CS249527B2 - Light sensitive mixture and method of its efficent component production - Google Patents

Light sensitive mixture and method of its efficent component production Download PDF

Info

Publication number
CS249527B2
CS249527B2 CS847727A CS772784A CS249527B2 CS 249527 B2 CS249527 B2 CS 249527B2 CS 847727 A CS847727 A CS 847727A CS 772784 A CS772784 A CS 772784A CS 249527 B2 CS249527 B2 CS 249527B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
weight
parts
composition
bis
acid
Prior art date
Application number
CS847727A
Other languages
English (en)
Inventor
Gerhard Buhr
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of CS249527B2 publication Critical patent/CS249527B2/cs

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/04Chromates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/10Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L61/00Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L61/04Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
    • C08L61/06Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/675Compositions containing polyhalogenated compounds as photosensitive substances
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L59/00Compositions of polyacetals; Compositions of derivatives of polyacetals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/117Free radical
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

(54) Směs citlivá na světlo a způsob výroby účinné složky
2
Směs citlivá na světlo, obsahující jako účinnou složku derivát bis-trichlormethyl-s-triazinu a koipulační reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce derivátu bis-trichlormethyl-s-triazinu za vzniku produktu, který má ve vývojce absorpci světla nebo rozpustnost odlišnou od kopulační reakční složky, vyznačující se tím, že jako derivát bis-trichlormethyl-s-triazinu obsahuje sloučeninu obecného vzorce.
Vynález se týká směsi citlivé na světlo, která obsahuje bis-4,6-trichlormethyl-s-triaziny, které jsou substituovány v poloze 2 aromatickým zbytkem. Dále se vynález týká způsobu výroby těchto nových sloučenin.
Sloučeniny uvedeného typu jsou známé jako iniciátory ipro různé fotochemické reakce. Používají se jednak proto, aby se radikály vznikající působením aktinického záření využily k vyvolání polymerizačních reakcí nebo barevných změn, a jednak proto, aby se uvolněnou kyselinou mohly vyvo.lat další reakce.
V DE-C č. 2 243 621 se popisují trichlormethyl-s-triaziny, substituované styrylovou skupinou, které mají řadu výhodných vlastností. Nevýhodou je jejich relativně komplikovaná příprava.
V DE-C Č. 2 718 259 se popisují 2-aryl-4,6-bis-trichlormethyl-s-triazlny s vícejadernými arylovými skupinami, které mají podobně výhodné vlastnosti, zejména vysokou citlivost vůči světlu a které se dají vyrobit jednoduchým způsobem. Tyto sloučeniny však mají zpravidla vysokou citlivost jen v jednom spektrálním rozsahu a nedají se tudíž zpracovávat na materiály citlivé vůči světlu, které mají stejně vysokou citlivost vůči různým zdrojům světla, například vůči laserům s ionty argonu a rtuťovým výbojkám s galiem.
Byly rovněž činěny pokusy kombinovat iniciátory fotopolymerizace jiné struktury s takovými sloučeninami, které obsahují trichlormethylové skupiny, aby se ve směsi dosáhlo požadovaných vlastností (srov. DE-A č. 2 851 641).
Úkolem předloženého vynálezu bylo tudíž navrhnout fotoiniciátory, které se dají vyrobit jednoduchým způsobem, a které by pokud jde o citlivost vůči ultrafialovému záření laseru s argonovými ionty na straně jedné a vůči záření vysokotlaké rtuťové výbojky s galiem ve viditelném rozsahu spektra na straně druhé odpovídaly vždy alespoň fotoiniciátorům, které jsou v příslušném spektrálním rozsahu zvláště citlivé.
Tento úkol byl vyřešen nalezením nových vůči světlu citlivých sloučenin obecného vzorce I
R3 a R4 jsou navzájem rozdílné a znamenají vždy atom vodíku nebo 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylovou skupinu,
R5 a R- jsou stejné nebo rozdílné a znamenají atomy vodíku nebo atomy halogenu, alkylovou skupinu s 1 až 3 atomy uhlíku, alkenylovou -skupinu se 2 až 3 atomy uhlíku nebo alkoxyskupinu s 1 až 3 atomy uhlíku,
Ar znamená jedno- až tříjaderný, popřípadě částečně hydrogenovaný aromatický zbytek, který je popřípadě substituován atomy halogenu, nesubstituovanými nebo atomy halogenu, arylovými skupinami nebo aryloxyskupinami substituovanými alkylovými zbytky, v nichž j-sou jednotlivé methylenové skupiny popřípadě nahrazeny atomy kyslíku nebo atomy síry, a přičemž vždy dvě z těchto skupin jsou popřípadě spojeny za vzniku pěti- nebo- šestičlenného- kruhu, cykloalkylovými skupinami, alkenylovými skupinami, arylovými skupinami nebo aryloxyskupinami vždy s celkem nejvýše 12 atomy uhlíku.
Předmětem předloženého vynálezu je tudíž směs citlivá na světlo, obsahující jako účinnou složku derivát bis-trichlormethyl-s-triazinu a kopulační reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce derivátu bis-trichlormethyl-s-triazinu za vzniku produktu, který má ve vývojce absorpci světla nebo rozpustnost odlišnou od kopulační reakční složky. Směs podle vynálezu se vyznačuje tím, že derivátem bis-trichlormethyl-s-triazinu je sloučenina shora uvedeného a definovaného obecného vzorce I.
Sloučeniny podle vynálezu tvoří - působením aktinického záření volné radikály, které jsou schopné zahajovat chemické reakce, zejména polymerizační reakce iniciované radikály. Tyto sloučeniny tvoří dále při ozáření halogenovodík a mohou uvádět do chodu reakce katalyzované kyselinami, například štěpením acetalových vazeb nebo tvorbou solí, například změnou barvy indikátorových -barviv.
Aktínickým zářením se v rámci tohoto- vynálezu rozumí každé záření, jehož energie odpovídá alespoň záření krátkovlnného viditelného světla. Vhodné je zejména dlouhovlnné ultrafialové záření, avšak také elektronové záření, rentgenové záření a laserové záření apod.
V obecném vzorci I mají symboly výhodně následující význam:
R1 a R2 znamenají atomy vodíku nebo methylové skupiny, zvláště výhodně atomy vodíku,
R5 znamená atom vodíku,
R- znamená atom vodíku, atom chloru, nebo -atom bromu, alkylovou skupinu s 1 až atomy uhlíku nebo methoxyskupinu,
Ar -znamená fenylovou skupinu vzorce II (I) v němž
R1 a R2 znamenají atomy vodíku nebo methylové skupiny,
v němž
R7 a R9 jsou stejné nebo navzájem různé a znamenají atomy vodíku nebo atomy halogenu, výhodně fluoru, chloru nebo bromu, alkylové skupiny, které jsou popřípadě substituovány atomy halogenu, výhodně chloru nebo bromu, arylovými skupinami nebo aryloxyskupinaml a v nichž jsou popřípadě jednotlivé methylenové skupiny nahrazeny atomy kyslíku nebo atomy síry a přičemž vždy dva z těchto zbytků jsou popřípadě spojeny za vzniku 5- nebo 6-členného kruhu, dále znamenají cykloalkylové skupiny, alkenylové skupiny, arylové skupiny nebo aryloxyskupiny a celkový počet atomů uhlíku ve zbytcích R7 až R9 činí nejvýše 12,
Ar . znamená dále naftylovou skupinu, acenaftylovou skupinu, di- nebo tetrahydronaftylovou skupinu, indanylovou skupinu, anthrylovou skupinu, fenanthrylovou skupinu, fluorenylovou skupinu nebo tetrahydrofenanthrylovou skupinu, kteréžto skupiny jsou popřípadě substituovány halogenem, výhodně atomy chloru nebo bromu, alkylovými skupinami s 1 až 3 atomy uhlíku, alkoxyskupinami s 1 až 4 atomy uhlíku nebo alkoxyalkylovými skupinami se 3 až 6 atomy uhlíku.
Zvláště výhodné jsou sloučeniny obecného vzorce I, v němž
R1, R2, R3, R5 a R6 znamenají atomy vodíku, Ar odpovídá obecnému vzorci II, ve kterém R7 až R9 jsou stejné nebo rozdílné a znamenají atomy vodíku, atomy fluoru, atomy chloru nebo atomy bromu, alkylové skupiny, alkoxyskupiny nebo alkoxyalkylové skupiny nebo r7 znamená atom vodíku a
R8 a R9 znamenají společně dioxymethylenovou skupinu.
Zcela zvláště výhodnou sloučeninou je 2- í 4-styrylf enyl} -4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin.
Jednotlivě mohou mít u zvláště výhodných sloučenin zbytky Ar například následující význam:
fenyl,
2-, 3- nebo 4fluorfenyl,
2-, 3- nebo 4-chlorfenyl, 2-, 3- nebo. 4-bromfenyl, 2-, 3- nebo· 4-methyl-, -ethyl-,
