CN1971421B - 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 - Google Patents
适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1971421B CN1971421B CN200610149463XA CN200610149463A CN1971421B CN 1971421 B CN1971421 B CN 1971421B CN 200610149463X A CN200610149463X A CN 200610149463XA CN 200610149463 A CN200610149463 A CN 200610149463A CN 1971421 B CN1971421 B CN 1971421B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- alkyl
- carbon atom
- formula
- contain
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title claims abstract description 63
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 title claims description 42
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 35
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 110
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 102
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 62
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 54
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 155
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 79
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 37
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 30
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 25
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 25
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N cyanic acid Chemical compound OC#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 19
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 11
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 11
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 230000032050 esterification Effects 0.000 claims description 5
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910015892 BF 4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910021115 PF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 12
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 abstract 2
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N Hydrocyanic acid Natural products N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 abstract 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 90
- -1 tolyl diphenyl sulfonium perfluoro octane sulfonates Chemical class 0.000 description 87
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 28
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 27
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 19
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical class CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 16
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 16
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 16
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 13
- WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N triphenylsulfonium Chemical compound C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WLOQLWBIJZDHET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 12
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 12
- 239000012953 triphenylsulfonium Substances 0.000 description 12
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 11
- 0 *CCCC[C@@](CC1)C[C@@]1C=C Chemical compound *CCCC[C@@](CC1)C[C@@]1C=C 0.000 description 10
- GKHAHBNUKAWJSO-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-2-sulfoacetic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)C(F)(F)S(O)(=O)=O GKHAHBNUKAWJSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N alpha-methacrylic acid Natural products CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 8
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 8
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FRULOWHFMKCMSZ-UHFFFAOYSA-N (3-methyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(C)CCOC1=O FRULOWHFMKCMSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 6
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical class Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 5
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VTYVKNWGXSMOSW-UHFFFAOYSA-N [O]C1C2CC3CC(C2)CC1C3 Chemical compound [O]C1C2CC3CC(C2)CC1C3 VTYVKNWGXSMOSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 4
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 4
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- YIBFJCKIOIVKIU-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoro-2-sulfoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)S(O)(=O)=O YIBFJCKIOIVKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- QJWLARPZQVTJRY-UHFFFAOYSA-N (4-methyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1COC(=O)C1OC(=O)C=C QJWLARPZQVTJRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 2-hydroxyethyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CCO KIZQNNOULOCVDM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=CC1=CC=CC=C1 FMFHUEMLVAIBFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YENIOYBTCIZCBJ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1-methoxypropan-2-ol Chemical class CC(O)=O.COCC(C)O YENIOYBTCIZCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLLNJDMHDJRNFK-UHFFFAOYSA-N adamantan-1-ol Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(O)C3 VLLNJDMHDJRNFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GBGBCPSGWNTKEK-UHFFFAOYSA-N c(cc1)ccc1S(c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound c(cc1)ccc1S(c1ccccc1)c1ccccc1 GBGBCPSGWNTKEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005816 fluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 2
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical group [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N n-decene Natural products CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N n-decyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCNCCCCCCCCCC GMTCPFCMAHMEMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N ortho-methyl aniline Natural products CC1=CC=CC=C1N RNVCVTLRINQCPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SERHXTVXHNVDKA-UHFFFAOYSA-N pantolactone Chemical compound CC1(C)COC(=O)C1O SERHXTVXHNVDKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWMWRSCIFDZZGW-UHFFFAOYSA-N (2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCOC1=O MWMWRSCIFDZZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCRUQDIXIZQPOA-UHFFFAOYSA-N (3,4-dimethyl-2-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1C(C(=O)OC1)(C)OC(C=C)=O MCRUQDIXIZQPOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOQPDIXNIJUCFJ-UHFFFAOYSA-N (4,4-dimethyl-5-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound CC1(C)C(OC(=O)C=C)COC1=O YOQPDIXNIJUCFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLFBWKWLKNHTDC-UHFFFAOYSA-N (5-oxooxolan-3-yl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1COC(=O)C1 NLFBWKWLKNHTDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004066 1-hydroxyethyl group Chemical group [H]OC([H])([*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- ZOMPBXWFMAJRRU-UHFFFAOYSA-N 3-ethyloxiran-2-one Chemical compound CCC1OC1=O ZOMPBXWFMAJRRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound [CH2]C1=CC=CC(N)=C1 FRKPCXYPIHAOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLPLJLLOCNCVTA-UHFFFAOYSA-N 4-bromooxolan-2-one Chemical compound BrC1COC(=O)C1 JLPLJLLOCNCVTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUDDLSHBRSNCBV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxyoxolan-2-one Chemical compound OC1COC(=O)C1 FUDDLSHBRSNCBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MITDTILSOONZCR-UHFFFAOYSA-N C#C.O.S Chemical compound C#C.O.S MITDTILSOONZCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-MRTMQBJTSA-N Isoborneol Natural products C1C[C@@]2(C)[C@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-MRTMQBJTSA-N 0.000 description 1
- CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-4-nitrosoaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N=O)C=C1 CMEWLCATCRTSGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N N-Methyldioctylamine Chemical compound CCCCCCCCN(C)CCCCCCCC YJLYANLCNIKXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XIKQDNZMICBJIX-UHFFFAOYSA-N O=C(CS1CCCC1)c1ccccc1 Chemical compound O=C(CS1CCCC1)c1ccccc1 XIKQDNZMICBJIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N Triisopropanolamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CC(C)O SLINHMUFWFWBMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 238000007171 acid catalysis Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- FOWDOWQYRZXQDP-UHFFFAOYSA-N adamantan-2-ol Chemical class C1C(C2)CC3CC1C(O)C2C3 FOWDOWQYRZXQDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N borneol Natural products C1CC2(C)C(C)CC1C2(C)C CKDOCTFBFTVPSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKKMVIVFRUYPLQ-UHFFFAOYSA-N but-2-enenitrile Chemical compound CC=CC#N NKKMVIVFRUYPLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000006196 deacetylation Effects 0.000 description 1
- 238000003381 deacetylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylmethanamine Chemical compound C1CCCCC1C(N)C1CCCCC1 QVQGTNFYPJQJNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N dioctylamine Chemical compound CCCCCCCCNCCCCCCCC LAWOZCWGWDVVSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 125000002228 disulfide group Chemical group 0.000 description 1
- DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N dl-isoborneol Natural products C1CC2(C)C(O)CC1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N meta-toluidine Natural products CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-di(nonyl)nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC ZQJAONQEOXOVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-ethylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(CC)CCCC BBDGYADAMYMJNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-methylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CCCC MTHFROHDIWGWFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N n-decyl-n-ethyldecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCN(CC)CCCCCCCCCC YGNSGUIRANPPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CC)CCCCCC ZBZSKMOKRUBBGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-octyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CC)CCCCCCCC KYSDFVPIAZIJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CC)CCCCC PXAVTVNEDPAYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNQQNBVJEWJYAM-UHFFFAOYSA-N n-ethylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNCC SNQQNBVJEWJYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-n-methylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(C)CCCCCC POMGZMHIXYRARC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N n-hexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCNCCCCCC PXSXRABJBXYMFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(C)CCCCC JJRDPNRWFSHHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZIXTIPURXIEMB-UHFFFAOYSA-N n-methylnonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCNC OZIXTIPURXIEMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N n-pentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCNCCCCC JACMPVXHEARCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXOHBWLPQHTYPF-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)O GXOHBWLPQHTYPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIGACIXOYTUXAW-UHFFFAOYSA-N phenacyl bromide Chemical compound BrCC(=O)C1=CC=CC=C1 LIGACIXOYTUXAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003053 piperidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- UOUFRTFWWBCVPV-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2,4-dioxo-1H-thieno[3,2-d]pyrimidin-3-yl)piperidine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCC(CC1)n1c(=O)[nH]c2ccsc2c1=O UOUFRTFWWBCVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N tridecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCN ABVVEAHYODGCLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
- C07C309/64—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C309/65—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/01—Sulfonic acids
- C07C309/02—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C309/03—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
- C07C309/17—Sulfonic acids having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton containing carboxyl groups bound to the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
- C07C309/72—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C309/74—Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of condensed ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C321/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C321/24—Thiols, sulfides, hydropolysulfides, or polysulfides having thio groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
- C07C381/12—Sulfonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
- C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/56—Ring systems containing bridged rings
- C07C2603/58—Ring systems containing bridged rings containing three rings
- C07C2603/70—Ring systems containing bridged rings containing three rings containing only six-membered rings
- C07C2603/74—Adamantanes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
- G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
- G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
本发明提供式(I)的盐,其中环X表示含有3至30个碳原子的单环或多环烃基,并且单环或多环烃基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代;Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基;A+表示有机抗衡离子。本发明还提供包含所述式(I)的盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
Description
技术领域
本发明涉及一种适合于酸生成剂的盐,该酸生成剂用于在半导体精细加工中使用的化学放大型性抗蚀剂,还涉及一种含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
背景技术
用于采用光刻法的半导体微型制造的化学放大型抗蚀剂组合物含有酸生成剂,该酸生成剂包含通过辐照产生酸的化合物。
在半导体微型制造中,适宜的是形成具有高分辨率的图案,并且期望有产生这样的图案的化学放大型抗蚀剂组合物。
最近,提出了一种化学放大型抗蚀剂组合物,该化学放大型抗蚀剂组合物含有三苯锍1-金刚烷甲氧基羰基二氟甲磺酸盐、对-甲苯基二苯基锍全氟辛烷磺酸盐等(例如JP 2004-4561-A),以及提供产生具有更高分辨率的图案的化学放大型抗蚀剂组合物的盐。
发明内容
本发明的目的是提供适合于酸生成剂的的盐及该盐的制备方法,该酸生成剂能够提供产生具有更高分辨率的图案的化学放大型抗蚀剂组合物。
本发明另外的目的是提供该盐的合成中间体,并且提供制备该合成中间体或盐的方法。
本发明的再一个目的是提供一种含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物。
本发明的这些和其它目的将由以下的描述变得显而易见。
本发明涉及以下方面:
<1>一种式(I)的盐:
其中环X表示含有3至30个碳原子的单环或多环烃基,并且所述单环或多环烃基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代;Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基;并且A+表示有机抗衡离子。以下,式(I)的盐也可以称作盐(I)。
