CN106688038B

CN106688038B - 磁盘用玻璃基板的制造方法

Info

Publication number: CN106688038B
Application number: CN201580052307.9A
Authority: CN
Inventors: S·斯瓦特; S·潘尼
Original assignee: Hoya Corp; Hoya Glass Disk Thailand Ltd
Current assignee: Hoya Corp; Hoya Glass Disk Thailand Ltd
Priority date: 2014-09-30
Filing date: 2015-09-30
Publication date: 2018-08-17
Anticipated expiration: 2035-09-30
Also published as: WO2016052676A1; MY180792A; JP6637945B2; JP2018067368A; SG10201912461PA; JP6246946B2; SG11201701761XA; JPWO2016052676A1; CN106688038A; CN109107971B; CN109107971A

Abstract

一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其可在玻璃基板的主表面抑制清洗污渍的产生，该磁盘用玻璃基板的制造方法包括上述玻璃基板的表面的清洗处理、和在上述清洗处理后进行的上述表面的干燥处理。上述清洗处理包括将上述玻璃基板浸渍到包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第1液体中的第1液体处理，上述第1液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分，并包含3.0重量％以上的水。或者，上述干燥处理包括：将上述玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中，一边在上述玻璃基板的表面形成液滴，一边使上述玻璃基板的液滴的一部分从上述玻璃基板滴下。上述第2液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分，并包含超过1.0重量％的上述水。

Description

磁盘用玻璃基板的制造方法

技术领域

本发明涉及磁盘用玻璃基板的制造方法。

背景技术

对于用作信息记录介质之一的磁盘而言，以往适宜地使用了玻璃基板。现在，应硬盘驱动装置中的存储容量增大的要求，实现了磁记录的高密度化。伴随于此，进行了下述操作：使磁头距磁记录面的悬浮距离极短，从而对磁记录信息区域进行微细化。对于这种磁盘用玻璃基板而言，为了达成高记录密度硬盘驱动装置所需的磁头低悬浮量化，降低基板的表面凹凸、特别是微小起伏的要求越来越强。此外，由于在玻璃基板的主表面形成磁性层，因而对主表面进行严格的管理，以使主表面不残存有机成分等导致的不必要的异物。因此，最终研磨后的玻璃基板的主表面的清洗处理和干燥处理的重要性高。

例如，下述清洗处理、干燥处理是众所周知的，其用于防止因异物而使玻璃发生改性、劣化(所谓的腐蚀(ヤケ))(专利文献1)，该异物附着于主表面上形成了纹理的磁盘用玻璃基板的主表面上。

具体而言，在制造磁盘用玻璃基板时，在清洗处理中，至少用纯水、或以水为主要成分的水溶液进行清洗，之后将以沸点低于水的水溶性溶剂作为主要成分并且含水量为1.0重量％以下的液体作为清洗液进行清洗。在干燥处理中，至少进行使以沸点低于水的水溶性溶剂为主要成分的液体的蒸气与磁盘用玻璃基板接触的脱水处理。该脱水处理的上述液体中包含的水含量为1.0重量％以下。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利5032758号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，近年来产生了下述问题：即，在进行了清洗处理和干燥处理的玻璃基板的主表面上的外周侧端面附近的圆周上的一部分区域会产生看起来像是白浊的污渍那样的缺陷。之后，将该缺陷称为清洗污渍。认为该清洗污渍与位于玻璃中的主表面的碱金属成分和空气中的水发生反应而使主表面整个面白浊地形成的上述腐蚀是不同的，在干燥处理时部分残留于主表面。从通过在玻璃基板的主表面形成磁性膜而制作磁盘的方面考虑，这样的清洗污渍是不优选的。

因此，本发明的目的在于提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法在制造磁盘用玻璃基板时能够在玻璃基板的主表面抑制清洗污渍的产生。

用于解决课题的方案

本申请发明人为了探索上述清洗污渍的原因而对清洗污渍的组成等进行了调查，结果发现，清洗污渍来源于清洗处理中所用的清洗剂及在清洗处理前附着于玻璃基板的有机成分的异物，该有机成分的一部分在干燥处理中残存于玻璃基板。因此，本申请发明人对于即便是有机成分附着于玻璃基板的表面的玻璃基板也能够通过清洗处理和干燥处理充分除去有机成分的对策进行了研究，结果完成了下述方式的发明。

即，本发明的一个方式为磁盘用玻璃基板的制造方法。该制造方法包括下述方式。

[方式1]