-propyl-,
-butyl-,
-isobutyl-,
-hexyl-,
-nonyl- nebo
-dodecylfenyl,
2- , 3- nebo 4-methoxy-, -ethoxy-,
-isopropoxy-,
-butoxy-,
-pentoxy-,
-oktyloxy- nebo
-decyloxyfenyl,
2.4- dichlor- nebo
-dibromfenyl,
3.4- dichlor- nebo -dibromfenyl,
2.6 dichlorfenyl,
3- brom-4-f luorf enyl,
2.3- , 2,4-, 2,5-, 3,4- nebo
3.5- dimethoxy-,
-diethoxy-,
-dibutoxy- nebo
-diethoxyfenyl,
2-ethoxy-5-metlioxyfenyl, chlor-4-methylfenyl,
2.4- dimethylfenyl,
2-, 3- nebo 4-methoxyethyl-, -ethoxyethyl- nebo -butoxyethylfenyl,
2,4.6-trimethylf enyl,
4,5-tгilnethoxy- nebo -triethoxyfenyl,
2.3- dioxymethylenfenyl nebo
3.4- dioxymethylenfenyl.
A'y’-^-^ii^-t!'ichlormethyJ-s-triaziny obecného vzorce I se podle vynálezu vyrábějí jednodušším a výhodnějším způsobem ko-trimerisací 1 mol nitrilu arylkarboxylové kyseliny obecného vzorce III
(lil) v němž
R10 a R11 mají navzájem rozdílný význam a znamenají atom vodíku nebo skupinu CN, a
Ar, R1, R2, R5 a R6 mají významy uvedené v bodě 1, a 2 až 8 molů trichloracetonitrilu v přítomnosti halogenovodíku, výhodně chlorovodíku a Friedel-Craftsových katalyzátorů, jako chloridu hlinitého, bromidu hlinitého, chloridu titaničitého a bortrifluorid-etherátu analogickým postupem jako je popsán v Bull. Chem. Soc. Jap. 42, 2 924 [1969],
Další možnosti syntézy spočívají v reakci arylamidinů s polychlor-3-azepent-3-enem podle metody zveřejněné v Angew. Chem. 78, 982 (1966) neM například v reakci chloridů nebo anhydridů karboxylové kyseliny s N-(iminoacyl)trichloracetamidiny, pomocí nichž jsou snadno dostupné také 2-aryl-4
-methyl-6-trichlormethyl-s-triaziny, jak je popsáno· v GB-A č. 912 112.
Nitrily používané ke kotrimerisaci se mohou zvláště jednoduše syntetizovat Horner-Wittigovou olefinisací (srov. „Houben-Weyl“, sv. 5/lb, str. 396 až 401 a 895 až 899) podle schématu
přičemž
R10 nebo Ru znamenají nitrilovou skupinu, a všechny ostatní zbytky mají význam uvedený pod vzorcem I.
Diethylester aralkylfosfonové kyseliny vzniká hladce reakcí odpovídajících a-halogenalkylaromátů s triethylfosfitem.
Nitrily se mohou samozřejmě vyrábět také podle dalších metod známých z literatury výměnou nebo z odpovídajících karboxylových kyselin nebo derivátů karboxylových kyselin. V publikaci „Methoden der organ. Chemie“ (Houben-Weyl), sv. 5/lb (1972) je možno nalézt řadu syntéz substituovaných stilbenů.
Nové sloučeniny podle vynálezu jsou vhodné jako fotoiniciátory pro fotopolymerisovatelné vrstvy, které jsou podstatné složky obsahují monomery, pojidla a iniciátory.
Fotopolymerisovatelné monomery upotřebitelné pro tuto aplikaci jsou známé a jsou popsány například v amerických patentových spisech č. 2 760 863 a č. 3 020 023.
Výhodnými příklady jsou estery kyseliny akrylové a methakrylové odvozené od vícemocných alkoholů, jako je diglycerlndiakrylát, polyethylenglykoldimethakrylát, akryláty a methakryláty trimethylolethanu, trimethylolpropanu a pentaerythritu a vícemocných alicyklických alkoholů. Výhodně se používá také reakčních produktů diisokyanátů s parciálními estery vícemocných alkoholů. Takovéto monomery se popisují například v DE-A č. 2 064 079, 2 361 041 a číslo 2 822 190.
Podíl monomerů ve vrstvě činí obecně asi až 80, výhodně 20 až 60 % hmotnosti.
Jako pojidla se mohou používat četné rozpustné organické polymery. Jako příklady lze uvést:
polyamidy, polyvinylestery, polyvinylacetaly, polyvinylethery, epoxidové pryskyřice, estery polyakrylové kyseliny, estery polymethakrylové kyseliny, polyestery, alkydové pryskyřice, polyakrylamid, polyvinylalkohol, polyethylenoxid, polydimethylakrylamid, polyvinylpyrrolidon, polyvinylmethylformamid, polyvinylmethylacetamid, jakož i kopolymery monomerů, které tvoří uvedené homopolymery.
Dále přicházejí v úvahu jako pojidla přírodní látky nebo přeměněné přírodní látky, například želatina a ethery celulosy.
S výhodou se používá pojidel,, která jsou nerozpustná ve vodě, která však jsou ve vodně-alkalických roztocích rozpustná nebo alespoň botnatelná, vzhledem k tomu, že vrstvy s takovýmito pojidly se dají vyvíjet výhodně pomocí vodně alkalických vývojek. Takováto pojidla mohou obsahovat například skupiny:
—COOH, —PO3H2, —SO3H, —SO2NH—, —SO2NHSO—2 a —SO2NH—CO—.
Jako příklady těchto látek lze uvést: maleinátové pryskyřice, polymery z ((^--ne^i^lhakrylovloxyethyl )esteru N-(p-tolylsulfonyl) karbanové kyseliny a kopolymery těchto a podobných monomerů s dalšími monomery, jakož i kopolymery styrénu a anhydridu maleinové kyseliny. Výhodné jsou kopolymery alkylmethakrylátu a methakrylové kyseliny a kopolymery z methakrylové kyseliny, alkylnmthakryláiů a methylmethakrylátu nebo/a styrenu, akrylonitrilu apod., jak je popisují v DE-A č. 2 064 080 a 2 363 806.
Množství pojidla činí obecně 20 až 90, výhodně 40 až 80 % hmotnosti složek vrstvy.
Fotopolymerovatelné směsi mohou obsahovat vždy podle plánovaného účelu použití a. podle požadovaných vlastností různé látky jako přísady: Jako přísady lze uvést:
inhibitory k zabránění termické polymerisace monomerů, donory vodíku, do nory vodíku, látky modifikující sensitometrické vlastnosti takovýchto vrstev, barviva, barevné a bezbarvé pigmenty, barvotvorné látky, indikátory, změkčovadla apod.
Fotopolymerisovatelná směs se může používat pro nejrůznější aplikace, například k výrobě bezpečnostního skla, laků, · které se vytvrzují světlem nebo korpuskulárním zářením. například elektronovým zářením, v dentální oblasti a zejména kopírovacího materiálu citlivého na světlo v oblasti reprodukční techniky. Jako aplikační možnosti v této oblasti lze uvést: kopírovací vrstvy pro fotochemickou výrobu tiskových forem pro tisk z výšky, tisk z plochy, hlubotisk, sítotisk, reliéfních kopií, například k výrobě textů ve slepeckém písmu, jednotlivých kopií, obrazů při činění, obrazů pomocí pigmentů atd. Dále jsou tyto směsi použitelné pro fotomecha.nickou výrobu leptu reserv, například pro výrobu jmenných štítků, kopírovacích obvodů a pro leptání tvarových tělísek.
Průmyslové zhodnocení směsi pro uvedené účelv použití se může provádět ve formě kapalného roztoku· nebo disperze, například ve formě fot-oresístentního roztoku, který snotřebitel sám aplikuje na individuální nosič, například k leptání tvarových tělísek, pro výrobu tištěných obvodů, sítotiskových šablon a pod. Tato směs se může vyskytovat také ve formě vrstvv citlivé na světlo na vhodném nosiči ve formě skladování schopného předem vrstvou citlivou na světlo opatřeného kopírovacího materiálu, například pro výrobu tiskových forem. Rovněž tak je uvedená směs vhodná pro výrobu suchých chránidel.
Obecně je přiz uivé chránit uvedené směsi během fotopolymerisace před vlivem kyslíku. V případě použití směsi ve formě tenkých kopírovacích vrstev je možno doporučit nanášením vhodného krycího filmu, který je málo propustný pro kyslík. Tento film může být samonosný a před vyvíjením kopírovací vrstvy se odejme. Pro tento účel jsou vhodné například polyesterové filmy.
Krycí film může také sestávat z materiálu. který se ve vyvíjecí kapalině · rozpouští nebo se dá alespoň na nevytvrzených místech při vyvíjení odstranit. Materiály vhodnými pro tento účel jsou například vosky, polyvinylalkohol, cukry atd.
Jako nosiče vrstev pro kopírovací materiály vyráběné ze směsí podle vynálezu se hodí například hliník, ocel, zinek, měď a fólie z plastické hmoty, například z polyethylentereftalótu nebo acetátu celulózy, jakož i nosiče pro sítotisk, jako je perlonová gáza.
Sloučeniny citlivé na záření jsou jako fotoiniciátory účinné již v koncentracích od asi 0,05 % z celkové hmotnosti směsi. Koncentrace nad 10 % hmotnostních je obecně . neúčelná. Výhodně se používO koncentrací od 0,2 do 7 · %.
Dole se mohou sloučeniny podle vynálezu používat také v takových směsích citlivých m zuření, u nichž se změny vlastností dosah’>e kyselými kataiyzátorv, které vznikají při foiolýze. Uvést lze například kationickou polymerisaci systémů, které obsahují vinylethery, N-vinylderiváty, jako N-vinylkarbazol nebo speciální vůči účinku kyselin labilní laktony, přičemž není vyloučeno, že na některých z těchto reakcí se podílí také radikálové pochody.