<2>根据<1>所述的盐,其中每个Q1和Q2是氟原子或三氟甲基。
<3>根据<1>或<2>所述的盐,其中所述环X包括金刚烷基、降冰片基或环烷基,其中金刚烷基、降冰片基或环烷基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的盐,其中A+是选自式(IIe)、式(IIb)、式(IIc)和式(IId)中的至少一种阳离子;
式(IIe)的阳离子:
其中P25、P26和P27各自独立地表示含有1至30个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的环烃基,其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代,并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代;
式(IIb)的阳离子:
其中P4和P5各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基;
式(IIc)的阳离子:
其中P6和P7各自独立地表示含有1至12个碳原子的烷基或者含有3至12个碳原子的环烷基,或者P6和P7结合形成含有3至12个碳原子的二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的S+一起形成环,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代,P8表示氢,P9表示任选取代的含有1至12个碳原子的烷基、含有3至12个碳原子的烷环基或者芳环基,或者P8和P9结合形成二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的-CHCO-一起形成2-氧代环烷基,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代;和
式(IId)的阳离子:
其中P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20和P21各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或含有1至12个碳原子的烷氧基,B表示硫原子或氧原子,并且m表示0或1。
<5>根据<4>所述的盐,其中式(IIe)的阳离子是式(IIf)、(IIg)或(IIh)的阳离子:
其中P28、P29和P30各自独立地表示含有1至20个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的除苯基外的环烃基,其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代,并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代;并且P31、P32、P33、P34、P35和P36各自独立地表示羟基、含有1至12个碳原子的烷基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基,并且l、k、j、i、h和g各自独立地表示0至5的整数。
<6>根据<4>所述的盐,其中式(IIe)的阳离子是式(IIa)的阳离子:
其中P1、P2和P3各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基。
<7>根据<6>所述的盐,其中式(IIa)的阳离子是式(IIi)的阳离子:
其中P22、P23和P24各自独立地表示氢原子或者含有1至4个碳原子的烷基。
<8>根据<1>或<2>所述的盐,其中所述的盐是式(IIIa)、(IIIb)或(IIIc)的盐:
其中P22、P23和P24各自独立地表示氢原子或者含有1至4个碳原子的烷基。
<9>一种式(IV)的盐,
其中环X表示含有3至30个碳原子的单环或多环烃基,并且所述单环或多环烃基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代;Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基;并且M表示Li、Na、K或Ag。
<10>一种制各式(IV)的盐的方法,该方法包括将式(V)的醇
其中X具有如上定义的相同含义,
用式(VI)的羧酸酯化,
其中M和Q具有如上定义的相同含义。
<11>一种制备盐(I)的方法,该方法包括将式(IV)的盐与式(VII)的化合物反应,
A+Z- (VII)
其中Z表示F、Cl、Br、I、BF4、AsF6、SbF6、PF6或ClO4,并且A+具有如上定义的相同含义。
<12>一种化学放大型抗蚀剂组合物,其包含
盐(I),和
树脂,该树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元,并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液,但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。
<13>根据<12>所述的组合物,其中每个Q1和Q2是氟原子或三氟甲基。
<14>根据<12>或<13>所述的组合物,其中所述树脂包含衍生自含有大体积的并且酸-不稳定的基团的单体的结构单元。
<15>根据<14>所述的组合物,其中所述的大体积的并且酸-不稳定的基团是2-烷基-2-金刚烷基或1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基。
<16>根据<14>所述的组合物,其中含有大体积的并且酸-不稳定的基团的单体是(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯、α-氯丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯或α-氯丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯。
<17>根据<12>至<16>中任一项所述的组合物,其中所述的组合物还包含碱性化合物。
<18>根据<12>至<17>中任一项所述的组合物,其中所述的环X包括金刚烷基、降冰片基或环烷基,其中金刚烷基、降冰片基或环烷基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代。
<19>根据<12>至<18>中任一项所述的组合物,其中A+是选自式(IIe)、式(IIb)、式(IIc)和式(IId)中的至少一种阳离子。
<20>根据<19>所述的组合物,其中式(IIe)的阳离子是式(IIf)、(IIg)或(IIh)中的阳离子。
<21>根据<19>所述的组合物,其中式(IIe)的阳离子是式(IIa)的阳离子。
<22>根据<21>所述的组合物,其中式(IIa)的阳离子是式(IIi)的阳离子。
<23>根据<12>至<17>中任一项所述的组合物,其中所述的盐是式(IIIa)、(IIIb)或(IIIc)的盐。
具体实施方式
本发明提供盐(I)。
式(I)、(V)和(VI)中的环X表示含有3至30个碳原子的单环或多环烃基。环X中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代。
环X的实例包括包括含有3至12个碳原子的单环烃基、含有6至20个碳原子的双环烃基、含有10至30个碳原子的三环烃基、含有5至30个碳原子的四环烃基等。
单环、双环、三环和四环烃基的实例包括如下:
上述式中,具有开端的直线表示键,该键从相邻基团延伸出。
用以任意取代单环、双环、三环和四环烃基中的一个或多个氢原子的烷基、烷氧基、全氟烷基和羟基烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、三氟甲基、五氟乙基、七氟丙基、七氟异丙基、九氟丁基、羟基甲基、2-羟基乙基、1-羟基乙基等。
环X的优选实例包括金刚烷基、降冰片基、含有6至10个碳原子的环烷基,其中金刚烷基、降冰片基、环烷基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代。
Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基,如三氟甲基,五氟乙基,七氟丙基,九氟丁基等。作为Q1和Q2,优选氟原子和三氟甲基。
盐(I)的阴离子部分的具体实例包括以下:
式(I)和(VII)中的A+表示有机抗衡离子。其实例包括式(IIe)、(IIb)、(IIc)和(IId)的阳离子。
式(IIe)的阳离子中,P25、P26和P27各自独立地表示含有1至30个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的环烃基。式(IIe)的烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代,并且式(IIe)的环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代。
式(IIe)中的烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、辛基、2-乙基己基等,并且烷氧基的实例包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、辛氧基、2-乙基己氧基等。环烃基的实例包括环戊基、环己基、金刚烷基、双环己基、苯基、萘基、芴基、联苯基等。
式(IIe)的阳离子中,优选式(IIf)、(IIg)或(IIh)的阳离子。在式(IIf)、(IIg)或(IIh)的阳离子中,P28、P29和P30各自独立地表示含有1至20个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的除苯基外的环烃基。式(IIf)、(IIg)或(IIh)中的烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代。式(IIf)、(IIg)和(IIh)中的环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代。烷基、烷氧基和环烃基的实例包括与上述式(IIe)提及的基团相同的基团。
P31、P32、P33、P34、P35和P36各自独立地表示羟基、含有1至12个碳原子的烷基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基,并且l、k、j、i、h和g各自独立地表示0至5的整数。烷基、烷氧基和环烃基的实例包括与上述式(IIe)提及的基团相同的基团。
式(IIe)的阳离子中,更优选式(IIa)的阳离子。式(IIa)的阳离子中,P1、P2和P3各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基。
式(IIa)中的烷基和烷氧基的实例包括与上述式(IIe)提及的基团相同的基团。
式(IIa)的阳离子中,因为容易制备而优选上述式(IIi)的阳离子。
式(IIb)的阳离子中,P4和P5各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基。烷基和烷氧基的实例包括与上述式(IIe)中所提及的基团相同的基团。
式(IIc)的阳离子中,P6和P7各自独立地表示含有1至12个碳原子的烷基或者含有3至12个碳原子的环烷基,或者P6和P7结合形成含有3至12个碳原子的二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的S+一起形成环,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-可以被-CO-、-O-或-S-取代。
P8表示氢,P9表示任选取代的含有1至12个碳原子的烷基、含有3至12个碳原子的烷环基或者芳环基,或者P8和P9结合形成二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的-CHCO-一起形成2-氧代环烷基,并且所述二价无环烃基中的一个或多个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代。
在P6、P7和P9中,烷基的具体实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基、戊基、己基等,环烷基的具体实例包括环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环癸基等。通过结合P6和P7形成的含有3至12个碳原子的二价无环烃基的具体实例包括三亚甲基、四亚甲基、五亚甲基等,由相邻的S+与P6和P7的二价无环烃基形成的环状基团的具体实例包括五亚甲基锍基(sulfonio)、四亚甲基锍基、氧双亚乙基锍基等。P9中,芳环基的具体实例包括苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基等。通过P8和P9结合形成的二价无环烃基的具体实例包括亚甲基、亚乙基、三亚甲基、四亚甲基、五亚甲基等,通过P8和P9与相邻的-CHCO-一起结合形成的2-氧代环烷基的具体实例包括2-氧代环己基、2-氧代环戊基等。
式(IId)的阳离子中,P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20和P21各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或含有1至12个碳原子的烷氧基,B表示硫原子或氧原子,并且m表示0或1。烷基和烷氧基的实例包括与上述式(IIe)中所提及的基团相同的基团。
至于A+,优选选自式(IIf)、(IIg)、(IIh)、(IIb)、(IIc)和(IId)阳离子中的至少一种阳离子,并且还优选选自式(IIa)、(IIb)、(IIc)和(IId)阳离子中的至少一种阳离子。至于A+,更优选式(IIi)的阳离子。
式(IIe)的阳离子的具体实例包括以下:
式(IIb)的具体实例包括以下:
式(IIc)的具体实例包括以下:
式(IId)的阳离子的具体实例包括以下:
作为盐(I),为了提供产生具有更高分辨率的图案的化学放大型抗蚀剂组合物,优选式(IIIa)、(IIIb)和(IIIc)的盐。
制备盐(I)的方法的实例包括这样一种方法,该方法包括将式(IV)的盐和式(VII)的化合物在惰性溶剂如乙腈、水、甲醇、氯仿和二氯甲烷中,在0至150℃,优选0至100℃的温度进行反应。
式(VII)化合物的量通常为0.5至2mol/1mol式(IV)的盐。当得到的盐(I)是晶体形式时,可以进行重结晶而得到它,或者当其是油形式时,可以用溶剂萃取并且浓缩而得到它。
制备式(IV)的盐的方法的实例包括将式(V)的醇与式(VI)的羧酸反应的方法。
酯化反应通常可以用以下方法进行:在质子惰性溶剂如二氯乙烷、甲苯、乙基苯、一氯苯、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺等中,在20至200℃、优选50至150℃下混合材料。在酯化反应中,通常加入酸催化剂或脱水剂,并且酸催化剂的实例包括有机酸如对甲苯磺酸,无机酸如硫酸等。脱水剂的实例包括1,1’-碳酰二咪唑、N,N’-二环己基碳二亚胺等。
酯化可以优选在脱水条件下进行,例如,采用迪安-斯塔克方法,因为反应时间趋向于缩短。
式(VI)羧酸的量通常为0.2至3mol,优选0.5至2mol/1mol式(V)的醇。酸催化剂的量可以是催化量或者相当于溶剂的量,通常为0.001至5mol/1mol式(V)的醇。脱水剂的量通常为0.2至5mol、优选0.5至3mol/1mol式(V)的醇。
本发明的化学放大型抗蚀剂组合物包含盐(I)和树脂,所述树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元,并且其本身不溶于或难溶于碱性水溶液,但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。
盐(I)通常用作酸生成剂,通过辐照盐(I)生成的酸催化性地作用于树脂中的酸-不稳定基团,使酸-不稳定基团解离,并且树脂变得可溶于碱性水溶液。这样的组合物适合于化学放大型阳图型抗蚀剂组合物。
