CN1132360A - 静电复制光敏元件、包括该元件的工艺盒及成像设备 - Google Patents

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Abstract

静电复制光敏元件通过将包括产生电荷层和传输电荷层的光敏层设置在导电层上制备。传输电荷层厚度至多为12μm且通过将粒径为1-3μm的颗粒以密度1×104-2×105颗粒/mm2分散在其中来形成。上述的传输电荷层和颗粒的折光指数差值至少为0.10。该光敏元件当用作工艺盒和成像设备的结构元件时，能有效地提供无黑斑和光波干涉条纹的图像，具有良好的色调再现性。

Description

静电复制光敏元件、包括该元件的 工艺盒及成像设备
本发明涉及一个有特殊传输电荷层的静电复制光敏元件，使用该光敏元件的工艺盒和使用该光敏元件的成像设备。
在一些已知的成像设备中，有使用静电复制术的激光打印机，它们是高速低噪音打字机。其典型的记录方法包括二元成像记录如字符和图像，取决于光敏元件的特定部分是否用激光辐照。此外，某些根据这类二元记录方案的打印机能呈现半色调。
这类打字机众所周知的例子包括使用高频振动和致密模型方法的打字机。然而，众所周知，根据高频振动或致密模型方法的这类打字机很难获得高分辨率。
另一方面，近年来，PWM(脉冲宽度调制)方案被推荐作为在每个像素形成半色调的方案，同时维持高分辨率并且不降低记录密度。按照该方案，激光束辐照时间根据图像信号来调整以形成半色调像素。按照PWM方案，平面色调图像能够用于每个像素光束光点形成的点来形成，因而可呈现半色调而不降低分辨率。因此，该方案特别适合用于同时要求高分辨率和高色调特性的彩色图像成像设备。
然而，即使在PWM方案中，如果像素密度(或图像密度)进一步增加，则像素尺寸相对于辐照光点直径减少，因而很难达到足够的色调值，即使调整辐照时间。因此，为获得高分辨率同时维持色调特性，必须提供较小的辐照光点直径。为在光学扫描系统中实现这一点，例如，必须使用较短波长的激光束或较大NA(数孔)的透镜。但是，根据这些措施，必须使用昂贵的激光和大尺寸的透镜和扫描器且也要求提高机械精确度，相当于低的震源深度，这样不可避免地增加了设备尺寸因而增加了生产成本。此外，在使用固态扫描器如LED板或液晶光栅板时，很难避免增加扫描仪成本，要求增加附加精度和提高了电驱动线路的成本。
尽管有上述问题，近年来按照静电复制方案的成像设备仍需有较高的分辨率和色调特性。
这些情况下，人们建议了各种改进分辨率和色调特性的方法，即通过在显影时使用小粒径的调色剂或提供均匀显影条件来改进。但是，这些方法没能提供足够的色调信息的再现性，如具有256色调值和400-600线条能用目测分辨的彩色图像信息，并也不能以分辨率再现二元图像如字符。
另一方面，例如在日本公开专利申请(JP-A)1-169454或1-172863中建议了一种方法，该方法使用在低辐照能量时有低感光度且在高辐照能量时有高感光度特性的静电复制光敏元件。按照该方法，这类光敏元件在辐照光点低辐照能量区提供低感光度，因而有可能达到类似于小辐照光点直径的效果，并且也能稳定地获得比用该辐照光点直径所期望的分辨率高的分辨率。但即使使用该光敏元件，用PWM方案也很难稳定再现400线条的色调图像。
如上所述，肉眼可分辨的图像通常包括400线条和256色调值，在这种情况下，最小分辨率的量级为16μm2，相当于至少5000dpi(点/英寸)的分辨率，为达到这样高的分辨率，必须至少提供一个较小的光照光点面积。但在仅将光点面积降到最低的情况下，不能形成如上所述的高质量图像。