Jako hmoty tvrditelné kyselinami lze uvést dále aminoplasty, jako mcčovinoformaldehydové pryskyřice, melaminformaldehydové pryskyřice a další N~methylolderiváty, jakož i fenolforma.ldehydové pryskyřice. Jestliže se také vytvrzování epoxidových pryskyřic provádí obecně působením Lewisových kyselin, popřípadě takových kyselin, jejichž anionty mají nižší nukleofilii než chloridabromid.tedynežaniontvhalogenovochlorid a bromid, tedy než anionty halogenovodíkových kyselin, které vznikají při fotolýze za použití nových sloučenin, pak se přesto vytvrzují vrstvy, které sestávají z epoxidových pryskyřic a novolaků hlad.ce při ozáření v přítomnosti sloučenin podle vynálezu..
Další výhodná vlastnost nových sloučenin spočívá v jejich schopnosti vyvolávat v barevných systémech při fotolýze barevný přechod; z předproduktů barviv, například z leukoderivOtů. indukují vznik barvy nebo způsobují bathochromní posuny barev a zintenzivnění barev ve směsích, které obsahují cyaninové, merocyaninové nebo styrylové báze barviv.
Také je možno například ve směsích, které jsou popsány v- DE-A č. 1 572 080 a které obsahují barevnou bázi, N-vinylkarbazol a halogenovaný uhlovodík, nahradit halogenderivát tetrabrommethanu částí jeho množství, tj. asi 2 %, sloučeninou ipodle vynálezu. Barevné přechody jsou v technice žádoucí například také při výrobě tiskových forem, aby se mohl po ozáření ještě před vyvíjením posoudit výsledek kopírování. Místo látek uvolňujících kyselinu, které jsou uvedeny v> DE-A č. 2 331 377 a 2 641 100, se výhodně používají sloučeniny podle předloženého vynálezu.
Zvláště výhodnou oblastí aplikace pro sloučeniny podle vynálezu jsou směsi, které vedle jiných složek obsahují jako podstatnou složku sloučeninu s alespoň jedním seskupením С—O—C, které je štěpitelné kyselinou. Jako sloučeniny, které jsou štěpitelné kyselinou, lze uvést především:
A. takové sloučeniny s alespoň jednou skupinou esteru orthokarboxylové kyseliny nebo/a skupinou amidacetalu karboxylové kyseliny, přičemž sloučeniny mají také polymerní charakter a uvedená seskupení se mohou vyskytovat jako spojovací prvky v hlavním řetězci nebo jako substituenty v postranním řetězci;
B. polymerní sloučeniny s opakujícími se acetalovými nebo/a ketalovými seskupeními, u nichž jsou výhodně oba cr-C-atomy alkoholů potřebných к výstavbě těchto seskupení, alifatické povahy.
Sloučeniny typu A štěpitelné kyselinou jako složky směsí citlivých na světlo jsou podrobně popsány v DE-A č. 2 610 842 nebo č. 2 928 636. Směsi, které obsahují sloučeniny typu B, jsou předmětem DE-C č. 2 718 254.
Jako sloučeniny štěpitelné kyselinou lze uvést například také speciální arylalkylacetaly a -aminaly popsané v DE-C č. 2 306 248, které se rovněž odbourávají produkty fotolýzy sloučenin podle vynálezu. Dalšími sloučeninami jsou enolethery a acyliminokarbonáty, které se popisují v EP-A č. 6 626 a číslo 6 627.
Takovéto směsi, ve kterých se působením aktinického záření nepřímé nebo bezprostřední molekuly, jejichž přítomnost podstatně ovlivňuje chemické nebo/a fyzikální vlastnosti směsi, přeměňují na menší, mají na ozářených místech obecně zvýšenou rozpustnost, lepivost nebo těkavost. Tyto části se mohou vhodnými opatřeními, například rozpuštěním vyvíjecí kapalinou, odstranit. U kopírovacích materiálů se v těchto případech hovoří o pozitivně pracujících systémech.
Novolakové kondenzační pryskyřice osvědčené v případě četných pozitivních kopírovacích materiálů se ukázaly jako zvláště dobře upotřebitelné a výhodné jako přísada také při použití sloučenin podle vynálezu ve směsích se sloučeninami, které jsou štěpitelné kyselinou. Vyžadují značnou diferenciaci mezi osvětlenými a neosvětlenými částmi vrstvy při vyvíjení, zvláště v případě výše kondenzovaných pryskyřic se substituovanými fenoly jako složkami formaldehydového kondenzátu.
Druh a množství novolakové pryskyřice může být různé podle účelu použití. Výhodně se podíl novolaku pohybuje mezi 30 a 90 % hmotnosti, zvláště výhodně mezi 55 a 85 % hmotnosti, vztaženo na celkovou hmotnost pevné látky. Místo nebo ve směsi s novolaky jsou výhodně použitelné také další pryskyřice obsahující fenolové skupiny.
Navíc se mohou současně používat ještě četné další pryskyřice, výhodně vinylové polymery, jako polyvinylacetáty, polyakryláty, polyv.inylethery a polyvinylpyrrolidony, které se samy mohou modifikovat komonomery. Nejpříznivější podíl těchto pryskyřic se řídí podle aplikačně technických požadavků a podle vlivu podmínek vyvíjení a činí obecně ne více než 20 %, vztaženo na novolak. V malých množstvích může směs citlivá na světlo za účelem speciálních požadavků, jako je ohebnost, dobrá adheze a lesk, obsahovat ještě kromě toho látky, jako jsou polyglykoly, deriváty celulosy, smáčedla, barviva a jemně dispergované pigmenty, jakož i podle potřeby absorbéry ultrafialového světla.
Vyvíjení se provádí výhodně pomocí vodně-alkalických vývojek, které jsou v technice obvyklé a které mohou obsahovat malé množství organických rozpouštědel. Fotopolymerisovatelné směsi se mohou vyvíjet také pomocí organických rozpouštědel.
Nosiče uvedené již v souvislosti s fotopolymerisovatelnými směsmi, přicházejí rovněž v úvahu pro positivně pracující kopírovací materiály, a navíc se mohou používat v mikroelektronice obvyklé křemíkové povrchy, povrchy na bázi nitridu křemíku a na bázi oxidu křemičitého, jakož i kovové povrchy a povrchy na bázi polymerů.
Množství sloučenin, které se používají podle vynálezu jako fotoiniciátory, může být v positivně pracujících směsích podle látky a podle vrstvy velmi rozdílné. Příznivých výsledků se dosahuje za použití asi 0,05 až asi 12 %, vztaženo na celkový podíl pevné látky, výhodně za použití asi 0,1 až 8 °/o. Pro vrstvy s tloušťkou nad 10 μΐη se doporučuje používat relativně malé množství látky, která uvolňuje kyselinu.
Zásadně je к ozařování vhodné elektromagnetické záření s vlnovými délkami až do asi 550 nm. Výhodný rozsah vlnových délek činí 220 až 500 nm.
Rozmanitost sloučenin podle vynálezu, jejichž absorpční maima se částečně nacházejí ještě daleko ve viditelné části spektra a jejich absorpční rozsah může přesáhnout přes 500 nm, dovoluje přizpůsobit fotoiniciátor optimálně v závislosti na použitý zdroj světla. Principiálně není rovněž vy249527 loučena sensibilisace. Na druhé straně je však také možné a ve smyslu vynálezu je účelné používat tentýž fotoiniciátor v hmotách citlivých na ozáření, které se vystavují záření z rozdílných zdrojů záření a tím záření různé vlnové délky.
Velký počet fotoiniciátorů podle vynálezu vykazuje vynikající výsledky jak v hmotách citlivých na záření pro zpracování v automatických osvětlovacích přístrojích osazených lasery s argonovými ionty, jako v kopírovacích materiálech, které se osvětlují vysokotlakými rtuťovými výbojkami s obsahem halogenidu kovu. Jako další zdroje světla lze jmenovat například: trubkové žárovky, xenonové impulsové žárovky a uhlíkové obloukovky.
Kromě toho je možné v případě směsí citlivých na světlo ozařování obvyklými projekčními přístroji a zvětšovacími přístroji světlem žárovky s vláknem z kovu a kontaktním ozařováním obvyklými žárovkami. Ozařování se může provádět také dalšími lasery. Pro účely podle předloženého vynálezu jsou vhodné výkonné, krátkovlnné lasery, například Excimer-laser, laser s ionty kryptonu, laser s barvivém a helium-kadmium-laser, které zejména emitují v rozsahu mezi 200 a 550 nm.
Ozařování elektronovým zářením je další možnost diferenciace. Elektronová záření mohou směsi, které obsahují některou ze sloučenin podle vynálezu a sloučeninu, která je štěpitelná kyselinou, stejně jako četné další organické materiály pronikavě rozkládat a zesíťovat tak, aby vznikl negativní obraz, jestliže se neozářené části odstraňují rozpouštědlem nebo ozářením bez předlohy a vyvíjením.
Při malé intenzitě nebo/a při vyšší rychlosti pohybu elektronového paprsku způsobuje naproti tomu elektronové záření diferenciaci ve směru vyšší rozpustnosti, tj. ozářené části vrstev se mohou odstranit vývojkou. Příznivé podmínky se mohou zjistit předběžnými pokusy.