用于本发明组合物的树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元,并且其本身不溶于或难溶于碱性水溶液,但是酸-不稳定基团被酸解离。解离后的树脂含有羧酸残基,因此树脂变得可溶于碱性水溶液。
在本说明书中,“-COOR”可以描述为“含有羧酸酯的结构”,也可以简称为“酯基”。具体地,“-COOC(CH3)3”可以描述为“含有羧酸叔丁酯的结构”,或者简称为“叔丁基酯基”。
酸-不稳定基团的实例包括:具有羧酸酯的结构,如其中与氧原子相邻的碳原子是季碳原子的烷基酯基,和其中与氧原子相邻的碳原子是季碳原子的脂环族酯基等;其中与氧原子相邻的碳原子是季碳原子的内酯环基;等。
“季碳原子”是指“与四个不同于氢原子的取代基结合的碳原子”。
酸-不稳定基团的实例包括:其中与氧原子相邻的碳原子是季碳原子的烷基酯基,如叔丁酯基;缩醛型酯基,如甲氧基甲酯基、乙氧基甲酯基、1-乙氧基乙酯基、1-异丁氧基乙酯基、1-异丙氧基乙酯基、1-乙氧基丙氧基酯基、1-(2-甲氧基乙氧基)乙酯、1-(2-乙酰氧基乙氧基)乙酯基、1-[2-(1-金刚烷基氧基)乙氧基]乙酯基、1-[2-(1-金刚烷羰基氧基)乙氧基]乙酯基、四氢-2-呋喃酯和四氢-2-吡喃酯基;其中与氧原子相邻的碳原子是季碳原子的脂环族酯基,如异冰片酯基、1-烷基环烷基酯基、2-烷基-2-金刚烷基酯基、1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯基,等。
包含酯基的结构的实例包括(甲基)丙烯酸酯结构、降冰片烯羧酸酯结构、三环癸烯羧酸酯结构、四环癸烯羧酸酯结构等。上述金刚烷基中的至少一个氢原子可以被羟基取代。
本发明组合物中使用的树脂可以通过含有酸-不稳定基团和烯属双键的一种或多种单体的加聚反应而获得。
这些单体中,优选使用含有大体积基团如脂环基(例如2-烷基-2-金刚烷基和1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基)的基团,作为通过酸的作用而解离的基团,因为当这些基团用于本发明的组合物时,得到优异的分辨率。
这种含有大体积基团的单体的实例包括(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯、α-氯丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、α-氯丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯等。
特别地,当使用(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯或α-氯丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯作为用于本发明组合物中树脂组分的单体时,倾向于获得具有优异分辨率的抗蚀剂组合物。这样的(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯和α-氯丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯的典型实例包括:丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷基酯、丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷基酯、丙烯酸-2-正丁基-2-金刚烷基酯、α-氯丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷基酯、α-氯丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷基酯等。特别是当将(甲基)丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷基酯或(甲基)丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷基酯用于本发明的组合物时,倾向于获得具有优异灵敏度和耐热性的组合物。本发明中,如果需要,可以将两种或更多种的具有通过酸的作用而解离的基团的单体一起使用。
(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯通常可以通过将2-烷基-2-金刚醇或其金属盐与丙烯酰卤或甲基丙烯酰卤反应而制备。
用于本发明的树脂除了上述具有酸-不稳定基团的结构单元外,还可以含有其它衍生自酸-稳定单体的结构单元。此处,“衍生自酸-稳定单体的结构单元”是指“不被盐(I)产生的酸所解离的结构单元”。
可以含有的这样的其它结构单元的实例包括:衍生自含有游离羧基的单体如丙烯酸和甲基丙烯酸的结构单元,衍生自脂肪族不饱和二元羧酸酐如马来酸酐和衣康酸酐的结构单元,衍生自2-降冰片烯的结构单元,衍生自(甲基)丙烯腈的结构单元,衍生自其中与氧原子相邻的碳原子是仲碳原子或叔碳原子的(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元,衍生自(甲基)丙烯酸-1-金刚烷基酯的结构单元,衍生自苯乙烯类如对-或间-羟基苯乙烯的结构单元,衍生自具有任选被烷基取代的内酯环的(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯的结构单元,等。此处,尽管与氧原子相邻的碳原子是季碳原子,但是1-金刚烷基酯基是酸-稳定基团,并且1-金刚烷基酯基上的至少一个氢原子可以被羟基取代。
衍生自酸-稳定单体的结构单元的具体实例包括:衍生自(甲基)丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷基酯的结构单元,衍生自(甲基)丙烯酸-3,5-二羟基-1-金刚烷基酯的结构单元,衍生自α-(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯的结构单元,衍生自β-(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯的结构单元,下式(a)的结构单元,衍生自下式(b)的结构单元,衍生自含有烯属双键的脂环族化合物的结构单元如下式(c)的结构单元,衍生自脂肪族不饱和二元羧酸酐的结构单元如式(d)的结构单元,式(e)的结构单元等。
特别是,从抗蚀剂与基材的粘附性和抗蚀剂的分辨率考虑,在本发明组合物的树脂中,除了含有酸-不稳定基团的结构单元外,还含有至少一种选自以下结构单元中的结构单元:衍生自对-羟基苯乙烯的结构单元,衍生自间-羟基苯乙烯的结构单元,衍生自(甲基)丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷基酯的结构单元,衍生自(甲基)丙烯酸-3,5-二羟基-1-金刚烷基酯的结构单元,下式(a)的结构单元和下式(b)的结构单元。
式(a)和(b)中,R1和R2各自独立地表示氢原子、甲基或三氟甲基,并且R3和R4各自独立地表示甲基、三氟甲基或卤原子,p和q各自独立地表示0至3的整数。当p表示2或3时,每个R3可以相同或不同,而当q表示2或3时,每个R4可以相同或不同。
(甲基)丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷基酯和(甲基)丙烯酸-3,5-二羟基-1-金刚烷基酯可以通过,例如相应的羟基金刚烷与(甲基)丙烯酸或其酰卤反应而制备,并且它们也可商购。
此外,具有任选被烷基取代的内酯环的(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯可以通过将相应的α-或β-溴-γ-丁内酯与丙烯酸或甲基丙烯酸反应,或者将相应的α-或β-羟基-γ-丁内酯与丙烯酰卤或甲基丙烯酰卤反应而制备。
作为产生式(a)和(b)的结构单元的单体而具体列出的是,例如,下面所述的含有羟基的脂环族内酯的(甲基)丙烯酸酯,它们的混合物,等。这些酯可以通过,例如将相应的含有羟基的脂环族内酯与(甲基)丙烯酸反应而制备,并且其制备方法描述于例如JP 2000-26446-A中。
具有任选被烷基取代的内酯环的(甲基)丙烯酰氧基-γ-丁内酯的实例包括α-丙烯酰氧基-γ-丁内酯,α-甲基丙烯酰氧基-γ-丁内酯,α-丙烯酰氧基-β,β-二甲基-γ-丁内酯,α-甲基丙烯酰氧基-β,β-二甲基-γ-丁内酯,α-丙烯酰氧基-α-甲基-γ-丁内酯,α-甲基丙烯酰氧基-α-甲基-γ-丁内酯,β-丙烯酰氧基-γ-丁内酯,β-甲基丙烯酰氧基-γ-丁内酯,β-甲基丙烯酰氧基-α-甲基-γ-丁内酯等。
在KrF光刻法的情况下,即使使用衍生自羟基苯乙烯如对-和间-羟基苯乙烯的结构单元作为树脂组分中的一种,也可以获得具有足够透明度的抗蚀剂组合物。为了获得这样的共聚树脂,可以将相应的(甲基)丙烯酸酯单体与乙酰氧基苯乙烯和苯乙烯进行自由基聚合,然后可以用酸将衍生自乙酰氧基苯乙烯的结构单元中的乙酰氧基去乙酰化。
含有衍生自2-降冰片烯的结构单元的树脂具有坚固的结构,因为脂环基直接出现在其主链中,并且具有优异的耐干蚀刻性。衍生自2-降冰片烯的结构单元可以通过自由基聚合引入到主链中,所述的自由基聚合例如,除了使用相应的2-降冰片烯外,还使用脂肪族不饱和二元羧酸酐如马来酸酐和衣康酸酐一起进行自由基聚合。衍生自2-降冰片烯的结构单元是通过其双键的打开而形成的,并且可以用式(c)表示。衍生自马来酸酐的结构单元和衍生自衣康酸酐的结构单元,这些衍生自脂肪族不饱和二元羧酸酐的结构单元,是通过打开它们的双键而形成的,并且可以分别用式(d)和式(e)表示。
此处,式(c)中的R5和R6各自独立地表示氢、含有1至3个碳原子的烷基、含有1至3个碳原子的羟基烷基、羧基、氰基或-COOU基,其中U表示醇残基,或者R5和R6可以一起结合形成由-C(=O)OC(=O)-表示的羧酸酐残基。
R5和R6中,烷基的实例包括甲基、乙基、丙基和异丙基,羟基烷基的具体实例包括羟甲基、2-羟基乙基等。
R5和R6中,-COOU基是由羧基形成的酯,并且作为与U对应的醇残基列出的有,例如,任选取代的含有约1至8个碳原子的烷基、2-oxooxolan-3-或-4-基等;作为烷基上的取代基列出的有,例如,羟基、脂环烃残基等。
用于产生由式(c)表示的结构单元的单体的具体实例可以包括以下:
2-降冰片烯,
2-羟基-5-降冰片烯,
5-降冰片烯-2-羧酸,
5-降冰片烯-2-羧酸甲酯,
5-降冰片烯-2-羧酸-2-羟基乙酯,
5-降冰片烯-2-甲醇,
5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐,等。
当-COOU的U是酸-不稳定基团时,式(c)的结构单元是含有酸-不稳定基团的结构单元,尽管其含有降冰片烯结构。产生含有酸-不稳定基团的结构单元的单体的实例包括:5-降冰片烯-2-羧酸叔丁酯,5-降冰片烯-2-羧酸-1-环己基-1-甲基乙酯,5-降冰片烯-2-羧酸-1-甲基环己酯,5-降冰片烯-2-羧酸-2-甲基-2-金刚烷基酯,5-降冰片烯-2-羧酸-2-乙基-2-金刚烷基酯,5-降冰片烯-2-羧酸-1-(4-甲基环己基)-1-甲基乙酯,5-降冰片烯-2-羧酸-1-(4-羟基环己基)-1-甲基乙酯,5-降冰片烯-2-羧酸-1-甲基-1-(4-氧代环己基)乙酯,5-降冰片烯-2-羧酸-1-(1-金刚烷基)-1-甲基乙酯,等。
优选在用于本发明组合物的树脂中,含有酸-不稳定基团的结构单元在所有树脂结构单元中的含量比率为10至80摩尔%,尽管该比率根据形成图案的曝光的辐照种类、酸-不稳定基团的种类等而变化。
特别地,当将衍生自(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯或(甲基)丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯的结构单元用作酸-不稳定基团时,所述结构单元在所有树脂结构单元中的比率为15摩尔%或更高时,在抗蚀剂的耐干蚀刻性方面是有利的。
当除了含有酸-不稳定基团的结构单元外,还包含含有酸-稳定基团的其它结构单元时,优选这些结构单元的总和基于所有树脂结构单元在20至90摩尔%的范围内。
当使用含有烯属双键的脂环族化合物和脂肪族不饱和二元羧酸酐作为共聚单体时,考虑到这些单体不容易聚合的趋势,优选过量使用这些单体。
在本发明的组合物中,通过加入碱性化合物,特别是碱性含氮有机化合物,例如胺类,作为猝灭剂,可以减小由酸的去活化造成的性能恶化,所述酸的去活化是由于后曝光延迟而发生的。
这样的碱性含氮有机化合物的具体实例包括以下各式表示的化合物:
上述式中,T12和T13各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基或芳基。烷基优选含有约1至6个碳原子,环烷基优选含有约5至10个碳原子,芳基优选含有约6至10个碳原子。此外,烷基、环烷基或芳基上的至少一个氢原子可以各自独立地被羟基、氨基或含有1至6碳原子的烷氧基取代。氨基上的至少一个氢原子可以各自独立地被含有1至4个碳原子的烷基取代。
T14、T15和T16各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或烷氧基。烷基优选含有约1至6个碳原子,环烷基优选含有约5至10个碳原子,芳基优选含有约6至10个碳原子,并且烷氧基优选含有约1至6个碳原子。此外,烷基、环烷基、芳基或烷氧基上的至少一个氢原子可以各自独立地被羟基、氨基或含有1至6碳原子的烷氧基取代。氨基上的至少一个氢原子可以被含有1至4个碳原子的烷基取代。
T17表示烷基或环烷基。烷基优选含有约1至6个碳原子,环烷基优选含有约5至10个碳原子。此外,烷基或环烷基上的至少一个氢原子可以各自独立地被羟基、氨基或含有1至6碳原子的烷氧基取代。氨基上的至少一个氢原子可以被含有1至4个碳原子的烷基取代。
上述式中,T18表示烷基、环烷基或芳基。烷基优选含有约1至6个碳原子,环烷基优选含有约5至10个碳原子,芳基优选含有约6至10个碳原子。此外,烷基、环烷基或芳基上的至少一个氢原子可以各自独立地被羟基、氨基或含有1至6碳原子的烷氧基取代。氨基上的至少一个氢原子可以各自独立地被含有1至4个碳原子的烷基取代。
但是,上述式[3]表示的化合物中的T12和T13均不是氢原子。
A表示亚烷基、羰基、亚氨基、硫醚基或二硫基。亚烷基优选含有约2至6个碳原子。
而且,在T12至T18中,关于可以是直链或支链的那些,任何一种都可以是允许的。
T19、T20和T21各自独立地表示氢原子、含有1至6个碳原子的烷基、含有1至6个碳原子的氨基烷基、含有1至6个碳原子的羟烷基或者含有6至20个碳原子的取代或未取代的芳基,或者T19和T20结合形成亚烷基,该亚烷基和相邻-CO-N-一起形成内酰胺环。
这样的化合物的实例包括己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、苯胺、2-、3-或4-甲基苯胺、1,2-乙二胺、四亚甲基二胺、六亚甲基二胺、4,4’-二氨基-1,2-二苯基乙烷、4,4’-二氨基-3,3’-二甲基二苯基甲烷、4,4’-二氨基-3,3’-二乙基二苯基甲烷、二丁胺、二戊胺、二己胺、二庚胺、二辛胺、二壬胺、二癸胺、N-甲基苯胺、哌啶、二苯胺、三乙胺、三甲胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、三壬胺、三癸胺、甲基二丁胺、甲基二戊胺、甲基二己胺、甲基二环己胺、甲基二庚胺、甲基二辛胺、甲基二壬胺、甲基二癸胺、乙基二丁胺、乙基二戊胺、乙基二己胺、乙基二庚胺、乙基二辛胺、乙基二壬胺、乙基二癸胺、二环己基甲胺、三[2-(2-甲氧基乙氧基)乙基]胺、三异丙醇胺、N,N-二甲基苯胺、2,6-异丙基苯胺、吡啶、4-甲基吡啶、联吡啶、2,2’-二吡啶胺、二-2-吡啶酮、1,2-二(2-吡啶基)乙烷、1,2-二(4-吡啶基)乙烷、1,3-二(4-吡啶基)乙烷、1,2-双(2-吡啶基)乙烯、1,2-双(4-吡啶基)乙烯、4,4’-二吡啶硫醚、4,4’-二吡啶二硫醚、1,2-双(4-吡啶基)乙烯、2,2’-二皮考胺、3,3’-二皮考胺、氢氧化四甲铵、氢氧化四异丙铵、氢氧化四丁铵、氢氧化四正己铵、氢氧化四正辛铵、氢氧化苯基三甲铵、氢氧化3-三氟甲基苯基三甲铵、氢氧化(2-羟乙基)三甲铵(所谓的“胆碱”)、N-甲基吡咯烷酮,等。
