JP2005042133A - 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 159
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 126
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 85
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 40
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 25
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 claims description 21
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 18
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 11
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 claims description 5
- 230000007017 scission Effects 0.000 claims description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 11
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- -1 tetramethyl hydroxide Chemical compound 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Abstract
【解決手段】1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップ2をマスク支持体1に接合した構造の蒸着マスクであって、マスクチップ2は、マスク支持体1の所定の位置に接合され、マスクチップ2の向きは、単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合され、マスクチップ2は、単結晶シリコン基板に開口部が形成されてなるものである。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、エレクトロルミネッセンス表示装置等の正孔輸送層、発光層等を成膜するときに使用される蒸着マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置を備えた電子機器に関し、さらに詳しくは、主に有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという)表示装置の製造に使用される蒸着マスク等に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の有機EL表示装置は、有機材料を抵抗加熱式真空蒸着装置にて真空蒸着して作成しているものが多い。特にフルカラーの有機EL表示装置は、微細なRGB(赤、緑、青)の発光素子を精度よく製造することが必要となるため、RGBの画素ごとに異なる有機物質をメタルマスク等を用いて選択的に所望の位置に成膜を行うマスク蒸着法により製造されている。また、高精細フルカラーの有機EL表示装置を製造するときには、蒸着マスクの高精細化が必要となり、蒸着マスクを薄く高精度に製造することが不可欠であるため、電鋳法を用いて蒸着マスクを作成していた。
【0003】
しかし有機EL表示装置の高精細化が進むにつれて、従来のメタルマスクではガラス等からなる被蒸着基板との熱膨張係数の差が大きいため、熱によるずれが無視できなくなっていた。特に大型の被蒸着基板を用いて被蒸着基板1枚当たりの取り出し個数を増やそうとした場合に、熱によるずれの問題が顕著に現れる。この問題を解決するために従来の蒸着マスクでは、熱膨張係数がガラスと比較して小さいシリコン基板から蒸着マスクを製造しているものがあった(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
また従来の蒸着マスクでは、大型の被蒸着基板から複数の有機EL表示装置を製造するために、シリコン基板から作成された有機EL表示装置1個分の第2の基板(マスクチップ)を、開口部を有するホウ珪酸ガラスからなる第1の基板(マスク支持体)に複数貼り付けた構造を持つものがあった(例えば、特許文献2参照)。このような構造にしたのは、シリコン基板が最大で直径300mm程度の円盤状のものしか製造できないため、シリコン基板のみでは大型の被蒸着基板用の蒸着マスクの製造ができないためである。また第1の基板を、シリコン基板と熱膨張係数が近いホウ珪酸ガラスによって作成しているため、蒸着マスクの撓みが低減されるようになっている。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−185350号公報(図1)