Výhodné použití nacházejí směsi citlivé na světlo obsahující některou ze sloučenin podle vynálezu při výrobě tiskových forem, tj. zejména forem pro ofsetový tisk, autotypický hlubotisk a sítotisk, v roztocích fotochránidel a v tzv. suchých chránidlech.
Dají se používat také výhodně při výrobě lepivých fólií podle WO-A 81/02261 místo tam uváděných naftyl-bis-trichlormethyl-s-triazinů.
Následující příklady slouží k bližšímu objasnění vynálezu. V příkladech jsou díly hmotnostní a díly objemové v poměru jako g : ml. Údaje procent a množství se, pokud není uvedeno jinak, rozumí jednotky hmotnostní.
Nejdříve se popisuje výroba celé řady nových arylvinylfenyl-bis-trichlormethyl-s-triazinů, které se testují ve směsích citlivých na světlo podle vynálezu jako sloučeniny odštěpující kyselinu a jako sloučeniny uvolňující radikály. Tyto sloučeniny se označují čísly 1 až 19 a pod tímto označením se opět uvádějí v aplikačních příkladech. Arylvinylfenylkarbonitrily vzorce III, které se používají jako výchozí látky, jsou dílem známé z literatury, a dílem se připravují analogicky podle metody, která je uvedena pro nejjednoduššího zástupce této skupiny sloučenin.
Také za účelem výroby nitrilu sloužících jako výchozí sloučeniny pro sloučeniny č. 2 až 12, 18 a 19, se uvádí v reakci diethylester 4-kyanfenylmethanfosfonové kyseliny jako P-O-aktivovaná složka s aldehydem Ar-CHO odpovídajícím údajům z tabulky 1; k výrobě nitrilu sloučeniny 16 se uvádí v reakci s acetofenonem. P-O-aktivovaná složka při výrobě výchozího nitrilu pro sloučeninu č. 17 je představována diethylesterem 2-kyanfenylmethanfosfonové kyseliny.
Dieíhylester 2-chlor-4-kyanfenylinethanfosfonové kyseliny sloužil k syntéze výchozích nitrilů pro sloučeniny č. 13 až 15. Estery fosfonové kyseliny se získají následujícím způsobem:
3-chlor-4-methylbenzoová kyselina se převede přes chlorid kyseliny a amid dehydratací thionylchloridem na 3-chlor-4-methylbenzonitril, ten se přemění působením N-bromsukcinimidu v tetrachlormethanu na
4-brommethyl-3-chlorbenzonitrii a z něho se reakcí s triethylfosfitem získá ester fosfonové kyseliny.
Obecný předpis pro výrobu arylvinylfenylkarbonitrilů pomocí přípravy stilben-4-karbonitrilu
Do intenzívně míchané směsi 22 g práškového hydroxidu draselného a 200 ml dimethylformamidu se přikape za chlazení ledem během 2 hodin roztok 0,1 molu benzaldehydu v 0,005 molu diethylesteru 4-kyanfenvlmethanfosfonové kyseliny. Reakční směs se míchá za pokračujícího chlazení dále po dobu 1 hodiny a dále pak 1 hodinu bez chlazení. Potom se reakční směs vylije do 1 litru ledové vody, která obsahuje 52 ml koncentrované chlorovodíkové kyseliny. Sraženina se odfiltruje, promyje se vodou až do odstranění chloridových iontů, vysuší se a překrystaluje se z methanolu.
Stilben-4-karbonitril o teplotě tání 116 až 118 ’°C se získá ve výtěžku 84 % teorie.
Obecný předpis pro výrobu 2-(4-arylvinylfenyl)-4,6-bis-trichlormethyl-s-triazinů pomocí přípravy 2-(4-styrylfenyl ] -4,6-bis-trichlormethyl-s-triazinu
Do míchané suspenze 0,5 molu stilben-4-karbonitrilu, 3,0 molu trichloracetonitrilu a 0,06 molu bromidu hlinitého se při teplotě 24 až 28 °C zavádí plynný chlorovodík až do nasycení.
Přitom se pevné látky téměř úplně rozpustí. Potom se vytvoří sraženina, obsah baňky ipřejde na kašovitou konzistenci a dochází k odštěpení chlorovodíku. Chlazením se směs udržuje po dobu 6 hodin na teplotě 28 až 30 °C a potom se ponechá v klidu při teplotě místnosti po· dobu 24 až 48 hodin, Reakční směs se vyjme 1,6 litru methylenchloridu, roztok se promyje vodou do neutrální reakce a vysuší se síranem sodným. Po^ oddestllování rozpouštědla za sníženého· tlaku se zbytek vyjme 600 ml methylenchloridu a k roztoku se přidá 1700 mililitrů methanolu. Vykrystaluje 210 g (85 procent teorie) ještě marně znečištěného 2- (4-styrylf enyl)-4,6-bis--richlormethyl-s-triazinu, který se může ještě čistit dalším překrystalováním ze směsi methylenchloridu a methanolu. Dvojí teplota tání 160 až 163 °C a 170 až 179 °C.
Jako katalyzátor se hodí také chlorid hlinitý. Bortrifluorid-etherát je méně účinným katalyzátorem, skýtá však velmi čisté reakční produkty.
Odpovídajícím způsobem se připraví triaziny uvedené v následující tabulce 1, přičemž v některých případech se provádí chromatografické čištění reakčních produktů.
Tabulka 1 bis-trichlormethyl-s-triaziny obecného vzorce I (R2 = H; R5 = R6 = H) slouče- Ar R1 R3 R4 R7 R8 R9 λ [ethanol]/log s teplota tání (°C) nina č.
СП СП CM ’ф o co rH CD CO CD CO CM rH M4 CM
co b* O CD CD rH CD rH CM 00 CD rH bs rH CD rH t>4 t—1 rH
rH rH CM rH rH CM rH CM rH rH rH CM o. CM rH CM rH rH CM rH
>N CO >N >N >tSJ >N >N >N >N >N >N >N >N >N >N >N >N >N
ctí u cd cd cd cd cd Ctí Ctí Ctí Ctí Ctí Ctí Ctí cd Ctí Ctí Ctí Ctí Ctí Ctí
o o 00 00 CM 00 00 O CO O CD CD LO Ю rH O CD Ьч O O
co bx o 00 CD o CD i—1 CM 00 CO O Ьч Ί—1 CD rH CO O rH co
rH rH CM rH rH CM rH CM rH rH rH CM CM rH CM τΗ i—1 CM тЧ
CM rH ю см хф ю о О со гН со 00 со LO _ <-Н о
co ср C0 со со со со ю СО ю ю ю LD ιο СО СО Lf^ СМ
’Ф Хф хф~ чф *ф хф хф· Хф~ М1 *Ф 00 М<·
s § 6 8 ε е 8 ε ε ε S S *8 8 8 8 8
ň я д Д й д д д й д д Л д л Д дал л
rH }S гН см ю гН о оо CD см СП см CD Ю CM LO 00
b> 2 оо О СО со [> о CD CD СО 00 со со о Ю b со о
co со оо со со 00 00 00 00 00 оо СП 00 СП со оо оо
CC
Příklad 1
Hliníkové desky s elektrochemicky zdrsněným, anodisovaným a předem pomocí 0,1procentního vodného roztoku polyvinylfosfonové kyseliny upraveným povrchem se za použití roztoků
6,63 dllu hmotnostního krssol-formaldehydového novolaku (rozsah teploty tání 105 až 120 CC podle DIN 53 181),
1,99 dílu polymerního ortho- esteru, vyrobeného kondenzací trimethyly esteru orthomravenčí kyseliny s á-oxa^^lbislΊhclrsχymet]eyI-okten·llOlu,
0,33 dílu hmotnostního sloučeniny č. 1 a
0,05 dílu hmotnostního báze krystalové violeti v.e dílech hmotnostních ethylenglykolmono52 dílech hmotnostních tetrahydroiTiránu a dílech hmotnostních butylacetátu opatří vrstvou tak, aby po vysušení vznikla vrstva o tloušťce asi 2,0 ^m. Světlocitlivá vrstva se osvitne přes předlohu, která vedle čárových a rastrových motivů obsahuje šedý klín se 13 stupni, jejichž optická hustota je odstupňována po 0,15, 5 kW žárovkou s halogenidem kovu ve vzdálenosti 110 cm po dobu 15 sekund a po prodlevě 10 minut se vyvíjí po dobu 1 minuty vývojkou následujícího složení:
5,5 dííu hmot, me^eí^l^i^ei^ii^li^í^i^u sodného X X 9 H2O,
3,4 dílu hmot, trinatriumfosfátu X 12 H2O,
0,4 dílu hmot, natriumdihydrogenfosfátu, bezvodého,
90,7 dílu limot. vody.
Získá se pozitivní zobrazení předlohy. Pokus s tiskem za použití takto vyrobené tiskové formy na stroji pro ofsetový tisk byl přerušen ipo 140 000 tisících, které měly ještě stále bezvadnou kvalitu.
Kopírovací výsledek dosažený v tomto příkladu, měřeno podle počtu vyvinutých stupňů při použití šedého klínu se rovněž dosáhne, jestliže se sloučenina č. 1 nahradí vždy stejným hmotnostním množstvím některé ze sloučenin č. 3, 4, 5, 6, 7, 12 a 13, popřípadě směsmi těchto sloučenin.
Přisoudíme-li iniciátorům č. 5 a č. 20, zvláště zdůrazňovaným v DE-C č. 2 718 259, tj. 2-(4-ethoxynaft-llyl)-, popřípadě 2-acenaftl5lhl-4,6-bis-lгicllíormethyl-s-lriazinu faktory světelné citlivosti 100, popřípadě 125, pak nutno shora uvedeným fotsiniclál torům přisoudit faktory mezi 135 a 140.
Příklad 2
Tiskové desky formátu 580 mm X 420 mm, sestávající z elektrochemicky zdrsněné, anodisované a pomocí polyvinylfosfonové kyseliny předem upravené hliníkové fólie a ze světlocitlivé vrstvy následujícího složení:
73,96 dílu hmot, novolaku podle příkladu 1,
22,19 dílu hmot, pslhsrthsesteru podle příkladu 1,
3,70 dílu hmot, fotoiniciátoru a
0,15 dílu hmot, báze krystalové violeti, se osvitnou ultrafialovým zářením laserem s argonovými ionty po řádcích, přičemž se počet popsaných řádků vztaženo na 1 cm postupně zvyšuje. Výkon laseru se ipři tomto postupu udržuje na stále , stejné výši. Osvitnutá tisková deska se potom skladuje po dobu 10 minut-při teplotě místnosti, potom se po dobu 60 sekund vyvíjí vývojkou uvedenou v příkladu 1 a zbarví se mastnou barvou. Od určitého počtu řádku na 1 cm jsou nezbarvená místa jasná a nejsou již zbarvena.