此外,可以使用JP-A-H11-52575中公开的具有哌啶骨架的受阻胺化合物作为猝灭剂。
优选本发明的组合物含有:基于树脂组分和盐(I)的总量,约80至99.9重量%的树脂组分和0.1至20重量%的盐(I)。
当使用碱性化合物作为猝灭剂时,基于100重量份的树脂组分和盐(I)的总量,优选碱性化合物的含量为约0.01至5重量份,并且更优选该含量为约0.01至1重量份。
如果需要,本发明的组合物可以含有少量的各种添加剂,如敏化剂、溶解抑制剂、其它聚合物、表面活性剂、稳定剂、染料等,只要不妨碍本发明的效果即可。
本发明的组合物通常是抗蚀剂液体组合物形式的,其中将上述成分溶解在溶剂中,并且采用常规的方法如旋涂法将抗蚀剂液体组合物涂覆在基材如硅晶片上。此处使用的溶剂足以溶解上述成分,具有合适的干燥速度,在溶剂蒸发后得到均匀的和光滑的涂层,因此,可以使用本领域中通常使用的溶剂。本发明中,总固体含量是指除溶剂外的总含量。
其实例包括二元醇醚酯类,如乙基溶纤剂乙酸酯,甲基溶纤剂乙酸酯和丙二醇一甲醚乙酸酯;二元醇醚类,如丙二醇一甲醚,二(乙二醇)二甲醚;酯类,如乳酸乙酯,乳酸丁酯,乳酸戊酯和丙酮酸乙酯等;酮类,如丙酮,甲基异丁基酮,2-庚酮和环己酮;环酯类,如γ-丁内酯,等。这些溶剂可以各自单独使用,或者两种或更多种组合使用。
将涂覆在基材上然后干燥的抗蚀剂膜进行曝光以形成图案,然后进行热处理以易于去封闭反应,其后用碱性显影剂显影。此处使用的碱性显影剂可以是本领域中使用的各种碱性水溶液中的任何一种,通常,经常使用氢氧化四甲铵或氢氧化(2-羟乙基)三甲铵(通常称作“胆碱”)的水溶液。
应当理解,此处公开的实施方案在所有方面都是实施例而不是限制性的。意图在于,本发明的范围不是由上面的说明书确定的,而是由后附权利要求确定的,并且包括权利要求的等价含义和范围的所有变体。
将通过实施例更具体地描述本发明,但这些实施例不应理解为对本发明范围的限制。用以表示以下实施例和比较例中使用的任何组分的含量和任何材料的量的“%”和“份”都是基于重量的,除非另外具体指明。以下实施例中使用的任何材料的重均分子量是通过凝胶渗透色谱[HLC-8120GPC型,柱子(三根柱子):TSKgel Multipore HXL-M,溶剂:四氢呋喃,由TOSOH CORPORATION制造],使用苯乙烯作为标准参考物而测得的值。化合物的结构是通过NMR(GX-270型或EX-270型,由JEOL LTD制造)和质谱(液相色谱:1100型,由Agilient制造,质谱:LC/MSD型或LCD/MSDTOF型,由Agilient制造)测定的。
实施例1
(三苯锍(环戊氧基羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
(1)将100份30%的氢氧化钠水溶液滴加到在冰浴中的100份二氟(氟磺酰基)乙酸甲酯和250份离子交换水的混合物中。将加入的混合物在100℃加热并且回流3小时。冷却后,将冷却的混合物用88份浓盐酸中和并且浓缩,得到158.4份二氟磺基乙酸钠(含无机盐,纯度:65.1%)。
(2)将5.0份二氟磺基乙酸钠(纯度:65.1%)、1.42份环戊醇和60份二氯乙烷装入容器中,向其中加入3.13份对甲苯磺酸(p-TsOH),并且将混合物回流4小时。在浓缩混合物以除去二氯乙烷后,向其中加入100份叔丁基甲基醚进行洗涤,并且通过过滤除去洗涤溶剂。将由过滤得到的固体与100份乙腈一起加入,并且搅拌和过滤混合物。将滤液浓缩,得到2.40份二氟磺基乙酸环戊酯的钠盐。
1H-NMR(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.54-1.69(m,6H);1.77-1.89(m,2H);5.17-5.22(m,1H)
(3)将2.40份上述(2)中获得的二氟磺基乙酸环戊酯的钠盐溶解在24.0份乙腈中。向溶液中加入2.69份氯化三苯锍和26.9份离子交换水。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,并且用50份氯仿萃取浓缩物两次。合并有机层,然后用离子交换水洗涤。将洗涤的有机层浓缩。用50份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,通过过滤收集沉积的固体,得到0.85份白色固体形式的三苯锍(环戊氧基羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B1。
1H-NMR(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.57-1.71(m,6H),1.76-1.89(m,2H);5.17-5.23(m,1H);7.75-7.90(m,15H)
MS(ESI(+)谱):M+263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(-)谱):M-243.0(C7H9F2O5S-=243.01)
实施例2
(三苯锍(环己氧基羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
(1)将100份30%的氢氧化钠水溶液滴加到在冰浴中的100份二氟(氟磺酰基)乙酸甲酯和250份离子交换水的混合物中。将加入的混合物在100℃加热并且回流3小时。冷却后,将冷却的混合物用88份浓盐酸中和并且浓缩,得到158.4份二氟磺基乙酸钠(含无机盐,纯度:65.1%)。
(2)将5.0份二氟磺基乙酸钠(纯度:65.1%)、1.65份环己醇和60份二氯乙烷装入容器中,向其中加入3.13份对甲苯磺酸(p-TsOH),并且将混合物回流4小时。在浓缩混合物以除去二氯乙烷后,向其中加入100份叔丁基甲基醚进行洗涤,并且通过过滤除去洗涤溶剂。将由过滤得到的固体与100份乙腈一起加入,并且搅拌和过滤混合物。将滤液浓缩,得到3.06份二氟磺基乙酸环己酯的钠盐。
1H-NMR(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.25-1.53(m,6H);1.60-1.82(m,4H);4.78-4.87(m,1H)
(3)将3.06份上述(2)中获得的二氟磺基乙酸环己酯的钠盐溶解在30.6份乙腈中。向溶液中加入3.26份氯化三苯锍和32.6份离子交换水。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,并且用50份氯仿萃取浓缩物两次。合并有机层,然后用离子交换水洗涤。将洗涤的有机层浓缩。用50份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤收集沉积的固体,得到1.92份白色固体形式的三苯锍(环己氧基羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B2。
1H-NMR(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.22-1.53(m,6H),1.63-1.80(m,4H);4.78-4.86(m,1H);7.75-7.90(m,15H)
MS(ESI(+)谱):M+263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(-)谱):M-257.0(C8H11F2O5S-=257.03)
实施例3
(三苯锍(1-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
(1)将424份30%的氢氧化钠水溶液滴加到在冰浴中的500份二氟(氟磺酰基)乙酸甲酯和750份离子交换水的混合物中。将加入的混合物在100℃加热并且回流2.5小时。冷却后,将冷却的混合物用440份浓盐酸中和并且浓缩,得到820.8份二氟磺基乙酸钠(含无机盐,纯度:62.9%)。
(2)将5.0份二氟磺基乙酸钠(纯度:62.9%)、2.42份1-金刚烷醇和60份二氯乙烷装入容器中,向其中加入3.02份对甲苯磺酸(p-TsOH),并且将混合物回流12小时。在浓缩混合物以除去二氯乙烷后,向其中加入100份叔丁基甲基醚进行洗涤,并且通过过滤除去洗涤溶剂。将由过滤得到的固体与100份乙腈一起加入,并且搅拌和过滤混合物。将滤液浓缩,得到2.71份二氟磺基乙酸-1-金刚烷基酯的钠盐。
1H-NMR(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.62(s,6H);2.07(s,6H);2.15(s,3H)
(3)将1.35份上述(2)中获得的二氟磺基乙酸-1-金刚烷基酯的钠盐溶解在13.5份乙腈中。向溶液中加入1.21份氯化三苯锍和6.1份离子交换水。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,然后用50份氯仿萃取浓缩物两次。合并有机层,然后用离子交换水洗涤。将洗涤的有机层浓缩。用30份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤收集沉积的固体,得到1.44份白色固体形式的三苯锍(1-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B3。
1H-NMR(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.60(s,6H),2.04(d,6H);2.12(s,3H);7.74-7.90(m,15H)
MS(ESI(+)谱):M+263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(-)谱):M-309.0(C12H15F2O5S-=309.06)
实施例4
(1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓(1-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
(1)将150份的2-溴苯乙酮溶解在375份丙酮中,向其中滴加66.5份四氢噻吩。在将混合物在室温搅拌24小时后,通过过滤收集沉积的白色固体,用丙酮洗涤,然后干燥,得到207.9份的白色晶体形式的溴化1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)2.13-2.36(m,4H),3.50-3.67(m,4H);5.41(s,2H);7.63(t,2H);7.78(t,1H);8.02(d,2H)
(2)将1.35份实施例3(2)中获得的二氟磺基乙酸-1-金刚烷基酯溶解在13.5份乙腈中。向溶液中加入1.17份溴化1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓和5.8份离子交换水。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,然后用50份氯仿萃取浓缩物两次。合并有机层,然后用离子交换水洗涤。将洗涤的有机层浓缩。用30份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤收集沉积的固体,得到1.58份白色固体形式的1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓(1-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B4。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.61(s,6H),2.05(s,6H);2.13(s,3H);2.17-2.31(m,4H);3.47-3.61(m,4H);5.30(s,2H);7.62(t,2H);7.76(t,1H);8.00(d,2H)
MS(ESI(+)谱):M+207.0(C12H15OS+=207.08)
MS(ESI(-)谱):M-309.0(C12H15F2O5S-=309.06)
实施例5
(三苯锍(2-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
(1)将424份30%的氢氧化钠水溶液滴加到在冰浴中的500份二氟(氟磺酰基)乙酸甲酯和750份离子交换水的混合物中。将加入的混合物在100℃加热并且回流2.5小时。冷却后,将冷却的混合物用440份浓盐酸中和并且浓缩,得到820.8份二氟磺基乙酸钠(含无机盐,纯度:62.9%)。
(2)将5.0份二氟磺基乙酸钠(纯度:62.9%)、2.42份2-金刚烷醇和60份二氯乙烷装入容器中,向其中加入3.02份对甲苯磺酸(p-TsOH),并且将混合物回流12小时。在浓缩混合物以除去二氯乙烷后,向其中加入100份叔丁基甲基醚进行洗涤,并且通过过滤除去洗涤溶剂。将由过滤得到的固体与100份乙腈一起加入,并且搅拌和过滤混合物。将滤液浓缩,得到2.16份二氟磺基乙酸-2-金刚烷基酯的钠盐。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.47(d,2H);1.69-1.84(m,8H);1.97-2.07(m,4H);4.94(s,1H)
(3)将1.08份上述(2)中获得的二氟磺基乙酸-2-金刚烷基酯的钠盐溶解在10.8份乙腈中。向溶液中加入0.97份氯化三苯锍和9.7份离子交换水。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,然后用50份氯仿萃取浓缩物两次。合并有机层,然后用离子交换水洗涤。将洗涤的有机层浓缩。用30份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤收集沉积的固体,得到1.43份白色固体形式的三苯锍(2-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B5。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.47(d,2H);1.69-1.84(m,8H);1.97-2.07(m,4H);4.94(s,1H);7.75-7.91(m,15H)
MS(ESI(+)谱):M+263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(-)谱):M-309.0(C12H15F2O5S-=309.06)
实施例6
(1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓(2-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
将1.08份实施例5(2)中获得的二氟磺基乙酸-2-金刚烷基酯的钠盐溶解在10.8份乙腈中。向溶液中加入0.93份溴化1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓和9.3份离子交换水。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,然后用50份氯仿萃取浓缩物两次。合并有机层,然后用离子交换水洗涤。将洗涤的有机层浓缩。用30份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤收集沉积的固体,得到1.25份白色固体形式的1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓(2-金刚烷基氧基羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B6。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)1.46(d,2H);1.68-1.83(m,8H);1.96-2.06(m,4H);2.13-2.32(m,4H);3.45-3.63(m,4H);4.93(s,1H);5.30(s,2H);7.62(t,2H);7.76(t,1H);8.00(d,2H)
MS(ESI(+)谱):M+207.2(C12H15OS+=207.08)
MS(ESI(-)谱):M-309.0(C12H15F2O5S-=309.06)
实施例7