【特許文献2】
特開2003−100460号公報(図1、図4)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし従来の蒸着マスクでは(例えば、特許文献2参照)、シリコン基板からなる第2の基板をホウ珪酸ガラスからなる第1の基板に接合するときに、第2の基板を1枚接合するごとにアライメント(位置合わせ)をする必要があり加工精度が要求され、加工に時間がかかりコストが高くなるという問題点があった。
また、第2の基板には予め画素パターンに対応した開口部が形成されているために、第2の基板を第1の基板に接合するときに位置がずれると画素パターンがずれてしまうという問題点があった。
【0007】
本発明は、大型の被蒸着基板を蒸着することのできる高精度の蒸着マスク及びこの蒸着マスクの容易で低コストな製造方法を提供することを目的とする。また、この蒸着マスクを使用して形成された正孔輸送層等のエレクトロルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス表示装置とその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る蒸着マスクは、1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップをマスク支持体に接合した構造の蒸着マスクであって、マスクチップは、マスク支持体の所定の位置に接合され、マスクチップの向きは、単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合され、マスクチップは、単結晶シリコン基板に開口部が形成されてなるものである。
ホウ珪酸ガラス等からなるマスク支持体に単結晶シリコン基板を接合し、その後単結晶シリコン基板に画素パターンに対応した開口部を形成するため、単結晶シリコン基板を接合するときに高い位置精度が要求されず、容易に蒸着マスクを製造することができる。また、マスク支持体に単結晶シリコン基板を接合した後に開口部を形成するため、高精度な画素パターンの開口部を有するものである。また、マスク支持体に複数の単結晶シリコン基板を接合する場合には、大型の被蒸着基板に蒸着することができ、1度に多数のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造が可能となる。
【0009】
また本発明に係る蒸着マスクは、マスク支持体の所定の位置に、前記単結晶シリコン基板が該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合される前に、単結晶シリコン基板にエッチングマスクが形成されるものである。
マスク支持体に単結晶シリコン基板を接合する前に、単結晶シリコン基板にエッチングマスクが形成されるため、ホウ珪酸ガラス等からなるマスク支持体が熱酸化等により撓むのを防止することができる。
【0010】
また本発明に係る蒸着マスクは、マスク支持体がホウ珪酸ガラスからなり、単結晶シリコン基板が陽極接合によってマスク支持体に接合されるものである。
ホウ珪酸ガラスからなるマスク支持体と単結晶シリコン基板を陽極接合することにより接着剤が不要となり、また接着剤を使用したときに生ずる撓みをなくすことができる。
【0011】
また本発明に係る蒸着マスクは、上記のマスクチップが、その表面に炭素とフッ素からなる薄膜を有するものである。
マスクチップはその表面に炭素とフッ素からなる薄膜を有するため、蒸着のときに被蒸着基板との着脱が容易となる。
【0012】
本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップをマスク支持体に接合した構造の蒸着マスクの製造方法であって、マスク支持体の所定の位置に、単結晶シリコン基板を該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合する工程を実施した後に、単結晶シリコン基板に開口部を形成してマスクチップを作成する工程を実施するものである。
ホウ珪酸ガラス等からなるマスク支持体に単結晶シリコン基板を接合し、その後単結晶シリコン基板に画素パターンに対応した開口部を形成するため、単結晶シリコン基板を接合するときに高い位置精度が要求されず、容易に蒸着マスクを製造することができる。また、マスク支持体に単結晶シリコン基板を接合した後に開口部を形成するため、高精度な画素パターンの開口部を形成することができる。さらに、マスク支持体に複数の単結晶シリコン基板を接合する場合には、大型の被蒸着基板に蒸着することができる蒸着マスクを得ることができ、1度に多数のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造が可能となる。