此外，为获得提供高分辨率的数字图像形成方案必须的小光点面积，优选使用强相干光。当使用这类强相干光时，容易产生所谓的光波干涉条纹现象，条纹模型出现在输出的图像中，会严重降低图像质量。这种现象是由组成光敏元件的各层之间边界界面反射光的干涉引起的。此外，这大概是因为光波干涉程度的不同导致了差的图像，光波干涉程度的差别是由于在生产光敏元件时产生的层厚度的不均匀性(不均匀的层厚度)引起的。
为防止上述光波干涉或将其降至最低，人们建议了各种方法包括：提供用光敏层均匀覆盖的表面(JP-A60-186850)；在光敏层下设置吸光层(JP-60-184258)；提供一个均匀的光敏层下部(JP-A60-247647)；几乎所有的光都被光敏层吸收(JP-A58-82249)；吸光物或散光物在光敏层中混合(JP-A60-86550)；和有机聚合物细颗粒在光敏层中混合(JP-A63-113459)。
但按照上述方法，所得的光敏元件仍不足以提供具有高分辨率和无光波干涉条纹的高质量图像。
本发明的目的是提供一种静电复制光敏元件，它能提供高分辨率和优异色调特性的图像，同时在所得图像上抑制光波干涉条纹的出现。
本发明的另一个目的是提供一种工艺盒和成像设备，它们都包括上述静电复制光敏元件。
按照本发明，提供一种静电复制光敏元件，包括：一种导电载体和一个沉积在该导电载体上的光敏层，该光敏层包括一个产生电荷层和一个传输电荷层，其中：
传输电荷层厚度至多12μm且含有粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104～2×15颗粒/mm2，和所述传输电荷层有第一折光指数，所述颗粒有第二折光指数，第一和第二折光指数的差值至少为0.10。
按照本发明，也提供一种工艺盒，包括：一个静电复制光敏元件和至少一种选自充电设备、显影设备和清洁设备的设备，所述光敏元件包括一导电载体和沉积在导电载体上的光敏层，光敏层包括产生电荷层和传输电荷层，其中
所述光敏元件和至少一种选自充电设备、显影设备和清洁设备的设备被安装成一体以形成一个可拆卸地安装到成像设备主体上的盒，和
所述传输电荷层厚度至多为12μm，且含粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104到2×105颗粒/mm2，和
所述传输电荷层有第一折光指数和所述颗粒有第二折光指数，第一和第二折光指数差值为至少0.10。
按照本发明，进一步提供一种成像设备，包括：一种静电复制光敏元件，给光敏元件充电的充电设备，用光辐照充电后的光敏元件的辐照设备，显影设备和转印设备，所述光敏元件包括电载体和沉积在导电载体上的光敏层，其中
所述传输电荷层厚度至多为12μm，且含粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104到2×105颗粒/mm2，和
所述传输电荷层有第一折光指数和所述颗粒有第二折光指数，第一和第二折光指数差值为至少0.10。
本发明的这些和其他目的、特征和优点在结合附图阅读了下列优选实施方案的描述后将更清楚。
图1是本发明静电复制光敏元件实施方案的剖视图。
图2是光强度分布和光点直径关系及光的光点面积(S)和光敏层厚度(T)的关系图。
图3是本发明成像设备实施方案的示意图。
图4是本发明成像设备另一个实施方案的示意图。
本发明的静电复制光敏元件基本上通过将一光敏层沉积在一导电载体上制成，光敏层包括产生电荷层和传输电荷层。传输电荷层厚度为等于或小于12μm且含有粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104到2×105颗粒/mm2。颗粒的折光指数与传输电荷层的折光指数差至少为0.10。
基于上述特征，本发明的静电复制光敏元件能提供有高分辨率和良好色调再现性的图像。
这可能归结于下列现象。