Z výkonu laseru na povrch desky, z délky řádků, z počtu řádků/s a ze zjištěných napočítaných řádků na 1 cm se dá vypočítat minimální spotřeba energie závislá na použitém fstoiniciátoru, která je potřebná pro vyvíjení nezbarvených míst, které by bylo prosté barevných odstínů. Tyto hodnoty energie udává následující tabulka:
Tabulka
sloučenina číslo minimální spotřeba energie (mj/cm2)
1 6,5
3 7,5
4 6,7
5 5,6
6 6,5 '
7 6,5
12 7,8
13 5,6
14 7,2
16 7,3
Pro srovnání:
sloučenina číslo minimální
spotřeba energie (mj/cm2)
2- (4-ethoxynaat-l-yl) -4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin 8,4
2-acenatt-5-yl-4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin 11,2
2- (4-methoxystyryl) -4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin 9,2
Toto srovnání ukazuje, že vůči emisi žárovek s halogenidem kovu vysoce aktivní, avšak novými totoiniciátory ještě předstižený totoiniciátor 2-acenatt-5-yl-4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin má při osvitu laserem o 100 % vyšší minimální spotřebu energie ve srovnání se sloučeninami č. 5 a č. 13 podle tohoto vynálezu.
Příklad 3
Mechanicky zdrsněná hliníková tólie s nanesenou vrstvou následujícího složení:
76,63 dílu hmot, tenol-tormaldehydového novolaku (rozsah teploty tání 110 až 120 °C podle DIN č. 53 181),
19,16 dílu hmot, polyacetalu z 2-ethylbutyraldehydu a triethylenglykolu,
3,83 dílu hmot, sloučeniny č. 18 a
0,38 dílu hmot, báze krystalové violeti, přičemž se tato vrstva nanáší z 10% roztoku v methylethylketonu, se osvitne po dobu 5 sekund za podmínek uvedených v příkladu 1 a potom se vyvíjí 45 sekund vývojkou uvedenou v příkladu 1. Získá se tisková torma s pozitivním obrazem předlohy.
Poněkud snížené světlocitlivosti se dosahuje za použití sloučeniny č. 19.
Příklad 4
Vhodnost nových bis-trichlormethyl-s-triazinů jako iniciátorů v hmotách citlivých na elektronové záření je ilustrována následujícím pokusem:
Na mechanicky zdrsněnou hliníkovou tólii o tloušťce asi 1,1 μΐη se nanesou vrstvy následujícího složení:
dílů hmot, novolaku podle příkladu 1, dílů hmot. bis-(5-butyl-5-ethyl-l,3-dioxan-2-yl) etheru 2-butyl-2-ethylpropandiolu a dílů hmot, jedné ze sloučenin č. 2, 9 a 10.
Takto upravené tólie se pak osvitnou 11 kV-elektrony.
Při proudu záření 5 «Α postačí doba ozařování 4 sekund, aby se pole o ploše 10 cm* 2 po 60 sekundách působení vývojky z příkladu 1 rozpustilo. To odpovídá citlivosti shora uvedených vrstev 2 ^C/cm2.
Příklad 5
Deska z elektrolyticky zdrsněného a anodisovaného· hliníku se pomocí odstředivky opatří vrstvou za použití roztoku k nanášení vrstvy následujícího složení:
6.7 dílu hmot, trimethylolethan-triakrylátu,
6,5 dílu hmot, kopolymeru meíhylmethakrylátu a methakrylové kyseliny, číslo kyselosti 115,
0,12 dílu hmot, sloučeniny č. 1,
64,0 dílu hmot, ethylenglykolmonoethyletheru,
22.7 dílu hmot, butylacetátu a
0,3 dílu hmot. 2,4-dinitro-6-chlor-2!-a.cetamido-5‘-methoxy-4‘-(N-/3-hydroxyethyl-N-/ť-kyanethylamino jazobenzenu, tak, aby se po vysušení získala vrstva o· plošné hmotnosti 3 až 4 g/m2. Potom se deska opatří 4 pm tlustou krycí vrstvou z polyvinylalkoholu (K-hodnota 4; 12 % zbytkových acetylových skupin), osvitne se pod předlohou s halogenidem a rastrovým motivem pomocí 5 kW-žárovky s halogenidem kovu ze vzdálenosti 110 cm po dobu 22 sekund a vyvíjí se 1,5% roztokem metakřemičitanu sodného.
Získá · se negativní zobrazení předlohy.
Pokus s tiskem za použití takto· vyrobené desky pro otsetový tisk byl přerušen po
200 000 se stále ještě bezvadnou kvalitou.
Příklad 6
Tento příklad popisuje negativní suché chránidlo. Na polyethylentereftalátovou fólii se odstřelováním nanese vrstva za použití roztoku sestávajícího z:
24.9 dílu hmot, kopolymeru ze 30 dílů hmot, methakrylové kyseliny, 60 dílů hmot, n-hexylmethakrylátu a 10 dílů hmot, styrenu,
16,1 dílu hmot, reakčního produktu z 1 molu
2.2,4-trimethylhexamethylendiisokyanátu a 2 molů hydroxyethylmethakrylátu,
0.41 dílu hmot, triethylenglykoldimethakrylátu,
0,58 dílu hmot, sloučeniny č. 5,
0,11 dílu hmot, barviva uvedeného v příkladu 5 a.
57.9 dílu hmot, methylethylketonu tak, aby po vysušení vznikla vrstva o plošné hmotnosti 25 g/m2.
Tento· materiál se pomocí na trhu obvyklého laminačního zařízení laminuje při teplotě 120 °C na nosič z izolačního materiálu, který nese 35 gm tlustou měděnou vložku. Po 60 sekundách osvitu přes předlohu, která vedle čárových motivů a rastrových motivů obsahuje šedý klín s odstupňovanou optickou hustotou, za použití zdrnm světla z příkladu 1 a po vyvíjení 0,8% roztokem uhličitanu sodného zbude negativ čárového a rastrového motivu, jakož i stupně 1 až 6 šedého klínu jako vypouklý reliéf, stupeň 7 je částečně zeslaben.
Vrstva chránidla odolává leptacím procesům, například působení chloridu železitého, a vlivům galvanických lázní při výrobě desek.
Příklad 7
Pomocí odstředivky se vrstva z mechanicky zdrsněného hliníku opatří vrstvou za použití roztoku sestávajícího z:
4,3 dílu hmot, fenol-formaldehydového novolaku (rozsah teplot tání 110 až 120 °C podle DIN č. 53 181),
10.6 dílu hmot. N-vinylkarbazolu,
0,24 dílu hmot. 2-(p-dimethylaminostyryl)benzthiazolu,
0,25 dílu hmot, některé ze sloučenin č. 15 a č. 18,
84.6 dílu hmot, methylethylketonu.
Po vysušení má světlocltlivá vrstva tloušťku 1 až 2 μΐη. Tato deska se po dobu 7,5 sekundy osvitne podle příkladu 1 pomocí předlohy, přičemž v místech obrazu se barevný odstín vrstvy změní ze žlutého na červeno-oranžový. Pohybováním desky ve vyvíjecím roztoku sestávajícím z:
0,6 dílu hmot, hydroxidu sodného,
0,5 dílu hmot. Na2SiOs. 5 H2O,
1,0 dílu hmot, n-butanolu a
97,9 dílu hmot, vody zcela zbavené solí, se během 75 sekund odstraní neosvětlené části vrstvy, osvitnuté části vrstvy přijmou charakter mastné barvy, takže z takovéto desky je možno provádět tisk na stroji pro ofsetový tisk.
Při poněkud prodloužených dobách osvitu se místo sloučenin č. 15 a č. 18 dají používat také sloučeniny č. 8, 11 nebo 17.
Příklad 8
Opakuje se postup popsaný v příkladu 7, přičemž se v roztoku používaném pro vytvoření vrstvy nahradí báze styrylového barviva stejným hmotnostním množstvím báze cyaninového barviva, tj. 2-[l-kyan-3-(3-ethylbenzthiazol-2-yliden) propen-l-yl ] chinolinem, a sloučenina č. 15 nebo č. 18 se nahradí sloučeninou č. 3 ve stejném množství a vrstva se nanáší na polyesterovou fólii.
Po 12 sékundách osvitu podle obrazu podle příkladu 1 se barva barevných míst z původně světle červené změní na sytě fialovou.
Pomocí vývojky z příkladu 3 se odstraní místa, která nebyla zobrazena. Získá se negativní obraz předlohy.
Tento postup je vhodný к výrobě barevných fólií.
Příklad 9
Deska z mechanicky zdrsněného hliníku se opatří vrstvou dále uvedeného složení, přičemž se uvedená vrstva nanáší odstřeďováním z 10% roztoku v methylethylketonu:
48.3 dílu hmot, epoxidové pryskyřice (z epichlorhydrinu a bisfenolu A, hmotnost epoxyekvivalentu, tj. poměr molekulové hmotnosti a počtu epoxyskupin v molekule, 182 až 174),
48.3 dílu hmot, novolaku podle příkladu 1, 2;9 dílu hmot, sloučeniny č. 4 a
0,5 dílu hmot, krystalové violeti.
45se!kundovým osvitem podle obrazu v souhlase s údaji v příkladu 1- a 40sekundovým vyvíjením pomocí vývojky z příkladu 7 se získá negativní obraz předlohy s nezbarvenými místy prostými závoje.
Nahradí-li se epoxidová pryskyřice stejným množstvím uvedeného novolaku, je při vyvíjení sice krátce patrný negativní obraz, resistence vývojky je však tak malá, že po 30 sekundách se veškerá vrstva z nosiče rozpustí.
Příklad 10
Nepropustné vrstvy positivně pracující notoresistentní látky se připraví následujícím způsobem:
Roztok z dílu hmot, butanonu, dílu hmot novolaku podle příkladu 1,
8,58 dílu hmot, polyacetalu z 2-ethylhexanalu a pentan-l,5-diolu,
0,12 dílu hmot, sloučeniny č. 7 a
1,3 dílu hmot, polyvinylmethyletheru se nanáší pomocí tažné spirálové rakle na vyčištěný měděný povrch spojovacího materiálu z příkladu 6, rozpouštědlo se nechá dvanácthodinovým skladováním při teplotě místnosti odpařit a deska se suší 15 minut infračerveným zářením při teplotě 70 °C.
μπι tlustá resistentní vrstva se po 60sekundovém osvitu zdrojem světla z příkla-