一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括上述玻璃基板的表面的清洗处理、和在上述清洗处理后使上述表面干燥的干燥处理，

上述清洗处理包括将上述玻璃基板浸渍到第1液体中的第1液体处理，该第1液体包含沸点低于水的水溶性溶剂和水，

上述第1液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分，并包含3.0重量％以上的水。

[方式2]

如方式1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，上述干燥处理为如下的处理：将上述玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中，一边在上述玻璃基板的表面形成液滴，一边使上述玻璃基板的液滴的至少一部分从上述玻璃基板滴下，并且使上述玻璃基板干燥，

上述第2液体的水的含量低于上述第1液体的水的含量。

[方式3]

如方式2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，上述第2液体的水的含量超过1.0重量％。

[方式4]

上述干燥处理包括：将上述玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中，一边在上述玻璃基板的表面形成液滴，一边使上述玻璃基板的液滴的一部分从上述玻璃基板滴下，

上述第2液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分，并包含超过1.0重量％的上述水。

[方式5]

如方式4所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，上述清洗处理包括将上述玻璃基板浸渍到第1液体中的第1液体处理，该第1液体包含沸点低于水的水溶性溶剂和水，

上述第1液体的水的含量高于上述第2液体的水的含量。

[方式6]

如方式1～3和5中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，

上述玻璃基板含有碱金属成分，

上述清洗处理包括水处理，其中，将上述玻璃基板浸渍到温度为40℃以上50℃以下的水中从而对上述表面进行清洗的水处理。

[方式7]

如方式6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，按照上述水处理、上述第1液体处理以及上述干燥处理的顺序来对上述玻璃基板进行处理。

[方式8]

如方式1～7中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，上述水溶性溶剂为异丙醇。

[方式9]

如方式1～8中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，上述玻璃基板的碱金属成分的总含量为22.0摩尔％以下。

发明的效果

在上述磁盘用基板的制造方法中，制造磁盘用玻璃基板时，能够在玻璃基板的主表面抑制清洗污渍的产生。

附图说明

图1是示意性地说明本实施方式中的清洗处理和干燥处理的图。

具体实施方式

下面，对本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法进行详细说明。

本实施方式中，磁盘用玻璃基板为圆板形状，呈中心部分以同心圆形状被挖空的环状。磁盘用玻璃基板将该环状的中心作为旋转轴而进行旋转。磁盘是通过将磁性层等层积于磁盘用玻璃基板上而得到的。例如，在玻璃基板上成膜有附着层、软磁性层、非磁性基底层、垂直磁记录层、保护层和润滑层等。由此，制造出磁盘。因此，对磁盘用玻璃基板的表面进行严格管理，以使其洁净。这样的磁盘用玻璃基板利用下述制造方法来制造。

下面，对该玻璃基板的制造方法的各处理进行说明。

(a)玻璃坯料成型处理

玻璃坯料为作为玻璃基板的基础的板状玻璃。在玻璃坯料的成型中，例如使用浮法。在玻璃坯料的成型处理中，首先是将熔融玻璃连续地流入装满锡等熔融金属的浴槽内，从而得到板状玻璃。熔融玻璃在实施了严密的温度操作的浴槽内沿着行进方向流动，最终形成调整为所期望的厚度、宽度的板状玻璃。由该板状玻璃切出规定形状(例如平面观察为四边形状)的板状玻璃坯料作为磁盘用玻璃基板的基础。

另外，除了浮法之外，板状的玻璃坯料的成型例如也可以使用压制成型法。进一步，可以使用下拉法、重新引下法、熔融法等公知的制造方法来进行制造。对于由这些公知的制造方法制作得到的板状玻璃，适宜地进行形状加工，从而切出圆板状的玻璃坯料作为磁盘用玻璃基板的基础。

(b)形状加工处理

接着，在形状加工处理中，在玻璃坯料成型处理后，使用公知的加工方法形成圆孔，从而制作开穿有圆形贯通孔的盘状玻璃基板。之后，可以进一步实施倒角。另外，出于调整板厚、降低平坦度等目的，可以实施主表面的磨削。

(c)第1研磨处理

接着，对玻璃基板的主表面实施第1研磨处理。第1研磨处理的目的在于主表面的镜面研磨。具体而言，一边将玻璃基板保持在设置于保持部件(载具)的保持孔内一边进行玻璃基板的两侧的主表面的研磨，该保持部件安装于双面研磨装置中。基于第1研磨的加工余量例如为几μm～100μm左右。第1研磨处理的目的在于，例如去除残留于主表面的伤痕或应变、或调整微小的表面凹凸。需要说明的是，关于表面凹凸，为了进一步降低或进行更精细的调整，可以将第1研磨处理分成2次以上的研磨处理来实施。