更具体地说，在用于本发明的光敏层中，发现由光点给定的图像信息不易变差，由于用于形成静电潜像的(电荷)载体的扩散可被抑制。另外，基于对在光敏层中形成的静电潜像形成的电位差的改进，因而证实在光敏元件和显影套筒之间的空间的电位差增大。因此，给定图像信息不易变差而能提供高质量图像。
此外，为防止光波干涉条纹等的出现，在光敏层中可含散射光颗粒。这种情况下，虽然光波干涉条纹被有效地防止，但在某些情况下所得图像本身由于高的残留电位和过度的光散射而变差。
在本发明中，由于使用厚度至多为12μm的较薄的传输电荷层而缩短了光路径和传输电荷层中颗粒数的下降，光波干涉条纹能更有效地被抑制而对所得图像本身没有不利影响。
在本发明中，光敏层可为功能分离型结构，其中包括产生电荷物质的产生电荷层和包括传输电荷物质的传输电荷层，以该顺序或相反的顺序设置。在本发明中，光敏层优选的功能分离型结构为包括产生电荷层的传输电荷层并以该顺序沉积在导电载体(下面将述)。
产生电荷物质的例子可包括：硒-碲，吡喃鎓染料，硫代吡喃鎓染料，酞
Figure A9512023100101
颜料，花蒽酮颜料，二苯并芘醌颜料，皮蒽酮颜料，三偶氮颜料，二偶氮颜料，偶氮颜料，靛蓝颜料，奎吖啶酮颜料和花青颜料。
传输电荷物质的例子可包括：有杂环或稠合多环芳烃结构的聚合物如聚-N-乙烯基咔唑和聚苯乙烯基蒽；杂环化合物如吡唑啉，咪唑，噁唑，噁二唑，三唑和咔唑；三芳基链烷衍生物如三苯基甲烷；三芳基胺衍生物如三苯基胺；和低分子量化合物如苯二胺衍生物，N-苯基咔唑衍生物，芪衍生物和腙衍生物。
上述产生电荷物质和传输电荷物质可分散或溶解(如需要)在粘合剂聚合物中。粘合剂聚合物的例子可包括：乙烯基化合物如苯乙烯、乙酸乙烯酯、氯乙烯、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、偏二氟乙烯和三氟乙烯的聚合物或共聚物，聚乙烯醇，聚乙烯基醛缩醇，聚碳酸酯，聚酯，聚砜，聚苯氧醚，聚氨酯，纤维素树脂，酚醛树脂，密胺树脂，聚硅氧烷树脂和环氧树脂。
产生电荷层优选厚度至多3μm，特别优选0.1-1μm。传输电荷层厚度至多为12μm，且可优选至多10μm。
由于可能出现针孔或降低感光度，光敏层可优选有至少1μm、特别优选至少3μm的厚度(产生电荷层和传输电荷层总厚度)。光敏厚度(产生电荷和/或传输电荷层)可用涡流型厚度测量仪来测量。
在本发明中，光敏层优选用有光点面积(S)的辐照来辐照且光敏层优选有乘积(S×T)至多为2×10μm3的厚度(T)。
此外，考虑到显影差(即显影时光敏元件的电位差)，乘积(S×T)优选至少2×103μm3。如果S×T小于2×103μm3，难以提供足够的显影差。
在这种情况下，用于本发明的辐照设备通过发出辐照光束辐照光敏层表面以在光敏元件上形成静电潜像，这样提供带有点状光点的光敏元件表面。在这种情况下，辐照设备优选是发出相干光(光束)的光源如激光(激光束)或LED光束(由LED发出的光束)，这些光束应有高度相干性以提供具有小光点面积的点状光点。
图2示出了光强度分布和光点直径之间的关系。图2也示出了光和光点面积(S)和形成在导电载体上的光敏层厚度(T)之间的关系。参见图2，光的光点通常为椭圆形状，在主(或水平)扫描方向的光点直径为ab，在次扫描(或垂直扫描)方向的光点直径为cd。乘积S×T相当于光点体积(V)。光的光点面积(S)是光敏层表面的面积，其中光强度(B)是峰强度(A)的1/e2或光强度范围为B到A。
在本发明中，用于提供光的光点的光源(辐照设备)的例子包括半导体激光或发射辐照光的LED。
光强度分布可基于高斯分布或洛伦兹分布。在每种情况下，本发明中所述的光点面积(S)都提供如图2所示的光强度分布，其中光强度范围从B到A(B是A的l/e2)。光点面积(S)可通过设置在光敏元件位置上的CCD相机来测定。