Claims (10)

  1. pRedmét
    1. Směs citlivá na světlo, obsahující jako účinnou složku derivát bis-trichlormethyl-s-triazinu a kopulační reakční složku, která reaguje s produktem fotochemické reakce derivátu bis-trichlormethyl-s-triazinu za vzniku produktu, který má ve vývojce absorpci světla nebo rozpustnost odlišnou od kopulační reakční složky, vyznačující se tím, že jako derivát bis-trichlormethyl-s-triazinu obsahuje sloučeninu obecného vzorce I du 1 pod předlohou z čárovým motivem dá vyvíjet nastříkáním 0,8% vodného roztoku hydroxidu sodného během 40 sekund.
    Příklad 11
    Roztok sestávající z
    23,3 dílu hmot, novolaku podle příkladu 1,
    6,9 dílu hmot, bis-orthoesteru podle příkladu 4 a
    1,0 dílu hmot, sloučeniny č. 1 v
    6,9 dílech hmot, xylenu,
    6,9 dílech hmot, butylacetátu a
    55,0 dílů hmot. 3-ethoxyethylacetátu, se pomocí odstředivky nanáší při 4 000 otáček za minutu na křemenný kotouč □ průměru 7,6 cm, který je opatřen 1,0 ^m tlustou vrstvou oxidu. Po 30 minutách sušení při 90 °C v sušárně s cirkulací vzduchu činí tloušťka resistentní vrstvy 1,15 μΐη. Vrstvou opatřený kotouč z křemene se osvitne přes masku v zařízení pro kontaktní osvit s jednou vysokotlakou rtuťovou výbojkou.
    5,6 mj/cm2 postačí, aby se osvícená místa resistentní vrstvy mohla během 90 sekund rozpustit pomocí vývojky z příkladu 1.
    YNÁLEZU menají atomy vodíku nebo atomy halogenu, alkylovou skupinu s 1 až 3 atomy uhlíku, alkenylovou skupinu se
  2. 2 až 3 atomy uhlíku nebo alkoxyskupinu s 1 až 3 atomy uhlíku, Ar znamená jedno- až tříjaderný, popřípadě částečně hydrogenovaný aromatický zbytek, který je popřípadě substituován atomy halogenu, nesubstituovanými nebo atomy halogenu, arylovými skupinami nebo aryloxyskupinami substituovanými alkylovými zbytky, v nichž jsou jednotlivé methylenové skupiny popřípadě nahrazeny atomy kyslíku nebo atomy síry, a přičemž vždy dvě z těchto skupin jsou popřípadě spojeny za vzniku pěti- nebo šestičlenného kruhu, cykloalkylovými skupinami, alkenylovými skupinami, arylovými skupinami nebo aryloxyskupinami vždy s celkem nejvýše 12 atomy uhlíku.
    •2. Směs podle bodu 1, vyznačující se tím, že jako kopulační reakční složku obsahuje ethylenicky nenasycenou sloučeninu, která umožňuje zahájení polymerace vyvolané volnými radikály.
  3. 3. Směs podle bodu 1, vyznačující se tím, že kopulační reakční složka obsahuje alespoň jednu vazbu С—O—C štěpitelnou kyselinou.
  4. 4. Směs podle bodu 1, vyznačující se tím, že kopulační reakční složka se aktivuje kyselinou za účelem kationické polymerace.
  5. 5. Směs podle bodu 1, vyznačující se tím, v němž
    R1 a R2 znamenají atomy vodíku nebo methylové skupiny,
    R3 a R4 jsou navzájem rozdílné a znamenají vždy atom vodíku nebo 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylovou skupinu,
    R5 a R6 jsou stejné nebo rozdílné a zna249527 že kopulační reakční složka je zesítitelná působením kyseliny.
  6. 6. Směs podle bodu 1, vyznačující se tím, že kopulační reakční složka mění působením kyseliny svůj barevný odstín.
  7. 7. Směs podle bodu 1, vyznačující se tím, že obsahuje sloučeninu vzorce I v množství 0,05 až 10 % hmotnosti, vztaženo na hmotnost jejich netěkavých podílů.
  8. 8. Směs podle bodu I, vyznačující se tím, že navíc obsahuje polymerni pojidlo, které není rozpustné ve vodě.
  9. 9. Směs podle bodu 8, vyznačující se tím, že pojidlo je rozpustné ve vodně-alkalických roztocích.
  10. 10. Způsob výroby účinné složky obecného vzorce I, vyznačující se tím, že se 1 mol sloučeniny obecného vzorce III
CS847727A 1983-10-12 1984-10-11 Light sensitive mixture and method of its efficent component production CS249527B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833337024 DE3337024A1 (de) 1983-10-12 1983-10-12 Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS249527B2 true CS249527B2 (en) 1987-03-12