(三苯锍((十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基氧基)羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
(1)将115份30%的氢氧化钠水溶液滴加到在冰浴中的50份二氟(氟磺酰基)乙酸甲酯和250份离子交换水的混合物中。将加入的混合物在100℃加热并且回流3小时。冷却后,将冷却的混合物用44份浓盐酸中和并且浓缩,得到81.44份二氟磺基乙酸钠(含无机盐,纯度:63.3%)。
(2)将8.0份二氟磺基乙酸钠(纯度:63.3%)、10.0份十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-醇和60份二氯乙烷装入容器中,向其中加入4.89份对甲苯磺酸(p-TsOH),并且将混合物回流2小时。在浓缩混合物以除去二氯乙烷后,向其中加入50份叔丁基甲基醚。搅拌后,过滤搅拌后的混合物。将得到的滤液过滤,得到18.07份十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基二氟磺基乙酸酯的钠盐。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)0.70(d,6H);0.83(d,6H);0.86(d,6H);0.97-1.93(m,31H);4.66-4.76(m,1H)
(3)将9.0份上述(2)中获得的十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基二氟磺基乙酸酯的钠盐溶解在90.0份甲醇中。向溶液中加入4.73份氯化三苯锍和47.3份甲醇。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,然后用150份氯仿萃取浓缩物。将有机层用离子交换水洗涤。浓缩洗涤的有机层。用100份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤除去洗涤溶剂。再用150份和200份的乙酸乙酯重复洗涤和过滤两次,得到3.99份白色固体形式的三苯锍((十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基氧基)羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B7。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)0.70(d,6H);0.84(d,6H);0.88(d,3H);0.95-1.95(m,31H);4.67-4.79(m,1H);7.75-7.91(m,15H)
MS(ESI(+)谱):M+263.2(C18H15S+=263.09)
MS(ESI(-)谱):M-545.4(C29H47F2O5S-=545.31)
实施例8
(1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓((十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基氧基)羰基)二氟甲磺酸盐的合成)
将5.60份实施例7(2)中获得的十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基二氟磺基乙酸酯的钠盐溶解在56.0份甲醇中。向溶液中加入2.83份溴化1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓和28.3份甲醇。将加入的混合物搅拌15小时。在搅拌后,浓缩得到的混合物,然后用150份氯仿萃取浓缩物。将有机层用离子交换水洗涤。浓缩洗涤的有机层。用100份叔丁基甲基醚洗涤浓缩物,并且通过过滤除去洗涤溶剂。该洗涤和过滤用75份乙酸乙酯、用200份乙酸乙酯两次和用50份甲醇两次重复5次,得到1.21份白色固体形式的1-(2-氧代-2-苯乙基)四氢噻吩鎓((十六氢-10,13-二甲基-17-(6-甲基庚-2-基)-1H-环五[a]菲-3-基氧基)羰基)二氟甲磺酸盐,称作酸生成剂B8。
1H-NMR数据(二甲亚砜-d6,内标:四甲基硅烷):d(ppm)0.71(d,6H);0.84(d,6H);0.88(d,3H);0.95-1.95(m,31H);2.14-2.32(m,4H);3.46-3.64(m,4H);4.67-4.79(m,1H);7.63(t,2H);7.78(t,1H);8.01(d,2H)
MS(ESI(+)谱):M+207.0(C12H15OS+=207.08)
MS(ESI(-)谱):M-545.2(C29H47F2O5S-=545.31)
树脂合成实施例1(树脂A1的合成)
将甲基丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷基酯、甲基丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷基酯和α-甲基丙烯酰氧基-γ-丁内酯以5∶2.5∶2.5(20.0份∶9.5份∶7.3份)的摩尔比装料,并且加入基于所有单体为2倍重量的甲基异丁基酮,制备溶液。向溶液中加入偶氮双异丁腈作为引发剂,其比率基于所有单体的摩尔量为2摩尔%,并且将混合物在80℃加热约8小时。然后,将反应溶液倒入大量的庚烷中以引起沉淀,重复该操作3次进行纯化。结果,得到重均分子量为约9,200的共聚物。该共聚物称作树脂A1。
实施例1至2和比较例1
将如下组分混合并且溶解,而且通过孔径为0.2μm的氟树脂过滤器过滤,制备抗蚀剂液体。
<树脂>
树脂A1:10份
<酸生成剂>
酸生成剂B2:0.226份
酸生成剂B5:0.248份
酸生成剂C1
三苯锍全氟丁磺磺酸盐:0.244份
<猝灭剂>
猝灭剂Q1:2,6-二异丙基苯胺0.0325份
<溶剂>
溶剂Y1:丙二醇一甲醚乙酸酯 80.0份
2-庚酮 20.0份
γ-丁内酯 3.0份
将每个硅晶片涂布“ARC-29A-8”,一种获自Brewer Co.的有机抗反射涂料组合物,然后在215℃、60秒的条件下烘焙,形成780厚的有机抗反射涂层。将如上制备的每种抗蚀剂液体旋涂在抗反射涂层上,使得到的膜在干燥后的厚度为0.25μm。将如此涂有各自抗蚀剂液体的硅晶片各自在直接电热板上于130℃的温度预烘焙60秒。使用ArF受激准分子分档器(由Nikon Corporation制造的“NSR ArF”,NA=0.55,2/3环形),在曝光量逐步变化的情况下,对每个如此形成的具有各自抗蚀剂膜的晶片进行线和空间图案曝光。
曝光后,将每个晶片在电热板上于130℃的温度进行曝光后烘焙60秒,然后用2.38重量%的氢氧化四甲铵水溶液进行踏板显影(paddledevelopment)60秒。
用扫描电子显微镜观察在有机抗反射涂层基材上显影的亮场图案,其结果示于表1中。此处使用的术语“亮场图案”是指通过标线进行曝光和显影而获得的图案,所述的标线包含由玻璃层(透光层)制成的外框和形成在玻璃表面(透光部分)的在外框内部延伸的线性铬层(遮光层)。因此,亮场图案是这样一种图案,使得在曝光和显影后,围绕线-空间图案的抗蚀剂层被除去。
有效灵敏度(ES):
有效灵敏度表示为在通过0.13μm的线-空间图案掩模曝光并且显影后,线图案(遮光层)和空间图案(透光层)变为1∶1的曝光量。
分辨率:
分辨率表示为这样的空间图案的最小尺寸,其在有效灵敏度的曝光量下得到由线图案分开的空间图案。
表1
编号 | 酸生成剂 | 分辨率(μm) | ES(mJ/cm2) |
实施例1 | B2 | 0.12 | 27.5 |
实施例2 | B5 | 0.12 | 27.5 |
比较例1 | C1 | 0.13 | 22.5 |
盐(I)适合用于提供产生具有优异分辨率的图案的化学放大型抗蚀剂组合物的酸生成剂,并且本发明的抗蚀剂组合物特别适合于ArF受激准分子激光光刻法、KrF受激准分子激光光刻法和ArF浸渍光刻法所用的化学放大型抗蚀剂组合物。
Claims (12)
3.一种制备式(I)的盐的方法,
其中环X表示含有3至30个碳原子的单环或多环烃基,并且所述单环或多环烃基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代;Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基;并且A+是选自式(IIe)、式(IIb)、式(IIc)和式(IId)中的至少一种阳离子:
式(IIe)的阳离子:
其中P25、P26和P27各自独立地表示含有1至30个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的环烃基,其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代,并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代,
式(IIb)的阳离子:
其中P4和P5各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基,
式(IIc)的阳离子:
其中P6和P7各自独立地表示含有1至12个碳原子的烷基或者含有3至12个碳原子的环烷基,或者P6和P7结合形成含有3至12个碳原子的二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的S+一起形成环,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代,P8表示氢,P9表示任选取代的含有1至12个碳原子的烷基、含有3至12个碳原子的烷环基或者芳环基,或者P8和P9结合形成二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的-CHCO-一起形成2-氧代环烷基,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代,和
式(IId)的阳离子:
其中P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20和P21各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或含有1至12个碳原子的烷氧基,B表示硫原子或氧原子,并且m表示0或1,
该方法包括将式(IV)的盐
其中M表示Li、Na、K或Ag;并且环X和Q1和Q2具有如上定义的相同含义,
与式(VII)的化合物反应,
A+Z- (VII)
其中Z表示F、Cl、Br、I、BF4、AsF6、SbF6、PF6或ClO4,并且A+具有如上定义的相同含义。
4.一种化学放大型抗蚀剂组合物,其包含
式(I)的盐
其中环X表示含有3至30个碳原子的单环或多环烃基,并且所述单环或多环烃基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代;Q1和Q2各自独立地表示氟原子或者含有1至6个碳原子的全氟烷基;并且A+是选自式(IIe)、式(IIb)、式(IIc)和式(IId)中的至少一种阳离子:
式(IIe)的阳离子:
其中P25、P26和P27各自独立地表示含有1至30个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的环烃基,其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代,并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代,
式(IIb)的阳离子:
其中P4和P5各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基,
式(IIc)的阳离子:
其中P6和P7各自独立地表示含有1至12个碳原子的烷基或者含有3至12个碳原子的环烷基,或者P6和P7结合形成含有3至12个碳原子的二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的S+一起形成环,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代,P8表示氢,P9表示任选取代的含有1至12个碳原子的烷基、含有3至12个碳原子的烷环基或者芳环基,或者P8和P9结合形成二价无环烃基,该二价无环烃基与相邻的-CHCO-一起形成2-氧代环烷基,并且所述二价无环烃基中的至少一个-CH2-任选被-CO-、-O-或-S-取代,和
式(IId)的阳离子:
其中P10、P11、P12、P13、P14、P15、P16、P17、P18、P19、P20和P21各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或含有1至12个碳原子的烷氧基,B表示硫原子或氧原子,并且m表示0或1,和
树脂,该树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元,并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液,但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液,
其中所述树脂包含衍生自含有大体积的并且酸-不稳定的基团的单体的结构单元,其中所述的大体积的并且酸-不稳定的基团是2-烷基-2-金刚烷基或1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基。
5.根据权利要求4所述的组合物,其中每个Q1和Q2是氟原子或三氟甲基。
6.根据权利要求4所述的组合物,其中含有是2-烷基-2-金刚烷基或1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基的大体积的并且酸-不稳定的基团的单体是(甲基)丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸-2-烷基-2-金刚烷基酯、5-降冰片烯-2-羧酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯、α-氯丙烯酸-2-烷基-2-金刚烷基酯或α-氯丙烯酸-1-(1-金刚烷基)-1-烷基烷基酯。
7.根据权利要求4所述的组合物,其中所述的组合物还包含碱性化合物。
8.根据权利要求4所述的组合物,其中所述的环X包括金刚烷基、降冰片基或环烷基,其中金刚烷基、降冰片基或环烷基中的一个或多个氢原子任选被含有1至10个碳原子的烷基、含有1至10个碳原子的烷氧基、含有1至4个碳原子的全氟烷基、含有1至10个碳原子的羟基烷基或氰基取代。
9.根据权利要求4所述的组合物,其中式(IIe)的阳离子是式(IIf)、(IIg)或(IIh)的阳离子:
其中P28、P29和P30各自独立地表示含有1至20个碳原子的烷基或者含有3至30个碳原子的除苯基外的环烃基,其中所述烷基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基取代,并且其中所述环烃基中的一个或多个氢原子任选被羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基取代;并且P31、P32、P33、P34、P35和P36各自独立地表示羟基、含有1至12个碳原子的烷基、含有1至12个碳原子的烷氧基或者含有3至12个碳原子的环烃基,并且l、k、j、i、h和g各自独立地表示0至5的整数。
10.根据权利要求4所述的组合物,其中式(IIe)的阳离子是式(IIa)的阳离子:
其中P1、P2和P3各自独立地表示氢原子、羟基、含有1至12个碳原子的烷基或者含有1至12个碳原子的烷氧基。
12.根据权利要求4所述的组合物,其中所述的盐是式(IIIa)、(IIIb)或(IIIc)的盐:
其中P22、P23和P24各自独立地表示氢原子或者含有1至4个碳原子的烷基。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005335361 | 2005-11-21 | ||
JP2005335361 | 2005-11-21 | ||
JP2005-335361 | 2005-11-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1971421A CN1971421A (zh) | 2007-05-30 |