在本发明中，光的光点面积优选至多4×103μm2，更优选至多3×103μm2。如果光点面积(S)超过4×103μm2，则具有这样光点面积的光的光点很容易与相邻光的光点重叠，这样导致不稳定的色调再现性。此外，考虑到生产成本，光点面积(S)可优选至少1000μm2。
从上述情况可知，本发明光敏元件的光敏层厚度(T)优选10μm，特别优选至多8μm。
在本发明中，传输电荷层含有具有下列性质(a)-(c)的颗粒：
(a)折光指数与传输电荷层的折光指数差至少为0.10(绝对值)，
(b)粒径为1～3μm，和
(c)分散密度为1×104μm～2×10μm5颗粒/mm2。
关于上述性质(a)，传输电荷层的最终指数可用Abbe折光仪测量。在这种情况下，试样膜可按与后附实施例制备传输电荷层相同的方式来制备，不同之处在于在传输电荷层中不使用颗粒。
另一方面，颗粒的折光指数可按(油)浸渍法测量。在这种情况下，使用波光约为589nm的D-线(Na)。
颗粒折光指数和传输电荷层折光指数差值优选在0.10到1.0的范围内。如果折光指数差(绝对值)小于0.10，很难提供具有足够相位差(相位角)的相干光(例如激光束)，这样不能达到足够的防止光波干涉条纹的效果。如果折光指数大于1.00，颗粒很容易沉积到传输电荷层用涂敷液中，因为这样的颗粒通常有大的比重。
关于上述性质(b)，上述颗粒的粒径是利用测量设备如电子扫描显微镜测量的初级颗粒的数均粒径。为简化测量，也可使用根据激光散射法的Coultev计数仪或设备。
如果颗粒粒径小于1μm，所用的相干光容易有小相位差且颗粒产生的散射角太大，因而所得图像在某些情况下变差。如果粒径大于3μm，在光敏层中颗粒的体积分数增加，从而对电学性能如导电性产生不利影响。
用于传输电荷层中的颗粒优选有小粒径分布。更具体地说，颗粒优选有一个标准偏差(δ)的平均值(±δ)在1-3μm范围内的粒径分布。
关于上述性能(c)，颗粒的分散密度可用反射型光学显微镜观察最终光敏元件给定区域的颗粒数来测量。更具体地说，用光学显微镜对10个区域观察面积至少为10μm×10μm区域中颗粒数。在这些区域的平均面积中的颗粒的平均数转化为每平方毫米面积的颗粒数，以确定传输电荷层中颗粒的(分散)密度。
如果颗粒密度小于1×104μm颗粒/mm2，则防止光波干涉条纹效果将不足。如果颗粒密度大于2×105颗粒/mm2，则这样的颗粒会引起过量的光散射并降低电学性能如导电性。
含在电荷传输层中颗粒的例子包括有机树脂颗粒和无机颗粒。颗粒优选是透明和均相且也优选有均匀的粒径。这类颗粒的具体例子包括物质如聚硅氧烷树脂、SiO2、Al2O3、酚醛树脂、TiO2、ZnO、四氟乙烯树脂、聚二乙烯基苯型树脂和苯并奎胺树脂(例如苯并奎胺和甲醛的缩合产物)的颗粒。考虑到最终光敏元件的耐压性，这些物质最好是绝缘材料。具体地说，颗粒体积电阻率的至少为1×109欧姆·厘米。
除了上述化合物外，光敏层也可含一些添加剂以改进其机械性能或寿命或其他目的。这类添加剂的例子包括：抗氧化剂，紫外线吸收剂，交联剂，润滑剂和电导率控制剂。
在本发明中，如上所述光敏层(特别是传输电荷层)最好比较薄(例如1-10μm)，这样，保护层最好沉积在光敏层上。保护层厚度最好为1-5μm。低于1μm时，其保护效果不够；高于5μm时，保护层易于降低表面电位。保护层优选含各种树脂且如果需要可进一步含导电颗粒如金属，金属氧化物等。
用于本发明中的静电复制光敏元件可通过将至少一层光敏层沉积在导电载体上制成。
导电载体可以是由本身有导电性的材料组成，这些材料例如是金属如铝，铝合金，铜，锌，不锈钢，铬，钛，镍，镁，铟，金，钯，银或铁。另外，导电载体可包括带涂层例如用汽相沉积的铝、氧化铟、氧化锡或金的塑料材料，或导电颗粒与适当的粘合剂在金属或塑料载体上的涂层；或塑料材料或纸与导电颗粒的混合物。导电载体可为一定形状如圆柱体环带或板。