在第1研磨处理中，使用公知的双面研磨装置，一边供给研磨浆料一边对玻璃基板进行研磨，该双面研磨装置具备上定盘、下定盘、内齿轮、载具、太阳齿轮，并具有行星齿轮机构。在第1研磨处理中，使用包含研磨磨粒(游离磨粒)的研磨浆料。作为用于第1研磨处理的游离磨粒，例如使用氧化铈、氧化锆、胶体二氧化硅的磨粒等(颗粒尺寸：直径0.3～3μm左右)。在双面研磨装置中，将玻璃基板夹持于上下一对的定盘之间。在下定盘的上表面和上定盘的底面安装圆环形状的平板研磨垫(例如树脂制的抛光垫)作为整体。并且，使上定盘或下定盘的任一者或两者移动操作，从而使玻璃基板与各定盘相对移动，由此对玻璃基板的两个主表面进行研磨。

(d)化学强化处理

玻璃基板可以适宜地进行化学强化。作为化学强化液，例如可以使用将硝酸钾、硝酸钠或它们的混合物加热至300℃～500℃而得到的熔融液。并且，例如将玻璃基板在化学强化液中浸渍1小时～10小时。进行化学强化处理的时机可以适宜决定。化学强化处理不是必须的处理，未必一定进行。

(e)第2研磨(最终研磨)处理

接着，对化学强化处理后的玻璃基板实施第2研磨处理。第2研磨处理的目的在于主表面的镜面研磨。在第2研磨中，也使用具有与第1研磨中使用的双面研磨装置同样的构成的双面研磨装置。基于第2研磨的加工余量例如为0.5μm至10μm左右。

在第2研磨处理中，使用包含游离磨粒的浆料进行研磨。作为游离磨粒，适宜使用胶态二氧化硅。胶态二氧化硅的平均粒径例如为5nm以上50nm以下。通过该处理，可以使玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度Ra为0.15nm以下、优选为0.1nm以下、使波长为50～200μm的微小起伏的均方根粗糙度Rq为0.06nm以下。接着，进行清洗处理和干燥处理，使有机成分例如不形成膜而残存于表面粗糙度满足磁盘用玻璃基板的品质要求的玻璃基板的主表面。

(f)清洗处理、干燥处理

图1是示意性地说明本实施方式中的玻璃基板的表面的清洗处理、以及在清洗处理后进行的玻璃基板的表面的干燥处理的图。

此处，清洗处理的一个处理包括将玻璃基板浸渍到第1液体中的第1液体处理，该第1液体包含沸点低于水的水溶性溶剂和水。此时，第1液体包含水溶性溶剂作为主要成分，并包含3.0重量％以上的水。此外，第1液体优选包含5重量％以上的水。对第1液体的水的含量的上限没有特别限制，例如为40重量％、优选为35重量％、进一步优选为30重量％。主要成分是指含量超过50重量％。此处，作为沸点低于水的水溶性溶剂，适宜使用IPA(异丙醇)。

此外，在清洗处理后进行的干燥处理中，将玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中。此时，一边在玻璃基板的表面形成液滴，一边使玻璃基板的液滴的一部分从玻璃基板滴下。之后，使残存于玻璃基板的液滴的一部分蒸发。此时，第2液体包含上述水溶性溶剂作为主要成分，并包含超过1.0重量％的水。水的含量优选为1.1重量％以上。更优选为1.3重量％以上。另一方面，水的含量优选为5.0重量％以下，水的含量更优选为2.8重量％以下。另外，作为沸点低于水的水溶性溶剂，适宜使用IPA(异丙醇)。主要成分是指含量超过50重量％。

下面，将IPA作为第1液体和第2液体中的水溶性溶剂的例子来进行说明。

下面，按照清洗处理、干燥处理的顺序进行说明。

如图1所示，经最终研磨处理后的玻璃基板10依次被送至碱清洗槽12、纯水清洗槽14、中性洗涤剂清洗槽16、纯水清洗槽18和IPA清洗槽20。根据情况，在玻璃基板10浸渍于各槽的各液体中时，可以对玻璃基板10和液体施加超声波而进行超声波清洗。

