CN106751887A - 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 - Google Patents
固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN106751887A CN106751887A CN201611042248.XA CN201611042248A CN106751887A CN 106751887 A CN106751887 A CN 106751887A CN 201611042248 A CN201611042248 A CN 201611042248A CN 106751887 A CN106751887 A CN 106751887A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polysiloxane
- weight
- resin composition
- hardening resin
- mentioned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 118
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 33
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 title claims description 28
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 257
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 140
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 37
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 30
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 75
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 62
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 21
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 19
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 claims 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 claims 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims 1
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 claims 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 33
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 30
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 25
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 19
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 18
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 15
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 14
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 12
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 11
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 9
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 9
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 8
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 8
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 6
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical group [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 5
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 5
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005108 alkenylthio group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 5
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 4
- QYCGBAJADAGLLK-UHFFFAOYSA-N 1-(cyclohepten-1-yl)cycloheptene Chemical compound C1CCCCC=C1C1=CCCCCC1 QYCGBAJADAGLLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 3
- 241000826860 Trapezium Species 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical group [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- 125000006652 (C3-C12) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003358 C2-C20 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical group CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000490 cinnamyl group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N cycloheptylcycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1C1CCCCCC1 ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- GRHBQAYDJPGGLF-UHFFFAOYSA-N isothiocyanic acid Chemical compound N=C=S GRHBQAYDJPGGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002454 metastable transfer emission spectrometry Methods 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 2
- 125000005837 1,2-cyclopentylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([*:2])C1([H])[H] 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005838 1,3-cyclopentylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([H])C1([H])[*:1] 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFCHHMABGOYOQI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylhex-3-ene Chemical class CCC(C)=CC(C)C VFCHHMABGOYOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKRJCCZAZDZNJL-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxysilicon Chemical compound COCCO[Si] WKRJCCZAZDZNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- ZMWJQGOYIBHQJG-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-ol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCO ZMWJQGOYIBHQJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQSZOZMNAJHVML-UHFFFAOYSA-N 3-phenylbut-1-yn-1-ol Chemical compound OC#CC(C)C1=CC=CC=C1 MQSZOZMNAJHVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNRLEMMIVRBKJE-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(N,N-dimethylaniline) Chemical class C1=CC(N(C)C)=CC=C1CC1=CC=C(N(C)C)C=C1 JNRLEMMIVRBKJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUPXMUGTWUWGCT-UHFFFAOYSA-N 4-triethoxysilylbutan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)OC(=O)C=C JUPXMUGTWUWGCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFWRHNFNTNMKPC-UHFFFAOYSA-N 4-trimethoxysilylbutan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)OC(=O)C=C PFWRHNFNTNMKPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFYWWVKFAUAATB-UHFFFAOYSA-N C(=O)=C=C.[Pt] Chemical group C(=O)=C=C.[Pt] CFYWWVKFAUAATB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMKQKXUVJOGVJC-UHFFFAOYSA-N C(C)(C)OC(C(C)C)OOCCCC Chemical compound C(C)(C)OC(C(C)C)OOCCCC BMKQKXUVJOGVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- AHBOWZRDLAWIDY-UHFFFAOYSA-N CCO[SiH](CCC(C)OC(=O)C=C)OCC Chemical compound CCO[SiH](CCC(C)OC(=O)C=C)OCC AHBOWZRDLAWIDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQIDGXXNEIMJLG-UHFFFAOYSA-N CO[SiH](CCC(C)OC(=O)C=C)OC Chemical compound CO[SiH](CCC(C)OC(=O)C=C)OC XQIDGXXNEIMJLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010018612 Gonorrhoea Diseases 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N Hydrogen atom Chemical compound [H] YZCKVEUIGOORGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOJAXCSURVGEY-UHFFFAOYSA-N N#CC#N.[S] Chemical compound N#CC#N.