CN1971421B true CN1971421B (zh) | 2012-05-30 |
Family
ID=38087948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200610149463XA Expired - Fee Related CN1971421B (zh) | 2005-11-21 | 2006-11-17 | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7786322B2 (zh) |
KR (1) | KR101334631B1 (zh) |
CN (1) | CN1971421B (zh) |
TW (1) | TWI395062B (zh) |
Families Citing this family (68)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI378325B (en) * | 2005-03-30 | 2012-12-01 | Sumitomo Chemical Co | Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same |
TWI394004B (zh) * | 2005-03-30 | 2013-04-21 | Sumitomo Chemical Co | 適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型光阻組成物 |
CN1955845B (zh) * | 2005-10-28 | 2012-06-13 | 住友化学株式会社 | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 |
TWI395062B (zh) | 2005-11-21 | 2013-05-01 | Sumitomo Chemical Co | 適合酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學增幅阻劑組成物 |
TWI381246B (zh) * | 2005-12-27 | 2013-01-01 | Sumitomo Chemical Co | 適用於酸產生劑的鹽及含有該鹽之化學增幅型阻劑組成物 |
TWI421635B (zh) * | 2006-06-09 | 2014-01-01 | Sumitomo Chemical Co | 適合作為酸產生劑之鹽及含該鹽之化學放大正型光阻組成物 |
TWI399617B (zh) * | 2006-08-02 | 2013-06-21 | Sumitomo Chemical Co | 適用為酸產生劑之鹽及含該鹽之化學放大正型阻劑組成物 |
TWI412888B (zh) * | 2006-08-18 | 2013-10-21 | Sumitomo Chemical Co | 適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型正光阻組成物 |
TWI402249B (zh) * | 2006-08-22 | 2013-07-21 | Sumitomo Chemical Co | 適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型正型光阻組成物 |
US7741007B2 (en) * | 2006-12-06 | 2010-06-22 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Chemicallly amplified resist composition |
TWI437364B (zh) * | 2006-12-14 | 2014-05-11 | Sumitomo Chemical Co | 化學放大型阻劑組成物 |
JP4355725B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2009-11-04 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
CN101211113B (zh) * | 2006-12-27 | 2012-01-11 | 住友化学株式会社 | 化学放大型抗蚀剂组合物 |
CN101236357B (zh) * | 2007-01-30 | 2012-07-04 | 住友化学株式会社 | 化学放大型抗蚀剂组合物 |
JP4844436B2 (ja) * | 2007-03-07 | 2011-12-28 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物 |
JP5012122B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-08-29 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型レジスト組成物 |
US7745097B2 (en) * | 2007-07-18 | 2010-06-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Compound, manufacturing method thereof, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern |
JP5019071B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-09-05 | 信越化学工業株式会社 | 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
JP5216380B2 (ja) * | 2007-09-12 | 2013-06-19 | 東京応化工業株式会社 | 新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
TW200918495A (en) * | 2007-10-15 | 2009-05-01 | Jsr Corp | Sulfone compound, sulfonate and radiation-sensitive resin composition |
JP5210612B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2013-06-12 | 東京応化工業株式会社 | 新規な化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
US9034556B2 (en) * | 2007-12-21 | 2015-05-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Compound and method of producing the same, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern |
KR101046891B1 (ko) * | 2007-12-21 | 2011-07-06 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 신규 화합물 및 그 제조 방법, 산발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
JP5036695B2 (ja) * | 2007-12-28 | 2012-09-26 | 住友化学株式会社 | レジスト処理方法 |
JP5245956B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2013-07-24 | 信越化学工業株式会社 | 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4569786B2 (ja) | 2008-05-01 | 2010-10-27 | 信越化学工業株式会社 | 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 |
TWI462938B (zh) * | 2008-05-21 | 2014-12-01 | Sumitomo Chemical Co | 聚合物及含有該聚合物之化學放大型阻劑組成物 |
JP5997873B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2016-09-28 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5244711B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5277128B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 |
JP5103420B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2012-12-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型現像用レジスト組成物を用いたパターン形成方法 |
JP5287552B2 (ja) * | 2009-07-02 | 2013-09-11 | 信越化学工業株式会社 | 光酸発生剤並びにレジスト材料及びパターン形成方法 |
US8900790B2 (en) * | 2009-09-16 | 2014-12-02 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Photoresist composition |
JP5608492B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2014-10-15 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5565231B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2014-08-06 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物 |
KR101115581B1 (ko) * | 2009-10-01 | 2012-03-06 | 금호석유화학 주식회사 | 술포니움 염의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 술포니움 염 |
JP2011123480A (ja) * | 2009-11-10 | 2011-06-23 | Sumitomo Chemical Co Ltd | レジスト組成物 |
KR101771395B1 (ko) * | 2009-11-18 | 2017-08-25 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 염 및 이를 함유하는 포토레지스트 조성물 |
US8765351B2 (en) * | 2009-11-18 | 2014-07-01 | Sumitomo Chemical Company, Limted | Salt and photoresist composition containing the same |
TWI476172B (zh) * | 2009-11-18 | 2015-03-11 | Sumitomo Chemical Co | 鹽及含有該鹽之光阻組成物 |
JP5521999B2 (ja) * | 2009-11-26 | 2014-06-18 | 住友化学株式会社 | 化学増幅型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
KR101806155B1 (ko) * | 2009-12-10 | 2017-12-07 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 | 콜레이트 광산 발생제 및 이를 포함하는 포토레지스트 |
JP5723626B2 (ja) * | 2010-02-19 | 2015-05-27 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜 |
CN102781911B (zh) | 2010-02-24 | 2015-07-22 | 巴斯夫欧洲公司 | 潜酸及其用途 |
JP5618877B2 (ja) * | 2010-07-15 | 2014-11-05 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 |
JP5953670B2 (ja) | 2010-08-27 | 2016-07-20 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5712099B2 (ja) * | 2010-09-28 | 2015-05-07 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 |
TWI530491B (zh) | 2010-11-30 | 2016-04-21 | 住友化學股份有限公司 | 鹽及包括該鹽之光阻組成物 |
JP5690584B2 (ja) | 2010-12-28 | 2015-03-25 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 |
JP5307171B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法 |
JP6039194B2 (ja) | 2011-03-02 | 2016-12-07 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5723648B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2015-05-27 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 |
JP5934536B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-06-15 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5852490B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-02-03 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
TWI525082B (zh) | 2011-04-07 | 2016-03-11 | 住友化學股份有限公司 | 鹽及含該鹽之光阻組成物 |
JP6022788B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-11-09 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6005964B2 (ja) | 2011-04-07 | 2016-10-12 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6214134B2 (ja) * | 2011-04-13 | 2017-10-18 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5970926B2 (ja) * | 2011-04-13 | 2016-08-17 | 住友化学株式会社 | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5924071B2 (ja) | 2011-04-20 | 2016-05-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5915067B2 (ja) | 2011-05-20 | 2016-05-11 | 住友化学株式会社 | 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP6013797B2 (ja) | 2011-07-19 | 2016-10-25 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