Family

ID=6211578

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS847727A CS249527B2 (en) 1983-10-12 1984-10-11 Light sensitive mixture and method of its efficent component production

Country Status (17)

Country Link
US (2) US4619998A (cs)
EP (1) EP0137452B1 (cs)
JP (2) JPS60105667A (cs)
KR (1) KR910007221B1 (cs)
AT (1) ATE46333T1 (cs)
AU (1) AU571589B2 (cs)
BR (1) BR8405160A (cs)
CA (1) CA1255669A (cs)
CS (1) CS249527B2 (cs)
DE (2) DE3337024A1 (cs)
ES (1) ES536668A0 (cs)
FI (1) FI843978A7 (cs)
HK (1) HK78590A (cs)
HU (1) HUT37409A (cs)
IL (1) IL73112A (cs)
SG (1) SG63290G (cs)
ZA (1) ZA847940B (cs)

Families Citing this family (175)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8321813D0 (en) * 1983-08-12 1983-09-14 Vickers Plc Radiation sensitive compounds
DE3337024A1 (de) * 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
JPH0766186B2 (ja) * 1985-07-02 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0766185B2 (ja) * 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4837128A (en) * 1986-08-08 1989-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition
JPS6358440A (ja) * 1986-08-29 1988-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3716848A1 (de) * 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
DE3717933A1 (de) * 1987-05-27 1988-12-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen
JPH07120036B2 (ja) * 1987-07-06 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE3725949A1 (de) * 1987-08-05 1989-02-16 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von negativen reliefkopien
DE3742275A1 (de) * 1987-12-12 1989-06-22 Hoechst Ag Verfahren zur nachbehandlung von entwickelten reliefdruckformen fuer den flexodruck
DE3807378A1 (de) * 1988-03-07 1989-09-21 Hoechst Ag Durch 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen substituierte aromatische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung in lichtempfindlichen gemischen
DE3807380A1 (de) * 1988-03-07 1989-09-21 Hoechst Ag 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende oxadiazolverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt
US5216158A (en) * 1988-03-07 1993-06-01 Hoechst Aktiengesellschaft Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl groups, process for their preparation
DE3807381A1 (de) * 1988-03-07 1989-09-21 Hoechst Ag 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindung enthaelt
US5114827A (en) * 1988-06-28 1992-05-19 Microelectronics Center Of N.C. Photoresists resistant to oxygen plasmas
US4968582A (en) * 1988-06-28 1990-11-06 Mcnc And University Of Nc At Charlotte Photoresists resistant to oxygen plasmas
GB8819307D0 (en) * 1988-08-13 1988-09-14 Pfizer Ltd Antiarrhythmic agents
US5153323A (en) * 1988-09-07 1992-10-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a photoinitiator moiety
DE3901799A1 (de) * 1989-01-21 1990-08-02 Hoechst Ag Vorsensibilisierte druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck
DE3912652A1 (de) * 1989-04-18 1990-10-25 Hoechst Ag Lichtempfindliche bis-trichlormethyl-s-triazine, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
EP0412570B1 (en) * 1989-08-11 1996-07-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light- and heat-sensitive recording material
DE3930087A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3930086A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-21 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4002397A1 (de) * 1990-01-27 1991-08-01 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4003025A1 (de) * 1990-02-02 1991-08-08 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches gemisch, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
DE4006190A1 (de) * 1990-02-28 1991-08-29 Hoechst Ag Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
IT1245370B (it) * 1991-03-28 1994-09-20 Plurimetal Srl Composizione fotosensibile per lastre da stampa offset
DE4112968A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Saeurespaltbare verbindungen, diese enthaltendes positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4112967A1 (de) * 1991-04-20 1992-10-22 Hoechst Ag Substituierte 1-sulfonyloxy-2-pyridone, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE4120174A1 (de) * 1991-06-19 1992-12-24 Hoechst Ag Strahlungsempfindliche sulfonsaeureester und deren verwendung
US5298361A (en) * 1991-08-30 1994-03-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-sensitive article containing migration-resistant halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiator
JP3016952B2 (ja) * 1992-04-28 2000-03-06 クラリアント インターナショナル リミテッド ネガ型フォトレジスト組成物
CA2164859C (en) 1993-06-10 2005-11-29 Gary Karlin Michelson Apparatus and method of inserting spinal implants
DE4328676A1 (de) * 1993-08-26 1995-03-02 Hoechst Ag Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung eines farbigen Bilds
DE69512113T2 (de) * 1994-03-14 2000-05-25 Kodak Polychrome Graphics Llc, Norwalk Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
US5631307A (en) 1994-06-28 1997-05-20 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photopolymerization initiator composition and photopolymerizable composition
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5561029A (en) * 1995-04-28 1996-10-01 Polaroid Corporation Low-volatility, substituted 2-phenyl-4,6-bis (halomethyl)-1,3,5-triazine for lithographic printing plates
US5772920A (en) * 1995-07-12 1998-06-30 Clariant Finance (Bvi) Limited U.V. absorber compositions
TW466256B (en) 1995-11-24 2001-12-01 Ciba Sc Holding Ag Borate photoinitiator compounds and compositions comprising the same
US5837586A (en) * 1997-02-14 1998-11-17 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition
US5847133A (en) * 1997-05-23 1998-12-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators
US6010821A (en) 1997-05-23 2000-01-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous developable color proofing elements
US6258510B1 (en) * 1998-05-21 2001-07-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive planographic printing plate precursor
ES2263291T3 (es) * 1998-09-28 2006-12-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Quelatos que comprenden grupos quinoides como fotoiniciadores.
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
US20050090936A1 (en) * 2003-10-24 2005-04-28 Hitt Dale K. Two-wire control of sprinkler system
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
TWI370925B (en) 2003-11-21 2012-08-21 Zeon Corp Liquid crystal display apparatus(ii)
WO2005050301A1 (ja) 2003-11-21 2005-06-02 Zeon Corporation 液晶表示装置
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
US7241557B2 (en) * 2004-07-30 2007-07-10 Agfa Graphics Nv Photopolymerizable composition
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
JP5183165B2 (ja) 2006-11-21 2013-04-17 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法
JP2008163081A (ja) 2006-12-27 2008-07-17 Fujifilm Corp レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料ならびにレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版
EP1952998B1 (en) 2007-02-01 2011-04-06 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device
US8541063B2 (en) 2007-02-06 2013-09-24 Fujifilm Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
DE602008006279D1 (de) 2007-02-07 2011-06-01 Fujifilm Corp Tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung mit Wartungsvorrichtung für Tintenstrahldruckkopf und Wartungsverfahren für einen Tintenstrahldruckkopf
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP2008250234A (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 液晶表示装置
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
US20080259268A1 (en) 2007-04-12 2008-10-23 Fujifilm Corporation Process of producing substrate for liquid crystal display device
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5408967B2 (ja) 2007-11-08 2014-02-05 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用樹脂印刷版原版、レリーフ印刷版およびレリーフ印刷版の製造方法
JP5500831B2 (ja) 2008-01-25 2014-05-21 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版
JP5241252B2 (ja) 2008-01-29 2013-07-17 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP2009223304A (ja) 2008-02-19 2009-10-01 Fujifilm Corp 液晶表示装置用基板および液晶表示装置
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5137618B2 (ja) 2008-02-28 2013-02-06 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5409045B2 (ja) 2008-02-29 2014-02-05 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用樹脂印刷版原版、レリーフ印刷版およびレリーフ印刷版の製造方法
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5322575B2 (ja) 2008-03-28 2013-10-23 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5305793B2 (ja) 2008-03-31 2013-10-02 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP2009271121A (ja) 2008-04-30 2009-11-19 Fujifilm Corp 着色光学異方性層を含む光学材料
US8394487B2 (en) 2008-05-21 2013-03-12 Fujifilm Corporation Birefringent pattern builder and laminated structure material for preventing forgery
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
JP5380007B2 (ja) 2008-06-16 2014-01-08 富士フイルム株式会社 偽造防止媒体
JP2010181852A (ja) 2008-07-14 2010-08-19 Fujifilm Corp 光学異方性膜、光学異方性膜の製造方法、液晶セル用基板、及び液晶表示装置
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP5543097B2 (ja) 2008-11-07 2014-07-09 富士フイルム株式会社 偽造防止箔
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2010197921A (ja) 2009-02-27 2010-09-09 Fujifilm Corp 液晶表示装置用基板および液晶表示装置
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
JP5259501B2 (ja) 2009-06-11 2013-08-07 富士フイルム株式会社 赤外光反射板、赤外光反射性合わせガラス、並びにコレステリック液晶層を有する積層体及び合わせガラス
US20120088037A1 (en) 2009-06-11 2012-04-12 Fujifilm Corporation Process of preparing light reflective film
JP5020289B2 (ja) 2009-06-11 2012-09-05 富士フイルム株式会社 赤外光反射板、及び赤外光反射性合わせガラス
JP5451235B2 (ja) 2009-07-31 2014-03-26 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品の製造方法及び複屈折パターン作製材料
JP5657243B2 (ja) 2009-09-14 2015-01-21 ユー・ディー・シー アイルランド リミテッド カラーフィルタ及び発光表示素子
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
US9200201B2 (en) 2009-10-22 2015-12-01 Zeon Corporation Heat-insulating particulate pigment and infrared-reflective coating solution
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP2011154215A (ja) 2010-01-27 2011-08-11 Fujifilm Corp 赤外光反射板、合わせガラス用積層中間膜シート及びその製造方法、並びに合わせガラス
WO2011111548A1 (ja) 2010-03-09 2011-09-15 日本ゼオン株式会社 断熱部材、断熱合わせガラス及び断熱合わせガラス物品
JP5412350B2 (ja) 2010-03-26 2014-02-12 富士フイルム株式会社 複屈折パターンを有する物品
JP5566160B2 (ja) 2010-03-31 2014-08-06 富士フイルム株式会社 液晶性化合物、液晶性組成物、光吸収異方性膜、及び液晶表示装置
US9601705B2 (en) 2010-03-31 2017-03-21 Udc Ireland Limited Material for organic electroluminescence element and organic electroluminescence element using the same, and method for manufacturing organic electroluminescence element
CN102336081A (zh) 2010-05-19 2012-02-01 富士胶片株式会社 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物
JP5638285B2 (ja) 2010-05-31 2014-12-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
JP5882566B2 (ja) 2010-07-09 2016-03-09 富士フイルム株式会社 印刷および複屈折パターンを有する偽造防止媒体
JP5729933B2 (ja) 2010-07-28 2015-06-03 富士フイルム株式会社 複屈折パターン作製材料
JP2012113000A (ja) 2010-11-19 2012-06-14 Fujifilm Corp 複屈折パターン転写箔
KR101830206B1 (ko) 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
JP5671365B2 (ja) 2011-02-18 2015-02-18 富士フイルム株式会社 赤外光反射板並びに合わせガラス用積層中間膜シート及び合わせガラスとそれらの製造方法
JP5723641B2 (ja) 2011-03-16 2015-05-27 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合性液晶組成物、高分子化合物およびフィルム
JP5750069B2 (ja) 2011-03-24 2015-07-15 富士フイルム株式会社 液晶配向促進剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
JP5774518B2 (ja) 2011-07-27 2015-09-09 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
JP5718260B2 (ja) 2011-09-08 2015-05-13 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性組成物、高分子材料、及びフィルム
EP2715416B1 (en) 2011-09-14 2019-10-30 FUJIFILM Corporation Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor
US8846981B2 (en) 2012-01-30 2014-09-30 Southern Lithoplate, Inc. 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexanes
US8632943B2 (en) 2012-01-30 2014-01-21 Southern Lithoplate, Inc. Near-infrared sensitive, positive-working, image forming composition and photographic element containing a 1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexane
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP2013200515A (ja) 2012-03-26 2013-10-03 Fujifilm Corp 光反射層、光反射板並びに合わせガラス用積層中間膜シート及び合わせガラスとそれらの製造方法
JP5827161B2 (ja) 2012-03-28 2015-12-02 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
KR20140031737A (ko) * 2012-09-05 2014-03-13 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 형성 방법
JP5961498B2 (ja) 2012-09-18 2016-08-02 富士フイルム株式会社 熱線カットフィルムおよびその製造方法、合わせガラス並びに熱線カット部材
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
JP6301350B2 (ja) 2013-10-03 2018-03-28 富士フイルム株式会社 投映像表示用ハーフミラーおよびその製造方法、ならびに投映像表示システム
JP2015072410A (ja) 2013-10-04 2015-04-16 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層を含む熱圧着貼合用フィルムおよびその応用
KR102422556B1 (ko) 2014-09-26 2022-07-18 니폰 제온 가부시키가이샤 원편광판 및 그 제조 방법, 광대역 λ/4판, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 그리고 액정 표시 장치
WO2016129645A1 (ja) 2015-02-10 2016-08-18 富士フイルム株式会社 光学部材、光学素子、液晶表示装置および近接眼光学部材
EP3306364A4 (en) 2015-05-28 2019-01-23 Zeon Corporation CIRCULAR POLARIZATION LIGHT SEPARATING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
WO2017078271A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-11 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
JP6572146B2 (ja) 2016-01-29 2019-09-04 富士フイルム株式会社 ハーフミラーおよび画像表示機能付きミラー
WO2017183428A1 (ja) 2016-04-21 2017-10-26 富士フイルム株式会社 画像表示機能付きミラーおよびハーフミラー
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
EP3581975B1 (en) 2017-02-09 2024-04-03 FUJIFILM Corporation Half mirror, method for producing half mirror, and mirror provided with image display function
EP3617787B1 (en) 2017-04-28 2022-06-29 FUJIFILM Corporation Image display function-equipped anti-glare mirror
WO2019009252A1 (ja) 2017-07-04 2019-01-10 富士フイルム株式会社 ハーフミラー
CN114236845B (zh) 2017-09-07 2024-11-05 富士胶片株式会社 投影图像显示用夹层玻璃及图像显示系统
WO2019163969A1 (ja) 2018-02-23 2019-08-29 富士フイルム株式会社 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム
JP7076530B2 (ja) 2018-03-23 2022-05-27 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶層、積層体、光学異方体、反射膜、コレステリック液晶層の製造方法、偽造防止媒体、および、判定方法
CN115079329B (zh) 2018-03-23 2024-04-19 富士胶片株式会社 胆甾醇型液晶层、光学各向异性体及反射层
EP3778248A4 (en) 2018-03-29 2021-06-02 FUJIFILM Corporation IMAGE GENERATION PROCESS
WO2020080355A1 (ja) 2018-10-17 2020-04-23 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2020175527A1 (ja) 2019-02-27 2020-09-03 富士フイルム株式会社 積層体
JP7133703B2 (ja) 2019-03-06 2022-09-08 富士フイルム株式会社 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
TW202109086A (zh) 2019-06-27 2021-03-01 日商富士軟片股份有限公司 成形用裝飾膜、成形物以及顯示器
TWI851818B (zh) 2019-09-26 2024-08-11 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法
JP7313457B2 (ja) 2019-09-27 2023-07-24 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター
EP4083668A4 (en) 2019-12-26 2023-06-07 FUJIFILM Corporation ANISOTROPIC LIGHT-ABSORPTION LAYER, LAMINATE, OPTICAL FILM, IMAGE DISPLAY DEVICE, BACKLIGHT MODULE
EP4130812A4 (en) 2020-03-30 2023-11-22 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, WINDSHIELD GLASS AND HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
EP4144820A4 (en) 2020-04-28 2023-10-18 FUJIFILM Corporation COMPOUND, LIQUID CRYSTAL COMPOSITION, HARDENED OBJECT, AND FILM
EP4163262A4 (en) 2020-06-03 2023-12-13 FUJIFILM Corporation REFLECTIVE FILM, COMPOSITE GLASS PRODUCTION PROCESS AND LAMINATED GLASS
JP7649800B2 (ja) 2020-12-09 2025-03-21 富士フイルム株式会社 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
EP4411452A4 (en) 2021-09-30 2025-02-05 FUJIFILM Corporation Head-up display system and transport
JPWO2023080115A1 (cs) 2021-11-05 2023-05-11
WO2023200018A1 (ja) 2022-04-15 2023-10-19 富士フイルム株式会社 反射フィルム、積層体、ウインドシールドガラス、画像表示システム
CN119422086A (zh) 2022-06-21 2025-02-11 富士胶片株式会社 图像记录物及图像记录物的制造方法、以及装饰成型体
CN115352177B (zh) * 2022-08-31 2023-12-08 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种具有显色功能的紫外光敏感平版印刷版前体及其制版方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH484918A (de) * 1965-10-28 1970-01-31 Ciba Geigy Verfahren zur Herstellung heterocyclischer, Aethylendoppelbindungen enthaltender Verbindungen
US3987037A (en) * 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
US3954475A (en) * 1971-09-03 1976-05-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosensitive elements containing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
DE2712686C2 (de) * 1977-03-23 1986-09-04 Bayer Ag, 5090 Leverkusen 4-Triazinyl-4'-benzoxazolyl- bzw. 4'-phenyl-stilben-derivate
US4189323A (en) * 1977-04-25 1980-02-19 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive copying composition
DE2718259C2 (de) * 1977-04-25 1982-11-25 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Strahlungsempfindliches Gemisch
JPS5928328B2 (ja) * 1977-11-29 1984-07-12 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPS6053300B2 (ja) * 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
US4294909A (en) * 1979-12-26 1981-10-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive negative-working toning process
US4329384A (en) * 1980-02-14 1982-05-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive tape produced from photoactive mixture of acrylic monomers and polynuclear-chromophore-substituted halomethyl-2-triazine
DE3023201A1 (de) * 1980-06-21 1982-01-07 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
DE3337024A1 (de) * 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
US4476215A (en) * 1983-11-25 1984-10-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting photoresist composition