[S] NMOJAXCSURVGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNLRIUXSRUTTHV-UHFFFAOYSA-N NCCC(C)O[Si](OCC)(C)CCC(N)O Chemical compound NCCC(C)O[Si](OCC)(C)CCC(N)O SNLRIUXSRUTTHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIEXFJVOIMVETD-UHFFFAOYSA-N P([O-])([O-])[O-].[Pt+3] Chemical compound P([O-])([O-])[O-].[Pt+3] UIEXFJVOIMVETD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- HHWWIVLPIGGYDR-UHFFFAOYSA-N but-1-enoxy(dimethoxy)silane Chemical compound C(CC)=CO[SiH](OC)OC HHWWIVLPIGGYDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 150000007973 cyanuric acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- FNIATMYXUPOJRW-UHFFFAOYSA-N cyclohexylidene Chemical group [C]1CCCCC1 FNIATMYXUPOJRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- PWAPCRSSMCLZHG-UHFFFAOYSA-N cyclopentylidene Chemical group [C]1CCCC1 PWAPCRSSMCLZHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- DFNRUVXBGPHQIX-UHFFFAOYSA-N diethoxy(pent-2-en-2-yloxy)silane Chemical compound CCC=C(C)O[SiH](OCC)OCC DFNRUVXBGPHQIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N dimethoxysilane Chemical compound CO[SiH2]OC YQGOWXYZDLJBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N dimethylsilyloxy(dimethyl)silane Chemical class C[SiH](C)O[SiH](C)C NVYQDQZEMGUESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003976 glyceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C(O[H])([H])C(O[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N methyloxidanyl Chemical group [O]C GRVDJDISBSALJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- BOTNYLSAWDQNEX-UHFFFAOYSA-N phenoxymethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1COC1=CC=CC=C1 BOTNYLSAWDQNEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N phosphane;platinum Chemical compound P.[Pt] PKELYQZIUROQSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N tetrasiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH3] RSNQKPMXXVDJFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical class CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNWOFLWXQGHSRH-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[methyl(trimethylsilyloxy)silyl]oxysilane Chemical class C[Si](C)(C)O[SiH](C)O[Si](C)(C)C QNWOFLWXQGHSRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
- C08K5/5435—Silicon-containing compounds containing oxygen containing oxygen in a ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
- H01L23/293—Organic, e.g. plastic
- H01L23/296—Organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/80—Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34924—Triazines containing cyanurate groups; Tautomers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
- H01L33/56—Materials, e.g. epoxy or silicone resin
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
本发明的目的在于提供一种固化性树脂组合物,其能够形成具有优异的耐热性、透明性、特别是对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物。本发明的固化性树脂组合物包含聚有机硅氧烷(A)、异氰脲酸酯化合物(B)及硅烷偶联剂(C),聚有机硅氧烷(A)为具有芳基的聚有机硅氧烷。聚有机硅氧烷(A)优选为基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为500~4000的聚有机硅氧烷。
Description
本申请是国际申请日为2014年2月4日的申请号为201480008743.1的中国发明专利申请“固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置”的分案申请。
技术领域
本发明涉及固化性树脂组合物、以及使用该固化性树脂组合物而得到的固化物、密封材料及半导体装置。本申请基于2013年2月14日在日本提出申请的日本特愿2013-026947号要求优先权,并将其内容援引于此。
背景技术
在要求高耐热/高耐电压的半导体装置中,对于包覆半导体元件的材料,通常要求150℃左右以上的耐热性。特别是,对于包覆光半导体元件等光学材料的材料(密封材料),除了耐热性以外,还要求具有优异的透明性、柔软性等物性。目前,作为例如液晶显示器的背光单元中的密封材料,已使用了环氧类树脂材料、有机硅类树脂材料。
专利文献1中,作为耐热性高、散热性好的材料,公开了一种合成高分子化合物,其含有1种以上的分子量为2万~80万的第3有机硅聚合物,所述第3有机硅聚合物由具有基于硅氧烷(Si-O-Si键合体)的交联结构的至少一种第1有机硅聚合物和具有基于硅氧烷的线性连结结构的至少一种第2有机硅聚合物通过硅氧烷键连结而成。然而,这些材料的物性仍然无法令人满意。
另外,专利文献2中,作为透明性、耐UV性、耐热着色性优异的光学元件密封用树脂组合物,公开了含有下述至少一种倍半硅氧烷作为树脂成分的光学元件密封用树脂组合物,所述倍半硅氧烷选自:含有脂肪族碳-碳不饱和键且不含H-Si键的笼型结构体的液态的倍半硅氧烷、及含有H-Si键且不含脂肪族碳-碳不饱和键的笼型结构体的液态的倍半硅氧烷。然而,包含笼型的倍半硅氧烷的树脂组合物的固化物较硬、柔软性不足,因此存在易产生裂纹、开裂的问题。
另外,专利文献3中公开了一种固化性组合物,其含有下述成分作为必要成分:1分子中含有至少2个与SiH基具有反应性的碳-碳双键的异氰脲酸三烯丙酯等有机化合物、1分子中含有至少2个SiH基的链状和/或环状聚有机硅氧烷等化合物、硅氢化催化剂。然而,这些材料的耐裂纹性等物性仍然无法令人满意。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2006-206721号公报
专利文献2:日本特开2007-031619号公报
专利文献3:日本特开2002-314140号公报
发明内容
发明要解决的问题
一般而言,对于光半导体元件的密封材料,除了上述的耐热性、透明性、柔软性以外,还要求在制造光半导体装置时的回流焊工序中即使在施加高温的热的情况下也不易发生劣化、具体是指密封材料不易产生裂纹、不易发生从封装件的剥离等不良情况的特性(也统称为“耐回流焊性”)。需要说明的是,本说明书中,也将密封材料不易产生裂纹的特性称为“耐裂纹性”。
此外,对于光半导体元件的密封材料,要求其对于SOX气体等腐蚀性气体具有高阻隔性。这是由于,光半导体装置中的电极等金属材料容易被腐蚀性气体腐蚀,而这样的腐蚀会经时而引发通电特性(例如,高温环境中的通电特性)变差的不良情况。已被广泛用作光半导体元件的密封材料的传统的使用了有机硅类树脂材料的密封材料,对于上述腐蚀性气体的阻隔性不足,关于上述专利文献1~3中记载的材料,也同样存在对腐蚀性气体的阻隔性不足的问题。
因此,本发明的目的在于提供一种固化性树脂组合物,其能够形成具有优异的耐热性、透明性、特别是对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物。
另外,本发明的其它目的在于提供具有优异的耐热性、透明性、特别是对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物及密封材料。
此外,本发明的另一目的在于提供具有这些固化物和/或密封材料(固化物及密封材料中的一者或两者)的半导体装置。
解决问题的方法
本发明人等发现,针对具有芳基的聚有机硅氧烷添加异氰脲酸酯化合物及硅烷偶联剂而成的固化性树脂组合物,能够形成具有优异的耐热性、透明性、柔软性、特别是耐回流焊性、对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物,进而完成了本发明。
即,本发明提供一种固化性树脂组合物,其包含聚有机硅氧烷(A)、异氰脲酸酯化合物(B)、及硅烷偶联剂(C),且聚有机硅氧烷(A)为具有芳基的聚有机硅氧烷。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)是基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为500~4000的聚有机硅氧烷。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)是在将基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的重均分子量设为Mw、数均分子量设为Mn时,分子量分散度(Mw/Mn)为0.95~4.00的聚有机硅氧烷。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A),包含具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧烷(A1)。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A),包含具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),含有具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)50重量%以上。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,作为异氰脲酸酯化合物(B),包含式(1)所示的异氰脲酸酯化合物,
[化学式1]
[式(1)中,Rx、Ry、Rz相同或不同,表示式(2)所示的基团或式(3)所示的基团。
[化学式2]
[化学式3]
[式(2)及式(3)中,R1及R2相同或不同,表示氢原子或碳原子数1~8的直链或支链状的烷基。]]。
另外,本发明提供上述的固化性树脂组合物,其中,式(1)中的Rx、Ry、Rz中的任意一个以上为式(3)所示的基团。
另外,本发明提供将上述的固化性树脂组合物固化而得到的固化物。
另外,本发明提供使用上述的固化性树脂组合物而得到的密封材料。
另外,本发明提供使用上述的固化性树脂组合物而得到的半导体装置。
即,本发明涉及下述方案。
[1]一种固化性树脂组合物,其包含聚有机硅氧烷(A)、异氰脲酸酯化合物(B)及硅烷偶联剂(C),聚有机硅氧烷(A)为具有芳基的聚有机硅氧烷。
[2]上述[1]所述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)为具有支链的聚有机硅氧烷。