上述导电载体最好有均匀导电性和高表面光洁度。因为导电载体的表面光洁度会影响在其上形成的上面各层包括底涂层，产生电荷层和传输电荷层的均匀性和绝缘性能，因而这样的高表面光洁度(如小表面粗糙度)是需要的。具体地说，在本发明中，使用较薄的光敏层，使得导电载体最好有至多为0.2μm的表面粗糙度。如果导电载体的表面粗糙度大于0.2μm，由此引起的不均匀将明显改变各薄层如底涂层和产生电荷层的特性，这样容易产生缺陷如电荷输入性能或残余电位的不规则(或不均匀)。导电载体最好有至多0.1μm的表面粗糙度。但如果静电复制光敏元件的导电载体有光滑表面，则在最终图像上更容易产生光波干涉条纹。
在本发明中，表面粗糙度是根据相对于测定值(不均匀度)的平均值的标准偏差δ来确定的，所述的平均值是用原子间力显微镜扫描约500～2500μm2的区域来测定的。为准确测定，对几个区域重复扫描以获得标准偏差δ的平均值，以测定导电载体的表面粗糙度值。
在这种情况下，不均匀度最大值优选是到多为3δ。如果不均匀度为3δ，则由于局部电场很容易产生局部电荷输入，这样导致图像缺陷，如黑斑点。
用于本发明的导电载体可通过在载体上沉积一导电层来制成。在这种情况下，通过将分散体(其中导电颗粒分散在粘合剂聚合物中)涂在载体上很容易制成导电载体。导电载体优选有至多为0.1μm的初级粒径，特别优选0.05μm的粒径以提供均匀的表面。导电颗粒的例子包括导电锌，导电氧化钛，铝，金，铜，银，钴，镍，铁，导电碳黑，ITO(铟-锡氧化物)，导电氧化锡，氧化铟，和铟的颗粒。另外，也可使用表面涂有上述导电材料层的绝缘材料的颗粒。导电层优选的体积电阻率至多为1×1010欧姆·厘米，特别是1×108欧姆·厘米。
在用于本发明的光敏元件中，也可设置一底涂层，它具有输入阻挡功能和导电载体与光敏层之间粘接功能。这类底涂层可用例如酪蛋白、聚乙烯醇、硝基纤维素、乙烯-丙烯酸共聚物、聚乙烯醇缩丁醛、酚醛树脂、聚酰胺、聚氨酯或明胶。底涂层优选为0.1～10μm、特别是0.3～3μm厚。
图1示出了本发明静电复制光敏元件优选实施方案的剖视图。
参照图1，静电复制光敏层通过以图示顺序设置由载体1a和导电载体1b组成的导电载体1，底涂层2和由产生电荷层3和含颗粒5的传输电荷层4组成的光敏层，产生电荷可放置在传输电荷层4上。
本发明的成像设备可包括导电载体，静电复制光敏元件，充电设备，辐照设备，显影设备，转印设备和清洁设备。
在本发明的成像设备中，上述各种设备(例如充电设备，显像设备，转印设备和清洁设备)可以是本领域已知的。充电设备可以是电晕充电设备，通过将高压电施到电线上产生电晕以给光敏元件充电或接触充电设备，通过向一个与光敏元件表面接触的元件如辊子、片或刷施电压以给光敏元件充电。为获得高显影效果，显影设备优选采用干式显影方案，特别是对光敏元件和显影套筒之间电位差敏感的干式非接触式显影方案。
在本发明中，用于显影步骤中的调色剂优选重均粒径为2-10μm。
图3是包括本发明工艺盒成像设备示意图。
参见图3，光敏鼓(即静电复制光敏元件)1沿轴2以规定的周向速度沿光敏元件1内箭头所示方向转动。光敏元件1的表面在旋转时被均匀地用初级充电设备3均匀地充电以有规定的正电位或负电位。光敏元件1暴露到光—影像4(辐照光束)，通过使用影像状辐照设备(未示出)进行激光束的扫描辐照，与辐照影像相应的静电潜像顺序地在光敏元件1的表面上形成。这样形成的静电潜像用显影设备5显影以在光敏元件表面形成调色剂像。将调色剂像顺序地用转印设备6转印到接收转印材料7上，材料7是供纸部件(未示出)以与光敏元件1转速同步供到光敏元件1和转印设备6之间的位置。
