モータ２０と、ラビングロー
ル１８を支持するロール支持体２４とで概略構成され
る。そして、ラビング処理前の配向膜１２の形成された
基板１４を搬送体１０上に載置し、搬送体１０の移動に
より基板１４を移送させると共に、ラビングロール１８
を適当な圧力で配向膜１２に押し付けながら回転させ、
配向膜１２をラビング処理する。
置としては、例えば、図１８に示すように、基板１４を
移送する搬送体１０と、その上方に配置されるラビング
布１６の貼着されたラビングロール１８と、ラビングロ
ール１８を回転させる回転モータ２０と、ラビングロー
ル１８を支持するロール支持体２４とで概略構成され
る。そして、ラビング処理前の配向膜１２の形成された
基板１４を搬送体１０上に載置し、搬送体１０の移動に
より基板１４を移送させると共に、ラビングロール１８
を適当な圧力で配向膜１２に押し付けながら回転させ、
配向膜１２をラビング処理する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】品質の高い液晶素子と
する為には、アンカリングエネルギ、即ち、配向膜が液
晶分子を配向させるために液晶分子に対して与える単位
面積あたりのエネルギ（以下、単に表面配向力という）
を、配向膜全面にわたり所定の大きさでかつ均一になる
ように配向膜を形成することが必要である。通常、ラビ
ング処理は、ラビングロールの回転数を一定速度にし、
かつ、搬送体も一定の移送速度として行うものの、１つ
の配向膜においても表面配向力が部分的に異なることが
ある。
する為には、アンカリングエネルギ、即ち、配向膜が液
晶分子を配向させるために液晶分子に対して与える単位
面積あたりのエネルギ（以下、単に表面配向力という）
を、配向膜全面にわたり所定の大きさでかつ均一になる
ように配向膜を形成することが必要である。通常、ラビ
ング処理は、ラビングロールの回転数を一定速度にし、
かつ、搬送体も一定の移送速度として行うものの、１つ
の配向膜においても表面配向力が部分的に異なることが
ある。
【０００５】また、ラビング処理を繰り返すうちに、次
第にラビング布が摩耗したり、布の毛が抜け落ちること
がある。このような低品質なラビング布でラビング処理
を施すと、ラビングロールの配向膜に対する接触強度を
所定値に保つことができず、また同じ接触強度であって
も十分な表面配向力を付与できなくなり、所定の配向膜
の製造が困難となることがある。また、配向膜の形成さ
れる基板はポリカーボネートやガラス板等からなるが、
その基板にうねり等があると、ラビング処理が均一に行
われず、ラビング後の配向膜の品質が低下することがあ
る。このように不均一なラビング処理のされた配向膜を
用いた液晶素子であると、液晶のプレチルト角が不均一
になり、表示品位が低下すると共に、生産歩留りが低下
してしまう。
第にラビング布が摩耗したり、布の毛が抜け落ちること
がある。このような低品質なラビング布でラビング処理
を施すと、ラビングロールの配向膜に対する接触強度を
所定値に保つことができず、また同じ接触強度であって
も十分な表面配向力を付与できなくなり、所定の配向膜
の製造が困難となることがある。また、配向膜の形成さ
れる基板はポリカーボネートやガラス板等からなるが、
その基板にうねり等があると、ラビング処理が均一に行
われず、ラビング後の配向膜の品質が低下することがあ
る。このように不均一なラビング処理のされた配向膜を
用いた液晶素子であると、液晶のプレチルト角が不均一
になり、表示品位が低下すると共に、生産歩留りが低下
してしまう。
【０００６】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、均一なラビング処理を施すことのできるラビ
ング処理方法およびラビング装置を提供するものであ
る。
たもので、均一なラビング処理を施すことのできるラビ
ング処理方法およびラビング装置を提供するものであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の液晶素子
の配向膜のラビング処理方法は、配向膜の形成された基
板が載置された搬送体を移送し、回転するラビングロー
ルに前記配向膜を接触させ、搬送体にかかる水平方向の
力（以下、単に「摩擦力」という）と、搬送体の移送速
度と、ラビングロールの回転数とを測定しつつ、得られ
た前記水平方向の力、搬送体の移送速度、ラビングロー
ルの回転数の測定値に基づき、摩擦仕事面密度を一定に
保つように、ラビングロールと搬送体間の距離、搬送体
の移送速度、ラビングロールの回転数の少なくともいず
れかを制御することを特徴とするものである。尚、本願
発明において搬送体の移送とは、搬送体とラビングロー
ルの相対的な移送を意味し、搬送体が停止し、ラビング
ロールが移送した場合も含み、同様に、搬送体の移送速
度とは、搬送体とラビングロールの相対速度を意味し、
搬送体が停止し、ラビングロールが移送した場合の速度
をも含む。請求項２記載の液晶素子の配向膜のラビング
処理方法は、配向膜の形成された基板が載置された搬送
体を移送し、回転するラビングロールに配向膜を接触さ
せ、配向膜とラビングロールの間の接触強度を検出しつ
つ、該検出して得られた情報をフィードバックして、配
向膜とラビングロールの間の接触強度を部分的に変動さ
せることを特徴とするものである。
の配向膜のラビング処理方法は、配向膜の形成された基
板が載置された搬送体を移送し、回転するラビングロー
ルに前記配向膜を接触させ、搬送体にかかる水平方向の
力（以下、単に「摩擦力」という）と、搬送体の移送速
度と、ラビングロールの回転数とを測定しつつ、得られ
た前記水平方向の力、搬送体の移送速度、ラビングロー
ルの回転数の測定値に基づき、摩擦仕事面密度を一定に
保つように、ラビングロールと搬送体間の距離、搬送体
の移送速度、ラビングロールの回転数の少なくともいず
れかを制御することを特徴とするものである。尚、本願
発明において搬送体の移送とは、搬送体とラビングロー
ルの相対的な移送を意味し、搬送体が停止し、ラビング
ロールが移送した場合も含み、同様に、搬送体の移送速
度とは、搬送体とラビングロールの相対速度を意味し、
搬送体が停止し、ラビングロールが移送した場合の速度
をも含む。請求項２記載の液晶素子の配向膜のラビング
処理方法は、配向膜の形成された基板が載置された搬送
体を移送し、回転するラビングロールに配向膜を接触さ
せ、配向膜とラビングロールの間の接触強度を検出しつ
つ、該検出して得られた情報をフィードバックして、配
向膜とラビングロールの間の接触強度を部分的に変動さ
せることを特徴とするものである。
【０００８】請求項３記載のラビング装置は、配向膜の
形成された基板が載置される搬送体と、配向膜に押し付
けられるラビング布およびそのラビング布の装着された
円柱状のロール体とからなるラビングロールと、該ラビ
ングロールを支持・回転させるロール支持体と、前記搬
送体とラビングロールのいずれかを他方に対して相対移
送させる移送機構と、配向膜とラビング布の間の接触強
度を検出する接触強度検出手段と、配向膜とラビング布
の間の接触強度を部分的に変動させる接触強度変動手段
と、前記接触強度検出手段で検出された接触強度の情報
を基に接触強度変動手段を制御する接触強度コントロー
ラとを有することを特徴とするものである。この際、前
記接触強度検出手段としては、配向膜とラビング布の接
触による温度変化を検出するものが適用できる。また
は、前記接触強度検出手段としては、配向膜とラビング
布の接触による音場の変化を検出するものが適用でき
る。また、接触強度変動手段としては、ラビングロール
の外形を部分的に変化させるものが適用できる。この
際、接触強度変動手段としては、複数の細孔が表面に形
成された筒状のロール体と、各細孔と連通し前記ロール
体内に配置される複数の送給管と、該送給管に接続さ
れ、前記各細孔に空気を送給する部材とを有して構成さ
れるものが望ましい。また、前記接触強度変動手段とし
ては、搬送体に設けられ、配向膜の形成された基板を部
分的に上下移動させる上下変位素子が適用できる。この
上下変位素子としては圧電素子が好適である。
形成された基板が載置される搬送体と、配向膜に押し付
けられるラビング布およびそのラビング布の装着された
円柱状のロール体とからなるラビングロールと、該ラビ
ングロールを支持・回転させるロール支持体と、前記搬
送体とラビングロールのいずれかを他方に対して相対移
送させる移送機構と、配向膜とラビング布の間の接触強
度を検出する接触強度検出手段と、配向膜とラビング布
の間の接触強度を部分的に変動させる接触強度変動手段
と、前記接触強度検出手段で検出された接触強度の情報
を基に接触強度変動手段を制御する接触強度コントロー
ラとを有することを特徴とするものである。この際、前
記接触強度検出手段としては、配向膜とラビング布の接
触による温度変化を検出するものが適用できる。また
は、前記接触強度検出手段としては、配向膜とラビング
布の接触による音場の変化を検出するものが適用でき
る。また、接触強度変動手段としては、ラビングロール
の外形を部分的に変化させるものが適用できる。この
際、接触強度変動手段としては、複数の細孔が表面に形
成された筒状のロール体と、各細孔と連通し前記ロール
体内に配置される複数の送給管と、該送給管に接続さ
