CN106884140A - 一种掩膜组件及其组装方法 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种掩膜组件及其组装方法，涉及蒸镀技术领域，相对现有技术，可提高第一支撑条的张网精度和遮挡精度。该掩膜组件包括：框架，框架具有中空区域；掩膜板，掩膜板跨设于框架的中空区域，且掩膜板的相对两端固定在框架上；第一支撑条，用于支撑掩膜板；第一支撑条包括层叠设置的第一子支撑条和第二子支撑条，第一子支撑条和第二子支撑条跨设于框架的中空区域，且第一子支撑条的相对两端和第二子支撑条的相对两端均固定在框架上；其中，所述第一子支撑条在所述第二子支撑条上的正投影位于所述第二子支撑条内；第二子支撑条的厚度小于第一子支撑条的厚度。用于掩膜组件中。

Description

一种掩膜组件及其组装方法
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种掩膜组件及其组装方法。
背景技术
目前，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示装置由于具有自发光、反应快、亮度高、轻薄等诸多优点，而得到越来越广泛的应用。
其中，OLED在制作时常采用蒸镀工艺、喷墨打印工艺等方式，而在制作小尺寸有机电致发光二极管显示面板(OLED Panel)的过程中，蒸镀工艺中所使用的蒸镀掩膜板(Mask)起到尤其重要的作用。传统的蒸镀掩膜板分为开口掩膜板(Open Mask)和精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，简称FMM)，包含有开口掩膜板的掩膜组件制作时技术难度较低，而包含有FMM的掩膜组件制作时技术难度极大。包含有FMM的掩膜组件通常由框架(Frame)、支撑条(Howling)以及FMM等组成。
然而，传统的支撑条由于厚度较大，因而支撑条在张网时需要较大的张网力，而较大的张网力容易使支撑条变形，例如使支撑条弯曲(Howling Bending)，这样便很难保证支撑条具有良好的直线度，从而影响了支撑条的张网精度(支撑条在框架上的实际位置与预设位置的差距)，而张网精度的降低会导致支撑条的遮挡精度(支撑条的实际遮挡区域与预设遮挡区域差距)降低。
发明内容
本发明的实施例提供一种掩膜组件及其组装方法，相对现有技术，可提高第一支撑条的张网精度和遮挡精度。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面，提供一种掩膜组件，包括：框架，所述框架具有中空区域；掩膜板，所述掩膜板跨设于所述框架的中空区域，且所述掩膜板的相对两端固定在所述框架上；第一支撑条，用于支撑所述掩膜板；所述第一支撑条包括层叠设置的第一子支撑条和第二子支撑条，所述第一子支撑条和所述第二子支撑条跨设于所述框架的中空区域，且所述第一子支撑条的相对两端和所述第二子支撑条的相对两端均固定在所述框架上；其中，所述第一子支撑条在所述第二子支撑条上的正投影位于所述第二子支撑条内；所述第二子支撑条的厚度小于所述第一子支撑条的厚度。
优选的，所述掩膜组件包括至少两个第一支撑条；所述第一支撑条之间相互平行。
优选的，所述掩膜组件还包括：固定在所述框架上的辅助件，所述辅助件具有标记图案。
进一步优选的，所述辅助件包括两个辅助条，两个所述辅助条分别设置在所述框架的相对两边，每个所述辅助条背离所述框架的一侧的两端设置有孔洞。
优选的，所述第一子支撑条的宽度比所述第二子支撑条的宽度小300μm-500μm。
优选的，所述掩膜板为精细金属掩膜板，所述精细金属掩膜板包括多个相互平行的掩膜条。
进一步优选的，所述第一支撑条与所述掩膜条相互垂直。
优选的，所述掩膜组件还包括第二支撑条；所述第二支撑条跨设于所述框架的中空区域，且所述第二支撑条的相对两端固定在所述框架上；其中，所述第二支撑条与所述第一支撑条交叉设置。
进一步优选的，所述第二支撑条包括叠层设置的第三子支撑条和第四子支撑条；其中，所述第三子支撑条在所述第四子支撑条上的正投影位于所述第四子支撑条内；所述第四子支撑条的厚度小于所述第三子支撑条的厚度。
优选的，所述掩膜板为精细金属掩膜板，所述精细金属掩膜板包括多个相互平行的掩膜条，所述掩膜条与所述第二支撑条平行，所述第二支撑条设置在相邻所述掩膜条之间的间隙位置处。
另一方面，提供一种掩膜组件的组装方法，包括：将第一子支撑条跨设于框架的中空区域，并将所述第一子支撑条的相对两端固定在所述框架上；将第二子支撑条设置在所述第一子支撑条上方，并将所述第二子支撑条的相对两端固定在所述框架上，所述第一子支撑条在所述第二子支撑条上的正投影位于所述第二子支撑条内，所述第二子支撑条的厚度小于所述第一子支撑条的厚度；其中，所述第一子支撑条和所述第二子支撑条构成第一支撑条；将掩膜板跨设于所述框架的中空区域，并将所述掩膜板的相对两端固定在所述框架上。
优选的，在将第一子支撑条的相对两端固定在框架上之后，将第二子支撑条的相对两端固定在所述框架上之前，所述组装方法还包括：将两个辅助条分别设置在所述框架的相对两边，所述辅助条背离所述框架的一侧的两端设置有孔洞；将所述第二子支撑条的相对两端固定在所述框架上，具体包括：根据所述孔洞确定所述第二子支撑条在所述框架上的固定位置，并固定所述第二子支撑条的相对两端；将所述掩膜板的相对两端固定在所述框架上，具体包括：根据所述孔洞确定所述掩膜板在所述框架上的固定位置，并固定所述掩膜板的相对两端。
优选的，在将第一子支撑条的相对两端固定在框架上之前，所述组装方法还包括：将第二支撑条跨设于所述框架的中空区域，并将所述第二支撑条的相对两端固定在所述框架上。
进一步优选的，在将第一子支撑条的相对两端固定在框架上之前，所述组装方法具体还包括：将第三子支撑条跨设于所述框架的中空区域，并将所述第三子支撑条的相对两端固定在框架上；将第四子支撑条设置在所述第三子支撑条上方，并将所述第四子支撑条的相对两端固定在所述框架上，所述第三子支撑条在所述第四子支撑条上的正投影位于所述第四子支撑条内，所述第四子支撑条的厚度小于所述第三支撑条的厚度；其中，所述第三子支撑条和所述第四子支撑条构成第二支撑条。