带有调色剂像的接收转印材料7与光敏元件表面分离并传输到固像设备8，固像后打印出从成像设备出来的复印件。在光敏元件表面上的残留调色剂颗粒在转印后用清洁设备9除去以获得清洁的表面，光敏元件表面上的残留电荷由预辐照设备(未示出)发出的预辐照光10消除以为下一个循环作准备。在使用例如充电辊作为初级充电设备的接触充电设备时，预辐照步骤可省去。
在本发明中，上述结构元件包括光敏元件1，初级充电设备3，显影设备5和清洁设备9可一体化安装以形成作为工艺盒11的一个单元，工艺盒11通过在主体是使用导向设备如导轨12可拆卸地安装到成像设备如复印机或激光束打印机主体上。
例如初级充电设备3，显影设备5和清洁设备9的至少一个可与光敏元件一起一体化安装成工艺盒11。
图4是作为本发明成像设备的第二个实施方案彩色复印机的示意图。
参见图4，彩色复印机包括像扫描单元201，它将原件上的像信息读出并进行数字信号处理，和打印单元202，它将由像扫描单元201读出的与原像对应的彩色像打印在纸张上。
具体地说，在像扫描单元201中，放置在原件组板203上并用原件罩覆盖的元件204用由卤灯205经红外滤光器208发出的光辐照。来自原件的反射光经反射镜206和207顺序反射并经过透镜207，用3-线传感器(CCD传感器)成像，然后作为红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的全色数字成分送到信号处理单元211。卤灯205和反光镜206以速度(V)机械移动，反光镜207以速度(
Figure A9512023100181
)机械移动，每个都以垂直于线传感器(210)(由(210-2，210-3和210-4组成)的电扫描方向(初级扫描方向)的方向(次扫描方向)移动，这样在整个原件上进行扫描。
在信号处理单元211中，读出的信号进行电处理以分解成深红色(M)，青色(C)，黄色(Y)和黑色(B)成分并将它们送到打印单元202。在上述成分M，C，Y和B中，对于在像扫描单元201元件的一次扫描操作，一个成分被送到打印单元202。因此，一个打印操作(彩色成像的一个循环)共进行四次扫描操作。
在打印单元，从像扫描单元201送出的像信号M，C，Y和BK被送到激光驱动器212，按照像信号，激光驱动器调制—驱动(调制—激活)半导体激光机213、光敏元件217的表面用激光束经多角反光镜214，f-θ透镜215和反光镜216扫描，借此在光敏元件217上顺序形成与原像相应的静电潜像。
这样形成的静电潜像(M，C，Y和BK)用相应的调色剂分别用旋转的显影设备218显像，218由深红显色影单元219、青色显影单元220，黄色显影单元221和黑色显影单元222组成，每一个顺序与光敏元件217接触以形成M，C，Y和BK的调色剂像。
在光敏元件上这样形成的显影后的调色剂像顺序转印到纸(如作为接收转印材料的PPC纸)上，该纸是用转印鼓223(纸缠绕在该鼓上)由盒224或225供应。
在M，C，Y和BK的四色图像顺序转印到纸上后，经过图像单元226的纸传输出成像单体。
下面在实施例中描述成像设备，其中“份”是指“重量份”。实施例1
制备一个表面粗糙度至多为0.1μm的镜抛光表面的铝圆柱体(外径＝80mm)，其中表面粗糙度用扫描型探针显微镜(由SeikoDenshi Kogyo K.K.制造的“SPA 300”)来测量(下面表面粗糙度都是用该仪器测量的)。
用浸涂法将5份醇可容的尼龙共聚物(商标名：Amilan CM-8000”由Toray K.K.生产)和95份甲醇形成的溶液涂在铝圆柱体上，随后在80℃下干燥10分钟形成1μm厚的底涂层。
然后，将5份下式所示的双偶氮颜料加到由2份聚乙烯基亚苄基(亚苄基度至少为75％)和95份环己酮形成的溶液中并在砂磨中分散20小时。
Figure A9512023100191
用浸涂法将这样制得的分散体涂到底涂层上，随后干燥形成0.2μm厚的产生电荷层。