【0013】
また本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、マスク支持体の所定の位置に、単結晶シリコン基板を該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合する工程において、少なくとも1辺が直線状の基準部材によって単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えるものである。
マスク支持体に単結晶シリコン基板を接合する工程において、少なくとも1辺が直線状の基準部材によって単結晶シリコン基板の結晶方向を揃えることにより、1列に並んだ単結晶シリコン基板を1度に接合することができる。また、この基準部材を使用することにより、単結晶シリコン基板の結晶方向を高精度に揃えることができる。
【0014】
また本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、マスク支持体の所定の位置に、単結晶シリコン基板を該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合する工程を実施する前に、単結晶シリコン基板にエッチングマスクを形成するものである。
マスク支持体に単結晶シリコン基板を接合する前に、単結晶シリコン基板にエッチングマスクが形成されるため、ホウ珪酸ガラス等からなるマスク支持体が熱酸化等により撓むのを防止することができる。
【0015】
また本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、マスク支持体がホウ珪酸ガラスである場合に、単結晶シリコン基板を陽極接合によってマスク支持体に接合するものである。
ホウ珪酸ガラスからなるマスク支持体と単結晶シリコン基板を陽極接合することにより接着剤が不要となり、また接着剤を使用したときに生ずる撓みをなくすことができる。
【0016】
また本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、単結晶シリコン基板を、劈開を利用して単結晶シリコンウエハから切断して作成するものである。
単結晶シリコンウエハから劈開を利用して単結晶シリコン基板を切り出すことにより、結晶方向の揃った単結晶シリコン基板を容易に得ることができる。
【0017】
また本発明に係る蒸着マスクの製造方法は、炭素とフッ素の混合気体のプラズマ雰囲気中で、マスクチップの表面に炭素とフッ素からなる薄膜を形成するものである。
マスクチップの表面に炭素とフッ素からなる薄膜を形成するため、この蒸着マスクの製造方法で得られた蒸着マスクを用いて蒸着をするときに被蒸着基板との着脱が容易となる。
【0018】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置は、上記のいずれかの蒸着マスクを使用して形成された正孔注入層、発光層及び電子輸送層を有するものである。
上記の蒸着マスクは、高精度な画素パターンの開口部を有するものであるため、これらの蒸着マスクを使用して形成された正孔注入層、発光層及び電子輸送層等からなるエレクトロルミネッセンス層は高精細であり、このエレクトルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス表示装置は高画質のものである。
【0019】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置は、上記のいずれかの蒸着マスクを使用して形成された電子注入層、発光層及び正孔輸送層を有するものである。
上記の蒸着マスクは、高精度な画素パターンの開口部を有するものであるため、これらの蒸着マスクを使用して形成された電子注入層、発光層及び正孔輸送層等からなるエレクトロルミネッセンス層は高精細であり、このエレクトルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス表示装置は高画質のものである。
【0020】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、上記のいずれかに記載の蒸着マスクを被蒸着基板の所定の位置に配置して正孔注入層、発光層及び電子輸送層を形成するものである。
上記の蒸着マスクによって、1度に多数のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造が可能となり、また高画質のエレクトロルミネッセンス表示装置を得ることができる。
【0021】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、上記のいずれかに記載の蒸着マスクを被蒸着基板の所定の位置に配置して電子注入層、発光層及び正孔輸送層を形成するものである。