本发明实施例提供一种掩膜组件及其组装方法，掩膜组件中的第一支撑条为双层，第一支撑条包括层叠设置的第一子支撑条和第二子支撑条，由于第一子支撑条的厚度大于第二子支撑条的厚度，因而第一子支撑条与现有技术中支撑条的作用相同，可以用于起支撑掩膜板的作用。在此基础上，由于第二子支撑条的厚度小于第一子支撑条的厚度，因而第二子支撑条在张网时所需的张网力较小，这样便可以避免第二子支撑条变形，因而第二子支撑条具有较高的张网精度和遮挡精度。此外，第一子支撑条在第二子支撑条上的正投影位于第二子支撑条内，由于第二子支撑条具有较高的遮挡精度和张网精度，因而第一支撑条具有较高的张网精度和遮挡精度，因此相对于现有技术，本发明实施例提高了第一支撑条的张网精度和遮挡精度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图一；
图2(a)为图1中AA′向剖视示意图；
图2(b)为图1中BB′向剖视示意图；
图3(a)为本发明实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图二；
图3(b)为本发明实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图三；
图4为本发明实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图四；
图5为本发明实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图五；
图6为本发明实施例提供的一种掩膜组件的结构示意图六；
图7为本发明实施例提供的一种掩膜组件的组装方法的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种在框架上固定第一子支撑条的结构示意图；
图9为本发明实施例提供的一种在框架上固定第一子支撑条和第二子支撑条的结构示意图；
图10为本发明实施例提供的一种在框架上固定辅助条的结构示意图；
图11本发明实施例提供的一种在框架上固定第二支撑条的结构示意图；
图12本发明实施例提供的一种在框架上固定第三子支撑条和第四子支撑条的结构示意图。
附图标记：
10-框架；20-掩膜板；201-掩膜条；30-第一支撑条；301-第一子支撑条；302-第二子支撑条；40-辅助件；401-标记图案(孔洞)；402-辅助条；50-第二支撑条；501-第三子支撑条；502-第四子支撑条。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
现有技术中常利用掩膜组件在待蒸镀基板上形成图案，为了确保待蒸镀基板上有效区域(当待蒸镀基板为显示基板时，有效区域例如可以是显示区域)形成的图案准确、均匀，因而一般还会在有效区域的周围也形成图案，该部分图案所在的区域称为Dummy(虚拟)区域。为了能够在待蒸镀基板的有效区域和Dummy区域均形成图案，因而掩膜组件的掩膜板的有效区域(与待蒸镀基板的有效区域对应的区域)和Dummy区域(与待蒸镀基板的Dummy区域对应的区域)均设置有图案。而掩膜组件在制作过程中，需要支撑条对掩膜板进行支撑，以防止掩膜板下垂后，利用该掩膜组件形成的图案不精确。支撑条对掩膜板支撑时，会与掩膜板有重叠区域，可对掩膜板进行遮挡。现有技术中，为了避免支撑条影响Dummy区域，因而支撑条与掩膜板的相对设置位置以及支撑条在掩膜板上的遮挡区域都是预先设置的，这样在制作掩膜组件时，可以根据预先设置的位置固定掩膜板和支撑条。然而，由于传统的支撑条厚度较大，在张网时易发生变形，因而会影响支撑条的张网精度和遮挡精度。
基于此，本发明实施例提供一种掩膜组件，如图1-图6所示，包括:框架10，框架10具有中空区域；掩膜板20，掩膜板20跨设于框架10的中空区域，且掩膜板20的相对两端固定在框架10上；第一支撑条30，用于支撑掩膜板20；第一支撑条30包括层叠设置的第一子支撑条301和第二子支撑条302，第一子支撑条301和第二子支撑条302跨设于框架10的中空区域，且第一子支撑条301的相对两端和第二子支撑条302的相对两端均固定在框架10上；其中，如图2(a)和图2(b)所示(附图2(a)和附图2(b)分别是图1中AA′向和BB′向的剖视示意图)，第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影位于第二子支撑条302内；第二子支撑条302的厚度小于第一子支撑条301的厚度。
需要说明的是，第一，对于框架10中空区域的形状不进行限定，例如可以是矩形，也可以是圆形，中空区域的形状可以根据需要进行设置。
第二，对于掩膜板20的类型不进行限定，掩膜板20可以是如图3(b)所示为精细金属掩膜板，也可以是如图3(a)所示为开口掩膜板。当掩膜板20为精细金属掩膜板时，精细金属掩膜板可以包括多个掩膜条201。
第三，第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影位于第二子支撑条302内，但对于第一子支撑条301的宽度与第二子支撑条302的宽度的差值不进行限定，应以第一子支撑条301能够支撑掩膜板20，且第一子支撑条301在张网固定到框架10上的过程，即使第一子支撑条301变形，变形后的第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影也应在第二子支撑条302内。
本领域技术人员应该明白，支撑条的厚度越小，支撑条在张网时所需要使用的张网力越小，而张网力越小，支撑条越不容易变形。本发明实施例中，由于第二子支撑条302的厚度小于第一子支撑条301的厚度，因而相对于第一子支撑条301，第二子支撑条302不易变形。为了防止第二子支撑条302变形，本发明实施例优选，在第二子支撑条302能够起到遮挡的条件下，第二子支撑条302的厚度应尽可能地薄。
在此基础上，对于第一支撑条30的个数应根据需要进行设置，第一支撑条30的个数越多，掩膜板20的下垂量越小，此处设置的第一支撑条30应不影响掩膜组件的正常蒸镀。
第四，掩膜板20和第一支撑条30可以通过焊接的方式固定在框架10上。