然后，将5份下式所示的三芳基胺化合物和5份聚碳酸酯(由Mitsubishi Gasu Kagaku K.K.生产的“Z-200”)溶在70份氯苯中
Figure A9512023100201
在该溶液中，将粒径为2μm的0.3份聚硅氧烷树脂以密度为5×104颗粒/mm2进行分散。将该分散体用浸涂法涂在产生电荷层上，并干燥以形成10μm厚的传输电荷层，获得静电复制光敏元件。
顺便指出，聚硅氧烷树脂颗粒的折光指数为1.4。另一方面，由上述三芳基胺化合物和聚硅酸酯树脂组成的传输电荷层即不含上述聚硅氧烷树脂颗粒，折光指数为1.59。因此，聚硅氧烷树脂颗粒与传输电荷层之间折光指数差值为0.19。
将该静电复制光敏元件安装在改进的全色数字复印机(由Canon K.K.制造的“CLC-500”)上并在暗区电位为-400伏下评价成像性能。在该复印机中，使用波长为680nm和输出功率为35mw、发射光点面积为2×103μm2的激光束的半导体激光仪。
作为评价结果，所得图像没有图像缺陷如黑斑和光波干涉条纹。所得图像也显示出了良好的色调再现性包括在400dpi之下的256色调值。上述评价是用目测进行的。比较例1
除了不使用聚硅氧烷树脂颗粒外，静电复制光敏元件的制备和评价完全重复实施例1。
结果，观察到间隔(空隙)为2-3mm的许多光波干涉条纹。实施例2
经压延加工制备铝圆柱体(外径300mm)。
在铝圆柱体上，将在由167份酚醛树脂(商标名：“Plyophen”，由Dainippon Inki Kagaku Kogyo k.k.生产)和100份2-甲氧基乙醇(甲基溶纤素)组成的溶液中的200份导电硫酸钡超细颗粒(初级粒径为0.05μm)分散体浸涂，随后干燥形成10μm厚导电层。导电层的表面粗糙度至多为0.1μm。
底涂层和产生电荷层与实施例1相同的方式在导电层上顺序形成，且厚度与实施例1中也相同。
然后，与实施例相同的方式，在产生电荷层上形成10μm厚的传输电荷层，不同之处在于使用0.5份粒径为1.5μm和折光指数为1.4的SiO2颗粒  代替实施例1中的聚硅氧烷树脂颗粒，并以密度为2×105颗粒/mm2分散以制备静电复制光敏元件。
将静电复制光敏元件安装在改进的激光打印机(由Hewlett-packard co.制造的“laser Jet IV”)上并在暗区电位为-500伏下评价成像特性。在该打印机中，使用波长为680nm和输出功率为35mw，发出光点面积为1.9×103μm2的激光束的半导体激光仪。
作为评价结果，所得图像没有缺陷如黑斑和光波干涉条纹。所得图像在输出信号为600dpi之下显示出良好的单象素色调再现性。上述评价是用目测及20倍放大镜进行的。比较例2
除了粒径为4μm的SiO2颗粒以密度为1.5×104颗粒/mm2分散外，光敏元件的制备和评价同实施例1。
结果，观察到一些黑斑，此外单象素再现性不足，导致图像不规则。实施例3
除了12μm厚的传输电荷层是通过将粒径为3μm的SiO2颗粒以密度为4×104颗粒/mm2分散在其中形成外，光敏元件的制备和评价同实施例2。
结果，与实施例2类似，所得图像没有缺陷(黑斑和光波干涉条纹)，且在相当于600dpi输出信号时有极优异的单象素再现性。实施例4
除了10μm厚的传输电荷层是通过将0.4份粒径为2μm的聚硅氧烷树脂颗粒(与实施例1中的相同)以密度1×105颗粒/mm2分散在其中形成的外，iq敏元件的制备和评价同实施例2。
结果，与实施例2类似，所得图像没有缺陷(黑斑和光波干涉条纹)，且在相当于600dpi输出信号时有极优异的单象素再现性。实施例5
除了8μm厚的传输电荷层是通过使用90份氯苯并将0.1份聚硅氧烷树脂以密度1×104颗粒/mm2分散在其中形成外，光敏元件的制备和评价同实施例1。