[3]上述[1]或[2]所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),芳基(苯基换算)的含量为35重量%以上。
[4]上述[1]~[3]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)是基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为500~4000的聚有机硅氧烷。
[5]上述[1]~[4]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷[A]是基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为500~1000的聚有机硅氧烷。
[6]上述[1]~[5]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)是在将基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的重均分子量设为Mw、数均分子量设为Mn时,分子量分散度(Mw/Mn)为0.95~4.00的聚有机硅氧烷。
[7]上述[1]~[6]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),聚有机硅氧烷(A)的含量(配合量)为55~99.5重量%。
[8]上述[1]~[7]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A),包含聚有机硅氧基硅亚烷基(ポリオルガノシロキシシルアルキレン)。
[9]上述[8]所述的固化性树脂组合物,其中,上述聚有机硅氧基硅亚烷基为具有下述式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[10]上述[8]或[9]所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),聚有机硅氧基硅亚烷基的比例为60~100重量%。
[11]上述[1]~[10]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A),包含具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧烷(A1)。
[12]上述[11]所述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A1),包含分子内具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[13]上述[12]所述的固化性树脂组合物,其中,分子内具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧基硅亚烷基是末端和/或侧链具有包含脂肪族碳-碳双键的基团的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[14]上述[13]所述的固化性树脂组合物,其中,分子内具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧基硅亚烷基是末端和/或侧链具有包含脂肪族碳-碳双键的基团、并且包含下述式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[15]上述[11]~[14]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为1.5~15.0重量%。
[16]上述[11]~[15]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A1),包含脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1)作为必要成分。
[17]上述[16]所述的固化性树脂组合物,其中,脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1)的重均分子量为2000以下。
[18]上述[16]或[17]所述的固化性树脂组合物,其中,脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1)的数均分子量为1000以下。
[19]上述[16]~[18]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1)的比例为1~10重量%。
[20]上述[1]~[19]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A),包含具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)。
[21]上述[20]所述的固化性树脂组合物,其中,作为聚有机硅氧烷(A2),包含分子内具有Si-H键的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[22]上述[21]所述的固化性树脂组合物,其中,分子内具有Si-H键的聚有机硅氧基硅亚烷基是末端和/或侧链具有与硅原子键合的氢原子(氢化物)的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[23]上述[21]或[22]所述的固化性树脂组合物,其中,分子内具有Si-H键的聚有机硅氧基硅亚烷基是末端和/或侧链具有与硅原子键合的氢原子、并且包含式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[24]上述[20]~[23]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%)的Si-H键的含量以氢原子或Si-H键中的H(氢化物,ヒドリド)的重量换算(H换算),为0.01~0.50重量%。
[25]上述[20]~[24]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)的含量为50重量%以上。
[26]上述[1]~[25]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,作为异氰脲酸酯化合物(B),包含上述式(1)[式(1)中,Rx、Ry、Rz相同或不同,表示上述式(2)所示的基团或上述式(3)所示的基团]所示的异氰脲酸酯化合物。
[27]上述[26]所述的固化性树脂组合物,其中,上述式(1)中的Rx、Ry、Rz中的任意一个以上为式(3)所示的基团。
[28]上述[26]或[27]所述的固化性树脂组合物,其中,上述式(1)中的Rx、Ry、及Rz中的2个为式(2)所示的基团,并且,Rx、Ry、及Rz中的1个为式(3)所示的基团。
[29]上述[1]~[28]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),异氰脲酸酯化合物(B)的含量为0.01~10重量%。
[30]上述[1]~[29]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),异氰脲酸酯化合物(B)的含量高于0.5重量%且为10重量%以下。
[31]上述[1]~[30]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,硅烷偶联剂(C)为含环氧基硅烷偶联剂。
[32]上述[1]~[31]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),硅烷偶联剂(C)的含量为0.01~15重量%。
[33]上述[1]~[32]中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),硅烷偶联剂(C)的含量高于2.0重量%且为15重量%以下。
[34]上述[1]~[33]中任一项所述的固化性树脂组合物,其组成(配合组成)使得相对于固化性树脂组合物中存在的氢化甲硅烷基1摩尔,脂肪族碳-碳双键为0.2~4摩尔。
[35]上述[1]~[34]中任一项所述的固化性树脂组合物,其在23℃的粘度为300~20000mPa·s。
[36]一种固化物,其是将[1]~[35]中任一项所述的固化性树脂组合物固化而得到的。
[37]一种密封材料,其是使用[1]~[35]中任一项所述的固化性树脂组合物而得到的。
[38]一种半导体装置,其是使用[1]~[35]中任一项所述的固化性树脂组合物而得到的。
[39]上述[38]所述的半导体装置,其是光半导体装置。
发明的效果
本发明的固化性树脂组合物由于具有上述构成,因此特别是对于SOX气体等腐蚀性气体的阻隔性优异。另外,由于上述固化物包含有机硅系材料,因此耐热性、透明性也优异。因此,本发明的固化性树脂组合物可适宜作为光半导体元件(例如,LED元件、半导体激光元件、太阳光发电元件、CCD元件等)的密封材料使用,利用本发明的固化性树脂组合物的固化物密封光半导体元件而得到的光半导体装置具备优异的品质和耐久性。特别是,本发明的固化性树脂组合物作为迄今为止不存在的要求对高温(例如,180℃以上)的耐热性的新一代光源用密封材料而有用。
具体实施方式
本发明的固化性树脂组合物是包含聚有机硅氧烷(A)、异氰脲酸酯化合物(B)及硅烷偶联剂(C)作为必要成分的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)为具有芳基的聚有机硅氧烷。
[聚有机硅氧烷(A)]
本发明的固化性树脂组合物中的聚有机硅氧烷(A)是具有包含硅氧烷键(Si-O-Si)的主链、且具有芳基作为所述主链的取代基的聚有机硅氧烷。作为聚有机硅氧烷(A),可以是具有直链和/或支链的聚有机硅氧烷。其中,从固化物的强度的观点出发,优选聚有机硅氧烷(A)为具有支链的聚有机硅氧烷。
作为聚有机硅氧烷(A)中的芳基,没有特殊限制,可列举例如:苯基、萘基等C6-14芳基(特别是C6-10芳基)等。这些芳基也可以是聚有机硅氧烷(A)中的硅原子上具有的取代基(与硅原子直接键合的基团)。
聚有机硅氧烷(A)中的芳基也可以具有一个以上的取代基。作为上述取代基,可列举:卤原子、取代或无取代的烃基、羟基、烷氧基、烯氧基、芳氧基、芳烷氧基、酰氧基、巯基(硫羟基)、烷硫基、烯硫基、芳硫基、芳烷硫基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳烷氧基羰基、氨基或取代氨基(单或二烷基氨基、酰基氨基等)、环氧基、氰基、异氰酸基(イソシアナート基)、氨基甲酰基、异硫氰酸基(イソチオシアナート基)等。
作为上述取代或无取代的烃基,可列举例如:脂肪族烃基、脂环式烃基、芳香族烃基、由这些基团中的2个以上键合而成的基团等。
作为上述脂肪族烃基,可列举例如:烷基、烯基、炔基等。作为烷基,可列举例如:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、己基、辛基、异辛基、癸基、十二烷基等C1-20烷基(优选为C1-10烷基、进一步优选为C1-4烷基)等。作为烯基,可列举例如:乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、5-己烯基等C2-20烯基(优选为C2-10烯基、进一步优选为C2-4烯基)等。作为炔基,可列举例如:乙炔基、丙炔基等C2-20炔基(优选为C2-10炔基、进一步优选为C2-4炔基)等。
作为上述脂环式烃基,可列举例如:环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环十二烷基等C3-12的环烷基;环己烯基等C3-12的环烯基;二环庚烷基、二环庚烯基等C4-15的桥环式烃基等。
作为上述芳香族烃基,可列举例如:苯基、萘基等C6-14芳基(特别是C6-10芳基)等。
另外,作为由上述脂肪族烃基和上述脂环式烃基键合而成的基团,可列举例如:环己基甲基、甲基环己基等。此外,作为由上述脂肪族烃基和上述芳香族烃基键合而成的基团,可列举例如:苄基、苯乙基等C7-18芳烷基(特别是C7-10芳烷基)、肉桂基等C6-10芳基-C2-6烯基、甲苯基等C1-4烷基取代芳基、苯乙烯基等C2-4烯基取代芳基等。作为上述取代的烃基(被取代的烃基)所具有的取代基,可列举例如:与上述芳基任选具有的取代基相同的基团。
另外,作为聚有机硅氧烷(A)中的芳基所具有的一个以上取代基的其它例,可列举式(4)所示的基团。
[化学式4]
式(4)中的多个R′各自可以相同也可以不同。式(4)中的R′可列举:氢原子、卤原子、取代或无取代的烃基、羟基、烷氧基、烯氧基、芳氧基、芳烷氧基、酰氧基、巯基(硫羟基)、烷硫基、烯硫基、芳硫基、芳烷硫基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、芳烷氧基羰基、氨基或取代氨基(单或二烷基氨基、酰基氨基等)、环氧基、氰基、异氰酸基、氨基甲酰基、异硫氰酸基等。
在式(4)所示的基团中,作为各R′,分别优选为氢原子、C1-10烷基(特别是C1-4烷基)、C2-10烯基(特别是C2-4烯基)、C3-12环烷基、C3-12环烯基、芳环上任选具有C1-4烷基、C2-4烯基、卤原子、C1-4烷氧基等取代基的C6-14芳基、C7-18芳烷基、C6-10芳基-C2-6烯基、羟基、C1-6烷氧基、卤原子。