本发明实施例提供一种掩膜组件，掩膜组件中的第一支撑条30为双层，第一支撑条30包括层叠设置的第一子支撑条301和第二子支撑条302，由于第一子支撑条301的厚度大于第二子支撑条302的厚度，因而第一子支撑条301与现有技术中支撑条的作用相同，可以用于起支撑掩膜板20的作用。在此基础上，第一支撑条30还包括第二子支撑条302，由于第二子支撑条302的厚度小于第一子支撑条301的厚度，因而第二子支撑条302在张网时所需的张网力较小，这样便可以避免第二子支撑条302变形，因而第二子支撑条302具有较高的张网精度和遮挡精度。此外，第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影位于第二子支撑条302内，由于第二子支撑条302具有较高的遮挡精度和张网精度，因而第一支撑条30具有较高的张网精度和遮挡精度，因此相对于现有技术，本发明实施例提高了第一支撑条30的张网精度和遮挡精度。
由于第一支撑条30的个数越多，掩膜板20的下垂量越少，因而本发明实施例优选的，如图1以及图3(a)-图6所示，掩膜组件包括至少两个第一支撑条30；第一支撑条30之间相互平行。
其中，掩膜组件可以包括两个第一支撑条30，也可以包括三个或三个以上第一支撑条30。
本发明实施例的掩膜组件包括至少两个第一支撑条30，因而相对于仅设置一个第一支撑条30，本发明实施例利用多个第一支撑条30对掩膜板20进行支撑，因此可以有效防止掩膜板20下垂。
由于第一支撑条30和掩膜板20在框架10上都有预设位置，为了确保掩膜组件在制作过程中，第一支撑条30和掩膜板20都能准确地固定到其对应的预设位置，因而本发明实施例优选的，如图3(a)-图6所示，掩膜组件还包括：固定在框架10上的辅助件40，辅助件40具有标记图案401(Align)。
其中，对于辅助件40和辅助件40上标记图案401的形状、设置位置以及标记图案401的个数均不进行限定，以能将第一支撑条30和掩膜板20准确地固定到其对应的预设位置为准。
本发明实施例，由于掩膜组件还包括辅助件40，辅助件40上设置有标记图案401，因而掩膜板20以及第二子支撑条302均可以根据该标记图案401建立的坐标系进行张网，确定掩膜板20以及第二子支撑条302在框架10上的固定位置，并将掩膜板20和第二子支撑条302固定在框架10上。在此基础上，由于掩膜板20和第二子支撑条302是根据同一标记图案确定掩膜板20和第二子支撑条302在框架10上的固定位置并固定的，因而可以提高第二子支撑条302和掩膜板20的匹配精度，进而可以最大程度地保证第二子支撑条302的遮挡精度。
进一步优选的，如图3(a)-图6所示，辅助件40包括两个辅助条402，两个辅助条402分别设置在框架10的相对两边，每个辅助条402背离框架10的一侧的两端设置有孔洞(Align hole)401。
其中，辅助条402背离框架10的一侧的两端设置有空洞401，该空洞401相当于标记图案。
此处，对于第一支撑条30与辅助条402的设置位置关系不进行限定，辅助条402可以和第一支撑条30垂直，辅助条402也可以和第一支撑条30平行。本发明实施例优选，第一支撑条30与辅助条402垂直。
本发明实施例，辅助件40包括两个辅助条402，每个辅助条402背离框架10的一侧的两端设置有孔洞401，相当于辅助件40上设置有四个标记图案，因而在将掩膜板20和第二子支撑条302固定在框架10上时，可以根据这四个标记图案建立坐标系，以便于更精确地确定掩膜板20在框架10上的固定位置以及第二子支撑条302在框架10上的固定位置。
当第一子支撑条301的宽度与第二子支撑条302的宽度的差值太小时，若第一子支撑301在张网过程中变形较大，则第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影可能会超出第二子支撑条302的边界，这样便会影响第一支撑条30的遮挡精度；当第一子支撑条301的宽度与第二子支撑条302的宽度的差值太大时，或者，第一子支撑条301的宽度很小，这样会影响第一子支撑条301对掩膜板20的支撑效果，或者，第二子支撑条302的宽度很大，这样可能会遮挡掩膜板20的Dummy区域，导致掩膜板Dummy区域减小。
基于此，本发明实施例优选的，第一子支撑条301的宽度比第二子支撑302条的宽度小300μm-500μm。
优选的，如图3(b)所示，掩膜板20为精细金属掩膜板，精细金属掩膜板包括多个相互平行的掩膜条(FMM Sheet)201。
其中，对于掩膜板20中包括的掩膜条201的个数不进行限定，可以根据需要进行相应设置。本发明说明书附图3(b)中以设置四个掩膜条为例进行示意。
此外，对于掩膜条201和第一支撑条30的位置关系不进行限定，掩膜条201可以和第一支撑条30平行设置，也可以和第一支撑条30交叉设置。由于掩膜条201的长度远大于其宽度，因而当第一支撑条30与掩膜条201交叉设置时，可以更好地对掩膜条201进行支撑，因而本发明实施例优选第一支撑条30与掩膜条201交叉设置。进一步优选的，如图3(b)所示，第一支撑条30与掩膜条201相互垂直。
优选的，如图4-图6所示，掩膜组件还包括第二支撑条50(Cover)；第二支撑条50跨设于框架10的中空区域，且第二支撑条50的相对两端固定在框架10上；其中，第二支撑条50与第一支撑条30交叉设置。
其中，对于掩膜组件中设置的第二支撑条50的个数不进行限定，可以根据需要进行设置，可以设置一个，也可以设置两个或两个以上第二支撑条50。当掩膜组件包括两个或两个以上第二支撑条50时，优选第二支撑条50之间相互平行。
此处，第一支撑条30和第二支撑条50共同对掩膜板20进行支撑，防止掩膜板20下垂。第一支撑条30和第二支撑条50至少应确保掩膜板20的下垂量在200μm以内。在此基础上，本发明实施优选第二支撑条50与第一支撑条30相互垂直。
本发明实施例，由于第一支撑条30和第二支撑条50交叉设置，共同对掩膜板20进行支撑，因而可以进一步更有效地对掩膜板20进行支撑，防止掩膜板20下垂。
优选的，如图5和图6所示，第二支撑条50包括叠层设置的第三子支撑条501和第四子支撑条502；其中，第三子支撑条501在第四子支撑条502上的正投影位于第四子支撑条502内；第四子支撑条502的厚度小于第三子支撑条501的厚度。