CN102924341A (zh) | 2011-08-08 | 2013-02-13 | 住友化学株式会社 | 盐、光致抗蚀剂组合物和用于生产光致抗蚀剂图案的方法 |
JP6106985B2 (ja) | 2011-08-22 | 2017-04-05 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及び塩 |
JP6013218B2 (ja) | 2012-02-28 | 2016-10-25 | 信越化学工業株式会社 | 酸発生剤、化学増幅型レジスト材料、及びパターン形成方法 |
JP5615860B2 (ja) | 2012-03-07 | 2014-10-29 | 信越化学工業株式会社 | 酸発生剤、化学増幅型レジスト材料、及びパターン形成方法 |
JP2020029451A (ja) | 2018-08-17 | 2020-02-27 | 住友化学株式会社 | 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
CN111116426A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-05-08 | 上海博栋化学科技有限公司 | 含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1354392A (zh) * | 2000-11-20 | 2002-06-19 | 住友化学工业株式会社 | 化学放大型正光刻胶组合物 |
CN1432873A (zh) * | 2001-06-29 | 2003-07-30 | Jsr株式会社 | 酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物及辐射敏感树脂组合物 |
US6893792B2 (en) * | 2002-02-19 | 2005-05-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Positive resist composition |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3690847B2 (ja) * | 1995-09-20 | 2005-08-31 | 富士通株式会社 | レジスト組成物及びパターン形成方法 |
JP2000039401A (ja) | 1998-03-24 | 2000-02-08 | Dainippon Printing Co Ltd | 表面プラズモン共鳴バイオセンサ―用測定セル及びその製造方法 |
US6303266B1 (en) | 1998-09-24 | 2001-10-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resin useful for resist, resist composition and pattern forming process using the same |
TWI263866B (en) | 1999-01-18 | 2006-10-11 | Sumitomo Chemical Co | Chemical amplification type positive resist composition |
EP1041442B1 (en) | 1999-03-31 | 2004-10-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Chemical amplification type positive resist |
KR100538501B1 (ko) | 1999-08-16 | 2005-12-23 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 신규한 오늄염, 레지스트 재료용 광산발생제, 레지스트재료 및 패턴 형성 방법 |
TWI286664B (en) | 2000-06-23 | 2007-09-11 | Sumitomo Chemical Co | Chemical amplification type positive resist composition and sulfonium salt |
JP4150509B2 (ja) * | 2000-11-20 | 2008-09-17 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
JP2002202607A (ja) | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物 |
JP2002265436A (ja) | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
US6689530B2 (en) * | 2001-09-28 | 2004-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sulfonyldiazomethanes, photoacid generations, resist compositions, and patterning process |
EP1308781A3 (en) * | 2001-10-05 | 2003-09-03 | Shipley Co. L.L.C. | Cyclic sulfonium and sulfoxonium photoacid generators and photoresists containing them |
JP2003122012A (ja) | 2001-10-18 | 2003-04-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
JP2003131383A (ja) | 2001-10-29 | 2003-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
JP2004004561A (ja) * | 2002-02-19 | 2004-01-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポジ型レジスト組成物 |
CN100371826C (zh) * | 2002-08-26 | 2008-02-27 | 住友化学工业株式会社 | 磺酸盐和光刻胶组合物 |
JP4103523B2 (ja) | 2002-09-27 | 2008-06-18 | Jsr株式会社 | レジスト組成物 |
KR20050107599A (ko) * | 2003-03-05 | 2005-11-14 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 산 발생제, 술폰산, 술포닐할라이드 화합물 및 감방사선성수지 조성물 |
CN100354257C (zh) * | 2003-07-18 | 2007-12-12 | 住友化学工业株式会社 | 磺酸盐和光刻胶组合物 |
JP2006027163A (ja) | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Konica Minolta Photo Imaging Inc | インクジェット記録媒体の製造方法 |
US7304175B2 (en) | 2005-02-16 | 2007-12-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same |
TWI378325B (en) | 2005-03-30 | 2012-12-01 | Sumitomo Chemical Co | Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same |
KR101278086B1 (ko) | 2005-10-28 | 2013-06-24 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 산 발생제에 적합한 염 및 이를 함유하는 화학 증폭형 레지스트 조성물 |
CN1955845B (zh) | 2005-10-28 | 2012-06-13 | 住友化学株式会社 | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 |
KR101326559B1 (ko) | 2005-10-28 | 2013-11-08 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 산 발생 물질로 적합한 염 및 이를 함유하는 화학 증폭형레지스트 조성물 |
TWI395062B (zh) | 2005-11-21 | 2013-05-01 | Sumitomo Chemical Co | 適合酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學增幅阻劑組成物 |
TWI381246B (zh) | 2005-12-27 | 2013-01-01 | Sumitomo Chemical Co | 適用於酸產生劑的鹽及含有該鹽之化學增幅型阻劑組成物 |
GB2441032B (en) | 2006-08-18 | 2008-11-12 | Sumitomo Chemical Co | Salts of perfluorinated sulfoacetic acids |
-
2006
- 2006-11-17 TW TW095142524A patent/TWI395062B/zh active
- 2006-11-17 KR KR1020060114104A patent/KR101334631B1/ko active IP Right Grant
- 2006-11-17 US US11/600,884 patent/US7786322B2/en active Active
- 2006-11-17 CN CN200610149463XA patent/CN1971421B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1354392A (zh) * | 2000-11-20 | 2002-06-19 | 住友化学工业株式会社 | 化学放大型正光刻胶组合物 |
CN1432873A (zh) * | 2001-06-29 | 2003-07-30 | Jsr株式会社 | 酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物及辐射敏感树脂组合物 |
US6893792B2 (en) * | 2002-02-19 | 2005-05-17 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Positive resist composition |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JP特开2002-328466A 2002.11.15 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070122750A1 (en) | 2007-05-31 |
US7786322B2 (en) | 2010-08-31 |
KR101334631B1 (ko) | 2013-11-29 |
CN1971421A (zh) | 2007-05-30 |
TW200731013A (en) | 2007-08-16 |
TWI395062B (zh) | 2013-05-01 |
KR20070053619A (ko) | 2007-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1971421B (zh) | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN1955846B (zh) | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN1955845B (zh) | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN1955844B (zh) | 适合于酸生成剂的盐和含有其的化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN1991585B (zh) | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN101086620B (zh) | 适合于酸生成剂的盐和含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 | |
CN1841200B (zh) | 适合作为酸生成剂的盐和包含该盐的化学放大型抗蚀组合物 | |
KR101327672B1 (ko) | 산 발생제용으로 적당한 염 및 이를 함유한 화학증폭형레지스트 조성물 | |
KR101357432B1 (ko) | 산 발생기에 적합한 염 및 이를 함유하는 화학 증폭레지스트 조성물 | |
JP5070814B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
CN101125823B (zh) | 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 | |
JP5374836B2 (ja) | 化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩 | |
CN101121679A (zh) | 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 | |
CN101353319A (zh) | 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 | |
CN101196687A (zh) | 化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN101130510A (zh) | 适合于酸生成剂的盐以及含有该盐的化学放大型正性抗蚀剂组合物 | |
KR20100054096A (ko) | 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 신규 화합물 및 산발생제 | |
CN101271272A (zh) | 化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN101211113B (zh) | 化学放大型抗蚀剂组合物 | |
CN101261448A (zh) | 化学放大型抗蚀剂组合物 | |
TWI473783B (zh) | 鹽及含有該鹽之光阻組成物 | |
EP1873143B1 (en) | A salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120530 Termination date: 20131117 |