相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%)的芳基(苯基换算)的含量没有特殊限制,但优选为35重量%以上、更优选为40重量%以上、进一步优选为45重量%以上(例如,45~70重量%)。上述芳基的含量低于35重量%时,可能导致所得固化物对SOX等腐蚀性气体的阻隔性降低。另外,聚有机硅氧烷(A)的包含硅氧烷键(Si-O-Si)的主链的取代基可以全部为芳基,或者,也可以上述取代基的部分为芳基。需要说明的是,上述芳基的含量可以通过例如1H-NMR等进行测定。
聚有机硅氧烷(A)也可以具有芳基以外的取代基,上述芳基以外的取代基也可以是聚有机硅氧烷(A)中的硅原子上具有的取代基。作为上述芳基以外的取代基,可列举:氢原子、卤原子、具有Si-H键的基、取代或无取代的烃基(优选为烷基、烯基、环烷基、或环烯基)、羟基、烷氧基、烯氧基、酰氧基、巯基(硫羟基)、烷硫基、烯硫基、羧基、烷氧基羰基、氨基或取代氨基(单或二烷基氨基、酰基氨基等)、环氧基、氰基、异氰酸基、氨基甲酰基、异硫氰酸基等。
作为聚有机硅氧烷(A)中的上述芳基以外的取代基,特别优选为选自氢原子、具有Si-H键的基团(氢化甲硅烷基等)、取代或无取代的烃基(优选为烷基或烯基)中的至少1种以上的取代基。
聚有机硅氧烷(A)的数均分子量(Mn)没有特殊限定,但优选为500~4000、更优选为550~2800、进一步优选为600~1500、特别优选为1000以下。另外,重均分子量(Mw)没有特殊限定,但优选为500~20000、更优选为600~10000、进一步优选700~6500。数均分子量(Mn)和/或重均分子量(Mw)低于500时,可能导致所得固化物的耐热性降低。特别是,通过使数均分子量为1000以下,倾向于进一步提高固化物对腐蚀性气体的阻隔性。另一方面,数均分子量(Mn)超过4000、和/或重均分子量(Mw)超过20000时,可能导致聚有机硅氧烷(A)与其它成分的相容性降低、或者在组合使用2种以上聚有机硅氧烷(A)时聚有机硅氧烷相互之间的相容性降低。另外,聚有机硅氧烷(A)也可以是具有上述范围的各种数均分子量(Mn)和/或重均分子量(Mw)的聚有机硅氧烷的混合物。需要说明的是,上述数均分子量(Mn)和/或重均分子量(Mw)例如可通过凝胶渗透色谱法、作为聚苯乙烯换算的分子量而算出。
根据聚有机硅氧烷(A)的重均分子量(Mw)和数均分子量(Mn)计算出的分子量分散度(Mw/Mn)没有特殊限定,但优选为0.95~4.00、更优选为1.00~3.80、进一步优选1.20~3.50。上述分子量分散度(Mw/Mn)超过4.00时(特别是超过3.50时),可能导致所得固化物的耐热性、对SOX等腐蚀性气体的阻隔性降低。
本发明的固化性树脂组合物中,聚有机硅氧烷(A)可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。
本发明的固化性树脂组合物中的聚有机硅氧烷(A)的含量(配合量)没有特殊限定,但相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),优选为55~99.5重量%、更优选为70~99.0重量%、进一步优选85~98.5重量%。含量低于55重量%时,可能导致所得固化物的耐裂纹性降低。另一方面,含量超过99.5重量%时,可能导致所得固化物对SOX等腐蚀性气体的阻隔性降低。
聚有机硅氧烷(A)中,特别优选使用作为主链除了具有-Si-O-基(硅氧基)以外还进一步具有-Si-A-基[硅亚烷基;A表示亚烷基]的聚有机硅氧烷(将该聚有机硅氧烷称为“聚有机硅氧基硅亚烷基”)。作为上述聚有机硅氧基硅亚烷基所具有的硅亚烷基中的亚烷基(上述A),可列举例如碳原子数1~12的直链或支链状的亚烷基,优选为碳原子数2~4的直链或支链状的亚烷基(特别是亚乙基)。与狭义的聚有机硅氧烷(主链仅由-Si-O-基构成的聚有机硅氧烷)相比,上述聚有机硅氧基硅亚烷基在制造工序上不易生成低分子量的环,并且不易因加热等而分解生成硅烷醇基(-SiOH),因此存在下述倾向:使用聚有机硅氧基硅亚烷基而得到的固化物的表面粘附性低,更加不易发生黄变。上述聚有机硅氧基硅亚烷基可利用例如日本特开2012-140617号公报中记载的方法制造。另外,作为包含上述聚有机硅氧基硅亚烷基(具有芳基的聚有机硅氧基硅亚烷基)的制品,例如可以获取商品名为“GD-1130A”、“GD-1130B”(均由长兴化学工业制造)等的商品。
作为上述聚有机硅氧基硅亚烷基,更具体地,可列举例如具有下述式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基。
[化学式5]
上述式(I)中,Ra、Rb、Rc、Rd、Re及Rf(Ra~Rf)分别表示氢原子、一价烃基、或一价杂环式基团。Ra~Rf中的一个以上可以为氢原子或包含脂肪族碳-碳不饱和键的一价基团。具有上述式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基是分子内具有芳基的聚有机硅氧基硅亚烷基,因此优选例如Ra~Rf的部分或全部为芳基(特别是苯基)。
作为上述一价烃基,可列举例如:一价脂肪族烃基;一价脂环式烃基;一价芳香族烃基;由脂肪族烃基、脂环式烃基及芳香族烃基中的2个以上键合而成的一价基团等。作为上述一价杂环式基团,可列举例如:吡啶基、呋喃基、噻吩基等。
作为上述一价脂肪族烃基,可列举例如:烷基、烯基、炔基等。作为上述烷基,可列举例如:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、己基、辛基、异辛基、癸基、十二烷基等直链或支链状的C1-20烷基(优选为C1-10烷基、更优选为C1-4烷基)等。作为上述烯基,可列举例如:乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、5-己烯基等C2-20烯基(优选为C2-10烯基、进一步优选为C2-4烯基)等。作为上述炔基,可列举例如:乙炔基、丙炔基等C2-20炔基(优选为C2-10炔基、进一步优选为C2-4炔基)等。
作为上述一价脂环式烃基,可列举例如:环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环十二烷基等C3-12的环烷基;环己烯基等C3-12的环烯基;二环庚烷基、二环庚烯基等C4-15的桥环式烃基等。
作为上述一价芳香族烃基,可列举例如:苯基、萘基、蒽基等C6-14芳基(特别是C6-10芳基)等。
另外,作为由脂肪族烃基和脂环式烃基键合而成的基团,可列举例如环己基甲基、甲基环己基等。作为由脂肪族烃基和芳香族烃基键合而成的基团,可列举:苄基、苯乙基等C7-18芳烷基(特别是C7-10芳烷基)、肉桂基等C6-10芳基-C2-6烯基、甲苯基等C1-4烷基取代芳基、苯乙烯基等C2-4烯基取代芳基等。
上述一价烃基也可以具有取代基。即,上述一价烃基也可以是上述列举的一价烃基中的至少1个氢原子置换为取代基而成的一价烃基。上述取代基的碳原子数优选为0~20、更优选为0~10。作为上述取代基,具体可列举例如:卤原子;羟基;烷氧基;烯氧基;芳氧基;芳烷氧基;酰氧基;巯基;烷硫基;烯硫基;芳硫基;芳烷硫基;羧基;烷氧基羰基;芳氧基羰基;芳烷氧基羰基;氨基;单或二烷基氨基;单或二苯基氨基;酰基氨基;含有环氧基的基团;含有氧杂环丁基的基团;酰基;氧代基;异氰酸酯基;这些中的2个以上根据需要经由C1-6亚烷基键合而成的基团等。
作为上述烷氧基,可列举例如:甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基等C1-6烷氧基(优选为C1-4烷氧基)等。作为上述烯氧基,可列举例如:烯丙氧基等C2-6烯氧基(优选为C2-4烯氧基)等。作为上述芳氧基,可列举例如:苯氧基、甲苯氧基、萘氧基等芳环上任选具有C1-4烷基、C2-4烯基、卤原子、C1-4烷氧基等取代基的C6-14芳氧基等。作为上述芳烷氧基,可列举例如:苄氧基、苯乙氧基等C7-18芳烷氧基等。作为上述酰氧基,可列举例如:乙酰氧基、丙酰氧基、(甲基)丙烯酰氧基、苯甲酰氧基等C1-12酰氧基等。
作为上述烷硫基,可列举例如:甲硫基、乙硫基等C1-6烷硫基(优选为C1-4烷硫基)等。作为上述烯硫基,可列举例如:烯丙硫基等C2-6烯硫基(优选为C2-4烯硫基)等。作为上述芳硫基,可列举例如:苯硫基、甲苯硫基、萘硫基等芳环上任选具有C1-4烷基、C2-4烯基、卤原子、C1-4烷氧基等取代基的C6-14芳硫基等。作为上述芳烷硫基,可列举例如:苄硫基、苯乙硫基等C7-18芳烷硫基等。作为上述烷氧基羰基,可列举例如:甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基等C1-6烷氧基-羰基等。作为上述芳氧基羰基,可列举例如:苯氧基羰基、甲苯氧基羰基、萘氧基羰基等C6-14芳氧基-羰基等。作为上述芳烷氧基羰基,可列举例如:苄氧基羰基等C7-18芳烷氧基-羰基等。作为上述单或二烷基氨基,可列举甲基氨基、乙基氨基、二甲基氨基、二乙基氨基等单或二-C1-6烷基氨基等。作为上述酰基氨基,可列举例如:乙酰基氨基、丙酰基氨基、苯甲酰基氨基等C1-11酰基氨基等。作为上述含有环氧基的基团,可列举例如:缩水甘油基、缩水甘油基氧基、3,4-环氧环己基等。作为上述含有氧杂环丁基的基团,可列举例如:乙基氧杂环丁氧基等。作为上述酰基,可列举例如:乙酰基、丙酰基、苯甲酰基等。作为上述卤原子,可列举:氯原子、溴原子、碘原子等。
上述一价杂环式基团也可以具有取代基。作为上述取代基,可列举与上述一价烃基可以具有的取代基同样的基团。
作为上述一价烃基、一价杂环式基团,更具体而言,可列举例如:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、己基、辛基、癸基、苯基、萘基、蒽基、苄基、苯乙基、吡啶基、呋喃基、噻吩基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基(例如,对苯乙烯基)、具有取代基的烃基(例如,2-(3,4-环氧环己基)乙基、3-缩水甘油基丙基、3-甲基丙烯酰氧基丙基、3-丙烯酰氧基丙基、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基、3-氨基丙基、N-苯基-3-氨基丙基、3-巯基丙基、3-异氰酸酯基丙基等)等。
上述式(I)中的Ra~Rf各自可以相同,也可以不同。
上述式(I)中,Rg代表二价烃基。作为上述二价烃基,可列举例如:直链或支链状的亚烷基(例如,-[CH2]t-所示的基团等:t表示1以上的整数)、二价脂环式烃基等。作为直链或支链状的亚烷基,可列举例如:亚甲基、甲基亚甲基、二甲基亚甲基、亚乙基、亚丙基、三亚甲基等碳原子数1~18的直链或支链状的亚烷基等。作为二价脂环式烃基,可列举例如:1,2-亚环戊基、1,3-亚环戊基、环戊叉、1,2-亚环己基、1,3-亚环己基、1,4-亚环己基、环己叉等二价亚环烷基(包含环烷叉)等。其中,作为Rg,优选直链或支链状的亚烷基。
上述式(I)中,s1表示1以上的整数。需要说明的是,s1为2以上的整数的情况下,附有s1的括号内的结构分别可以相同,也可以不同。作为附有s1的括号内的结构,具有两种以上的情况下,各结构彼此的加成形态没有特殊限定,可以为无规型,也可以为嵌段型。
上述式(I)中,s2表示1以上的整数。需要说明的是,s2为2以上的整数的情况下,附有s2的括号内的结构分别可以相同,也可以不同。作为附有s2的括号内的结构,具有两种以上的情况下,各结构彼此的加成形态没有特殊限定,可以为无规型,也可以为嵌段型。
另外,上述式(I)中,附有s1的括号内的结构和附有s2的括号内的结构的加成形态也没有特殊限定,可以为无规型,也可以为嵌段型。
上述聚有机硅氧基硅亚烷基的末端结构没有特殊限定,可列举例如:硅烷醇基、烷氧基甲硅烷基、三烷基甲硅烷基(例如,三甲基甲硅烷基)等。也可以在上述聚有机硅氧基硅亚烷基的末端导入包含脂肪族碳-碳双键的基团、氢化甲硅烷基等各种基团。
需要说明的是,具有上述式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基如上所述,可以是具有直链、支链中的任意链状结构的聚合物。
相对于本发明的固化性树脂组合物中的聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%)的聚有机硅氧基硅亚烷基的比例没有特殊限定,但优选为60重量%以上(例如,60~100重量%)、更优选为80重量%以上(例如,80~99.5重量%)、进一步优选为90重量%以上。聚有机硅氧基硅亚烷基的比例低于60重量%时,存在下述倾向:固化物易发生黄变,或表面容易具有粘附性,导致操作性降低。
[具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧烷(A1)]
本发明的固化性树脂组合物中,作为聚有机硅氧烷(A),也可以包含具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧烷(A1)(以下也简称为“聚有机硅氧烷(A1)”)。上述脂肪族碳-碳双键也可以由聚有机硅氧烷(A1)中的取代基(例如,硅原子上具有的取代基)所具有。另外,上述脂肪族碳-碳双键还可以存在于聚有机硅氧烷(A1)的由包含硅氧烷键(Si-O-Si)的主链(直链和/或支链)的末端。
作为上述包含脂肪族碳-碳双键的基团,可列举例如:乙烯基、烯丙基、甲基烯丙基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、5-己烯基等C2-20烯基(优选为C2-10烯基、进一步优选为C2-4烯基);环己烯基等C3-12的环烯基;二环庚烯基等C4-15桥环式不饱和烃基;苯乙烯基等C2-4烯基取代芳基;肉桂基等。需要说明的是,上述包含脂肪族碳-碳双键的基团也包括式(4)所示基团中的3个R′中的至少1个为上述C2-20烯基、C3-12的环烯基、C4-15的桥环式不饱和烃基、C2-4烯基取代芳基、肉桂基等基团的基团。其中,优选为烯基、更优选为C2-20烯基、进一步优选为乙烯基。