其中，第三子支撑条501在第四子支撑条502上的正投影位于第四子支撑条502内，但对于第三子支撑条501的宽度与第四子支撑条502的宽度的差值不进行限定，应以第三子支撑条501能够支撑掩膜板20，且第三子支撑条501在张网固定到框架10上的过程，即使第三子支撑条501变形，变形后的第三子支撑条501在第四子支撑条502上的正投影也应在第四子支撑条502内为准。
在此基础上，由于第四子支撑条502的厚度小于第三子支撑条501的厚度，因而相对于第三子支撑条501，第四子支撑条502不易变形。为了防止第四子支撑条502变形，本发明实施例优选，在第四子支撑条502能够起到遮挡的条件下，第四子支撑条502的厚度应尽可能地薄。
本发明实施例，第二支撑条50包括层叠设置的第三子支撑条501和第四子支撑条502，由于第三子支撑条501的厚度大于第四子支撑条502的厚度，因而第三子支撑条501与现有技术中支撑条的作用相同，可以用于起支撑掩膜板20的作用。在此基础上，由于第四子支撑条502的厚度小于第三子支撑条501的厚度，因而第四子支撑条502在张网时所需的张网力较小，这样便可以避免第四子支撑条502变形，因而第四子支撑条502具有较高的张网精度和遮挡精度。此外，第三子支撑条501在第四子支撑条502上的正投影位于第四子支撑条502内，由于第四子支撑条502具有较高的遮挡精度和张网精度，因而第二支撑条50具有较高的张网精度和遮挡精度，因此相对于现有技术，本发明实施例提高了第二支撑条50的张网精度和遮挡精度。
进一步优选的，如图6所示，掩膜板20为精细金属掩膜板，精细金属掩膜板包括多个相互平行的掩膜条201，掩膜条201与第二支撑条50平行，第二支撑条50设置在相邻掩膜条201之间的间隙位置处。
其中，对于掩膜板20中包括的掩膜条201的个数不进行限定，可以根据需要进行相应设置。本发明说明书附图6中以掩膜板20包括四个掩膜条201为例进行示意。此外，附图6中每个掩膜条201的虚线所包围的区域为有效区域。
本发明实施例，第二支撑条50设置在相邻掩膜条201之间的间隙位置处，这样第二支撑条50便可以对相邻掩膜条201之间的间隙进行遮挡。
本发明实施例还提供一种掩膜组件的组装方法，如图7所示，包括：
S100、如图8所示，将第一子支撑条301跨设于框架10的中空区域，并将第一子支撑条301的相对两端固定在框架10上。
其中，对于第一子支撑条301的个数不进行限定，可以根据需要进行相应设置。
在此基础上，可以通过焊接的方式将第一子支撑条301固定在框架10上。
S101、如图9所示，将第二子支撑条302设置在第一子支撑条301上方，并将第二子支撑条302的相对两端固定在框架10上，第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影位于第二子支撑条302内，第二子支撑条302的厚度小于第一子支撑条301的厚度；其中，第一子支撑条301和第二子支撑条302构成第一支撑条30。
需要说明的是，第二子支撑条302的个数与第一子支撑条301的个数相同，每个第一子支撑条301上都设置有一个第二子支撑条302。
此处，第二子支撑条302的厚度小于第一子支撑条301的厚度，因而在张网过程中，第二子支撑条302受到的张网力小于第一子支撑条301受到的张网力，因而相对于第一子支撑条301，第二子支撑条302不易变形。
S102、如图1所示，将掩膜板20跨设于框架10的中空区域，并将掩膜板20的相对两端固定在框架10上。
其中，对于掩膜板20的类型不进行限定，掩膜板20可以是精细金属掩膜板，也可以是开口掩膜板。当掩膜板20为精细金属掩膜板时，精细金属掩膜板可以包括多个掩膜条。掩膜条可以和第一支撑条30交叉，也可以和第一支撑条30平行，本发明实施例优选第一支撑条30和掩膜条交叉，进一步优选的，第一支撑条30和掩膜条相互垂直。
本发明实施例提供一种掩膜组件的组装方法，掩膜组件中的第一支撑条30为双层，第一支撑条30包括层叠设置的第一子支撑条301和第二子支撑条302，由于第一子支撑条301的厚度大于第二子支撑条302的厚度，因而第一子支撑条301与现有技术中支撑条的作用相同，可以用于起支撑掩膜板20的作用。在此基础上，第一支撑条30还包括第二子支撑条302，由于第二子支撑条302的厚度小于第一子支撑条301的厚度，因而第二子支撑条302在张网时所需的张网力较小，这样便可以避免第二子支撑条302变形，因而第二子支撑条302具有较高的张网精度和遮挡精度。此外，第一子支撑条301在第二子支撑条302上的正投影位于第二子支撑条302内，由于第二子支撑条302具有较高的遮挡精度和张网精度，因而第一支撑条30具有较高的张网精度和遮挡精度，因此相对于现有技术，本发明实施例提供的第一支撑条30提高了支撑条的张网精度和遮挡精度。
优选的，在步骤S100之后，步骤S101之前，上述组装方法还包括：
如图10所示，将两个辅助条402分别设置在框架10的相对两边，辅助条402背离框架10的一侧的两端设置有孔洞401；将第二子支撑条302的相对两端固定在框架10上，具体包括：根据孔洞401确定第二子支撑条302在框架10上的固定位置，并固定第二子支撑条302的相对两端；将掩膜板20的相对两端固定在框架10上，具体包括：根据孔洞401确定掩膜板20在框架10上的固定位置，并固定掩膜板20的相对两端。
其中，辅助条402上的孔洞401可以作为标记图案。在此基础上，根据孔洞401确定第二子支撑条302在框架10上的固定位置，具体可以是先根据孔洞401建立坐标系，再根据建立的坐标系确定第二子支撑条302在框架10上的固定位置。同理，对于掩膜板20，也是先根据孔洞401建立坐标系，再根据建立的坐标系确定第二子支撑条302在框架10上的固定位置。由于第二子支撑条302和掩膜板20都是根据该孔洞401建立坐标系，相当于第二子支撑条302和掩膜板20在同一坐标系下确定其在框架10上的固定位置。
此处，对于第一支撑条30与辅助条402的设置位置关系不进行限定，辅助条402可以和第一支撑条30垂直，辅助条402也可以和第一支撑条30平行。本发明实施例优选，第一支撑条30与辅助条402垂直。
需要说明的是，对于第一子支撑条301如何固定在框架10上不进行限定，示例的，可以在框架10上形成孔洞，作为第一子支撑条301固定在框架10上的标记图案。