れ、前記各細孔に空気を送給する部材とを有して構成さ
れるものが望ましい。また、前記接触強度変動手段とし
ては、搬送体に設けられ、配向膜の形成された基板を部
分的に上下移動させる上下変位素子が適用できる。この
上下変位素子としては圧電素子が好適である。
【０００９】
［実施形態例Ａ］本発明者等は、配向膜の表面配向力に
ついて鋭意研究を重ねた結果、ラビングロールがラビン
グ処理時に液晶配向膜に与える単位面積当たりの摩擦エ
ネルギ（以下、単に摩擦仕事面密度という）ωと表面配
向力とが一定の関係にあることを見出すことにより、所
定の表面配向力を有する配向膜を得るためには、摩擦仕
事面密度ωが前記所定の表面配向力に対応する値となる
ようにラビング処理すればよい、との知見を得た。表面
配向力と摩擦仕事面密度ωとの関係を示す一例を表１お
よび図１に示す。ここで、表面配向力と摩擦仕事面密度
ωとの関係は、ポリイミド（ＰＳＩ−Ａ−２５０１：チ
ッソ社製）からなる配向膜を形成した基板に対してラビ
ング処理条件を適宜設定してラビング処理し、この基板
と液晶（ＡＰ−４１６１ＸＸ：チッソ社製）とを用いて
作成したセルを用いてトルクバランス法により測定し
た。なお、前記ラビング処理条件の設定は、ラビングロ
ールの回転数と基板の移送速度とラビングロールに巻き
付けたラビング布を配向膜に押しつける力とを適宜変え
ることにより行った。表１には、各ラビング処理条件に
よる摩擦仕事面密度ωと前記測定により得られた表面配
向力とが示されており、表面配向力が前記測定による測
定値の平均値、最大値および最小値で示されている。し
たがって表１では、測定に用いたセルがひとつの場合に
は前記平均値、最大値および最小値が同一の値になって
おり、また測定に用いたセルが複数（３セル）の場合に
は前記平均値、最大値および最小値がそれぞれ異なった
値になっている。また図１は、縦軸を表面配向力、横軸
を摩擦仕事面密度ωにして、表１に示す表面配向力と摩
擦仕事面密度ωとの関係をグラフ化したものである。
ついて鋭意研究を重ねた結果、ラビングロールがラビン
グ処理時に液晶配向膜に与える単位面積当たりの摩擦エ
ネルギ（以下、単に摩擦仕事面密度という）ωと表面配
向力とが一定の関係にあることを見出すことにより、所
定の表面配向力を有する配向膜を得るためには、摩擦仕
事面密度ωが前記所定の表面配向力に対応する値となる
ようにラビング処理すればよい、との知見を得た。表面
配向力と摩擦仕事面密度ωとの関係を示す一例を表１お
よび図１に示す。ここで、表面配向力と摩擦仕事面密度
ωとの関係は、ポリイミド（ＰＳＩ−Ａ−２５０１：チ
ッソ社製）からなる配向膜を形成した基板に対してラビ
ング処理条件を適宜設定してラビング処理し、この基板
と液晶（ＡＰ−４１６１ＸＸ：チッソ社製）とを用いて
作成したセルを用いてトルクバランス法により測定し
た。なお、前記ラビング処理条件の設定は、ラビングロ
ールの回転数と基板の移送速度とラビングロールに巻き
付けたラビング布を配向膜に押しつける力とを適宜変え
ることにより行った。表１には、各ラビング処理条件に
よる摩擦仕事面密度ωと前記測定により得られた表面配
向力とが示されており、表面配向力が前記測定による測
定値の平均値、最大値および最小値で示されている。し
たがって表１では、測定に用いたセルがひとつの場合に
は前記平均値、最大値および最小値が同一の値になって
おり、また測定に用いたセルが複数（３セル）の場合に
は前記平均値、最大値および最小値がそれぞれ異なった
値になっている。また図１は、縦軸を表面配向力、横軸
を摩擦仕事面密度ωにして、表１に示す表面配向力と摩
擦仕事面密度ωとの関係をグラフ化したものである。
【表１】
【００１０】前記摩擦仕事面密度ωは、単位面積当たり
の摩擦力Ｐxとラビング強度Ｌとの積で表される（ω＝
Ｐx・Ｌ）。そして、単位面積当たりの摩擦力Ｐxは、次
式で表される。 Ｐx＝Ｆx／ａｌ ここで、Ｆxは摩擦力のことで、図２に示すように、ラ
ビング処理時にラビングロール１８のラビング布が配向
膜１２に与える力Ｆを垂直方向と水平方向に分力した際
の水平方向の力である。尚、垂直方向の力をＦzとす
る。また、ａは図３に示すように、ラビングロール１８
の軸方向と配向膜１２の移送方向が垂直なときでは、配
向膜１２とラビングロール１８の接触領域１１におけ
る、ラビングロール１８の軸方向の長さである。また、
ｌは接触領域１１における、配向膜１２の移送方向の長
さである。また、ラビング強度Ｌは、次式で表される。 Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ） ここで、Ｎはラビング回数である。すなわち、ラビング
処理は１つの配向膜に対して複数回行われることがあ
り、その配向膜とラビングロールの接触回数を示す。例
えば、配向膜の移送を１往復行えば、Ｎは２である。ま
た、ｒは、ラビングロールの半径であり、ｎは単位時間
当たりのラビングロールの回転数であり、ｖは搬送体の
移送速度である。従って、ωは次式で示される。
の摩擦力Ｐxとラビング強度Ｌとの積で表される（ω＝
Ｐx・Ｌ）。そして、単位面積当たりの摩擦力Ｐxは、次
式で表される。 Ｐx＝Ｆx／ａｌ ここで、Ｆxは摩擦力のことで、図２に示すように、ラ
ビング処理時にラビングロール１８のラビング布が配向
膜１２に与える力Ｆを垂直方向と水平方向に分力した際
の水平方向の力である。尚、垂直方向の力をＦzとす
る。また、ａは図３に示すように、ラビングロール１８
の軸方向と配向膜１２の移送方向が垂直なときでは、配
向膜１２とラビングロール１８の接触領域１１におけ
る、ラビングロール１８の軸方向の長さである。また、
ｌは接触領域１１における、配向膜１２の移送方向の長
さである。また、ラビング強度Ｌは、次式で表される。 Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ） ここで、Ｎはラビング回数である。すなわち、ラビング
処理は１つの配向膜に対して複数回行われることがあ
り、その配向膜とラビングロールの接触回数を示す。例
えば、配向膜の移送を１往復行えば、Ｎは２である。ま
た、ｒは、ラビングロールの半径であり、ｎは単位時間
当たりのラビングロールの回転数であり、ｖは搬送体の
移送速度である。従って、ωは次式で示される。
【数１】 よって、摩擦仕事面密度ωは、摩擦力Ｆxと、搬送体の
移送速度ｖと、ラビングロールの回転数ｎの３つのパラ
メータによって制御され得る。そこで、請求項１記載発
明においては、ラビング処理中に、摩擦力Ｆx、移送速
度ｖ、回転数ｎをモニタし、その測定データに基づいて
フィードバックし、摩擦仕事面密度ωを一定に保つこと
により、配向膜の表面配向力を所定値に均一なものとす
る。上記式より、摩擦力Ｆx又は回転数ｎが大きいと
きは摩擦仕事面密度ωは増加する傾向にあり、移送速度
ｖが大きいときは摩擦仕事面密度ωは減少する傾向にあ
る。
移送速度ｖと、ラビングロールの回転数ｎの３つのパラ
メータによって制御され得る。そこで、請求項１記載発
明においては、ラビング処理中に、摩擦力Ｆx、移送速
度ｖ、回転数ｎをモニタし、その測定データに基づいて
フィードバックし、摩擦仕事面密度ωを一定に保つこと
により、配向膜の表面配向力を所定値に均一なものとす
る。上記式より、摩擦力Ｆx又は回転数ｎが大きいと
きは摩擦仕事面密度ωは増加する傾向にあり、移送速度
ｖが大きいときは摩擦仕事面密度ωは減少する傾向にあ
る。
【００１１】したがって例えば、摩擦力Ｆxの測定値が
高くなったときには、これを小さくし、低くなったとき
には大きくする。摩擦力Ｆxは、ラビングロールと配向
膜の間の距離、すなわち、ラビングロールと搬送体間の
距離の影響を大きく受ける。これらの距離を調整するに
は、ラビングロール又は搬送体の高さを変動することに
よりなされ得る。したがって、摩擦力Ｆxが高くなった
時には、これを低下せしめる為、ラビングロールの位置
を高くするか、または搬送体の位置を低くするか、また
は、ラビングロールの位置を高くし且つ搬送体の位置を
低くすれば良い。逆に、摩擦力Ｆxが低くなった時に
は、これを増加せしめる為、ラビングロールの位置を低
くするか、または搬送体の位置を高くするか、また、ラ
ビングロールの位置を低くし且つ搬送体の位置を高くす
れば良い。ラビングロール又は搬送体の高さ調整には、
それぞれに高さ方向に移動させる為の駆動手段、例え
ば、電気モータや油圧によるものなどを設けておき、そ
れらの駆動手段にフィードバックされた情報を信号等に
より送り、作動させれば良い。
高くなったときには、これを小さくし、低くなったとき
には大きくする。摩擦力Ｆxは、ラビングロールと配向
膜の間の距離、すなわち、ラビングロールと搬送体間の
距離の影響を大きく受ける。これらの距離を調整するに
は、ラビングロール又は搬送体の高さを変動することに
よりなされ得る。したがって、摩擦力Ｆxが高くなった
時には、これを低下せしめる為、ラビングロールの位置
を高くするか、または搬送体の位置を低くするか、また
は、ラビングロールの位置を高くし且つ搬送体の位置を
低くすれば良い。逆に、摩擦力Ｆxが低くなった時に
は、これを増加せしめる為、ラビングロールの位置を低
くするか、または搬送体の位置を高くするか、また、ラ
ビングロールの位置を低くし且つ搬送体の位置を高くす