在碱清洗槽12中，为了将残留于玻璃基板10的主表面的异物从玻璃基板10的表面剥下，使用碱性溶液。此时，为了不使玻璃基板10的主表面的蚀刻发展、表面粗糙度增加，碱清洗槽12的清洗液尽可能优选为弱碱性溶液。

接着，在纯水清洗槽14中，玻璃基板10被浸渍到水中，进行冲洗。

之后，在中性洗涤剂清洗槽16中，玻璃基板被浸渍到中性洗涤剂的溶液中，对包括主表面的玻璃基板的表面进行清洗。由此，可以将附着于主表面的有机成分的异物等除去。

之后，在纯水清洗槽18中，玻璃基板10被浸渍到水中，进行冲洗。

进而，玻璃基板10被浸渍到IPA清洗槽20的以IPA为主要成分的溶液(第1液体)中。本实施方式中使用IPA作为溶液的主要成分是因为在后述的干燥处理中适宜使用IPA。通过在IPA清洗槽20中使用与干燥处理槽22相同种类的溶剂，干燥处理槽22中的溶剂的成分难以发生变化，能够进行稳定的干燥处理。以IPA为主要成分是指在溶液中包含超过50重量％的IPA。

接着，在干燥处理槽22中利用IPA的蒸气进行干燥处理，使玻璃基板10干燥。

在干燥处理槽22中，包含IPA和水的含水溶液(第2液体)存积于底部而形成了液体。第2液体被加热至IPA的沸点的温度(82.4℃)，IPA形成沸腾状态，干燥处理槽22的气相被IPA和水的蒸气所充满。玻璃基板10配置于该干燥处理槽22的气相中。第2液体包含IPA作为主要成分。主要成分是指在第2液体中包含超过50重量％的IPA。

在本实施方式的干燥处理中，推测出下述机理。

在干燥处理中，玻璃基板10配置于包含IPA和水的第2液体的蒸气中时，玻璃基板10的表面的温度低于第2液体的蒸气的温度，因而，蒸气在玻璃基板10的表面凝集，在玻璃基板10的表面形成液滴。此时，对于玻璃基板10来说，由于浸渍到IPA清洗槽20的第1液体中的处理，而使主表面残存有以IPA为主要成分的第1液体的膜。在干燥处理中，玻璃基板10的表面会大量形成新的第2液体的液滴，从而，由于该第2液体的液滴的形成使得残存的第1液体从玻璃基板10滴下而下落到第2液体中。由此，残留于玻璃基板10的表面的第1液体被第2液体所取代。之后，玻璃基板10被蒸气的温度慢慢加热，变得不会在玻璃基板10的表面形成液滴。这样，玻璃基板10的表面慢慢地干燥。从干燥处理槽22中取出的玻璃基板10的表面为干燥状态，得到磁盘用玻璃基板。

在这样的干燥处理前进行的清洗处理中，IPA清洗槽20的第1液体的水的含量为3.0重量％以上。水的含量的上限例如为40重量％、优选为35重量％、进一步优选为30重量％。通过如此确定水的含量，在干燥处理后的玻璃基板10中能够抑制清洗污渍的产生。

另外，上述干燥处理中所用的第2液体包含IPA作为主要成分，并包含超过1.0重量％、优选为1.1重量％以上的水。水的含量的上限优选为5.0重量％、更优选为2.8重量％以下。

通过如此使第2液体包含超过1.0重量％的水，能够抑制上述清洗污渍的产生。

此外，通过使用在上述数值范围内含有清洗处理的水的上述第1液体和上述第2液体，能够更进一步地抑制上述清洗污渍的产生。

清洗污渍来源于从清洗处理前就附着于玻璃基板10的表面的有机成分的残留物及水溶液系的清洗槽中使用的洗涤剂的有机成分。并且，关于清洗污渍的产生，可以考虑如下。

即，附着于玻璃基板10的表面的有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分被带入纯水清洗槽18的水及IPA清洗槽20的第1液体中，其一部分附着于玻璃基板10的表面，进而移动至后面的槽中。该有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分的异物(下文中也称为有机系异物)附着于表面的玻璃基板10被带入IPA清洗槽20、以及干燥处理槽22中。但是，该有机系异物难以被干燥处理槽22中的IPA的液滴所除去。即便上述有机系异物从玻璃基板10的表面被剥下而包含于液滴中，由于用于配置于气相蒸气中的支撑棒从下方支撑着玻璃基板10的外周端面，因此也会在支撑棒与外周端面的接触部分形成液体存积。该液体存积难以发生基于液滴的液体交换，在持续与玻璃基板10的外周端面接触的状态下进行干燥。因此，在与支撑棒接触的、玻璃基板10的外周端面附近的玻璃基板10的主表面上的区域形成清洗污渍。