本发明实施例，由于框架10的两端设置有辅助条402，辅助条402上设置有孔洞401，孔洞401用于作为标记图案，因而掩膜板20以及第二子支撑条302均可以根据该孔洞401建立的坐标系，确定掩膜板20以及第二子支撑条302在框架10上的固定位置，并将掩膜板20和第二子支撑条302固定在框架10上。在此基础上，由于掩膜板20和第二子支撑条302是根据同一标记图案确定掩膜板20和第二子支撑条302在框架10上的固定位置并固定，因而可以提高第二子支撑条302和掩膜板20的匹配精度，进而可以最大程度地保证第二子支撑条302的遮挡精度。
优选的，在步骤S100之前，上述组装方法还包括：如图11所示，将第二支撑条50跨设于框架10的中空区域，并将第二支撑条50的相对两端固定在框架10上。
其中，对于掩膜组件中设置的第二支撑条50的个数不进行限定，可以根据需要进行设置，可以设置一个，也可以设置两个或两个以上第二支撑条50。当掩膜组件包括两个或两个以上第二支撑条50时，优选第二支撑条50之间相互平行。
在此基础上，当掩膜板20为精细金属掩膜板，且精细金属掩膜板包括多个掩膜条时，本发明实施例优选，掩膜组件包括多个第二支撑条50，第二支撑条50与掩膜条平行，且每个第二支撑条50设置在相邻掩膜条的间隙位置处。
此处，第二支撑条50与后续步骤S100中设置的第一子支撑条301可以相互平行，也可以相互交叉。由于第二支撑条50与第一子支撑条301相互交叉，对掩膜板20的支撑效果较好，因而本发明实施例优选第二支撑条50与待形成的第一子支撑条301相互交叉。进一步优选的，第二支撑条50与第一子支撑条301相互垂直。
此外，第二支撑条50可以根据框架10上设置的孔洞建立坐标系，并将第二支撑条50固定在框架10上。
本发明实施例，通过设置第二支撑条50，可用于支撑掩膜板20。
进一步优选的，在步骤S100之前，上述组装方法具体还包括：如图12所示，将第三子支撑条501跨设于框架10的中空区域，并将第三子支撑条501的相对两端固定在框架10上；将第四子支撑条502设置在第三子支撑条501上方，并将第四子支撑条502的相对两端固定在框架10上，第三子支撑条501在第四子支撑条502上的正投影位于第四子支撑条502内，第四子支撑条502的厚度小于第三支撑条501的厚度；其中，第三子支撑条501和第四子支撑条502构成第二支撑条50。
其中，第三子支撑条501的个数与第四子支撑条502的个数相同，每个第三子支撑条501上都设置有一个第四子支撑条502。
此处，第四子支撑条502的厚度小于第三支撑条501的厚度，因而在张网过程中，第四子支撑条502受到的张网力小于第三子支撑条501受到的张网力，因而相对于第三子支撑条501，第四子支撑条502不易变形。
本发明实施例，由于第三子支撑条501的厚度大于第四子支撑条502的厚度，因而第三子支撑条501与现有技术中支撑条的作用相同，可以用于起支撑掩膜板20的作用。在此基础上，由于第四子支撑条502的厚度小于第三子支撑条501的厚度，因而第四子支撑条502在张网时所需的张网力较小，这样便可以避免第四子支撑条502变形，因而第四子支撑条502具有较高的张网精度和遮挡精度。此外，第三子支撑条501在第四子支撑条502上的正投影位于第四子支撑条502内，由于第四子支撑条502具有较高的遮挡精度和张网精度，因而第二支撑条50具有较高的张网精度和遮挡精度，因此相对于现有技术，本发明实施例提高了第二支撑条50的张网精度和遮挡精度。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种掩膜组件，其特征在于，包括:
框架，所述框架具有中空区域；
掩膜板，所述掩膜板跨设于所述框架的中空区域，且所述掩膜板的相对两端固定在所述框架上；
第一支撑条，用于支撑所述掩膜板；所述第一支撑条包括层叠设置的第一子支撑条和第二子支撑条，所述第一子支撑条和所述第二子支撑条跨设于所述框架的中空区域，且所述第一子支撑条的相对两端和所述第二子支撑条的相对两端均固定在所述框架上；
其中，所述第一子支撑条在所述第二子支撑条上的正投影位于所述第二子支撑条内；所述第二子支撑条的厚度小于所述第一子支撑条的厚度。
2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括至少两个第一支撑条；所述第一支撑条之间相互平行。
3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件还包括：固定在所述框架上的辅助件，所述辅助件具有标记图案。
4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述辅助件包括两个辅助条，两个所述辅助条分别设置在所述框架的相对两边，每个所述辅助条背离所述框架的一侧的两端设置有孔洞。
5.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述第一子支撑条的宽度比所述第二子支撑条的宽度小300μm-500μm。
6.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜板为精细金属掩膜板，所述精细金属掩膜板包括多个相互平行的掩膜条。
7.根据权利要求6所述的掩膜组件，其特征在于，所述第一支撑条与所述掩膜条相互垂直。
8.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件还包括第二支撑条；所述第二支撑条跨设于所述框架的中空区域，且所述第二支撑条的相对两端固定在所述框架上；其中，所述第二支撑条与所述第一支撑条交叉设置。
9.根据权利要求8所述的掩膜组件，其特征在于，所述第二支撑条包括叠层设置的第三子支撑条和第四子支撑条；
其中，所述第三子支撑条在所述第四子支撑条上的正投影位于所述第四子支撑条内；所述第四子支撑条的厚度小于所述第三子支撑条的厚度。
10.根据权利要求8所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜板为精细金属掩膜板，所述精细金属掩膜板包括多个相互平行的掩膜条，所述掩膜条与所述第二支撑条平行，所述第二支撑条设置在相邻所述掩膜条之间的间隙位置处。
11.一种掩膜组件的组装方法，其特征在于，包括：
将第一子支撑条跨设于框架的中空区域，并将所述第一子支撑条的相对两端固定在所述框架上；