れば良い。ラビングロール又は搬送体の高さ調整には、
それぞれに高さ方向に移動させる為の駆動手段、例え
ば、電気モータや油圧によるものなどを設けておき、そ
れらの駆動手段にフィードバックされた情報を信号等に
より送り、作動させれば良い。
【００１２】また、ラビングロールの回転数ｎが増加し
たきには、それを低下せしめ、回転数ｎが減少したとき
には、それを増加せしめる。ステッピングモータから得
られる測定値のフィードバックは以下のようにして行わ
れ得る。図４に示すように、ステッピングモータ２０に
設けられたエンコーダからの出力、即ち、パルス数をド
ライバ６２に入力する。ドライバ６２においては、ま
ず、Ａ／Ｄコンバータ６４にてＡ／Ｄ変換し、その変換
されたデジタル信号をシーケンス回路６６で回転数に換
算し、モニタ表示すると共に、回転数とその所定値の差
を演算し、Ｄ／Ａコンバータ６８でＤ／Ａ変換し、アナ
ログ信号としてステッピングモータ２０にフィードバッ
クし、回転数を所定値にする。
たきには、それを低下せしめ、回転数ｎが減少したとき
には、それを増加せしめる。ステッピングモータから得
られる測定値のフィードバックは以下のようにして行わ
れ得る。図４に示すように、ステッピングモータ２０に
設けられたエンコーダからの出力、即ち、パルス数をド
ライバ６２に入力する。ドライバ６２においては、ま
ず、Ａ／Ｄコンバータ６４にてＡ／Ｄ変換し、その変換
されたデジタル信号をシーケンス回路６６で回転数に換
算し、モニタ表示すると共に、回転数とその所定値の差
を演算し、Ｄ／Ａコンバータ６８でＤ／Ａ変換し、アナ
ログ信号としてステッピングモータ２０にフィードバッ
クし、回転数を所定値にする。
【００１３】また、請求項１記載の発明では、表面配向
力を均一に保つ為に摩擦仕事面密度ωを最適値に保つべ
く、ラビング処理時に測定した摩擦力、移送速度及びラ
ビングロールの回転数に基づいてこれらをフィードバッ
クし、制御するもので、必ずしも変動のあったパラメー
タに対してのみ制御しなくとも良い。例えば、摩擦力が
増加した時は、摩擦仕事面密度ωも増加する傾向にある
ので、ラビングロールと搬送体間の距離を長くすること
の他に、またはこれに加えて、ラビングロールの回転数
ｎを低下させたり、搬送体の移送速度ｖを速くしても良
い。また、図５に示す構成のものでは、ラビングロール
１８を回転駆動するステッピングモータ２０から出力さ
れた回転数のアナログ信号をＡ／Ｄ変換ボードを備えた
ドライバ回路８０に伝送し、デジタル信号に変換する。
同様に、搬送体１０の移送用モータ７２からのモータの
回転数のアナログ信号をドライバ回路８０に伝送し、デ
ジタル信号に変換する。そして、回転数ｎ及び移送速度
ｖをモニタ表示する。また、ドライバ回路８０から出力
されるデジタル信号をコンピュータ等からなる演算装置
８２に入力し、各パラメータの値をそれらの所定値と比
較する。そして、パラメータの値が変化し、摩擦仕事面
密度ωが所定値と異なると判断されたならば、そのパラ
メータの変化量に相応するデジタル信号をＤ／Ａコンバ
ータ７８に伝送し、アナログ信号に変換した後、ステッ
ピングモータ２０及び移送用モータ７２にフィードバッ
クし、ラビングロール１８の回転数ｎ及び搬送体１０の
移送速度ｖを制御する。ここではラビングロール１８の
回転数ｎ及び搬送体１０の移送速度ｖについて説明した
が、摩擦力Ｆx、回転数ｎ及び移送速度ｖの３つのパラ
メータについて複合的に演算処理し、フィードバックす
ることが、より適格、高精度かつ瞬時に摩擦仕事面密度
ωを所定値に保つことができるので、望ましい。請求項
１記載発明においては、上述したように、摩擦力Ｆx、
搬送体の移送速度ｖ、ラビングロールの回転数ｎをラビ
ング処理中に測定し、かつフィードバックするものであ
るので、摩擦仕事面密度ωを常に一定に保つことがで
き、もって、配向膜の表面配向力を均一にすることが可
能となる。
力を均一に保つ為に摩擦仕事面密度ωを最適値に保つべ
く、ラビング処理時に測定した摩擦力、移送速度及びラ
ビングロールの回転数に基づいてこれらをフィードバッ
クし、制御するもので、必ずしも変動のあったパラメー
タに対してのみ制御しなくとも良い。例えば、摩擦力が
増加した時は、摩擦仕事面密度ωも増加する傾向にある
ので、ラビングロールと搬送体間の距離を長くすること
の他に、またはこれに加えて、ラビングロールの回転数
ｎを低下させたり、搬送体の移送速度ｖを速くしても良
い。また、図５に示す構成のものでは、ラビングロール
１８を回転駆動するステッピングモータ２０から出力さ
れた回転数のアナログ信号をＡ／Ｄ変換ボードを備えた
ドライバ回路８０に伝送し、デジタル信号に変換する。
同様に、搬送体１０の移送用モータ７２からのモータの
回転数のアナログ信号をドライバ回路８０に伝送し、デ
ジタル信号に変換する。そして、回転数ｎ及び移送速度
ｖをモニタ表示する。また、ドライバ回路８０から出力
されるデジタル信号をコンピュータ等からなる演算装置
８２に入力し、各パラメータの値をそれらの所定値と比
較する。そして、パラメータの値が変化し、摩擦仕事面
密度ωが所定値と異なると判断されたならば、そのパラ
メータの変化量に相応するデジタル信号をＤ／Ａコンバ
ータ７８に伝送し、アナログ信号に変換した後、ステッ
ピングモータ２０及び移送用モータ７２にフィードバッ
クし、ラビングロール１８の回転数ｎ及び搬送体１０の
移送速度ｖを制御する。ここではラビングロール１８の
回転数ｎ及び搬送体１０の移送速度ｖについて説明した
が、摩擦力Ｆx、回転数ｎ及び移送速度ｖの３つのパラ
メータについて複合的に演算処理し、フィードバックす
ることが、より適格、高精度かつ瞬時に摩擦仕事面密度
ωを所定値に保つことができるので、望ましい。請求項
１記載発明においては、上述したように、摩擦力Ｆx、
搬送体の移送速度ｖ、ラビングロールの回転数ｎをラビ
ング処理中に測定し、かつフィードバックするものであ
るので、摩擦仕事面密度ωを常に一定に保つことがで
き、もって、配向膜の表面配向力を均一にすることが可
能となる。
【００１４】ラビング処理を行う際に、ラビングロール
の軸方向に対して、配向膜の形成された矩形状の基板の
辺を平行または垂直にすることなく、斜めにしてラビン
グロールと配向膜とを接触する斜めラビング処理がなさ
れる場合がある。この斜めラビング処理であると、ラビ
ングロールと配向膜の接触面積Ｓは基板の移送につれて
変化する。図６を参照して接触面積Ｓの時間変化を説明
する。いま、搬送体またはラビングロールの進行方向に
対して、幅がａ、長さがｂの配向膜１２の形成された基
板を角度θだけ傾けてラビング処理するとする。また、
ラビングロール１８と配向膜１２の接触時間をｔとし、
ｌ0、σ、γについて以下のように定義する。
の軸方向に対して、配向膜の形成された矩形状の基板の
辺を平行または垂直にすることなく、斜めにしてラビン
グロールと配向膜とを接触する斜めラビング処理がなさ
れる場合がある。この斜めラビング処理であると、ラビ
ングロールと配向膜の接触面積Ｓは基板の移送につれて
変化する。図６を参照して接触面積Ｓの時間変化を説明
する。いま、搬送体またはラビングロールの進行方向に
対して、幅がａ、長さがｂの配向膜１２の形成された基
板を角度θだけ傾けてラビング処理するとする。また、
ラビングロール１８と配向膜１２の接触時間をｔとし、
ｌ0、σ、γについて以下のように定義する。
【数２】 尚、Ｍは押込み量であって、配向膜がラビングロールと
接触したときに、ラビングロールが配向膜にくいこむ深
さ（配向膜が圧縮された長さ）である。すると、基板の
移送距離ｘに応じて、接触面積Ｓは以下のようになる。
接触したときに、ラビングロールが配向膜にくいこむ深
さ（配向膜が圧縮された長さ）である。すると、基板の
移送距離ｘに応じて、接触面積Ｓは以下のようになる。
【数３】 また、接触長ｌは下記のように変化する。 （ｉ）０＜ｘ＜ｌ0 のとき ｌ＝ｘ ＝ｖｔ （ii）ｌ0＜ｘ＜ａsinθ＋ｂcosθ のとき ｌ＝ｌ0 （iii）ａsinθ＋ｂcosθ＜ｘ＜ａsinθ＋ｂcosθ＋ｌ0
のとき ｌ＝ｘ−（ａsinθ＋ｂcosθ） ＝ｖｔ−（ａsinθ＋ｂcosθ） したがって、斜めラビング処理において、接触面積Ｓは
図７に示すように時間変化する。このような斜めラビン
グ処理においては、摩擦仕事面密度ωは次式で表され
る。 ω＝Ｐx・Ｌ＝（Ｆx／Ｓ）Ｎｌ｛１＋（２πｒｎ／
ｖ）｝ 従って、摩擦仕事面密度ωは時間変化し、以下のように
表わされる。
のとき ｌ＝ｘ−（ａsinθ＋ｂcosθ） ＝ｖｔ−（ａsinθ＋ｂcosθ） したがって、斜めラビング処理において、接触面積Ｓは
図７に示すように時間変化する。このような斜めラビン
グ処理においては、摩擦仕事面密度ωは次式で表され
る。 ω＝Ｐx・Ｌ＝（Ｆx／Ｓ）Ｎｌ｛１＋（２πｒｎ／
ｖ）｝ 従って、摩擦仕事面密度ωは時間変化し、以下のように
表わされる。
【数４】 よって、接触面積は上記のように予め計算され得るの
で、斜めラビング処理においても、摩擦力Ｆx、ラビン
グロールの回転数ｎ、移送速度ｖをラビング処理中に制
御すれば常に一定の摩擦仕事面密度ωを保つことが可能
となる。
で、斜めラビング処理においても、摩擦力Ｆx、ラビン
グロールの回転数ｎ、移送速度ｖをラビング処理中に制
御すれば常に一定の摩擦仕事面密度ωを保つことが可能
となる。