上記の蒸着マスクによって、1度に多数のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造が可能となり、また高画質のエレクトロルミネッセンス表示装置を得ることができる。
【0022】
本発明に係るエレクトロルミネッセンス表示装置を備えた電子機器は、上記のいずれかに記載の蒸着マスクを使用して形成された正孔注入層、発光層等を有するエレクトロルミネッセンス表示装置を備えたものである。
上記の蒸着マスクを使用して形成された正孔注入層、発光層等のエレクトロルミネッセンス層は高精細であり、このエレクトルミネッセンス層を有するエレクトロルミネッセンス表示装置は高画質のものである。
【0023】
【発明の実施の形態】
実施形態1.
図1は本発明の実施形態1に係る蒸着マスクを示した図である。図1(a)はこの蒸着マスクの上面図であり、図1(b)はこの蒸着マスクの横断面図である。本実施形態1に係る蒸着マスクは、ホウ珪酸ガラスからなるマスク支持体1の上面に単結晶シリコン基板からなるマスクチップ2を複数接合した構造(図1(a)では6枚)となっている。マスク支持体1には開口部3が複数設けられており、開口部3を覆う状態でマスクチップ2が接合されている。マスクチップ2には、各画素に対応した開口部4が多数設けられている。この開口部4は、1つの縦横の寸法が数十μm程度のものであり、被蒸着基板に蒸着をする際に、一度で1色分のすべて画素の蒸着ができるようになっている。このエレクトロルミネッセンス層の蒸着の方法は後に詳述する。また、マスク支持体1には蒸着のときに被蒸着基板とアライメント(位置方向合わせ)をするための凸状のアライメントマーク5が形成されている。このアライメントマーク5は、凹状又は貫通穴として形成してもよい。
なお本実施形態1では、マスク支持体1をホウ珪酸ガラスで作成しているが、マスク支持体1をシリコン基板等で作成してもよい。また、マスク支持体1に接合するマスクチップ2は複数でなく1枚であってもよい。
【0024】
図2は、図1に示す蒸着マスクのマスク支持体1を示した図であり、図3は図1に示す蒸着マスクのマスクチップ2を示した図である。図2に示すようにマスク支持体1には、複数の開口部3が形成されており、上面にはアライメントマーク5が形成されている。この開口部3は、例えば微小な砥粒をジェット噴流にしてホウ珪酸ガラス基板に当てて形成する。またアライメントマーク5は、スパッタリングにより金・クロム等をホウ珪酸ガラス基板に成膜し、フォトリソグラフィーによりパターニングして、エッチングして形成すればよい。図3に示すように、マスクチップ2には開口部4が多数設けられており、マスク支持体1とマスクチップ2を接合するときは開口部3の上に開口部4が位置するするように接合する。
なおマスク支持体1は、シリコンと熱膨張係数が近いか又は等しいもので作成するのが望ましい。これはエレクトロルミネッセンス層の蒸着の際に、マスク支持体1とマスクチップ2の接合部分に熱によるひずみが生じないようにするためである。例えば、ホウ珪酸ガラスのパイレックス(登録商標)#7740(コーニング社製)は、熱膨張係数が3.25×10−6/℃であり、シリコンの熱膨張係数3.5×10−6/℃と非常に近いためマスク支持体1を作成するのに適している。
【0025】
図4は、単結晶シリコンウエハからマスクチップ2となる単結晶シリコン基板を切り出して作成する工程を示した図である。単結晶シリコンウエハ10は、例えば表面の結晶方位が(100)方位のものであり、オリエンテーションフラット(以下、オリフラという)11が2つ設けられたものを用意する。ここでは、単結晶シリコンウエハ10が(100)方位のもので、2つのオリフラ11は(110)方位で互いに直交した方向に形成されているものとする。単結晶シリコンウエハ10には予め熱酸化により全面にエッチングマスクとして酸化シリコン膜を形成しておく。そして、この2つのオリフラ11に平行な線に沿って、ダイシングソーを用いて切断し矩形の単結晶シリコン基板2aを切り出す。このとき、ダイシングソーで切断するのではなく、劈開を利用して単結晶シリコンウエハ10から単結晶シリコン基板2aを切断してもよい。劈開により単結晶シリコンウエハ10を切断する場合は、予め切断する線に沿って細い溝を形成するのが望ましい。なお、この単結晶シリコン基板2aは少なくとも1辺が直線状であれば、矩形でなくてもよい。また、酸化シリコン膜は単結晶シリコン基板2aを切り出した後に形成してもよく、CVD(Chemical Vapor Deposition)装置によって窒化シリコン膜等を形成してもよい。
【0026】