此外，为了使玻璃基板10的主表面的表面粗糙度的算术平均粗糙度Ra为0.2nm以下，在对主表面的蚀刻力弱的清洗处理中使用弱碱性或中性的清洗剂，但这样的清洗剂有时无法充分除去附着于玻璃基板10的有机成分的残留物。因此，近年来认为附着有有机系异物等的玻璃基板10容易被带入IPA清洗槽20。其结果，在IPA清洗槽20中也会存积有机成分，将玻璃基板10从IPA清洗槽20带入干燥处理槽22中时容易附着或残留于玻璃基板10的表面。此外，干燥处理槽22中的干燥处理以玻璃基板10的干燥为目的，清洗的功能小。其结果，在有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分的异物残留于玻璃基板10的表面的状态下进行干燥，形成了清洗污渍。

本实施方式中，使IPA清洗槽20中所用的第1液体的水的含量为3.0重量％以上。水的含量例如为40重量％以下、优选为35重量％以下、进一步优选为30重量％以下。

通过使即将进行干燥处理前的IPA清洗槽20中所用的第1液体的水的含量为上述范围，从而抑制藉由玻璃基板10被带入第1液体中的有机系异物吸附(再附着)于玻璃基板10表面。水与IPA相比极性高，因而能够抑制有机系异物附着于玻璃基板10的表面。因此，被带入干燥处理的玻璃基板上所附着的有机系异物减少。因此，能够在玻璃基板10的主表面抑制清洗污渍的产生。

另外，本实施方式中，在干燥处理槽22中，除了IPA以外，第2液体中还包含超过1.0重量％的水。水与IPA相比具有更高的极性，因而认为容易吸附于有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分的异物(下文中称为有机系异物)。此外，玻璃基板表面的亲水性高，因而水容易进入到牢固附着于玻璃基板10的表面的有机系异物的周围及有机系异物与玻璃基板的间隙中。因此，有机系异物容易溶解于形成液滴的水中，通过该液滴滴下，从而有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分的异物容易从玻璃基板10被除去。其结果，在干燥处理中，能够抑制由有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分的异物形成的清洗污渍的产生。

从抑制清洗污渍的产生的方面考虑，第2液体中的水的含量超过1.0重量％、优选为1.1重量％以上。更优选为1.3重量％以上。另外，从在干燥处理槽22中使水的液滴充分蒸发、进行充分的干燥的方面考虑，优选为5.0重量％以下、更优选为2.8重量％以下。

如上所述，在清洗处理中，为了抑制经最终研磨处理的玻璃基板的表面粗糙度增大，使用蚀刻力低的中性洗涤剂或弱碱性的洗涤剂。其结果，有机成分的残留物附着于表面的玻璃基板10容易被带入干燥处理槽22中。即，在清洗处理中，选择在清洗处理的前后玻璃基板10的主表面的表面粗糙度Ra(算术平均粗糙度)的变化为0.05nm以下的清洗剂。在这种情况下，通过使IPA清洗槽20中所用的第1液体的水的含量为3.0重量％以上、40重量％以下、优选为35重量％以下、进一步优选为30重量％以下，在IPA清洗槽20中能够抑制有机成分的残留物及异物附着于玻璃基板10的表面。另外，通过在干燥处理槽22中使用使水的含量超过1.0重量％并包含IPA作为主要成分的第2液体，从而将有机系异物从玻璃基板10的主表面除去，因此能够抑制清洗污渍的产生。

以往，为了防止腐蚀，使干燥处理槽22的第2液体中的水的含量为1.0重量％以下。但是，近年来，玻璃组成发生变化，例如，在玻璃基板10的玻璃组成中，Li₂O、Na₂O、K₂O等碱金属成分的含量为22摩尔％以下，优选为20摩尔％以下，与以往相比碱金属成分的含量低。因此，即便使第2液体中的水的含量超过1.0重量％，也难以发生腐蚀。