将第二子支撑条设置在所述第一子支撑条上方，并将所述第二子支撑条的相对两端固定在所述框架上，所述第一子支撑条在所述第二子支撑条上的正投影位于所述第二子支撑条内，所述第二子支撑条的厚度小于所述第一子支撑条的厚度；其中，所述第一子支撑条和所述第二子支撑条构成第一支撑条；
将掩膜板跨设于所述框架的中空区域，并将所述掩膜板的相对两端固定在所述框架上。
12.根据权利要求11所述的组装方法，其特征在于，在将第一子支撑条的相对两端固定在框架上之后，将第二子支撑条的相对两端固定在所述框架上之前，所述组装方法还包括：
将两个辅助条分别设置在所述框架的相对两边，所述辅助条背离所述框架的一侧的两端设置有孔洞；
将所述第二子支撑条的相对两端固定在所述框架上，具体包括：根据所述孔洞确定所述第二子支撑条在所述框架上的固定位置，并固定所述第二子支撑条的相对两端；
将所述掩膜板的相对两端固定在所述框架上，具体包括：根据所述孔洞确定所述掩膜板在所述框架上的固定位置，并固定所述掩膜板的相对两端。
13.根据权利要求11所述的组装方法，其特征在于，在将第一子支撑条的相对两端固定在框架上之前，所述组装方法还包括：
将第二支撑条跨设于所述框架的中空区域，并将所述第二支撑条的相对两端固定在所述框架上。
14.根据权利要求13所述的组装方法，其特征在于，在将第一子支撑条的相对两端固定在框架上之前，所述组装方法具体还包括：
将第三子支撑条跨设于所述框架的中空区域，并将所述第三子支撑条的相对两端固定在框架上；
将第四子支撑条设置在所述第三子支撑条上方，并将所述第四子支撑条的相对两端固定在所述框架上，所述第三子支撑条在所述第四子支撑条上的正投影位于所述第四子支撑条内，所述第四子支撑条的厚度小于所述第三支撑条的厚度；其中，所述第三子支撑条和所述第四子支撑条构成第二支撑条。
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107065431A (zh) * 2017-06-30 2017-08-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板
CN107675127A (zh) * 2017-09-29 2018-02-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN107841710A (zh) * 2017-12-08 2018-03-27 唐军 高精密支撑掩膜版
CN107916397A (zh) * 2018-01-02 2018-04-17 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、定位基板、掩膜板组件及蒸镀装置
CN108004503A (zh) * 2017-12-15 2018-05-08 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、蒸镀设备和装置
CN108950474A (zh) * 2018-07-25 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及掩模组件
CN110029307A (zh) * 2019-04-25 2019-07-19 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀掩膜板
CN110048007A (zh) * 2019-04-25 2019-07-23 云谷（固安）科技有限公司 掩膜版及其制造方法
CN110592528A (zh) * 2019-09-23 2019-12-20 武汉华星光电技术有限公司 掩膜板结构及其制备方法
WO2019242413A1 (zh) * 2018-06-20 2019-12-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺
CN110735108A (zh) * 2019-11-27 2020-01-31 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN110875442A (zh) * 2018-08-29 2020-03-10 三星显示有限公司 掩模组件及用于制造显示设备的装置和方法
CN110894587A (zh) * 2018-09-12 2020-03-20 三星显示有限公司 掩膜框架组件
CN111655896A (zh) * 2018-01-24 2020-09-11 夏普株式会社 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法
WO2021027794A1 (zh) * 2019-08-12 2021-02-18 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件
CN112501552A (zh) * 2020-12-14 2021-03-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板
WO2021092759A1 (zh) * 2019-11-12 2021-05-20 京东方科技集团股份有限公司 掩模板
TWI730784B (zh) * 2020-05-25 2021-06-11 友達光電股份有限公司 遮罩組件
WO2021136051A1 (zh) * 2020-01-03 2021-07-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN113151779A (zh) * 2021-03-12 2021-07-23 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制备方法
US11203808B2 (en) 2018-01-02 2021-12-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask plate