図5は、図4で作成された単結晶シリコン基板2aをマスク支持体1に接合する工程を示した上面図である。なお、マスク支持体1に単結晶シリコン基板2aを接合する段階では、各画素に対応した開口部4は形成されていない。図5の工程では、予め開口部3、アライメントマーク5が形成されているマスク支持体1の下面に、単結晶シリコン基板2aを接合する。このとき、少なくとも1辺が直線状の基準部材12を用いて単結晶シリコン基板2aの結晶方向を揃える。なおこの結晶方向は、基準部材12とアライメントマーク5との相対方向を所定の方向に揃え、また単結晶シリコン基板2a同士の方向も揃える。結晶方向を揃えるには、基準部材12をアライメントマーク5と所定の方向に合わせ、図4の工程で切断した単結晶シリコン基板2aの1辺を基準部材に沿って度決めすればよい(図5参照)。このようにすれば、図5に示すように1列に並んだ単結晶シリコン基板2aを、基準部材12の1回のアライメント(位置方向合わせ)により接合することができる。ここでは、基準部材12のアライメントを1列ごとに行っている。本実施形態1では、この単結晶シリコン基板2aとマスク支持体1の接合を、紫外線硬化接着剤を用いて行った。なお、以下に示すように各画素に対応した開口部4を単結晶シリコン基板2aとマスク支持体1の接合の後に行うため、単結晶シリコン基板2aの位置の精度はそれほど要求されない。
【0027】
図6は、図5の工程で単結晶シリコン基板2aが接合されたマスク支持体1を加工して蒸着マスクを作成する製造工程を示した断面拡大図である。なお図6では、1枚の単結晶シリコン基板2aとその周辺のマスク支持体1を示している。まず、図5で単結晶シリコン基板2aが接合されたマスク支持体1を用意する(図6(a))。ここでは、単結晶シリコン基板2aの両面には酸化シリコン膜15が形成されており、単結晶シリコン基板2aとマスク支持体1は紫外線硬化接着剤14で接合されている。次に、単結晶シリコン基板2aの下面の酸化シリコン膜20を除去し、単結晶シリコン基板2aの上面の酸化シリコン膜15に画素パターン(開口部4)に対応した形状をフォトリソグラフィーによりパターニングして、この部分の酸化シリコン膜をフッ酸によりハーフエッチングしてパターン21を形成する(図6(b))。ここでは、単結晶シリコン基板2aの下面の酸化シリコン膜20を、フォトリソグラフィーの後にCF3ガスによるドライエッチングを行って選択的に除去している。
【0028】
そして、単結晶シリコン基板2aが接合されたマスク支持体1をTMAH(テトラメチルハイドロオキサイド)水溶液に浸して、単結晶シリコン基板2aの下面側を異方性エッチングし凹部22を形成する。その後単結晶シリコン基板2aが接合されたマスク支持体1をフッ酸水溶液に浸して単結晶シリコン基板2aの上面の酸化シリコン膜15をパターン21の部分の酸化シリコン膜がなくなるまで全面エッチングする(図6(c))。
次に、パターン21に対応した部分にYAGレーザーを照射して開口部4を形成する(図6(d))。ここでは、酸化シリコン膜15はエッチングマスクとなっており、シリコンのみがエッチングされて単結晶シリコン基板2aに開口部4が形成される。
その後、単結晶シリコン基板2aが接合されたマスク支持体1を、水酸化カリウム水溶液等に浸して異方性エッチングを行う(図6(e))。これにより単結晶シリコン基板2aの開口部4の周辺のシリコンが尖った状態にエッチングされる。このようにするのは、蒸着の際に広い角度から蒸着物が開口部4から入るようにするためである。
最後に、CF3ガスによるドライエッチングを行って、単結晶シリコン基板2aの上面の酸化シリコン膜15を除去して蒸着マスクが完成する(図6(f))。
なお、図6(f)の工程で希フッ酸水溶液で酸化シリコン膜15を除去することもできる。
【0029】
図6(f)の工程で蒸着マスクが一応完成するが、この蒸着マスクの上面にさらに炭素とフッ素からなる薄膜を形成してもよい。これは、いわゆるテフロン(登録商標)膜であり、蒸着の際に被蒸着基板と蒸着マスクの着脱が容易となる。この炭素とフッ素からなる薄膜を形成するには、炭素とフッ素の混合気体のプラズマ雰囲気中で蒸着マスクの全面に薄膜を形成すればよい。
【0030】
本実施形態1では、ホウ珪酸ガラスからなるマスク支持体1に単結晶シリコン基板2aを接合し、その後、単結晶シリコン基板2aに画素パターンに対応した開口部4を形成するため、単結晶シリコン基板2aを接合するときに高い位置精度が要求されず、容易に蒸着マスクを製造することができる。また、マスク支持体1に単結晶シリコン基板2aを接合した後に開口部4を形成するため、高精度な画素パターンの開口部を形成することができる。さらに、マスク支持体に複数の単結晶シリコン基板を接合するため、大型の被蒸着基板に蒸着することができ、1度に多数のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造が可能となる。
また、マスク支持体1に単結晶シリコン基板2aを接合する工程において、少なくとも1辺が直線状の基準部材12によって単結晶シリコン基板2aの結晶方向を揃えることにより、1列に並んだ単結晶シリコン基板2aを1度に接合することができる。また、この基準部材12を使用することにより、単結晶シリコン基板2aの結晶方向を高精度に揃えることができる。
【0031】
実施形態2.