本发明的固化性树脂组合物中,作为聚有机硅氧烷(A1),优选包含分子内具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧基硅亚烷基。作为上述聚有机硅氧基硅亚烷基,可列举例如:末端和/或侧链具有包含脂肪族碳-碳双键的基团的聚有机硅氧基硅亚烷基,更具体而言,是末端和/或侧链具有包含脂肪族碳-碳双键的基团、并且包含式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基;Ra~Rf中的1个以上为包含脂肪族碳-碳双键的一价基团且包含式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基等。
相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%)的上述脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)没有特殊限定,但优选为1.5~15.0重量%、更优选为2.0~13.0重量%、进一步优选3.0~12.0重量%。通过在上述范围内具有上述脂肪族碳-碳双键,存在容易获得耐热性等各种物性、耐裂纹性、对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物的倾向。需要说明的是,上述脂肪族碳-碳双键的含量可通过例如1H-NMR等进行测定。
另外,本发明的固化性树脂组合物中,作为聚有机硅氧烷(A1),优选包含脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上(例如,10.0~20.0重量%)的聚有机硅氧烷(A1)作为必要成分。通过包含这样的聚有机硅氧烷(A1)作为必要成分,存在可显著提高固化物对腐蚀性气体的阻隔性、且能够更长期地发挥出这样优异的阻隔性的倾向。
另外,上述的脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1)的重均分子量优选为2000以下(例如,500~2000)、更优选为1600以下;其数均分子量优选为1000以下(例如,400~1000)、更优选为900以下。通过使用重均分子量为2000以下和/或数均分子量为1000以下、且脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1),存在可显著提高固化物对腐蚀性气体的阻隔性、且能够更长期地发挥出这样优异的阻隔性的倾向。
此外,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),上述脂肪族碳-碳双键的含量(乙烯基换算)为10.0重量%以上的聚有机硅氧烷(A1)(特别是重均分子量为2000以下和/或数均分子量为1000以下的聚有机硅氧烷)的比例优选为1~10重量%、更优选为2~8重量%。通过将比例控制为上述范围,存在容易获得兼顾对腐蚀性气体的阻隔性和强度的固化物的倾向。
[具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)]
本发明的固化性树脂组合物中,作为聚有机硅氧烷(A),也可以包含具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)(以下也简称为“聚有机硅氧烷(A2)”)。上述Si-H键由聚有机硅氧烷(A2)中的取代基(例如,硅原子上具有的取代基)所具有。另外,上述Si-H键还可以存在于聚有机硅氧烷(A2)的包含硅氧烷键(Si-O-Si)的主链(直链和/或支链)的末端。
作为上述具有Si-H键的基团,没有特殊限制,可列举例如:式(4)所示基团中的3个R′中的至少1个为氢原子的基团等。
本发明的固化性树脂组合物中,作为聚有机硅氧烷(A2),优选包含分子内具有氢化甲硅烷基(Si-H键)的聚有机硅氧基硅亚烷基。作为上述聚有机硅氧基硅亚烷基,可列举例如:末端和/或侧链具有与硅原子键合的氢原子(氢化物)的聚有机硅氧基硅亚烷基,更具体而言,是末端和/或侧链具有与硅原子键合的氢原子、并且包含式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基;Ra~Rf中的1个以上为氢原子且包含式(I)所示结构的聚有机硅氧基硅亚烷基等。
相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%)的上述Si-H键的含量没有特殊限定,但优选以氢原子或Si-H键中的H(氢化物)的重量换算(H换算),为0.01~0.50重量%、更优选为0.05~0.30重量%、进一步优选0.08~0.20重量%。通过在上述范围内具有上述Si-H键,存在容易获得耐热性等各种物性、耐裂纹性、对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物的倾向。需要说明的是,上述Si-H键的含量可通过例如1H-NMR等进行测定。
相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%)的聚有机硅氧烷(A2)的含量没有特殊限定,但优选为50重量%以上(例如,50~98重量%)、更优选为80重量%以上、进一步优选为95重量%以上。通过在上述范围内含有聚有机硅氧烷(A2),存在容易获得耐热性等各种物性、耐裂纹性、对腐蚀性气体的阻隔性优异的固化物的倾向。
需要说明的是,聚有机硅氧烷(A1)也可以同时是具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2),另外,聚有机硅氧烷(A2)也可以同时是具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧烷(A1)。
另外,聚有机硅氧烷(A)可以仅由聚有机硅氧烷(A1)或聚有机硅氧烷(A2)中的一者构成,另外,聚有机硅氧烷(A)也可以包含相互不同的2种以上聚有机硅氧烷(A1)和/或聚有机硅氧烷(A2)。
另外,在聚有机硅氧烷(A)包含相互不同的2种以上聚有机硅氧烷、且上述2种以上聚有机硅氧烷中的至少1种为聚有机硅氧烷(A2)的情况下,优选除聚有机硅氧烷(A2)以外的其余聚有机硅氧烷是不具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A1)。
[异氰脲酸酯化合物(B)]
本发明的固化性树脂组合物包含异氰脲酸酯化合物(B)。通过使本发明的固化性树脂组合物包含异氰脲酸酯化合物(B),特别地,通过固化而形成的固化物对腐蚀性气体的阻隔性提高,并且相对于被粘物的密合性提高。特别是,作为异氰脲酸酯化合物(B),优选包含上述式(1)所示的异氰脲酸酯化合物。
式(1)中,Rx、Ry、Rz相同或不同,表示式(2)所示的基团或式(3)所示的基团。其中,优选式(1)中的Rx、Ry、Rz中的任意一个以上(优选为1个或2个、更优选为1个)为式(3)所示的基团。特别是,从固化物对腐蚀性气体的阻隔性的观点出发,式(1)所示的异氰脲酸酯化合物优选具有式(2)所示的基团及式(3)所示的基团这两者作为Rx、Ry及Rz,优选为Rx、Ry及Rz中的2个为式(2)所示的基团、且Rx、Ry及Rz中的1个为式(3)所示的基团的化合物。
式(2)及式(3)中,R1、R2相同或不同,表示氢原子或碳原子数1~8的直链或支链状的烷基。作为碳原子数1~8的直链或支链状的烷基,可列举例如:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、戊基、己基、庚基、辛基、乙基己基等。上述烷基中,优选甲基、乙基、丙基、异丙基等碳原子数1~3的直链或支链状的烷基。式(2)及式(3)中的R1、R2分别特别优选为氢原子。
作为异氰脲酸酯化合物(B),没有特殊限制,可列举例如:异氰脲酸单烯丙基二甲基酯、异氰脲酸二烯丙基单甲基酯、异氰脲酸三烯丙酯、异氰脲酸单烯丙基二缩水甘油基酯、异氰脲酸二烯丙基单缩水甘油基酯、异氰脲酸三缩水甘油酯、异氰脲酸1-烯丙基-3,5-双(2-甲基环氧基丙基)酯、异氰脲酸1-(2-甲基丙烯基)-3,5-二缩水甘油基酯、异氰脲酸1-(2-甲基丙烯基)-3,5-双(2-甲基环氧基丙基)酯、异氰脲酸1,3-二烯丙基-5-(2-甲基环氧基丙基)酯、异氰脲酸1,3-双(2-甲基丙烯基)-5-缩水甘油基酯、异氰脲酸1,3-双(2-甲基丙烯基)-5-(2-甲基环氧基丙基)酯、三(2-甲基丙烯基)异氰脲酸酯等。需要说明的是,异氰脲酸酯化合物(B)分别可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。
从提高与其它成分的相容性的观点出发,如后所述,可以在预先将异氰脲酸酯化合物(B)与硅烷偶联剂(C)混合之后再与其它成分配合。
异氰脲酸酯化合物(B)的含量没有特殊限定,但相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%),优选为0.01~10重量%、更优选0.05~5重量%、进一步优选0.1~3重量%、特别优选超过0.5重量%。异氰脲酸酯化合物(B)的含量低于0.01重量%时,可能导致固化物对腐蚀性气体的阻隔性、相对于被粘物的密合性降低。特别是,在异氰脲酸酯化合物(B)的含量超过0.5重量%的情况下(例如,在含量超过0.5重量%且为10重量%以下的情况下),存在可显著提高固化物对腐蚀性气体的阻隔性、且能够更长期地发挥出这样优异的阻隔性的倾向。另一方面,异氰脲酸酯化合物(B)的含量超过10重量%时,可能导致在固化性树脂组合物中有固体析出、或固化物发生白浊。
[硅烷偶联剂(C)]
本发明的固化性树脂组合物包含硅烷偶联剂(C)。通过使本发明的固化性树脂组合物包含硅烷偶联剂(C),通过固化而形成的固化物对腐蚀性气体的阻隔性提高,特别是相对于被粘物的密合性提高。
由于硅烷偶联剂(C)与聚有机硅氧烷(A)及异氰脲酸酯化合物(B)等的相容性良好,因此,例如为了提高异氰脲酸酯化合物(B)相对于其它成分的相容性,在预先形成异氰脲酸酯化合物(B)与硅烷偶联剂(C)的组合物的基础上再与其它成分配合时,容易获得均一的固化性树脂组合物。
作为硅烷偶联剂(C),可使用公知或惯用的硅烷偶联剂,没有特殊限制,可列举例如:3-缩水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油基氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油基氧基丙基三乙氧基硅烷等含环氧基硅烷偶联剂;N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3-二甲基-丁叉)丙基胺、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(乙烯基苄基)-2-氨基乙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷的盐酸盐、N-(β-氨基乙基)-γ-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷等含氨基硅烷偶联剂;四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三(甲氧基乙氧基硅烷)、苯基三甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-(甲基)丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、巯基亚丙基三甲氧基硅烷、巯基亚丙基三乙氧基硅烷等。其中,可优选使用含环氧基硅烷偶联剂(特别是3-缩水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷)。需要说明的是,硅烷偶联剂(C)可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。
硅烷偶联剂(C)的含量没有特殊限定,但优选相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%)为0.01~15重量%、更优选为0.1~10重量%、进一步优选为0.5~5重量%、特别优选超过2.0重量%。硅烷偶联剂(C)的含量低于0.01重量%时,可能导致相对于被粘物的密合性降低,特别是在与异氰脲酸酯化合物(B)相容使用时,可能无法获得充分的效果(对腐蚀性气体的阻隔性)。特别是,在硅烷偶联剂(C)的含量超过2.0重量%的情况下(例如,在含量超过2.0重量%且为15重量%以下的情况下),存在可显著提高固化物对腐蚀性气体的阻隔性、且能够更长期地发挥出这样优异的阻隔性的倾向。另一方面,硅烷偶联剂(C)的含量超过15重量%时,可能导致固化不充分、固化物的韧性、耐热性、对腐蚀性气体的阻隔性降低。
[硅氢化催化剂]
本发明的固化性树脂组合物也可以进一步包含硅氢化催化剂。通过使本发明的固化性树脂组合物包含硅氢化催化剂,可使固化反应(硅氢化反应)有效地进行。作为上述硅氢化催化剂,可列举:铂系催化剂、铑系催化剂、钯系催化剂等周知的硅氢化反应用催化剂。具体可列举:铂微粉、铂黑、负载有铂的二氧化硅微粉、负载有铂的活性炭、氯铂酸、氯铂酸与醇、醛、酮等的络合物、铂的烯烃络合物、铂-羰基乙烯基甲基络合物等铂的羰基络合物、铂-二乙烯基四甲基二硅氧烷络合物、铂-环乙烯基甲基硅氧烷络合物等铂乙烯基甲基硅氧烷络合物、铂-膦络合物、铂-亚磷酸酯络合物等铂系催化剂、以及上述铂系催化剂中代替铂原子而含有钯原子或铑原子的钯系催化剂或铑系催化剂。需要说明的是,上述硅氢化催化剂可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。