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105887010B (zh) * 2016-05-13 2018-10-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜集成框架及蒸镀设备
CN105839052A (zh) * 2016-06-17 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板以及掩膜板的组装方法
CN108866476B (zh) * 2018-06-29 2020-03-10 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏
JP7406719B2 (ja) * 2019-01-29 2023-12-28 大日本印刷株式会社 蒸着マスク及びその製造方法、蒸着マスク装置及びその製造方法、中間体、蒸着方法、並びに有機ｅｌ表示装置の製造方法
JP7487481B2 (ja) * 2019-02-06 2024-05-21 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置、マスク支持機構及び蒸着マスク装置の製造方法
KR20200106589A (ko) 2019-03-04 2020-09-15 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
US11557635B2 (en) 2019-12-10 2023-01-17 Samsung Display Co., Ltd. Display device, mask assembly, and apparatus for manufacturing the display device
CN114981468B (zh) * 2020-12-25 2023-11-28 京东方科技集团股份有限公司 掩模板遮片和掩模板设备
WO2022155895A1 (zh) * 2021-01-22 2022-07-28 京东方科技集团股份有限公司 遮挡掩膜版、掩膜版组件及蒸镀装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103966547A (zh) * 2014-05-06 2014-08-06 昆山允升吉光电科技有限公司 一种复合掩模板组件
CN204529949U (zh) * 2015-03-25 2015-08-05 上海天马有机发光显示技术有限公司 掩模板
CN105063552A (zh) * 2015-08-22 2015-11-18 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用磁性掩模板
US20160005970A1 (en) * 2014-07-04 2016-01-07 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly for thin film deposition
CN105714246A (zh) * 2016-04-01 2016-06-29 昆山允升吉光电科技有限公司 一种oled蒸镀用掩模板组件制作方法
CN106086782A (zh) * 2016-06-28 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11142121A (ja) * 1997-11-11 1999-05-28 Nikon Corp レチクルの歪み計測方法および歪み計測装置
US6277658B1 (en) * 1999-03-29 2001-08-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method for monitoring alignment mark shielding
US7396558B2 (en) * 2001-01-31 2008-07-08 Toray Industries, Inc. Integrated mask and method and apparatus for manufacturing organic EL device using the same
DE60228599D1 (de) * 2001-08-24 2008-10-09 Dainippon Printing Co Ltd Maskeneinrichtung zur bildung mehrerer seiten für die vakuumablagerung
JP2005042133A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Seiko Epson Corp 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器
EP1802177A4 (en) * 2004-09-08 2010-04-14 Toray Industries ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF
KR101107159B1 (ko) * 2009-12-17 2012-01-25 삼성모바일디스플레이주식회사 평판 표시장치의 박막 증착용 마스크 조립체
KR102130546B1 (ko) * 2013-10-11 2020-07-07 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103966547A (zh) * 2014-05-06 2014-08-06 昆山允升吉光电科技有限公司 一种复合掩模板组件
US20160005970A1 (en) * 2014-07-04 2016-01-07 Samsung Display Co., Ltd. Mask frame assembly for thin film deposition
CN204529949U (zh) * 2015-03-25 2015-08-05 上海天马有机发光显示技术有限公司 掩模板
CN105063552A (zh) * 2015-08-22 2015-11-18 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用磁性掩模板