図7は、本実施形態2に係る蒸着マスクの製造工程を示す断面拡大図である。なお図7では、1枚の単結晶シリコン基板とその周辺のマスク支持体1を示している。なお、本実施形態2に係る蒸着マスクは、特に示した部分以外は図1に示す実施形態1の蒸着マスクと同様であり、実施形態1と同一の部材には同一の符号を使用する。
まず、図4に示すような結晶方位が(100)方位の単結晶シリコン基板10の上面にスパッタリングにより金・クロム膜15aを成膜する。このとき、シリコンと密着力のあるクロム膜を先に成膜し、その上に耐薬品性に優れた金膜を成膜するのが望ましい。そして、実施形態1と同様に単結晶シリコン基板2bを切り出し、ホウ珪酸ガラスからなるマスク支持体1と陽極接合により接合する(図7(a))。この陽極接合は、単結晶シリコン基板2bとマスク支持体1を接合面同士を合わせて配置し、実施形態1と同様に結晶方向を揃えて、300〜500℃に加熱し、500V程度の電圧を印加して行えばよい。
【0032】
次に、金・クロム膜15aに画素パターン(開口部4)に対応した形状をパターニングして、金・クロム用のエッチング液を用いてハーフエッチングを行いパターン21aを形成する(図7(b))。
その後、単結晶シリコン基板2bの下面をTMAH水溶液で異方性エッチングして凹部22aを形成し、単結晶シリコン基板2bが接合されたマスク支持体1を金・クロム用のエッチング液に浸してパターン21aの部分に残った金・クロム膜がなくなるまで金・クロム膜15aを全面エッチングする(図7(c))。
そして、実施形態1と同様にYAGレーザーを照射して単結晶シリコン基板2bに開口部4を形成する(図7(d))。最後に、水酸化カリウム水溶液等で単結晶シリコン基板2bが接合されたマスク支持体1をエッチングして、単結晶シリコン基板2bの開口部4の周辺のシリコンを尖った状態にエッチングして蒸着マスクが完成する(図7(e))。
なお、図7(e)で残った金・クロム膜15aはエッチングによって除去してもよい。
【0033】
本実施形態2では、ホウ珪酸ガラスからなるマスク支持体1と単結晶シリコン基板2bを陽極接合することにより接着剤が不要となり、また接着剤を使用したときに生ずる撓みをなくすことができる。また、接着剤を使用していないため蒸着のときにガスが発生せず、高真空の蒸着に適した蒸着マスクを製造することができる。
【0034】
実施形態3.
図8は、本実施形態3に係るエレクトロルミネッセンス表示装置の1つの画素の縦断面図を示した図である。なお、本実施形態3では有機EL表示装置をエレクトロルミネッセンス表示装置の例として挙げている。
図8に示す有機EL表示装置は、無アルカリガラス等からなるガラス基板30の上に、TFT配線31、平坦化絶縁膜32、ITO層33が形成されている。ITO(Indium Tin Oxide)は画素に電流を流すための陽極の役割を果たす。酸化シリコン層34は画素の周りの発光しない部分に積層されている。エレクトロルミネッセンス層である正孔輸送層35、発光層36、及び電子注入層37は有機EL材料からなり真空蒸着等により形成される。その上には陰極となるITO層38、透明封止膜39が形成されている。実施形態1及び実施形態2の蒸着マスクは、主にエレクトロルミネッセンス層の形成に使われるが、その他にもITO層33をスパッタリングにより形成するときのスパッタマスクとしても使用することができる。なお、エレクトロルミネッセンス層とは、正孔輸送層35、発光層36、電子注入層37以外に正孔注入層等を設ける場合にはそれらを含む。また、正孔輸送層35、発光層36、電子注入層37の代わりに、電子輸送層、発光層、正孔注入層をエレクトロルミネッセンス層として形成してもよい。
【0035】
図9は、実施形態1又は実施形態2の蒸着マスクを用いてエレクトロルミネッセンス層を形成するときの部分断面図である。まず、蒸着マスク40(図9では開口部4の周辺のみを示す)の開口部4を、予めITO層33等の形成されたガラス基板30の赤色の画素の位置に合わせ、赤色の画素のエレクトロルミネッセンス層51を真空蒸着により形成する(図9(a))。そして、蒸着マスク40の位置をずらしてガラス基板30の緑色の画素の位置に合わせ、緑色の画素のエレクトロルミネッセンス層52を形成する(図9(b))。同様にして青色の画素のエレクトロルミネッセンス層53を形成する(図9(c))。
【0036】
本実施形態3では、実施形態1又は実施形態2の蒸着マスクを使用してエレクトロルミネッセンス層を形成しているため、エレクトロルミネッセンス層が高精細で、高画質のエレクトロルミネッセンス表示装置を得ることができる。
【0037】
実施形態4.