【００１５】［実施形態例Ｂ］請求項３記載のラビング
装置は、配向膜とラビング布の間の接触強度を検出する
接触強度検出手段と、配向膜とラビング布の間の接触強
度を部分的に変動させる接触強度変動手段と、接触強度
検出手段で検出された接触強度の情報を基に、接触強度
変動手段を制御する接触強度コントローラとを有するも
ので、ラビング処理を施しつつ、ラビング処理の状態の
変化を検出し、直ちにその不都合を補整するようにフィ
ートバックすることができるので、均一なラビング処理
を施すことができる。また、接触強度検出手段が、配向
膜とラビング布の接触による温度変化または音場の変化
からラビング処理の状態を検出するものであると、その
ラビング処理に影響を与えることなく、瞬時にラビング
処理の状態を把握できる。
装置は、配向膜とラビング布の間の接触強度を検出する
接触強度検出手段と、配向膜とラビング布の間の接触強
度を部分的に変動させる接触強度変動手段と、接触強度
検出手段で検出された接触強度の情報を基に、接触強度
変動手段を制御する接触強度コントローラとを有するも
ので、ラビング処理を施しつつ、ラビング処理の状態の
変化を検出し、直ちにその不都合を補整するようにフィ
ートバックすることができるので、均一なラビング処理
を施すことができる。また、接触強度検出手段が、配向
膜とラビング布の接触による温度変化または音場の変化
からラビング処理の状態を検出するものであると、その
ラビング処理に影響を与えることなく、瞬時にラビング
処理の状態を把握できる。
【００１６】また、接触強度変動手段が、ラビングロー
ルの外形を部分的に変化させるものであると、ラビング
処理時の接触強度を部分的に変動することができるの
で、均一に配向された配向膜を製造することが可能とな
る。この際、ラビングロールが、空気を送給する部材、
例えばエアーコンプレッサと送給管により接続された細
孔が表面に複数形成されたロール体にラビング布が装着
されたものであると、容易にラビングロールの外形を変
動させて、部分的に接触強度を調整することができる。
また、接触強度変動手段が、基板を部分的に上下移動さ
せる上下変位素子を搬送体に設けたものであると、装置
の複雑化が僅かですむ。この際、上下変位素子が圧電素
子であると、精度の高い接触強度の補整をすることが可
能となる。上述したラビング装置を用いて配向膜にラビ
ング処理を施せば、均一なラビング処理のされた配向膜
が製造されるので、液晶素子の表示品位が向上し、また
生産歩留りを高めることができる。
ルの外形を部分的に変化させるものであると、ラビング
処理時の接触強度を部分的に変動することができるの
で、均一に配向された配向膜を製造することが可能とな
る。この際、ラビングロールが、空気を送給する部材、
例えばエアーコンプレッサと送給管により接続された細
孔が表面に複数形成されたロール体にラビング布が装着
されたものであると、容易にラビングロールの外形を変
動させて、部分的に接触強度を調整することができる。
また、接触強度変動手段が、基板を部分的に上下移動さ
せる上下変位素子を搬送体に設けたものであると、装置
の複雑化が僅かですむ。この際、上下変位素子が圧電素
子であると、精度の高い接触強度の補整をすることが可
能となる。上述したラビング装置を用いて配向膜にラビ
ング処理を施せば、均一なラビング処理のされた配向膜
が製造されるので、液晶素子の表示品位が向上し、また
生産歩留りを高めることができる。
【００１７】
［実施例Ａ］ラビング処理時に、摩擦力Ｆx、搬送体の
移送速度ｖ、ラビングロールの回転数ｎを測定し、その
測定データをフィードバックして摩擦仕事面密度ωを一
定に保つ方法の一実施例を図８，９を参照して説明す
る。この図８，９に示されているラビング装置において
は、配向膜の形成された基板が載置される搬送体１０
が、水平方向に加わる力を測定する摩擦力センサ８４上
に設けられている。搬送体１０は平板状のもので、載置
された基板が動かないように固定、保持する。摩擦力セ
ンサ８４は高さ調整台８６を介して搬送体垂直移動装置
８８上に設けられている。搬送体垂直移動装置８８は、
高さ調整台８６が載置される基台８９と、その基台８９
を上下動するステッピングモータからなる垂直移動モー
タ９０を具備してなる。さらに、搬送台７１と、その搬
送台７１に接続されたボールねじと、そのボールねじを
回転駆動するステッピングモータ等からなる搬送体移送
用モータ７２とを具備してなる搬送体水平移動装置が設
けられており、搬送体垂直移動装置８８は、搬送体水平
移動装置の搬送台７１上に設けられている。従って、搬
送体移送用モータ７２が駆動することにより、搬送体１
０は水平方向（図８において左右方向）に移送される。
移送速度ｖ、ラビングロールの回転数ｎを測定し、その
測定データをフィードバックして摩擦仕事面密度ωを一
定に保つ方法の一実施例を図８，９を参照して説明す
る。この図８，９に示されているラビング装置において
は、配向膜の形成された基板が載置される搬送体１０
が、水平方向に加わる力を測定する摩擦力センサ８４上
に設けられている。搬送体１０は平板状のもので、載置
された基板が動かないように固定、保持する。摩擦力セ
ンサ８４は高さ調整台８６を介して搬送体垂直移動装置
８８上に設けられている。搬送体垂直移動装置８８は、
高さ調整台８６が載置される基台８９と、その基台８９
を上下動するステッピングモータからなる垂直移動モー
タ９０を具備してなる。さらに、搬送台７１と、その搬
送台７１に接続されたボールねじと、そのボールねじを
回転駆動するステッピングモータ等からなる搬送体移送
用モータ７２とを具備してなる搬送体水平移動装置が設
けられており、搬送体垂直移動装置８８は、搬送体水平
移動装置の搬送台７１上に設けられている。従って、搬
送体移送用モータ７２が駆動することにより、搬送体１
０は水平方向（図８において左右方向）に移送される。
【００１８】また、搬送体１０の上方には、ロール支持
体２４で軸支されたラビングロール１８が配置されてい
る。ラビングロール１８の表面には、ポリアミド、レー
ヨン等の布からなり、表面に植毛処理が施されたラビン
グ布が設けられている。このラビング布が、基板上に形
成された、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリイ
ミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート等の
有機高分子薄膜である配向膜と接触する。ラビングロー
ル１８は、ラビングロール１８を回転駆動するステッピ
ングモータ等からなるラビングロール回転モータ２０に
接続されている。さらに、摩擦力センサ８４、ラビング
ロール回転モータ２０及び搬送体移送用モータ７２はそ
れぞれ摩擦仕事面密度コントローラ（図示略）に接続さ
れており、摩擦力Ｆx、ラビングロールの回転数ｎ及び
搬送体１０の移送速度ｖはそれぞれ摩擦仕事面密度コン
トローラに伝送されるようになっている。摩擦仕事面密
度コントローラは、得られた摩擦力Ｆx、ラビングロー
ルの回転数ｎ及び搬送体１０の移送速度ｖの測定データ
を基に、摩擦仕事面密度ωを演算し、所定値と相違して
いたら、瞬時に、搬送体垂直移動装置８８の垂直移動モ
ータ９０に対して搬送体１０の上下移動、ラビングロー
ル回転モータ２０に対して回転数の増減、搬送体移送用
モータ７２に対して移送速度の増減のいずれかまたは複
数の制御を行うように信号を伝送する。
体２４で軸支されたラビングロール１８が配置されてい
る。ラビングロール１８の表面には、ポリアミド、レー
ヨン等の布からなり、表面に植毛処理が施されたラビン
グ布が設けられている。このラビング布が、基板上に形
成された、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリイ
ミド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート等の
有機高分子薄膜である配向膜と接触する。ラビングロー
ル１８は、ラビングロール１８を回転駆動するステッピ
ングモータ等からなるラビングロール回転モータ２０に
接続されている。さらに、摩擦力センサ８４、ラビング
ロール回転モータ２０及び搬送体移送用モータ７２はそ
れぞれ摩擦仕事面密度コントローラ（図示略）に接続さ
れており、摩擦力Ｆx、ラビングロールの回転数ｎ及び
搬送体１０の移送速度ｖはそれぞれ摩擦仕事面密度コン
トローラに伝送されるようになっている。摩擦仕事面密
度コントローラは、得られた摩擦力Ｆx、ラビングロー
ルの回転数ｎ及び搬送体１０の移送速度ｖの測定データ
を基に、摩擦仕事面密度ωを演算し、所定値と相違して
いたら、瞬時に、搬送体垂直移動装置８８の垂直移動モ
ータ９０に対して搬送体１０の上下移動、ラビングロー
ル回転モータ２０に対して回転数の増減、搬送体移送用
モータ７２に対して移送速度の増減のいずれかまたは複
数の制御を行うように信号を伝送する。
【００１９】なお、この図示例のラビング装置において
は、上述した搬送体１０及び搬送体１０を移送する機構
やラビングロール１８及びラビングロール１８を回転す
る機構等は、これらを外気から遮蔽する処理箱体９４内
に配置されている。ラビング処理時には粉塵が生じるの
で、それらの拡散を防止するためである。この処理箱体