结果，与实施例1类似，所得图像无缺陷(黑斑和光波干涉条纹)且有优异的色调再现性包括在400dpi下的256色调值。比较例3
除了15μm厚的传输电荷层是通过使用50份氯苯并将0.1份聚硅氧烷树脂以密度2×104颗粒/mm2分散在其中形成外，光敏元件的制备和评价同实施例1。
结果，虽然没有观察到图像缺陷如黑斑和光波干涉条纹，但色调再现性不足。比较例4
除了10μm厚的传输电荷层是通过使用75份氯苯并将0.2份交联的聚硅氧烷树脂以密度2×104颗粒/mm2分散在其中形成外，光敏元件的制备和评价同实施例1。
交联的聚苯乙烯树脂颗粒折光指数为1.55，这样折光指数差(传输电荷层的折光指数为1.59)为0.04。
结果，虽然黑斑基本上被防止但光波干涉条纹却清楚地观察到。比较例5
除了12μm厚的传输电荷层是通过使用75份氯苯并将1份聚硅氧烷树脂以密度3×104颗粒/mm2分散在其中形成外，光敏元件的制备和评价同实施例1。
结果，虽未观察到图像缺陷如黑斑和光波干涉条纹。但当残余电位为-200伏时，色调再出性不足。

Claims (14)

1.一种静电复制光敏元件，包括：一种导电载体和一个沉积在该导电载体上的光敏层，该光敏层包括一个产生电荷层和一个传输电荷层，其中
传输电荷层厚度至多为12μm且含有粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104-2×105颗粒/mm2，和
所述传输电荷层有第一折光指数，所述颗粒有第二折光指数，第一和第二折光指数的差值至少为0.10。
2.按照权利要求1的元件，其中所述传输电荷层厚度至多为10μm。
3.按照权利要求1或2的元件，其中所述的光敏层厚度至少为1μm。
4.按照权利要求3的元件，其中所述的光敏层厚度至少为3μm。
5.按照权利要求1的元件，其中所述的第一和第二折光指数的差值至多为1.00。
6.按照权利要求1的元件，其中所述的光敏层用具有一定光点面积(s)的辐照光束来辐照且光敏层有一定厚度(T)，S和T满足S×T至多为2×104μm3的关系。
7.按照权利要求6的元件，其中S×T至少为2×103μm3。
8.按照权利要求6或7的元件，其中所述光敏层厚度(T)至多为10μm。
9.按照权利要求8的元件，其中所述光敏层厚度(T)至多为8μm。
10.按照权利要求6的元件，其中所述辐射光束为相干光束。
11.按照权利要求10的元件，其中所述辐射光束为激光光束。
12.按照权利要求1的元件，其中所述的导电载体的表面粗糙至多为0.2μm。
13.一种工艺盒，包括：一个静电复制光敏元件和至少一种选自充电设备、显影设备和清洁设备的设备，所述光敏元件包括一导电载体和沉积在导电载体上的光敏层，光敏层包括产生电荷层和传输电荷层，其中
所述光敏元件和至少一种选自充电设备、显影设备和清洁设备的设备被安装成一体以形成一个可拆卸地安装到成像设备主体上的盒，和
所述传输电荷层厚度至多为12μm，且含粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104到2×105颗粒/mm2，和
所述传输电荷层有第一折光指数和所述颗粒有第二折光指数，第一和第二折光指数差值为至少0.10。
14.一种成像设备，包括：一种静电复制光敏元件，给光敏元件充电的充电设备，用光辐照充电后的光敏元件的辐照设备，显影设备和转印设备，所述光敏元件包括导电载体和沉积在导电载体上的光敏层，光敏层包括产生电荷层和传输电荷层，其中
所述传输电荷层厚度至多为12μm，且含粒径为1-3μm的颗粒，密度为1×104到2×105颗粒/mm2，和
所述传输电荷层有第一折光指数和所述颗粒有第二折光指数，第一和第二折光指数差值为至少0.10。
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