図10は、本発明の実施形態4に係る電子機器の例を示した図である。図10(a)は、携帯電話の表示パネルとして本発明のエレクトロルミネッセンス表示装置を用いた場合であり、図10(b)はパーソナルコンピュータのディスプレイに本発明のエレクトロルミネッセンス表示装置を用いた場合である。この他に、ゲーム機器やデジタルカメラの表示パネルにも本発明のエレクトロルミネッセンス表示装置を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1に係る蒸着マスクを示した図。
【図2】図1に示す蒸着マスクのマスク支持体を示した図。
【図3】図1に示す蒸着マスクのマスクチップを示した図。
【図4】単結晶シリコン基板を切り出して作成する工程を示した図。
【図5】単結晶シリコン基板をマスク支持体に接合する工程の上面図。
【図6】蒸着マスクを作成する製造工程を示した断面拡大図。
【図7】実施形態2に係る蒸着マスクの製造工程を示す断面拡大図。
【図8】エレクトロルミネッセンス表示装置の画素の縦断面図。
【図9】エレクトロルミネッセンス層を形成するときの部分断面図。
【図10】本発明の実施形態4に係る電子機器の例を示した図。
【符号の説明】
1 マスク支持体、2 マスクチップ、2a 単結晶シリコン基板、3 開口部、4 開口部、5 アライメントマーク、10 単結晶シリコンウエハ、11オリエンテーションフラット、12 基準部材、14 紫外線硬化接着剤、15 酸化シリコン膜、21 パターン、22 凹部、30 ガラス基板、31 TFT配線、32 平坦化絶縁膜、33 ITO層、34 酸化シリコン層、35 正孔輸送層、36 発光層、37 電子注入層、38 ITO層、39 透明封止膜、40 蒸着マスク、51 赤色の画素のエレクトロルミネッセンス層、52 緑色の画素のエレクトロルミネッセンス層、53 青色の画素のエレクトロルミネッセンス層。
Claims (15)
- 1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップをマスク支持体に接合した構造の蒸着マスクであって、
前記マスクチップは、前記マスク支持体の所定の位置に接合され、
前記マスクチップの向きは、前記単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合され、
前記マスクチップは、前記単結晶シリコン基板に開口部が形成されてなるものであることを特徴とする蒸着マスク。 - 前記マスク支持体の所定の位置に、前記単結晶シリコン基板が該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合される前に、前記単結晶シリコン基板にエッチングマスクが形成されることを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク。
- 前記マスク支持体はホウ珪酸ガラスからなり、前記単結晶シリコン基板が陽極接合によって前記マスク支持体に接合されることを特徴とする請求項1又は2記載の蒸着マスク。
- 前記マスクチップは、その表面に炭素とフッ素からなる薄膜を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の蒸着マスク。
- 1又は複数の単結晶シリコン基板で形成されたマスクチップをマスク支持体に接合した構造の蒸着マスクの製造方法であって、
前記マスク支持体の所定の位置に、前記単結晶シリコン基板を該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合する工程を実施した後に、前記単結晶シリコン基板に開口部を形成して前記マスクチップを作成する工程を実施することを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記マスク支持体の所定の位置に、前記単結晶シリコン基板を該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合する工程において、少なくとも1辺が直線状の基準部材によって前記単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えることを特徴とする請求項5記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記マスク支持体の所定の位置に、前記単結晶シリコン基板を該単結晶シリコン基板の結晶方向を所定の方向に揃えて接合する工程を実施する前に、前記単結晶シリコン基板にエッチングマスクを形成することを特徴とする請求項5又は6記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記マスク支持体がホウ珪酸ガラスである場合に、前記単結晶シリコン基板を陽極接合によって前記マスク支持体に接合することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記単結晶シリコン基板を、劈開を利用して単結晶シリコンウエハから切断して作成することを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載の蒸着マスクの製造方法。
- 炭素とフッ素の混合気体のプラズマ雰囲気中で、前記マスクチップの表面に炭素とフッ素からなる薄膜を形成することを特徴とする請求項5〜9のいずれかに記載の蒸着マスクの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の蒸着マスクを使用して形成された正孔注入層、発光層及び電子輸送層を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の蒸着マスクを使用して形成された電子注入層、発光層及び正孔輸送層を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の蒸着マスクを被蒸着基板の所定の位置に配置して、正孔注入層、発光層及び電子輸送層を形成することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の蒸着マスクを被蒸着基板の所定の位置に配置して、電子注入層、発光層及び正孔輸送層を形成することを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