另外，玻璃基板10含有MgO、CaO、SrO和BaO的碱土金属成分。因此，即便使第1液体中的水的含量超过1.0重量％，也难以发生腐蚀。

另外，如现有的玻璃基板这样，在主表面不形成纹理，因而难以发生腐蚀。在形成纹理的情况下，有意地在表面形成多个槽，因而认为碱金属成分等容易从表面溶出，容易发生腐蚀。本实施方式的玻璃基板10是在主表面不存在纹理的平滑面。因此，本实施方式的玻璃基板10的表面粗糙度不具有各向异性，是各向同性的。

本实施方式中，为了更有效地抑制清洗污渍的产生，优选除了使IPA清洗槽20中所用的第1液体的水的含量为3.0重量％以上外，还使干燥处理槽22的第2液体中包含的水的含量超过1.0重量％。这种情况下，在干燥处理槽22中，形成包含IPA和水的液滴。如上所述，水与IPA相比具有更高的极性，因而容易与有机成分的残留物及洗涤剂的有机成分的异物发生吸附，而且玻璃基板为亲水性。因此，水容易进入附着于玻璃基板10的表面的有机系异物的周围、进而有机系异物与玻璃基板的间隙中。因此，有机系异物容易溶解于包含水的液滴中，通过该液滴滴下，从而容易从玻璃基板10除去有机系异物。因此，在干燥处理中，能够有效地抑制由有机系异物形成的清洗污渍的产生。

若第2液体中的水的含量超过5.0重量％，则在干燥处理槽22中水的液滴无法充分蒸发，无法充分进行干燥处理。另一方面，若第2液体中的水的含量小于1.0重量％，则无法抑制清洗污渍的产生。第2液体中的水的含量更优选为2.8重量％以下。

另外，从能够抑制清洗污渍、进行玻璃基板10的干燥的方面考虑，干燥处理槽22的第2液体的水的含量优选低于IPA清洗槽20的第1液体的水的含量。第2液体的水的含量为第1液体的水的含量以上时，若长时间使用干燥处理槽22的第2液体，则玻璃基板10的干燥状态有可能恶化。第2液体的水的含量例如超过1.0重量％。

玻璃基板10含有Li₂O、Na₂O、K₂O等碱金属成分时，清洗处理优选包括水处理，其中，将玻璃基板10浸渍到温度为40℃以上50℃以下的水中而对表面进行清洗。例如，优选使图1所示的纯水清洗槽14或纯水清洗槽18中的水为40℃以上50℃以下的温水。通过为40℃以上50℃以下的温水，位于玻璃基板10的表面的碱金属成分容易溶解于水中，能够容易地防止以往成为问题的腐蚀。因此，即便干燥处理槽22的第2液体中含有水，也难以发生腐蚀。

另外，在清洗处理包括将玻璃基板10浸渍到温度为40度以上50℃以下的水中而对玻璃基板10的表面进行清洗的水处理(基于纯水清洗槽14或纯水清洗槽18的处理)、基于IPA清洗槽20的第1液体的处理时，优选按照水处理、基于第1液体的清洗处理、干燥处理的顺序对玻璃基板10进行处理。通过按照这样的顺序进行处理，利用水处理使位于玻璃基板10的表面的碱金属成分溶解于水中后，用包含IPA的第2液体进行清洗处理，因而玻璃基板10难以发生腐蚀，难以产生清洗污渍。

(实验例1)

为了确认本实施方式的效果，使IPA清洗槽20的第1液体中的水含量进行各种变化，对清洗污渍进行了观察。需要说明的是，在实验例1和后述的实验例2、4中，以氧化物基准的摩尔％表示计，使用了下述玻璃组成的玻璃基板。

SiO₂：66.2％、

Al₂O₃：12.0％、

Li₂O：11.1％、

Na₂O：5.5％、

K₂O：3.4％、

ZrO₂：1.8％。

关于清洗污渍，通过目视进行观察，根据清洗污渍的产生频率以3个阶段进行评价。水平A是指100片玻璃基板全部完全未产生清洗污渍(合格水平)；水平B是指100片玻璃基板中仅1片观察到清洗污渍，但99片玻璃基板未观察到清洗污渍，清洗污渍的产生频率极低，因而可以允许(合格水平)；水平C是指100片中的2片以上的玻璃基板产生清洗污渍而无法允许(不合格水平)。