９４には、開閉扉９６が設けられており、搬送体１０上
に処理する基板を載置したり又取り出す作業は開閉扉９
６を開いて行う。処理箱体９４の天板９５にはマグネッ
ト９７が設けられており、マグネット９７は、把手９８
で開閉扉９６を持ち上げたときに開閉扉９６を固定して
おく。
は、上述した搬送体１０及び搬送体１０を移送する機構
やラビングロール１８及びラビングロール１８を回転す
る機構等は、これらを外気から遮蔽する処理箱体９４内
に配置されている。ラビング処理時には粉塵が生じるの
で、それらの拡散を防止するためである。この処理箱体
９４には、開閉扉９６が設けられており、搬送体１０上
に処理する基板を載置したり又取り出す作業は開閉扉９
６を開いて行う。処理箱体９４の天板９５にはマグネッ
ト９７が設けられており、マグネット９７は、把手９８
で開閉扉９６を持ち上げたときに開閉扉９６を固定して
おく。
【００２０】このラビング装置を使用するには、まず、
ラビング処理する配向膜の形成された基板を搬送体１０
上に載置、固定する。高さ調整台８６は予め適当な位置
に調整しおく。そして、搬送体移送用モータ７２を駆動
し、搬送体１０を水平方向に移送すると共に、ラビング
ロール回転モータ２０を駆動し、ラビングロール１８を
回転させ、ラビングロール１８と配向膜とを接触させて
ラビング処理を行う。搬送体１０の移送は１回の片道で
も良いが、通常、十分な配向を付与する為に、複数回往
復させて行う。このラビング処理中、常時、搬送体にか
かる摩擦力Ｆxを摩擦力センサ８４で測定し、その摩擦
力Ｆxと、ラビングロール回転モータ２０からの回転数
ｎと、搬送体移送用モータ７２からの搬送体１０の移送
速度とが摩擦仕事面密度コントローラに伝送される。そ
して、摩擦仕事面密度ωを所定値に保つべく、垂直移動
モータ９０に対し搬送体１０を上下動させて搬送体１０
とラビングロール１８の距離を制御したり、ラビングロ
ール回転モータ２０に対してその回転数ｎを増減させた
り、搬送体移送用モータ７２に対して搬送体１０の移送
速度を増減させる。尚、本実施例では、搬送体１０とラ
ビングロール１８の距離を搬送体の上下動により調整し
ているが、ラビングロール１８の上下動により、搬送体
１０とラビングロール１８の距離を調整するようにして
も良い。同様に、ラビングロール１８の位置を固定し、
搬送体１０を水平移動させているが、搬送体１０の位置
を固定し、ラビングロール１８を水平方向に移動するよ
うにしてもよい。こうして、ラビング処理中に摩擦仕事
面密度ωが変化しても、ラビング処理時に得られる情報
に基づいて、瞬時に摩擦仕事面密度ωを一定に保つよう
に制御することにより、配向膜の表面配向力を所定値か
つ均一なものとすることができる。
ラビング処理する配向膜の形成された基板を搬送体１０
上に載置、固定する。高さ調整台８６は予め適当な位置
に調整しおく。そして、搬送体移送用モータ７２を駆動
し、搬送体１０を水平方向に移送すると共に、ラビング
ロール回転モータ２０を駆動し、ラビングロール１８を
回転させ、ラビングロール１８と配向膜とを接触させて
ラビング処理を行う。搬送体１０の移送は１回の片道で
も良いが、通常、十分な配向を付与する為に、複数回往
復させて行う。このラビング処理中、常時、搬送体にか
かる摩擦力Ｆxを摩擦力センサ８４で測定し、その摩擦
力Ｆxと、ラビングロール回転モータ２０からの回転数
ｎと、搬送体移送用モータ７２からの搬送体１０の移送
速度とが摩擦仕事面密度コントローラに伝送される。そ
して、摩擦仕事面密度ωを所定値に保つべく、垂直移動
モータ９０に対し搬送体１０を上下動させて搬送体１０
とラビングロール１８の距離を制御したり、ラビングロ
ール回転モータ２０に対してその回転数ｎを増減させた
り、搬送体移送用モータ７２に対して搬送体１０の移送
速度を増減させる。尚、本実施例では、搬送体１０とラ
ビングロール１８の距離を搬送体の上下動により調整し
ているが、ラビングロール１８の上下動により、搬送体
１０とラビングロール１８の距離を調整するようにして
も良い。同様に、ラビングロール１８の位置を固定し、
搬送体１０を水平移動させているが、搬送体１０の位置
を固定し、ラビングロール１８を水平方向に移動するよ
うにしてもよい。こうして、ラビング処理中に摩擦仕事
面密度ωが変化しても、ラビング処理時に得られる情報
に基づいて、瞬時に摩擦仕事面密度ωを一定に保つよう
に制御することにより、配向膜の表面配向力を所定値か
つ均一なものとすることができる。
【００２１】［実施例Ｂ］図１０に示すラビング装置
は、上面に配向膜の形成された基板１４が載置される搬
送体１０と、配向膜に押し付けられるラビング布１６及
びそのラビング布１６の装着された円柱状のロール体２
２とを有したラビングロール１８と、そのラビングロー
ル１８を支持し、回転させるロール支持体２４とを有し
ている。また、この例のものでは、図示しない移送機構
によって、搬送体１０はラビングロール１８に対して移
動する。尚、搬送体１０とラビングロール１８とは相対
移動すればよく、搬送体１０を固定してラビングロール
１８を搬送体１０に対して移動するようにしても良い。
は、上面に配向膜の形成された基板１４が載置される搬
送体１０と、配向膜に押し付けられるラビング布１６及
びそのラビング布１６の装着された円柱状のロール体２
２とを有したラビングロール１８と、そのラビングロー
ル１８を支持し、回転させるロール支持体２４とを有し
ている。また、この例のものでは、図示しない移送機構
によって、搬送体１０はラビングロール１８に対して移
動する。尚、搬送体１０とラビングロール１８とは相対
移動すればよく、搬送体１０を固定してラビングロール
１８を搬送体１０に対して移動するようにしても良い。
【００２２】ラビングロール１８はロール支持体２４に
回転自在に支持されるとともに、支持体２４に設けられ
たラビングロール回転モータ２０により回転する。ロー
ル支持体２４はラビングロール１８を支持すると共に、
搬送体１０との距離を調整可能で、ラビングロール１８
を配向膜に押し付け、その接触強度を調整することがで
きる。
回転自在に支持されるとともに、支持体２４に設けられ
たラビングロール回転モータ２０により回転する。ロー
ル支持体２４はラビングロール１８を支持すると共に、
搬送体１０との距離を調整可能で、ラビングロール１８
を配向膜に押し付け、その接触強度を調整することがで
きる。
【００２３】さらに、この図１０に示すラビング装置に
あっては、搬送体１０の下方に配置された赤外線センサ
２６と、赤外線センサ２６に接続された温度分布検出装
置３４とからなる接触強度検出装置が設けられている。
赤外線センサ２６は、赤外線放射兼検出器２８とスリッ
ト３０の形成された枠体３２とを有して概略構成され
る。赤外線放射兼検出器２８は、ラビングロール１８の
下方に位置するスリット３０から、そのラビングロール
１８と配向膜の接触面に赤外線を放射すると共に、反射
して返ってくる赤外線を検出し、ラビングロール１８と
配向膜の接触面の温度を測定する。また、温度分布検出
装置３４はその測定された温度の情報から、ラビングロ
ール１８と配向膜の接触面の温度分布を検出し、接触強
度分布を演算する。
あっては、搬送体１０の下方に配置された赤外線センサ
２６と、赤外線センサ２６に接続された温度分布検出装
置３４とからなる接触強度検出装置が設けられている。
赤外線センサ２６は、赤外線放射兼検出器２８とスリッ
ト３０の形成された枠体３２とを有して概略構成され
る。赤外線放射兼検出器２８は、ラビングロール１８の
下方に位置するスリット３０から、そのラビングロール
１８と配向膜の接触面に赤外線を放射すると共に、反射
して返ってくる赤外線を検出し、ラビングロール１８と
配向膜の接触面の温度を測定する。また、温度分布検出
装置３４はその測定された温度の情報から、ラビングロ
ール１８と配向膜の接触面の温度分布を検出し、接触強
度分布を演算する。
【００２４】ラビングロール１８と配向膜は擦り合って
いるので、その間の接触強度が大きければ、発熱し、温
度が上昇しており、逆に、接触強度が不足している箇所
は低温とされていることから、温度を測定することによ
り、接触強度の強弱を判断することが可能となる。温度
分布検出装置３４で検出された接触強度分布の情報は、
接触強度コントローラ３６に伝達される。
いるので、その間の接触強度が大きければ、発熱し、温
度が上昇しており、逆に、接触強度が不足している箇所
は低温とされていることから、温度を測定することによ
り、接触強度の強弱を判断することが可能となる。温度
分布検出装置３４で検出された接触強度分布の情報は、
接触強度コントローラ３６に伝達される。
【００２５】接触強度検出手段としては、上述したよう
な赤外線センサ２６を用いたものの他に、アコースティ
ックセンサを利用するものが考えられる。ラビング布１
６と配向膜とは擦れ合っていることから、図１２に示す
ように、回転するラビング布１６に植毛されている毛３
８は配向膜１２の表面に次々と衝突し、また、図１３に
示されるように、毛３８，３８，・・・は配向膜１２上を
引き摺られる。このときの毛３８と配向膜１２間の衝突
や引き摺りにより音が発生する。この音の発生による音
場は、ラビング布１６と配向膜の接触強度が一定であれ
ば一定に保たれるが、ラビング布の摩耗や基板のうねり
等により接触強度に変化が生じると、音場にも変化が生