本发明的固化性树脂组合物中的上述硅氢化催化剂的含量没有特殊限制,但优选为例如使硅氢化催化剂中的铂、钯、或铑以重量单位计在0.01~1,000ppm范围内的量、进一步优选为使硅氢化催化剂中的铂、钯、或铑以重量单位计在0.1~500ppm范围内的量。硅氢化催化剂的含量在这样的范围内时,不会导致交联速度显著减慢,发生固化物着色等问题的隐患少,因此优选。
[硅氢化反应抑制剂]
为了调整固化反应(硅氢化反应)的速度,本发明的固化性树脂组合物也可以含有硅氢化反应抑制剂。作为上述硅氢化反应抑制剂,可列举例如:3-甲基-1-丁炔-3-醇、3,5-二甲基-1-己炔-3-醇、苯基丁炔醇等炔烃醇;3-甲基-3-戊烯-1-炔、3,5-二甲基-3-己烯-1-炔等烯炔化合物;噻唑、苯并噻唑、苯并三唑等。上述硅氢化反应抑制剂可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。作为上述硅氢化反应抑制剂的含量,因固化性树脂组合物的交联条件而异,但在实用中,作为固化性树脂组合物中的含量,优选在0.00001~5重量%的范围内。
[倍半硅氧烷]
本发明的固化性树脂组合物也可以进一步包含倍半硅氧烷。上述倍半硅氧烷没有特殊限定,可列举具有无规结构、笼形结构、梯形结构的倍半硅氧烷,优选为以具有梯形结构的倍半硅氧烷为主成分的倍半硅氧烷。
倍半硅氧烷是聚硅氧烷的一种。聚硅氧烷通常是具有包含硅氧烷键(Si-O-Si)的主链的化合物,作为其基本结构单元,可列举:M单元(包含由硅原子与1个氧原子键合而成的1价基团的单元)、D单元(包含由硅原子与2个氧原子键合而成的2价基团的单元)、T单元(包含由硅原子与3个氧原子键合而成的3价基团的单元)、Q单元(包含由硅原子与4个氧原子键合而成的4价基团的单元)。倍半硅氧烷是以上述T单元为基本结构单元的聚硅氧烷,其实验式(基本结构式)以RSiO1.5表示。作为倍半硅氧烷的Si-O-Si骨架的结构,可列举无规结构、笼形结构、梯形结构,梯形倍半硅氧烷是具有梯形结构的Si-O-Si骨架结构的倍半硅氧烷。
上述倍半硅氧烷也可以在分子内(一分子中)具有2个以上的脂肪族碳-碳双键。另外,上述倍半硅氧烷还可以在分子内(一分子中)具有2个以上的具有Si-H键的基团。此外,上述倍半硅氧烷没有特殊限定,但优选在室温下为液态。上述倍半硅氧烷可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。
本发明的固化性树脂组合物包含倍半硅氧烷的情况下,特别地,存在通过固化而形成的固化物对腐蚀性气体的阻隔性提高、并且强韧性(特别是耐裂纹性)提高的倾向。本发明的固化性树脂组合物中的倍半硅氧烷的含量(配合量)没有特殊限定,但优选相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%)为0.01~30重量%、更优选为0.1~20重量%、进一步优选0.5~10重量%。
[其它硅氧烷化合物]
本发明的固化性树脂组合物中,作为其它硅氧烷化合物,还可以进一步包含分子内(一分子中)具有2个以上脂肪族碳-碳双键的环状硅氧烷。另外,本发明的固化性树脂组合物中,作为其它硅氧烷化合物,也可以进一步包含分子内(一分子中)具有2个以上具有Si-H键的基团的环状硅氧烷。上述环状硅氧烷可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。本发明的固化性树脂组合物中的环状硅氧烷的含量(配合量)没有特殊限定,但优选相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%)为0.01~30重量%、更优选0.1~20重量%、进一步优选0.5~10重量%。
[其它硅烷化合物]
本发明的固化性树脂组合物中也可以包含其它硅烷化合物(例如,具有氢化甲硅烷基的化合物)。作为上述其它硅烷化合物,可列举例如:甲基三(二甲基硅氧基)硅烷、四(二甲基硅氧基)硅烷、1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、1,1,3,3,5,5-六甲基三硅氧烷、1,1,1,3,5,5,5-七甲基三硅氧烷、1,1,3,3,5,5,7,7-八甲基四硅氧烷、1,1,1,3,5,5,7,7,7-九甲基四硅氧烷、1,1,3,3,5,5,7,7,9,9-十甲基五硅氧烷、1,1,1,3,5,5,7,7,9,9,9-十一甲基五硅氧烷等具有Si-H基的直链或支链状硅氧烷等。需要说明的是,上述硅烷化合物可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。上述硅烷化合物的含量没有特殊限定,但优选相对于固化性树脂组合物的总量(100重量%)为0~5重量%以下、更优选0~1.5重量%。
[溶剂]
本发明的固化性树脂组合物中也可以含有溶剂。作为上述溶剂,可列举例如:甲苯、己烷、异丙醇、甲基异丁基酮、环戊酮、丙二醇单甲基醚乙酸酯等现有公知的溶剂。上述溶剂可以单独使用1种,或者将2种以上组合使用。
[添加剂]
本发明的固化性树脂组合物中,作为其它任意成分,也可以包含沉降二氧化硅、湿式二氧化硅、气相二氧化硅、烧制二氧化硅、氧化钛、氧化铝、玻璃、石英、铝硅酸、氧化鉄、氧化锌、碳酸钙、炭黑、碳化硅、氮化硅、氮化硼等无机填充剂、将这些填充剂利用有机卤代硅烷、有机烷氧基硅烷、有机硅氮烷等有机硅化合物进行处理而得到的无机填充剂;有机硅树脂、环氧树脂、氟树脂等有机树脂微粉;银、铜等导电性金属粉末等填充剂、稳定剂(抗氧化剂、紫外线吸收剂、耐光稳定剂、热稳定剂等)、阻燃剂(磷系阻燃剂、卤素系阻燃剂、无机系阻燃剂等)、阻燃助剂、补强材料(其它填充剂等)、成核剂、偶联剂、润滑剂、蜡、增塑剂、脱模剂、耐冲击改良剂、色相改良剂、流动性改良剂、着色剂(染料、颜料等)、分散剂、消泡剂、脱泡剂、抗菌剂、防腐剂、粘度调节剂、增粘剂等惯用的添加剂。这些添加剂可以单独使用、或将2种以上组合使用。
[固化性树脂组合物]
本发明的固化性树脂组合物没有特殊限定,但优选其组成(配合组成)使得相对于固化性树脂组合物中存在的氢化甲硅烷基1摩尔,脂肪族碳-碳双键为0.2~4摩尔、更优选为0.5~1.5摩尔、进一步优选为0.8~1.2摩尔。通过将氢化甲硅烷基与脂肪族碳-碳双键的比例控制在上述范围,固化物的耐热性、透明性、柔软性、耐回流焊性、及对腐蚀性气体的阻隔性存在进一步提高的倾向。
本发明的固化性树脂组合物没有特殊限定,但可以通过将上述各成分在室温下进行搅拌、混合来制备。需要说明的是,就本发明的固化性树脂组合物而言,可以以直接使用由各成分预先混合而成的混合物的单组分体系的组合物的形式使用,也可以以例如将各自预先保存的2种以上成分在使用之前以给定比例混合使用的多组分体系(例如,双组分体系)的组合物的形式使用。
本发明的固化性树脂组合物没有特殊限定,但优选在常温(约25℃)下为液体。更具体而言,作为本发明的固化性树脂组合物的23℃的粘度,优选为300~20000mPa·s、更优选为500~10000mPa·s、进一步优选为1000~8000mPa·s。粘度低于300mPa·s时,可能导致固化物的耐热性降低。另一方面,粘度超过20000mPa·s时,可能导致固化性树脂组合物的制备、处理变得困难,固化物易残存气泡。需要说明的是,23℃的粘度例如可使用流变仪(商品名“PhysicaUDS-200”、AntonPaar公司制)和锥板(圆锥直径:16mm、锥角=0°)、在温度:23℃、转速:20rpm的条件下进行测定。
[固化物]
通过利用固化反应(硅氢化反应)使本发明的固化性树脂组合物固化,可得到固化物(以下也称为“本发明的固化物”)。固化反应时的条件没有特殊限定,可以从传统公知的条件中适当选择,但从例如反应速度的观点出发,温度(固化温度)优选为25~180℃(更优选为60℃~150℃)、时间(固化时间)优选为5~720分钟。本发明的固化物的耐热性、透明性、柔软性等各种物性优异,并且回流焊工序中的耐裂纹性、对封装件的密合性等耐回流焊性优异,对SOX气体等腐蚀性气体的阻隔性也优异。
[密封剂、密封材料]
本发明的密封剂是含有本发明的固化性树脂组合物作为必要成分的密封剂。通过使本发明的密封剂固化而得到的本发明的密封材料(固化物),其耐热性、透明性、柔软性等各种物性优异,并且耐回流焊性、对腐蚀性气体的阻隔性优异。因此,本发明的密封材料可优选作为半导体装置中的半导体元件的密封材料、特别是光半导体装置中的光半导体元件(特别是高亮度、短波长的光半导体元件)的密封材料等使用。通过使用本发明的密封材料对半导体元件(特别是光半导体元件)进行密封,可得到耐久性及品质优异的半导体装置(特别是光半导体装置)。
实施例
以下,结合实施例对本发明进行更为详细的说明,但本发明并不限定于这些实施例。
制品的1H-NMR分析可利用JEOL ECA500(500MHz)进行。另外,制品的数均分子量及重均分子量的测定可利用Alliance HPLC系统2695(Waters制)、Refractive IndexDetector 2414(Waters制)、色谱柱:Tskgel GMHHR-M×2(东曹(株)制)、保护柱:Tskgelguard column HHRL(东曹(株)制)、柱温箱:COLUMN HEATER U-620(Sugai制)、溶剂:THF、测定条件:40℃来进行。
[聚有机硅氧烷(A)]
作为聚有机硅氧烷(A),使用了以下制品。
OE-6665A:Toray Dow Corning(株)制、乙烯基含量11.97重量%、苯基含量21.39重量%、SiH基含量(氢化物换算)0重量%、数均分子量831、重均分子量1455
OE-6665B:Toray Dow Corning(株)制、乙烯基含量3.76重量%、苯基含量48.58重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.16重量%、数均分子量744、重均分子量1274
GD-1130A:长兴化学工业制、乙烯基含量4.32重量%、苯基含量44.18重量%、SiH基含量(氢化物换算)0重量%、数均分子量1107、重均分子量6099
GD-1130B:长兴化学工业制、乙烯基含量3.45重量%、苯基含量50.96重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.17重量%、数均分子量631、重均分子量1305
ASP-1120A:信越化学工业(株)制、乙烯基含量5.94重量%、苯基含量64.61重量%、SiH基含量(氢化物换算)0重量%、数均分子量590、重均分子量780
ASP-1120B:信越化学工业(株)制、乙烯基含量3.31重量%、苯基含量49.08重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.30重量%、数均分子量680、重均分子量1320
OE-6630A:Toray Dow Corning(株)制、乙烯基含量2.17重量%、苯基含量51.94重量%、SiH基含量(氢化物换算)0重量%、数均分子量2532、重均分子量4490
OE-6630B:Toray Dow Corning(株)制、乙烯基含量3.87重量%、苯基含量50.11重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.17重量%、数均分子量783、重均分子量1330
KER-2500A:信越化学工业(株)制、乙烯基含量1.53重量%、苯基含量0重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.03重量%、数均分子量4453、重均分子量19355
KER-2500B:信越化学工业(株)制、乙烯基含量1.08重量%、苯基含量0重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.13重量%、数均分子量4636、重均分子量18814
GD-1012A:长兴化学工业制、乙烯基含量1.33重量%、苯基含量0重量%、SiH基含量(氢化物换算)0重量%、数均分子量5108、重均分子量23385
GD-1012B:长兴化学工业制、乙烯基含量1.65重量%、苯基含量0重量%、SiH基含量(氢化物换算)0.19重量%、数均分子量4563、重均分子量21873
<实施例及比较例>
按照下述顺序实施了实施例1~5及比较例1~10。
按照表1及表2将异氰脲酸酯化合物(B)及硅烷偶联剂(C)以给定重量比率(表1及表2中各成分的配合量的单位为重量份)进行混合之后,混合聚有机硅氧烷(A),于室温搅拌2小时后,得到了透明溶液。向该溶液中进料2.0%铂-环乙烯基硅氧烷络合物的乙烯基环硅氧烷溶液(和光纯药工业(株)制)1.3μl,然后搅拌30分钟,得到了固化性树脂组合物。
将上述得到的固化性树脂组合物涂布于玻璃板,按照表3及表4中记载的固化条件、于给定温度加热给定时间后,在任意实施例及比较例中均得到了无色透明的固化物。
需要说明的是,表1及表2中的“Mw/Mn”一栏中示出了各实施例及比较例中使用的聚有机硅氧烷(A)的重均分子量(Mw)的平均值、数均分子量(Mn)的平均值、以及它们的比率(重均分子量(Mw)的平均值/数均分子量(Mn)的平均值)。
[表1]
[表2]
[硫腐蚀性试验]
向LED封装件(TOP LED OP-3、35mm×28mm、无元件)中注入实施例1~5、比较例1~10中得到的固化性树脂组合物,按照表3及表4所示的固化条件、于给定温度加热给定时间,制作了试样。
将上述试样和硫粉末(Kishida Chemical(株)制)0.3g加入到450ml的玻璃瓶中,进一步将上述玻璃瓶加入到铝制容器中。其后,将上述铝制容器置于烘箱(YamatoScientific(株)制、型号“DN-64”),将烘箱温度设定为80℃,然后,在24小时后、48小时后、72小时后,观察上述试样的LED封装件中银制电极的腐蚀情况。上述电极的颜色在试验前为银白色,但随着腐蚀的进行,变为茶色、进一步变为黑色。