Also Published As

Publication number Publication date
FI843978L (fi) 1985-04-13
SG63290G (en) 1990-09-07
ES8603435A1 (es) 1985-12-16
EP0137452B1 (de) 1989-09-13
HK78590A (en) 1990-10-05
HUT37409A (en) 1985-12-28
KR850003453A (ko) 1985-06-17
JPH0544459B2 (cs) 1993-07-06
FI843978A0 (fi) 1984-10-10
AU3420484A (en) 1985-04-18
JPH0665218A (ja) 1994-03-08
JPS60105667A (ja) 1985-06-11
IL73112A0 (en) 1984-12-31
AU571589B2 (en) 1988-04-21
ATE46333T1 (de) 1989-09-15
FI843978A7 (fi) 1985-04-13
US4619998A (en) 1986-10-28
BR8405160A (pt) 1985-08-27
IL73112A (en) 1988-10-31
US4696888A (en) 1987-09-29
DE3479725D1 (en) 1989-10-19
DE3337024A1 (de) 1985-04-25
CA1255669A (en) 1989-06-13
KR910007221B1 (ko) 1991-09-20
ZA847940B (en) 1985-05-29
ES536668A0 (es) 1985-12-16
EP0137452A1 (de) 1985-04-17
JPH0653734B2 (ja) 1994-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS249527B2 (en) Light sensitive mixture and method of its efficent component production
JP2888851B2 (ja) 複素環式化合物、感光性組成物、および該化合物の製造法
US4189323A (en) Radiation-sensitive copying composition
US5208135A (en) Preparation and use of dyes
US5340682A (en) Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an α-carbonyl-α-sulfonyl diazomethane, a water-insoluble binder and an acid cleavable compound
US4371606A (en) 2-(Halogenomethyl-phenyl)-4-halogeno-oxaxole derivatives, a process for the preparation thereof, and radiation-sensitive compositions containing these derivatives
KR910007214B1 (ko) 카르보닐메틸렌-헤테로시클릭 화합물의 제조방법 및 이를 함유하는 감광성 혼합물
US4824765A (en) Water-soluble photoinitiators
US4971892A (en) High sensitivity photopolymerizable composition
JPS6244258B2 (cs)
JPH0822127A (ja) β−ケトエステルまたはβ−アミドの環状アセタールまたは環状ケタールを含有する組成物
US5229254A (en) Positive-working radiation-sensitive mixtures, and radiation-sensitive recording materials produced with these mixtures
US5230985A (en) Negative-working radiation-sensitive mixtures, and radiation-sensitive recording material produced with these mixtures
US5286602A (en) Acid-cleavable compounds, positive-working radiation-sensitive mixture containing these compounds, and radiation-sensitive recording material produced with this mixture
JPS6133028B2 (cs)
US5847133A (en) Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators
JP3220498B2 (ja) 光重合性組成物
JPH08220742A (ja) 放射線感応性混合物
US5837586A (en) 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition
JPH023401A (ja) 光重合性組成物
US5216158A (en) Oxadiazole compounds containing 4,6-bis-trichloromethyl-S-triazin-2-yl groups, process for their preparation
EP0039025B1 (en) Derivatives of aryl ketones as sensitizers of photopolymerizable compounds for the visible spectral range, and photopolymerizable compositions comprising the said sensitizers
JPS60263142A (ja) 光重合可能な組成物
JPS60138539A (ja) 感光性組成物
JP3167429B2 (ja) 感光性組成物