じる。そこで、この音場の変化をアコースティックセン
サ等で検出することにより、接触強度の変化を検出する
ことが可能となる。
な赤外線センサ２６を用いたものの他に、アコースティ
ックセンサを利用するものが考えられる。ラビング布１
６と配向膜とは擦れ合っていることから、図１２に示す
ように、回転するラビング布１６に植毛されている毛３
８は配向膜１２の表面に次々と衝突し、また、図１３に
示されるように、毛３８，３８，・・・は配向膜１２上を
引き摺られる。このときの毛３８と配向膜１２間の衝突
や引き摺りにより音が発生する。この音の発生による音
場は、ラビング布１６と配向膜の接触強度が一定であれ
ば一定に保たれるが、ラビング布の摩耗や基板のうねり
等により接触強度に変化が生じると、音場にも変化が生
じる。そこで、この音場の変化をアコースティックセン
サ等で検出することにより、接触強度の変化を検出する
ことが可能となる。
【００２６】アコースティックセンサとしては、図１１
に示すようなものが使用され得る。このものでは、音場
感知素子４０に位相処理回路装置４２が、位相処理回路
装置４２には強弱処理回路装置４４が接続され、ラビン
グ布と配向膜の間で生じる特定の周波数の音を検出し、
接触強度が検出される。この任意周波数の音場分布には
アコースティックセンサを逆さに配置することが便利で
ある。アコースティックセンサ４０は、ラビングロール
１８内に収納、配置したり、基板の下方の搬送体等に配
置される。音場の変化により検出された接触強度分布の
情報は、接触強度コントローラ３６に伝達される。
に示すようなものが使用され得る。このものでは、音場
感知素子４０に位相処理回路装置４２が、位相処理回路
装置４２には強弱処理回路装置４４が接続され、ラビン
グ布と配向膜の間で生じる特定の周波数の音を検出し、
接触強度が検出される。この任意周波数の音場分布には
アコースティックセンサを逆さに配置することが便利で
ある。アコースティックセンサ４０は、ラビングロール
１８内に収納、配置したり、基板の下方の搬送体等に配
置される。音場の変化により検出された接触強度分布の
情報は、接触強度コントローラ３６に伝達される。
【００２７】また、本実施例のラビング装置には、配向
膜とラビング布の間の接触強度を部分的に変動させるこ
とのできる接触強度変動手段が設けられている。接触強
度変動手段としては、図１４，１５に示されるような、
空気圧によってラビングロールの外形を部分的に変化さ
せるものが適用できる。この図示したラビングロールに
おいては、円筒状のロール体２２の表面に多くの細孔４
６，４６，・・・が形成されている。そして、ロール体２
２の内部には、図示しないエアーコンプレッサに接続さ
れた送給管が配置されている。送給管は、ロール体２２
の長さ方向に平行な複数の主管４８と、その各主管４８
の末端で放射状に分岐した放射管５０，５０，・・・とか
らなり、各放射管５０はロール体２２の細孔４６に連通
している。また、ラビング布１６はある程度空気が通り
抜けるので、ラビングロール１８のロール体２２とラビ
ング布１６の間には、空気が通り抜けられない膨張膜５
２を介在させておくことが望ましい。
膜とラビング布の間の接触強度を部分的に変動させるこ
とのできる接触強度変動手段が設けられている。接触強
度変動手段としては、図１４，１５に示されるような、
空気圧によってラビングロールの外形を部分的に変化さ
せるものが適用できる。この図示したラビングロールに
おいては、円筒状のロール体２２の表面に多くの細孔４
６，４６，・・・が形成されている。そして、ロール体２
２の内部には、図示しないエアーコンプレッサに接続さ
れた送給管が配置されている。送給管は、ロール体２２
の長さ方向に平行な複数の主管４８と、その各主管４８
の末端で放射状に分岐した放射管５０，５０，・・・とか
らなり、各放射管５０はロール体２２の細孔４６に連通
している。また、ラビング布１６はある程度空気が通り
抜けるので、ラビングロール１８のロール体２２とラビ
ング布１６の間には、空気が通り抜けられない膨張膜５
２を介在させておくことが望ましい。
【００２８】この構成のラビングロールであると、送給
管の主管４８ａに空気を送給すると、図１４のＡ部の細
孔４６，４６，・・・に圧縮された空気が送られ、その空
気が膨出膜５２を外側に膨らませ、ラビング布１６のＡ
部のみの外形を大きくすることができる。同様に、主管
４８ａと主管４８ｂに空気を送給すれば、２箇所の部分
でラビングロールの外形を大きくすることができる。従
って、エアーコンプレッサによる空気の送給を制御する
ことにより、その外径を大きくさせる箇所、大きさを調
整することができる。例えば、図１６（ａ）に示すもの
はいずれの送給管にも空気を送給せず円柱状のラビング
ロールであるが、図１６（ｂ）は中部近傍に、図１６
（ｃ）は端部近傍のみに空気を送給し、その外径を大き
くしたものである。ラビングロールの外径を大きくする
ことにより、その箇所における接触強度を大きくするこ
とができる。エアーコンプレッサは接触強度コントロー
ラに接続され、制御される。
管の主管４８ａに空気を送給すると、図１４のＡ部の細
孔４６，４６，・・・に圧縮された空気が送られ、その空
気が膨出膜５２を外側に膨らませ、ラビング布１６のＡ
部のみの外形を大きくすることができる。同様に、主管
４８ａと主管４８ｂに空気を送給すれば、２箇所の部分
でラビングロールの外形を大きくすることができる。従
って、エアーコンプレッサによる空気の送給を制御する
ことにより、その外径を大きくさせる箇所、大きさを調
整することができる。例えば、図１６（ａ）に示すもの
はいずれの送給管にも空気を送給せず円柱状のラビング
ロールであるが、図１６（ｂ）は中部近傍に、図１６
（ｃ）は端部近傍のみに空気を送給し、その外径を大き
くしたものである。ラビングロールの外径を大きくする
ことにより、その箇所における接触強度を大きくするこ
とができる。エアーコンプレッサは接触強度コントロー
ラに接続され、制御される。
【００２９】また、接触強度変動手段としては、ラビン
グロールでなく、搬送体に設けることもできる。例え
ば、図１７に示したものは、搬送体１０の基板１４の載
置される部分に、複数の上下変位素子５４，５４，・・・
を配置したものである。この上下変位素子５４には、例
えば、エアーロッドが適用できる。各エアーロッドはエ
アーコンプレッサに接続されており、任意の箇所のエア
ーロッドにのみ圧縮空気が送給されて伸張し、また縮ま
るようになっている。そして、配向膜の形成された基板
１４をその上に載置した場合に、エアーロッドにエアー
を送給することにより伸張したエアーロッドの上部に位
置する部分のみの基板１４を上方に変位させることがで
きる。したがって、接触強度の不足している箇所におい
て、エアーロッドを作動させれば、その部分の基板が持
ち上げられるので接触強度を高めることができる。
グロールでなく、搬送体に設けることもできる。例え
ば、図１７に示したものは、搬送体１０の基板１４の載
置される部分に、複数の上下変位素子５４，５４，・・・
を配置したものである。この上下変位素子５４には、例
えば、エアーロッドが適用できる。各エアーロッドはエ
アーコンプレッサに接続されており、任意の箇所のエア
ーロッドにのみ圧縮空気が送給されて伸張し、また縮ま
るようになっている。そして、配向膜の形成された基板
１４をその上に載置した場合に、エアーロッドにエアー
を送給することにより伸張したエアーロッドの上部に位
置する部分のみの基板１４を上方に変位させることがで
きる。したがって、接触強度の不足している箇所におい
て、エアーロッドを作動させれば、その部分の基板が持
ち上げられるので接触強度を高めることができる。
【００３０】また、エアーロッドでなく、上下変位素子
５４として、圧電素子を適用することもできる。圧電素
子は、電圧が印加されることにより伸縮するもので、伸
張した圧電素子の箇所において、その上に載置される基
板を部分的に上方に変位させることができ、接触強度を
高めることができる。これら上下変位素子は、接触強度
コントローラに接続され制御される。
５４として、圧電素子を適用することもできる。圧電素
子は、電圧が印加されることにより伸縮するもので、伸
張した圧電素子の箇所において、その上に載置される基
板を部分的に上方に変位させることができ、接触強度を
高めることができる。これら上下変位素子は、接触強度
コントローラに接続され制御される。
【００３１】本実施例のラビング装置においては、接触
強度検出手段で検出された接触強度の情報を基に、接触
強度変動手段を制御する接触強度コントローラが設けら
れている。従って、ラビングロールにより配向膜に対し
てラビング処理を施しつつ、上述した赤外線センサやア
コースティックセンサ等を利用した接触強度検出手段に
て、接触強度を検出し、接触強度が過大または不足した
箇所が検出されたら、直ちに接触強度コントローラを介
して、上述した外形の変化するラビングロールや上下変
位素子などを利用した接触強度変動手段を制御し、配向
膜に均一なラビング処理を施すことが可能となる。
強度検出手段で検出された接触強度の情報を基に、接触
強度変動手段を制御する接触強度コントローラが設けら
れている。従って、ラビングロールにより配向膜に対し
てラビング処理を施しつつ、上述した赤外線センサやア
コースティックセンサ等を利用した接触強度検出手段に
て、接触強度を検出し、接触強度が過大または不足した
箇所が検出されたら、直ちに接触強度コントローラを介
して、上述した外形の変化するラビングロールや上下変
位素子などを利用した接触強度変動手段を制御し、配向
膜に均一なラビング処理を施すことが可能となる。
【００３２】このように、配向膜のラビング処理におい
て、配向膜とラビングロールの間の接触強度を検出しつ
つ、その検出して得られた情報をフィートバックして、
配向膜とラビングロールの間の接触強度を部分的に変動
させて、均一なラビング処理を行えば、ラビング布が摩
耗したりしていて接触強度が部分的に不足したり、また
基板にうねり等があって、接触強度が過大に又は不足し
て一定に保たれない場合であっても、それらの部分の接
触強度が補整されるので、配向膜の品質の低下を防止す
ることができる。したがって、良質な配向膜が形成され
るので、この配向膜を用いた液晶素子の品質を向上させ
ることができる。
て、配向膜とラビングロールの間の接触強度を検出しつ
つ、その検出して得られた情報をフィートバックして、
配向膜とラビングロールの間の接触強度を部分的に変動
させて、均一なラビング処理を行えば、ラビング布が摩
耗したりしていて接触強度が部分的に不足したり、また
基板にうねり等があって、接触強度が過大に又は不足し
て一定に保たれない場合であっても、それらの部分の接
触強度が補整されるので、配向膜の品質の低下を防止す
ることができる。したがって、良質な配向膜が形成され
るので、この配向膜を用いた液晶素子の品質を向上させ
ることができる。
【００３３】また、ラビング処理により発生する温度差
や音場の変化を直接検出することによりラビング処理の
状態を検出するものであるので、例えば、摩擦力の変化
に起因したラビングロールの回転トルクの変化等により
検出するものに比して、より正確に、しかもラビング処
理の部分的な変化を検出することができ、特に均一なラ
ビング処理をするのに優れる。また、部分的に接触強度
の補整をすることができるので、ラビングロールの回転
トルクを調整する等の方法に比して、特に均一なラビン
グ処理をするのに優れる。
や音場の変化を直接検出することによりラビング処理の
状態を検出するものであるので、例えば、摩擦力の変化
に起因したラビングロールの回転トルクの変化等により
検出するものに比して、より正確に、しかもラビング処
理の部分的な変化を検出することができ、特に均一なラ
ビング処理をするのに優れる。また、部分的に接触強度
の補整をすることができるので、ラビングロールの回転
トルクを調整する等の方法に比して、特に均一なラビン
グ処理をするのに優れる。
【００３４】
【発明の効果】請求項１記載のラビング処理方法によれ
ば、ラビング処理時に、摩擦力、搬送体の移送速度、ラ
ビングロールの回転数とを測定し、これらの測定値に基
づいて摩擦仕事面密度を一定に保つように制御するの
で、配向膜の表面配向力を所定の大きさに且つ均一なも
のとすることができる。したがって、液晶素子の液晶の
プレチルト角を所定の大きさで均一なものとすることが
でき、表示品位が向上する。請求項２記載のラビング処
理方法によれば、均一なラビング処理のされた配向膜が
製造されるので、液晶素子の表示品位が向上し、また生
産歩留りを高めることができる。請求項３記載のラビン
グ装置であると、配向膜とラビング布の間の接触強度を
検出する接触強度検出手段と、配向膜とラビング布の間
の接触強度を部分的に変動させる接触強度変動手段と、
接触強度検出手段で検出された接触強度の情報を基に、
接触強度変動手段を制御する接触強度コントローラとが
設けられているので、ラビング処理を施しつつ、ラビン
グ処理の状態の変化を検出し、直ちにその不具合を補整
するようにフィードバックすることができるので、均一
なラビング処理を施すことができる。また、請求項４ま
たは５記載のラビング装置であると、ラビング処理に影
響を与えることなく、瞬時にラビング処理の状態を把握
することができる。
ば、ラビング処理時に、摩擦力、搬送体の移送速度、ラ
ビングロールの回転数とを測定し、これらの測定値に基
づいて摩擦仕事面密度を一定に保つように制御するの
で、配向膜の表面配向力を所定の大きさに且つ均一なも
のとすることができる。したがって、液晶素子の液晶の
プレチルト角を所定の大きさで均一なものとすることが
でき、表示品位が向上する。請求項２記載のラビング処
理方法によれば、均一なラビング処理のされた配向膜が
製造されるので、液晶素子の表示品位が向上し、また生
産歩留りを高めることができる。請求項３記載のラビン
グ装置であると、配向膜とラビング布の間の接触強度を
検出する接触強度検出手段と、配向膜とラビング布の間
の接触強度を部分的に変動させる接触強度変動手段と、
接触強度検出手段で検出された接触強度の情報を基に、
接触強度変動手段を制御する接触強度コントローラとが
設けられているので、ラビング処理を施しつつ、ラビン
グ処理の状態の変化を検出し、直ちにその不具合を補整
するようにフィードバックすることができるので、均一
なラビング処理を施すことができる。また、請求項４ま
たは５記載のラビング装置であると、ラビング処理に影
響を与えることなく、瞬時にラビング処理の状態を把握
することができる。
【００３５】請求項６記載のラビング装置であると、ラ
ビング処理時の接触強度を部分的に変動することができ
るので、均一に配向された配向膜を製造することが可能
となる。請求項７記載のラビング装置であると、容易に
ラビングロールの外形を変動させて、部分的に接触強度
を調整することができる。請求項８記載のラビング装置
であると、装置の複雑化を小さく抑えることができる。
請求項９記載のラビング装置であると、精度の高い接触
強度の補整をすることが可能となる。
ビング処理時の接触強度を部分的に変動することができ
るので、均一に配向された配向膜を製造することが可能
となる。請求項７記載のラビング装置であると、容易に
ラビングロールの外形を変動させて、部分的に接触強度
を調整することができる。請求項８記載のラビング装置
であると、装置の複雑化を小さく抑えることができる。
請求項９記載のラビング装置であると、精度の高い接触
強度の補整をすることが可能となる。
【図１】 摩擦仕事面密度ωと表面配向力の関係を示す
グラフである。
グラフである。
【図２】 摩擦力Ｆxを示す側面図である。
【図３】 配向膜とラビングロールの接触領域を示す斜
視図である。
視図である。
【図４】 ラビングロールの回転数制御の説明図であ
る。
る。
【図５】 ラビングロールの回転数制御と搬送体の移送
速度制御の説明図である。
速度制御の説明図である。
【図６】 斜めラビングにおける接触面積Ｓを説明する
ための平面図である。
ための平面図である。
【図７】 斜めラビングにおける接触面積Ｓの時間変化
を示すグラフである。
を示すグラフである。
【図８】 実施例Ａのラビング装置の正面図である。
【図９】 実施例Ａのラビング装置の側面図である。
【図１０】 実施例Ｂのラビング装置を示す斜視図であ
る。
る。
【図１１】 アコースティックセンサを示す斜視図であ
る。
る。
【図１２】 ラビング布と配向膜の接触を示す模式図で
ある。
ある。
【図１３】 ラビング布と配向膜の接触を示す模式図で
ある。
ある。
【図１４】 ロール体の一例を示す透視斜視図である。
【図１５】 ラビングロールの一例の側断面である。
【図１６】 ラビングロールの変形を示す斜視図で、図
１６（ａ）は平坦な、図１６（ｂ）は中央部が膨出し
た、図１６（ｃ）は端部近傍が膨出したラビングロール
を示したものである。
１６（ａ）は平坦な、図１６（ｂ）は中央部が膨出し
た、図１６（ｃ）は端部近傍が膨出したラビングロール
を示したものである。
【図１７】 搬送体の一例を示す斜視図である。
【図１８】 従来のラビング装置を示す正面図である。
１０ 搬送体 １２ 配向膜 １４ 基板 １６ ラビング布 １８ ラビングロール ２０ ラビングロール回転モータ ２２ ロール体 ２４ ロール支持体 ２６ 赤外線センサ ３４ 温度分布検出装置 ３６ 接触強度コントローラ ４０ 音場感知素子 ４６ 細孔 ４８ 主管 ５０ 放射管 ５４ 上下変位素子 Ｆx 摩擦力 ｎ ラビングロールの回転数 ｖ 搬送体の移送速度
Claims (9)
- 【請求項１】 配向膜の形成された基板が載置された搬
送体を移送し、回転するラビングロールに前記配向膜を
接触させ、搬送体にかかる水平方向の力と、搬送体の移
送速度と、ラビングロールの回転数とを測定しつつ、得
られた前記水平方向の力、搬送体の移送速度、ラビング
ロールの回転数の測定値に基づき、摩擦仕事面密度を一
定に保つように、ラビングロールと搬送体間の距離、搬
送体の移送速度、ラビングロールの回転数の少なくとも
いずれかを制御することを特徴とする液晶素子の配向膜
のラビング処理方法。 - 【請求項２】 配向膜の形成された基板が載置された搬
送体を移送し、回転するラビングロールに前記配向膜を
接触させ、配向膜とラビングロールの間の接触強度を検
出しつつ、該検出して得られた情報をフィードバックし
て、配向膜とラビングロールの間の接触強度を部分的に
変動させることを特徴とする液晶素子の配向膜のラビン