关于硫腐蚀性试验的评价基准,将银制电极基本未观察到变色的情况评价为“A”、将略微观察到向茶色或黑色变色的情况评价为“B”、将完全变色为茶色或黑色的情况评价为“C”。结果如表3及表4所示。
[表面粘附性试验]
对实施例1~5、比较例1~10中得到的固化物的表面粘附性进行了评价。关于该表面粘附性试验的评价基准,将固化物的表面基本未发现粘附性的情况评价为“A”、将发现了粘附性的情况评价为“B”。结果如表3及表4所示。
[表3]
[表4]
如表3及表4所示,相比于比较例1~10中得到的固化物,实施例1~5中得到的固化物(密封材料)对腐蚀性气体的阻隔性更为优异。特别是,将聚有机硅氧烷(A)的组成相同的实施例与比较例(实施例1与比较例1、实施例2~3与比较例2~4、实施例4与比较例5、及实施例5与比较例6)相比较的情况下,特别是在48小时后及72小时后,实施例对于腐蚀性气体的阻隔性明显优于比较例。另外,如表3所示,可以确认,在使用聚有机硅氧基硅亚烷基作为聚有机硅氧烷(A)的情况下(实施例2、3),得到了基本未发现表面粘附性的操作性优异的固化物。
工业实用性
本发明的固化性树脂组合物及固化物特别是在要求耐热性、透明性、对腐蚀性气体的阻隔性的粘接剂、涂覆剂、密封材料等用途中有用。特别是,本发明的固化性树脂组合物及固化物适宜用作光半导体元件(例如,LED元件、半导体激光元件、太阳光发电元件、CCD元件等)的密封材料。
Claims (7)
1.一种固化性树脂组合物,其包含聚有机硅氧烷(A)、异氰脲酸酯化合物(B)及硅烷偶联剂(C),
聚有机硅氧烷(A)为具有下式(I)所示的结构的聚有机硅氧基硅亚烷基,
上述式(I)中,Ra、Rb、Rc、Rd、Re及Rf相同或不同,表示氢原子、一价烃基、或一价杂环式基团,Ra~Rf中的一部分或全部为芳基,Rg表示二价烃基,s1和s2相同或不同,表示1以上的整数,
作为聚有机硅氧基(A),包含具有脂肪族碳-碳双键的聚有机硅氧烷(A1)和具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2),
作为异氰脲酸酯化合物(B),包含式(1)所示的异氰脲酸酯化合物,
式(1)中,Rx、Ry、Rz相同或不同,表示式(2)所示的基团或式(3)所示的基团,式(1)中的Rx、Ry、Rz中的任意一个以上为式(3)所示的基团,
式(2)及式(3)中,R1及R2相同或不同,表示氢原子或碳原子数1~8的直链或支链状的烷基,
条件是:
(1)所述固化性树脂组合物不含有倍半硅氧烷(D),以及
(2)排除下列固化性树脂组合物:其是含有所述聚有机硅氧烷(A)、所述异氰脲酸酯化合物(B)和锌化合物(E)的固化性树脂组合物,进一步地,可以含有所述倍半硅氧烷(D),锌化合物(E)的含量为相对于所述聚有机硅氧烷(A)和所述倍半硅氧烷(D)的总量(100重量份),为0.01重量份以上且小于0.1重量份,所述锌化合物(E)是锌二酮络合物和/或羧酸锌。
2.根据权利要求1所述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)是基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)为500~4000的聚有机硅氧烷。
3.根据权利要求1或2所述的固化性树脂组合物,其中,聚有机硅氧烷(A)是在将基于凝胶渗透色谱法的标准聚苯乙烯换算的重均分子量设为Mw、数均分子量设为Mn时,分子量分散度(Mw/Mn)为1.00~4.00的聚有机硅氧烷。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的固化性树脂组合物,其中,相对于聚有机硅氧烷(A)的总量(100重量%),具有Si-H键的聚有机硅氧烷(A2)的含量为50重量%以上。
5.权利要求1~4中任一项所述的固化性树脂组合物的固化物。
6.一种密封材料,其是使用权利要求1~4中任一项所述的固化性树脂组合物而得到的。
7.一种半导体装置,其是使用权利要求1~4中任一项所述的固化性树脂组合物而得到的。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013026947 | 2013-02-14 | ||
JP2013-026947 | 2013-02-14 | ||
CN201480008743.1A CN105008460B (zh) | 2013-02-14 | 2014-02-04 | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201480008743.1A Division CN105008460B (zh) | 2013-02-14 | 2014-02-04 | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN106751887A true CN106751887A (zh) | 2017-05-31 |
CN106751887B CN106751887B (zh) | 2018-11-13 |
Family
ID=51353972
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201480008743.1A Expired - Fee Related CN105008460B (zh) | 2013-02-14 | 2014-02-04 | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 |
CN201611042248.XA Expired - Fee Related CN106751887B (zh) | 2013-02-14 | 2014-02-04 | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201480008743.1A Expired - Fee Related CN105008460B (zh) | 2013-02-14 | 2014-02-04 | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9481791B2 (zh) |
EP (2) | EP2985317A1 (zh) |
JP (2) | JP6027222B2 (zh) |
KR (2) | KR101614263B1 (zh) |
CN (2) | CN105008460B (zh) |
MY (2) | MY155921A (zh) |
TW (2) | TWI577738B (zh) |
WO (1) | WO2014125964A1 (zh) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016043082A1 (ja) * | 2014-09-17 | 2016-03-24 | 株式会社ダイセル | 硬化性シリコーン樹脂組成物及びその硬化物 |
TWI681992B (zh) * | 2014-11-20 | 2020-01-11 | 日商愛克工業股份有限公司 | 加成反應固化型樹脂組合物以及光半導體裝置 |
JPWO2017119363A1 (ja) | 2016-01-08 | 2018-11-01 | 株式会社ダイセル | 硬化性シリコーン樹脂組成物及びその硬化物、並びに光半導体装置 |
JPWO2017122712A1 (ja) * | 2016-01-15 | 2018-11-01 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物、硬化物、封止材、及び半導体装置 |
KR20180113602A (ko) * | 2016-02-22 | 2018-10-16 | 주식회사 다이셀 | 경화성 수지 조성물, 그의 경화물 및 반도체 장치 |
WO2018016372A1 (ja) * | 2016-07-19 | 2018-01-25 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び半導体装置 |
CN109661435B (zh) * | 2016-09-07 | 2022-04-12 | 日亚化学工业株式会社 | 固化性树脂组合物、其固化物、及半导体装置 |
JP6872110B2 (ja) * | 2016-11-18 | 2021-05-19 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 画像形成装置及びプログラム |
KR102008186B1 (ko) * | 2017-02-09 | 2019-08-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 태양전지 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 전극 |
KR20190013091A (ko) * | 2017-07-31 | 2019-02-11 | 다우 실리콘즈 코포레이션 | 이중 경화성 수지 조성물, 그로부터 형성된 경화물, 및 그러한 경화물을 포함하는 전자 장치 |
US20210253858A1 (en) * | 2018-08-31 | 2021-08-19 | Wacker Chemie Ag | Curable organopolysiloxane composition, encapsulant, and semiconductor device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012039322A1 (ja) * | 2010-09-22 | 2012-03-29 | 株式会社カネカ | 多面体構造ポリシロキサン変性体、多面体構造ポリシロキサン系組成物、硬化物、及び、光半導体デバイス |
WO2012060322A1 (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物及び硬化物 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09291214A (ja) * | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Nippon Paint Co Ltd | 硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP4275889B2 (ja) | 2001-02-09 | 2009-06-10 | 株式会社カネカ | 発光ダイオード及びその製造方法 |
JP2004131519A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 発光ダイオード用封止材およびそれを用いた発光ダイオード |
US7071244B2 (en) * | 2002-12-03 | 2006-07-04 | Staar Surgical Company | High refractive index and optically clear copoly (carbosilane and siloxane) elastomers |
JP4267404B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2009-05-27 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 光学材料用硬化性組成物 |
JP4494077B2 (ja) * | 2004-04-22 | 2010-06-30 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 光学材料封止用硬化性組成物 |
JP4802456B2 (ja) * | 2004-06-02 | 2011-10-26 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物及び該硬化性組成物により封止された半導体装置 |
JP2006206721A (ja) | 2005-01-27 | 2006-08-10 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 高耐熱合成高分子化合物及びこれで被覆した高耐電圧半導体装置 |
JP4826160B2 (ja) | 2005-07-28 | 2011-11-30 | ナガセケムテックス株式会社 | 光素子封止用樹脂組成物 |
JP2007224095A (ja) | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Kaneka Corp | 硬化剤、硬化性組成物および硬化物 |
JP2010109034A (ja) | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 発光ダイオード素子用シリコーン樹脂組成物及び発光ダイオード素子 |
JP5353629B2 (ja) | 2008-11-14 | 2013-11-27 | 信越化学工業株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
JP2010285507A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Kaneka Corp | 接着性硬化性組成物 |