此外，对至干燥处理槽22中的水的含量增加导致的干燥不良批次产生为止的时间进行了评价。干燥处理槽22中的水的含量的增加起因于从IPA槽20向干燥处理槽22的水的带入。具体而言，关于1批次100片玻璃基板，将进行清洗处理、干燥处理的各槽中的处理时间设为5分钟，实施处理。干燥不良批次是指下述批次：通过目视对刚进行了干燥处理后的玻璃基板的表面的干燥状态进行了调查，在1批次100片中2片以上的玻璃基板产生非干燥状态即为干燥不良批次。

干燥处理槽22的第2液体为IPA，不添加水。即，第2液体的水含量为0重量％。

下述表1示出使第1液体中的水含量变化时的清洗污渍的评价结果与至干燥不良批次产生为止的时间。

[表1]

由表1的结果可以确认：通过使IPA清洗槽20的第1液体的水含量为3.0重量％以上，能够抑制清洗污渍的产生。另外，如例8所示，即便使第1液体的水含量为35.0重量％，进而即便使水含量为40～50重量％，也不产生清洗污渍。

此外，作为例12，向干燥处理槽22的第2液体中添加了2.0重量％的水，除此以外在与例3同样的条件下进行了玻璃基板的清洗处理和干燥处理。对于例3和例12中得到的100片玻璃基板的主表面，使用激光式表面检查装置进行详细的观察，计算了目视无法看到的微小的外周端部的清洗污渍的产生片数。其结果，在例3中，100片中为3片，与此相对，在例12中为1片。由此观察到了，通过在干燥处理槽22的第2液体中含有水，从而改善了清洗污渍。

另外，如例10、例11那样，在使第1液体的水含量为45.0重量％、50.0重量％的情况下，至产生干燥不良批次为止的时间急剧缩短。在例10、11的第1液体的水含量的情况下，向干燥处理槽22的水的带入量在量产时增多，连续生产量增多时，至干燥不良批次产生为止的时间急剧地缩短。因此，干燥处理槽22的第2液体的更换变得频繁，生产率有可能降低。从这方面出发，第1液体的水含量的上限为40.0重量％、优选为35.0重量％。

(实验例2)

此外，为了确认本实施方式的效果，使干燥处理槽22的第2液体中的水含量进行各种变化，对清洗污渍进行了观察。此时，第1液体的水含量固定为0.0重量％。

另外，通过目视对刚进行干燥处理后的玻璃基板的表面的干燥状态进行了调查。干燥状态根据非干燥状态的玻璃基板的产生频率以3个阶段进行评价。水平A是指100片玻璃基板中全部玻璃基板干燥；水平B是指100片玻璃基板中仅1枚干燥不充分，但99片玻璃基板干燥，非干燥的产生频率极低；水平C是指100片玻璃基板中2片以上的玻璃基板为非干燥状态。需要说明的是，此处，非干燥或非干燥状态是指，在玻璃基板与保持玻璃基板的保持夹具的接触部附近观察到即将干透前的状态。需要说明的是，这些非干燥状态最终全部解除。

下述表2示出使第2液体中的水含量进行变化时的清洗污渍的评价结果。

[表2]

由表2的结果可知，通过使第2液体的水含量超过1.0重量％、优选为1.1重量％以上，能够抑制清洗污渍的产生。为了利用基于干燥处理槽22的干燥处理使玻璃基板的表面确实地干燥，优选使水含量为5.0重量％以下，更优选小于3.0重量％、更具体而言为2.8重量％以下。由此，本实施方式的效果明显。

(实验例3)

在玻璃基板中的玻璃组成中，着眼于Li₂O、Na₂O、K₂O等碱金属成分，使碱金属成分的总含量进行各种变化，通过目视对清洗污渍和腐蚀进行观察和评价。在增减碱金属成分的含量的情况下，将SiO₂以外的成分的含量维持一定，增减SiO₂的含量。清洗污渍和腐蚀的评价与实验例1相同，以水平A～C进行评价。表3示出其评价结果。

[表3]

由表3的结果可知，除了清洗污渍以外，从防止腐蚀的方面考虑，玻璃基板中包含的碱金属成分的含量优选为22.0摩尔％以下、更优选为20.0摩尔％以下。

(实验例4)

关于干燥处理槽22的第2液体中的水含量，进一步详细地进行研究，进行了清洗污渍的观察。此时，将第1液体的水含量固定为3.0重量％，对第2液体中的水含量进行各种变化时，在基于目视的观察中清洗污渍均为合格水平，此时，利用激光式表面检查装置详细地观察了清洗污渍。由此，在100片玻璃基板中，对产生目视无法看到的细小的清洗污渍(在玻璃基板的外周附近产生的清洗污渍)的玻璃基板的片数进行了调查，详细地评价了清洗污渍。下述表4示出评价结果。

[表4]

由表4的结果可知，即便在使第1液体的水含量为3.0重量％以上的情况下，通过使第2液体的水含量超过1.0重量％、优选为1.5重量％以上，也能够将产生了细小的清洗污渍的玻璃基板的片数抑制为每100片中为1片以下。

以上，对本发明的磁盘用玻璃基板的制造方法进行了详细说明，但是本发明不限定于上述实施方式和实施例，显然也可以在不脱离本发明主旨的范围内进行各种改良、变更。

符号说明

10 玻璃基板

12 碱清洗槽

14、18 纯水清洗槽

16 中性洗涤剂清洗槽

20 IPA清洗槽

22 干燥处理槽

Claims

1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括所述玻璃基板的表面的清洗处理、和在所述清洗处理后使所述表面干燥的干燥处理，

所述清洗处理包括将所述玻璃基板浸渍到第1液体中的第1液体处理，该第1液体包含沸点低于水的水溶性溶剂和水，

所述干燥处理为如下的处理：将所述玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中，一边在所述玻璃基板的表面形成液滴，一边使所述玻璃基板的液滴的至少一部分从所述玻璃基板滴下，并且使所述玻璃基板干燥，

所述第1液体包含所述水溶性溶剂作为主要成分，并包含3.0重量％以上的水，

所述第2液体的水的含量低于所述第1液体的水的含量。

2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，所述第2液体的水的含量超过1.0重量％。

3.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括所述玻璃基板的表面的清洗处理、和在所述清洗处理后使所述表面干燥的干燥处理，

所述干燥处理包括：将所述玻璃基板配置于包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体的蒸气中，一边在所述玻璃基板的表面形成液滴，一边使所述玻璃基板的液滴的一部分从所述玻璃基板滴下，

所述第1液体的水的含量高于所述第2液体的水的含量，

所述第2液体包含所述水溶性溶剂作为主要成分，并包含超过1.0重量％的所述水。

4.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，

所述玻璃基板含有碱金属成分，

所述清洗处理包括水处理，其中，将所述玻璃基板浸渍到温度为40℃以上50℃以下的水中从而对所述表面进行清洗。

5.如权利要求4所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，按照所述水处理、所述第1液体处理以及所述干燥处理的顺序来对所述玻璃基板进行处理。

6.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，所述水溶性溶剂为异丙醇。

7.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其中，所述玻璃基板的碱金属成分的总含量以氧化物基准计为22.0摩尔％以下。

8.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在由权利要求1～7中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法制造出的磁盘用玻璃基板的表面至少进行磁性膜的成膜。

9.一种清洗装置，其是玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

该清洗装置具备：

清洗槽，其中，为了浸渍所述玻璃基板，储存了包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第1液体；和

干燥处理槽，其中，具备包含沸点低于水的水溶性溶剂和水的第2液体、和包含处于所述第2液体的上方的所述第2液体的蒸气的空间，

所述干燥处理槽为了使浸渍于所述第1液体的所述玻璃基板干燥而按照下述方式构成了所述空间，即，将浸渍于所述第1液体的所述玻璃基板配置于所述第2液体的蒸气中，从而一边在所述玻璃基板的表面形成液滴，一边使所述玻璃基板的液滴的至少一部分从所述玻璃基板滴下，

所述第2液体的水的含量低于所述第1液体的水的含量。

10.如权利要求9所述的清洗装置，其中，所述第2液体的水的含量超过1.0重量％。

11.一种清洗装置，其是玻璃基板的清洗装置，其特征在于，

该清洗装置具备：

所述第1液体的水的含量高于所述第2液体的水的含量，

12.如权利要求9～11中任一项所述的清洗装置，其中，具备储存有浸渍所述玻璃基板的水的水清洗槽，其是为了进行所述玻璃基板的水清洗而设置的，

在所述储存有水的水清洗槽中所储存的水的温度为40℃以上50℃以下。

13.如权利要求12所述的清洗装置，其中，所述储存有第1液体的清洗槽的清洗处理是针对浸渍于所述储存有水的水清洗槽的所述玻璃基板而进行的。

14.如权利要求9～11中任一项所述的清洗装置，其中，所述水溶性溶剂为异丙醇。

15.如权利要求9～11中任一项所述的清洗装置，其中，所述玻璃基板为磁盘用的玻璃基板。