CN105714246A (zh) * 2016-04-01 2016-06-29 昆山允升吉光电科技有限公司 一种oled蒸镀用掩模板组件制作方法
CN106086782A (zh) * 2016-06-28 2016-11-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107065431A (zh) * 2017-06-30 2017-08-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板
CN107675127A (zh) * 2017-09-29 2018-02-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN107841710A (zh) * 2017-12-08 2018-03-27 唐军 高精密支撑掩膜版
US10787731B2 (en) 2017-12-15 2020-09-29 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask, evaporation device and apparatus
CN108004503A (zh) * 2017-12-15 2018-05-08 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、蒸镀设备和装置
CN107916397A (zh) * 2018-01-02 2018-04-17 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、定位基板、掩膜板组件及蒸镀装置
US11203808B2 (en) 2018-01-02 2021-12-21 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask plate
CN107916397B (zh) * 2018-01-02 2020-03-10 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、定位基板、掩膜板组件及蒸镀装置
CN111655896A (zh) * 2018-01-24 2020-09-11 夏普株式会社 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法
WO2019242413A1 (zh) * 2018-06-20 2019-12-26 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版张网框架及掩膜版张网工艺
CN108950474A (zh) * 2018-07-25 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及掩模组件
CN110875442A (zh) * 2018-08-29 2020-03-10 三星显示有限公司 掩模组件及用于制造显示设备的装置和方法
US11939657B2 (en) 2018-09-12 2024-03-26 Samsung Display Co., Ltd. Hybrid mask stick and mask frame assembly employing the same
CN110894587A (zh) * 2018-09-12 2020-03-20 三星显示有限公司 掩膜框架组件
CN110029307A (zh) * 2019-04-25 2019-07-19 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀掩膜板
CN110048007B (zh) * 2019-04-25 2022-03-08 云谷（固安）科技有限公司 掩膜版及其制造方法
CN110048007A (zh) * 2019-04-25 2019-07-23 云谷（固安）科技有限公司 掩膜版及其制造方法
WO2021027794A1 (zh) * 2019-08-12 2021-02-18 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件
CN110592528A (zh) * 2019-09-23 2019-12-20 武汉华星光电技术有限公司 掩膜板结构及其制备方法
WO2021092759A1 (zh) * 2019-11-12 2021-05-20 京东方科技集团股份有限公司 掩模板
CN113272467A (zh) * 2019-11-12 2021-08-17 京东方科技集团股份有限公司 掩模板
US12037678B2 (en) 2019-11-12 2024-07-16 Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Mask
CN110735108A (zh) * 2019-11-27 2020-01-31 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
WO2021136051A1 (zh) * 2020-01-03 2021-07-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
TWI730784B (zh) * 2020-05-25 2021-06-11 友達光電股份有限公司 遮罩組件
CN112501552A (zh) * 2020-12-14 2021-03-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板
CN113151779A (zh) * 2021-03-12 2021-07-23 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制备方法

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