グ処理方法。 - 【請求項３】 配向膜の形成された基板が載置される搬
送体と、配向膜に押し付けられるラビング布およびその
ラビング布の装着された円柱状のロール体とからなるラ
ビングロールと、該ラビングロールを支持・回転させる
ロール支持体と、前記搬送体とラビングロールのいずれ
かを他方に対して相対移送させる移送機構と、配向膜と
ラビング布の間の接触強度を検出する接触強度検出手段
と、配向膜とラビング布の間の接触強度を部分的に変動
させる接触強度変動手段と、前記接触強度検出手段で検
出された接触強度の情報を基に接触強度変動手段を制御
する接触強度コントローラとを有することを特徴とする
ラビング装置。 - 【請求項４】 前記接触強度検出手段が、配向膜とラビ
ング布の接触による温度変化を検出するものであること
を特徴とする請求項３に記載のラビング装置。 - 【請求項５】 前記接触強度検出手段が、配向膜とラビ
ング布の接触による音場の変化を検出するものであるこ
とを特徴とする請求項３記載のラビング装置。 - 【請求項６】 前記接触強度変動手段が、ラビングロー
ルの外形を部分的に変化させるものであることを特徴と
する請求項３記載のラビング装置。 - 【請求項７】 接触強度変動手段が複数の細孔が表面に
形成された筒状のロール体と、各細孔と連通し前記ロー
ル体内に配置される複数の送給管と、該送給管に接続さ
れ、前記各細孔に空気を送給する部材とを有して構成さ
れることを特徴とする請求項６記載のラビング装置。 - 【請求項８】 前記接触強度変動手段が、搬送体に設け
られ、配向膜の形成された基板を部分的に上下移動させ
る上下変位素子であることを特徴とする請求項３記載の
ラビング装置。 - 【請求項９】 上下変位素子が圧電素子であることを特
徴とする請求項８記載のラビング装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8173971A JPH1020311A (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 液晶素子の配向膜のラビング処理方法およびラビング装置 |
| TW086108709A TW376463B (en) | 1996-07-03 | 1997-06-21 | Rubbing treatment of oriented film of liquid crystal element and rubbing device |
| KR1019970030541A KR100246249B1 (ko) | 1996-07-03 | 1997-07-02 | 액정소자의배향막의러빙처리방법및장치 |
| CN97112600A CN1090763C (zh) | 1996-07-03 | 1997-07-03 | 对液晶元件的定向膜进行摩擦处理的方法和摩擦装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8173971A JPH1020311A (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 液晶素子の配向膜のラビング処理方法およびラビング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1020311A true JPH1020311A (ja) | 1998-01-23 |
Family
ID=15970428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8173971A Pending JPH1020311A (ja) | 1996-07-03 | 1996-07-03 | 液晶素子の配向膜のラビング処理方法およびラビング装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1020311A (ja) |
| KR (1) | KR100246249B1 (ja) |
| CN (1) | CN1090763C (ja) |
| TW (1) | TW376463B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3982408B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2007-09-26 | 新日本石油株式会社 | フィルムのラビング方法 |
| JP2005084200A (ja) * | 2003-09-05 | 2005-03-31 | Nec Kagoshima Ltd | 液晶表示パネルのラビング配向処理装置およびラビング配向処理方法 |
| CN102798993A (zh) * | 2011-05-24 | 2012-11-28 | 广西钦州天山微电子有限公司 | Lcd定向打磨设备的检测方法及装置 |
| CN108508656A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-09-07 | 蚌埠高华电子股份有限公司 | 一种用于lcd液晶分子定向排列的摩擦辊筒结构装置 |
-
1996
- 1996-07-03 JP JP8173971A patent/JPH1020311A/ja active Pending
-
1997
- 1997-06-21 TW TW086108709A patent/TW376463B/zh active
- 1997-07-02 KR KR1019970030541A patent/KR100246249B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-07-03 CN CN97112600A patent/CN1090763C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1090763C (zh) | 2002-09-11 |
| TW376463B (en) | 1999-12-11 |
| CN1171563A (zh) | 1998-01-28 |
| KR980010528A (ko) | 1998-04-30 |
| KR100246249B1 (ko) | 2000-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4596228B2 (ja) | マイクロエレクトロニクス基板の平坦化に使用される研磨パッドの研磨面の表面状態を調整およびモニターするための装置および方法 | |
| JP3566417B2 (ja) | ポリッシング装置 | |
| CN102725144B (zh) | 用于能让电子设备印刷的滚动结构 | |
| CN1154573C (zh) | 具有改进的色带传送系统的热转印印刷机 | |
| JP2007281099A (ja) | ナノインプリント装置およびナノインプリント方法 | |
| JPH1020311A (ja) | 液晶素子の配向膜のラビング処理方法およびラビング装置 | |
| CN201804186U (zh) | 摩擦取向设备 | |
| CN103698941B (zh) | 一种定向液转印的方法及转印装置 | |
| JP2007083182A (ja) | 洗浄装置、及びこれを用いた板状の製品の製造方法 | |
| JPH0299159A (ja) | ロール間接触圧調整装置 | |
| US9260263B2 (en) | Substrate aligning unit, substrate processing apparatus having the same, and method of aligning substrate using the same | |
| JP2000019520A (ja) | ラビング装置 | |
| CN102809850B (zh) | 一种取向膜摩擦方法 | |
| JP3929001B2 (ja) | 長尺可撓性シートのラビング装置およびラビング方法 | |
| JP5201457B2 (ja) | 研磨システム | |
| CN108545954B (zh) | 一种基于定位分析的ito玻璃旋涂黑胶系统装置 | |
| JPH05215622A (ja) | 摩擦力測定装置 | |
| JP4005215B2 (ja) | 配向膜付長尺可撓性シートの製造方法およびラビング装置 | |
| JPH06206035A (ja) | フリースパンコーティング装置 | |
| JP2537897B2 (ja) | 液晶表示用配向膜のラビング処理装置 | |
| JPH1148135A (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
| JPH05231846A (ja) | ロール表面の凹凸計測装置 | |
| KR20150040108A (ko) | 롤러 회전 토크 측정 장치 및 방법 | |
| JP2001185031A (ja) | 陰極線管のフィルム貼着装置 | |
| JP2003322520A (ja) | 平面研削・研磨装置の定盤の平坦度及び形状測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030121 |