- 請求項11又は12記載のエレクトロルミネッセンス表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003200064A JP2005042133A (ja) | 2003-07-22 | 2003-07-22 | 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器 |
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TW093121038A TWI244354B (en) | 2003-07-22 | 2004-07-14 | Deposition mask, manufacturing method thereof, display unit, manufacturing method thereof, and electronic apparatus including display unit |
CNA2004100716272A CN1578563A (zh) | 2003-07-22 | 2004-07-16 | 蒸镀掩模及制法、显示装置及制法以及具有其的电子机器 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003200064A JP2005042133A (ja) | 2003-07-22 | 2003-07-22 | 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005042133A true JP2005042133A (ja) | 2005-02-17 |
Family
ID=33487632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003200064A Pending JP2005042133A (ja) | 2003-07-22 | 2003-07-22 | 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7074694B2 (ja) |
EP (1) | EP1500716B9 (ja) |
JP (1) | JP2005042133A (ja) |
KR (1) | KR100683323B1 (ja) |
CN (1) | CN1578563A (ja) |
DE (1) | DE602004005382T2 (ja) |
TW (1) | TWI244354B (ja) |
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2003
- 2003-07-22 JP JP2003200064A patent/JP2005042133A/ja active Pending
-
2004
- 2004-05-26 US US10/854,779 patent/US7074694B2/en active Active
- 2004-06-04 DE DE602004005382T patent/DE602004005382T2/de active Active
- 2004-06-04 EP EP04013251A patent/EP1500716B9/en active Active
- 2004-07-14 TW TW093121038A patent/TWI244354B/zh active
- 2004-07-16 CN CNA2004100716272A patent/CN1578563A/zh active Pending
- 2004-07-21 KR KR1020040056707A patent/KR100683323B1/ko active IP Right Grant
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100683323B1 (ko) | 2007-02-15 |
TW200509738A (en) | 2005-03-01 |
DE602004005382D1 (de) | 2007-05-03 |
EP1500716A3 (en) | 2005-03-02 |
US20050019968A1 (en) | 2005-01-27 |
KR20050011704A (ko) | 2005-01-29 |
EP1500716B1 (en) | 2007-03-21 |
TWI244354B (en) | 2005-11-21 |
DE602004005382T2 (de) | 2007-11-29 |
EP1500716A2 (en) | 2005-01-26 |
US7074694B2 (en) | 2006-07-11 |
EP1500716B9 (en) | 2008-09-24 |
CN1578563A (zh) | 2005-02-09 |
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---|---|---|---|
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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