JP5801028B2 (ja) | 2009-10-21 | 2015-10-28 | 株式会社Adeka | ケイ素含有硬化性組成物及びその硬化物 |
TWI504681B (zh) | 2010-03-08 | 2015-10-21 | Lintec Corp | A hardening composition, a hardened product, and a hardening composition |
KR101274350B1 (ko) * | 2010-03-31 | 2013-06-13 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 광 반도체 장치용 밀봉제 및 광 반도체 장치 |
KR101277722B1 (ko) * | 2010-07-14 | 2013-06-24 | 제일모직주식회사 | 하이브리드 실록산 중합체, 상기 하이브리드 실록산 중합체로부터 형성된 봉지재 및 상기 봉지재를 포함하는 전자 소자 |
EP2412746B1 (en) * | 2010-07-29 | 2013-07-03 | Cheil Industries Inc. | Modified siloxane polymer composition, encapsulant obtained from the modified siloxane polymer composition and electronic device including the encapsulant |
JP5557324B2 (ja) | 2010-09-01 | 2014-07-23 | 信越化学工業株式会社 | ダイボンド剤及び光半導体装置 |
JP2012111875A (ja) | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Daicel Corp | 硬化性樹脂組成物及び硬化物 |
TWI435914B (zh) | 2010-12-31 | 2014-05-01 | Eternal Chemical Co Ltd | 可固化之有機聚矽氧烷組合物及其製法 |
JP5533906B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2014-06-25 | 信越化学工業株式会社 | 付加反応硬化型オルガノポリシルメチレンシロキサンコポリマー組成物 |
FR2975969B1 (fr) * | 2011-05-30 | 2013-06-07 | Turbomeca | Systeme de conditionnement d'air d'un compartiment pour passagers d'un aeronef |
WO2013094625A1 (ja) * | 2011-12-22 | 2013-06-27 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物及びその硬化物 |
JP5667326B2 (ja) * | 2012-05-25 | 2015-02-12 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物及びその硬化物、封止剤、並びに光半導体装置 |
JP6342905B2 (ja) * | 2012-10-05 | 2018-06-13 | ユニバーシティ オブ サザン カリフォルニア | 有機光起電力におけるアクセプタおよびドナーのエネルギー感光化 |
US9646904B2 (en) * | 2013-01-09 | 2017-05-09 | Daicel Corporation | Curable resin composition, and cured product of same |
WO2015016000A1 (ja) * | 2013-08-01 | 2015-02-05 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置 |
KR101563472B1 (ko) * | 2013-08-02 | 2015-10-26 | 주식회사 다이셀 | 경화성 수지 조성물 및 이를 사용한 반도체 장치 |
KR101631048B1 (ko) | 2013-08-06 | 2016-06-15 | 주식회사 다이셀 | 경화성 수지 조성물 및 그것을 사용한 반도체 장치 |
-
2014
- 2014-02-04 CN CN201480008743.1A patent/CN105008460B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-02-04 EP EP15002548.4A patent/EP2985317A1/en not_active Withdrawn
- 2014-02-04 MY MYPI2015702608A patent/MY155921A/en unknown
- 2014-02-04 JP JP2015500198A patent/JP6027222B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-02-04 CN CN201611042248.XA patent/CN106751887B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-02-04 MY MYPI2015002685A patent/MY162427A/en unknown
- 2014-02-04 EP EP14751942.5A patent/EP2957599A4/en not_active Withdrawn
- 2014-02-04 WO PCT/JP2014/052519 patent/WO2014125964A1/ja active Application Filing
- 2014-02-04 KR KR1020157022353A patent/KR101614263B1/ko active IP Right Grant
- 2014-02-04 US US14/767,861 patent/US9481791B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-02-04 KR KR1020157022513A patent/KR101711320B1/ko active IP Right Grant
- 2014-02-13 TW TW103104664A patent/TWI577738B/zh not_active IP Right Cessation
- 2014-02-13 TW TW105142253A patent/TWI577740B/zh not_active IP Right Cessation
-
2015
- 2015-08-27 US US14/837,025 patent/US9644098B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2015-10-22 JP JP2015207632A patent/JP6027209B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012039322A1 (ja) * | 2010-09-22 | 2012-03-29 | 株式会社カネカ | 多面体構造ポリシロキサン変性体、多面体構造ポリシロキサン系組成物、硬化物、及び、光半導体デバイス |
WO2012060322A1 (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物及び硬化物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9644098B2 (en) | 2017-05-09 |
JPWO2014125964A1 (ja) | 2017-02-02 |
US20150368514A1 (en) | 2015-12-24 |
TW201713727A (zh) | 2017-04-16 |
US9481791B2 (en) | 2016-11-01 |
KR20150107873A (ko) | 2015-09-23 |
EP2957599A1 (en) | 2015-12-23 |
CN105008460B (zh) | 2016-12-14 |
MY162427A (en) | 2017-06-15 |
EP2957599A4 (en) | 2015-12-23 |
CN105008460A (zh) | 2015-10-28 |
KR101711320B1 (ko) | 2017-02-28 |
MY155921A (en) | 2015-12-16 |
JP2016047928A (ja) | 2016-04-07 |
TWI577740B (zh) | 2017-04-11 |
KR20150103755A (ko) | 2015-09-11 |
KR101614263B1 (ko) | 2016-04-20 |
JP6027222B2 (ja) | 2016-11-16 |
JP6027209B2 (ja) | 2016-11-16 |
CN106751887B (zh) | 2018-11-13 |
WO2014125964A1 (ja) | 2014-08-21 |
TW201439217A (zh) | 2014-10-16 |
EP2985317A1 (en) | 2016-02-17 |
US20160017147A1 (en) | 2016-01-21 |
TWI577738B (zh) | 2017-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105008460B (zh) | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 | |
CN104903404B (zh) | 固化性树脂组合物及其固化物 | |
CN103571208B (zh) | 固化性硅酮树脂组合物 | |
CN105209549B (zh) | 固化性树脂组合物及使用其的半导体装置 | |
US10483442B2 (en) | Addition curable type silicone resin composition, process for producing composition, and optical semiconductor apparatus | |
CN101891959B (zh) | 制备具有高折射率的固化产品的可加成固化的硅酮组合物及由其形成的光学元件包封材料 | |
CN104419208B (zh) | 加成固化型液态硅橡胶组合物和硅橡胶固化制品 | |
CN104583326B (zh) | 固化性树脂组合物及使用其的半导体装置 | |
CN1974669B (zh) | 自粘性有机聚硅氧烷组合物 | |
KR102065203B1 (ko) | 광반도체 소자 밀봉용 실리콘 조성물 및 광반도체 장치 | |
CN103509345B (zh) | 固化性树脂组合物、它的固化物及使用该固化物的光半导体装置 | |
WO2015096570A1 (zh) | Led封装用的固化性硅橡胶组合物 | |
CN104583325B (zh) | 固化性树脂组合物及使用其的半导体装置 | |
JP5877081B2 (ja) | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を用いてなる封止剤、および光学デバイス | |
JP2007063538A (ja) | 発光ダイオード用付加硬化型シリコーン樹脂組成物 | |
CN108795053A (zh) | 加成固化型硅酮组合物、该组合物的制造方法、硅酮固化物、以及光学元件 | |
CN109929252A (zh) | 紫外线固化型树脂组合物、粘接剂和固化物 | |
JP5553018B2 (ja) | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光学素子封止材及び光学素子 | |
CN106459584A (zh) | 固化性树脂组合物、固化物、密封材料及半导体装置 | |
KR20160132008A (ko) | 경화성 수지 조성물 | |
JP4822001B2 (ja) | エポキシ・シリコーン混成樹脂組成物及びその硬化物 | |
JP6467125B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物、該組成物を硬化させてなる硬化物 | |
US20070142573A1 (en) | Epoxy/silicone hybrid resin composition and cured part | |
JP5886773B2 (ja) | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物、光学素子用封止材および光学素子 | |
JP2021169550A (ja) | 硬化性有機ケイ素樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20181113 Termination date: 20200204 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |