CN105867080A - 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括底涂层，所述底涂层的体积电阻率是1×1010Ω·cm至1×1013Ω·cm；所述底涂层包含(A)氧化锌颗粒，和(B)选自由被覆有掺杂有锌、铝、氟、钨、铌、钽和磷中任一种的氧化锡的氧化钛颗粒、和被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒组成的组中的至少一种颗粒；基于所述颗粒(A)的含量，所述底涂层中的颗粒(B)的含量是3质量％至20质量％。

Description

电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、和各自包括电子照相感光构件的处理盒与电子照相设备。
背景技术
各自包括依序形成于支承体上的底涂层和感光层的电子照相感光构件用作电子照相设备用电子照相感光构件。
存在将金属氧化物颗粒引入底涂层中以用于抑制电荷(例如，电子)在底涂层中的储存的目的的技术。金属氧化物颗粒之中，鉴于诸如体积电阻率和介电常数等电特性，氧化锌颗粒可以优选地用作底涂层中的金属氧化物颗粒。日本未经审查的专利申请公开No.2013-137526记载了将氧化锌颗粒引入底涂层中的技术。
发明内容
然而，当氧化锌颗粒用于底涂层中时，存在容易造成由于氧化锌颗粒的高粉末电阻而引起的重影和亮区电位的变动的问题。该问题的可想到的解决方案是增大氧化锌颗粒的含量，但是这具有出现裂纹的问题。此外，氧化锌颗粒具有支承体的线条和裂纹经过颗粒由于其高透明性而被看见的问题。已知的是包含氧化钛颗粒以用于隐蔽支承体的线条和裂纹，但是电荷的储存由于氧化钛颗粒的高粉末电阻而容易出现，因此容易增大亮区电位的变动。此外，电荷几乎不流进氧化钛颗粒，因而过多的电流容易局部地流进氧化锌颗粒，由此容易造成黑点。
本发明的目的是提供能够当底涂层包含氧化锌颗粒时满意地同时抑制亮区电位的变动和黑点并且隐蔽支承体的缺陷的电子照相感光构件。本发明的另一目的是提供各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
本发明涉及一种电子照相感光构件，其包括支承体、在支承体上的底涂层和在底涂层上的感光层。
所述底涂层的体积电阻率是1×1010Ω·cm至1×1013Ω·cm。
所述底涂层包含
(A)氧化锌颗粒，和
(B)选自由被覆有掺杂有锌、铝、氟、钨、铌、钽和磷中任一种的氧化锡的氧化钛颗粒、和被覆有氧缺少型氧化锡(oxygen-deficient tin oxide)的氧化钛颗粒组成的组中的至少一种颗粒。
基于所述颗粒(A)的含量，所述底涂层中的颗粒(B)的含量是3质量％至20质量％。
此外，本发明涉及处理盒，其包括所述电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组的至少之一，将所述电子照相感光构件和所述单元中的至少之一一体化支承。所述处理盒可拆卸自电子照相设备的主体。
此外，本发明涉及电子照相设备，其包括所述电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
本发明可以提供能够当底涂层包含氧化锌颗粒时满意地同时抑制亮区电位的变动和黑点并且隐蔽支承体的缺陷的电子照相感光构件。发明也可以提供各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
参考附图，从下述示例性实施方案的描述中本发明的进一步特征将变得显而易见。
附图说明
图1是示出设置有包括本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的实例的图。
图2A和2B是各自说明电子照相感光构件的层构造的实例的图。
图3是说明底涂层的体积电阻率的测量方法的图(俯视图)。
图4是说明底涂层的体积电阻率的测量方法的图(截面图)。
具体实施方式
本发明的电子照相感光构件包括支承体、在支承体上的底涂层、和在底涂层上的感光层。感光层的实例包括具有包含电荷产生物质和电荷输送物质的单一层的单层型感光层、和包括包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层的堆叠体的层叠型感光层。优选层叠型感光层。
图2A和2B各自示出本发明的电子照相感光构件的层构造的实例。图2A示出单层型感光层，并且在该类型中，底涂层102设置在支承体101上，并且感光层103设置在底涂层102上。图2B示出层叠型感光层，并且在该类型中，底涂层102设置在支承体101上，电荷产生层104设置在底涂层102上，并且电荷输送层105设置在电荷产生层104上。
本发明的底涂层具有以下特征。底涂层的体积电阻率是1×1010Ω·cm至1×1013Ω·cm。底涂层包含(A)氧化锌颗粒，和(B)选自由被覆有掺杂有锌、铝、氟、钨、铌、钽和磷中任一种的氧化锡的氧化钛颗粒、和被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒组成的组中的至少一种颗粒。基于颗粒(A)的含量，底涂层中的颗粒(B)的含量是3质量％至20质量％。
本发明人猜想具有上述特征的电子照相感光构件能够满意地同时抑制亮区电位的变动和黑点并且隐蔽支承体的缺陷的原因如下。
考虑到通过使用被覆有氧化锡的氧化钛颗粒，过多的电荷局部注入氧化锌颗粒中得以抑制，并且抑制了黑点。还考虑到用氧化锡被覆氧化钛改善导电性，并且改善从感光层的表面开始的电荷流动的效果抑制了亮区电位的变动。另外，氧化钛颗粒的氧化锡与锌、铝、氟、钨、铌、钽和磷的任一种掺杂，或者氧化锡具有氧缺少型氧化锡的特征。因此，过多的电荷局部注入氧化锌颗粒中进一步得以抑制。
底涂层的体积电阻率是1×1010Ω·cm至1×1013Ω·cm。当底涂层的体积电阻率为小于1×1010Ω·cm时，流进底涂层中的电流量增大。特别地，当电荷产生层形成于底涂层上时，电荷注入容易发生，并且黑点容易出现。另一方面，当底涂层的体积电阻率为大于1×1013Ω·cm时，电荷几乎不流进底涂层，因而电荷储存容易在底涂层的界面中出现，由此容易增大亮区电位的变动。
本发明中，基于颗粒(A)的含量，底涂层中的颗粒(B)的含量是3质量％至20质量％。当颗粒(B)的含量为小于3质量％时，不能容易控制隐蔽支承体的缺陷的效果。另一方面，当颗粒(B)的含量超过20质量％时，电荷优先流进底涂层的颗粒(B)，并且黑点容易局部地出现。
底涂层的体积电阻率的测量方法通过使用图3和4来描述。图3是说明底涂层的体积电阻率的测量方法的俯视图。图4是说明底涂层的体积电阻率的测量方法的截面图。
底涂层的体积电阻率在室温和常湿(23℃/50％RH)的环境下测量。将铜带203(由Sumitomo 3M Ltd.制造，型号No.1181)施加至底涂层202的表面并且用作底涂层202的表面侧电极。此外，支承体201用作底涂层202的背面侧电极。另外，安装用于在铜带203与支承体201之间施加电压的电源206、和用于测量在铜带203与支承体201之间流动的电流的电流测量装置207。此外，铜线204放在铜带203上以便将电压施加至铜带203。此外，与铜带203相同的铜带205施加在铜线204上，以致铜线204不从铜带203突出，并且将铜线204固定至铜带203。将电压通过使用铜线204施加至铜带203。
下面由式(1)表示的值用作底涂层202的体积电阻率ρ(Ω·cm)。
ρ＝1/(I-I0)×S/d(Ω·cm) ...(1)
等式中，I0表示当电压不施加在铜带203与支承体201之间时的背景电流值(A)，I表示当施加仅包含DC组分的1V的电压时的电流值(A)，d表示底涂层202的厚度(cm)，并且S表示底涂层202的表面侧电极(铜带203)的面积(cm2)。
测量中，由于测量的是1×10-6A以下的微电流量，因此能够测量微电流的装置优选用作电流测量装置207。这样的装置的实例是由YokogawaHewlett-Packard Company制造的pA计(商品名：4140B)。
底涂层的体积电阻率的测量在仅底涂层形成于支承体上的状态下和在底涂层上的各层(感光层等)从电子照相感光构件中分离、在支承体上仅留下底涂层的状态下显示出相同的值。
为了使底涂层的体积电阻率在上述范围内，优选使用粉末电阻率为1.0×102Ω·cm至1×1010Ω·cm的颗粒(B)。粉末电阻率更优选为1.0×102Ω·cm至1×108Ω·cm和仍更优选地1.0×105Ω·cm至1×108Ω·cm。当颗粒(B)具有在上述范围内的粉末电阻率时，底涂层的体积电阻率可以容易地控制在该范围内，并且电子照相感光构件的带电性可以容易地维持。
颗粒(B)更优选为被覆有掺杂有铝的氧化锡的氧化钛颗粒、被覆有掺杂有锌的氧化锡的氧化钛颗粒、或被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒。这些颗粒进一步抑制过多电荷局部注入氧化锌颗粒，由此显示优异的黑点的抑制。
基于总的颗粒(B)，颗粒(B)中氧化锡(SnO2)的比例(覆盖率)优选为10％至60质量％和更优选地15％至55质量％。为了控制氧化锡的覆盖率，当生产颗粒(B)时，优选混合形成氧化锡所必要的锡原料。例如，考虑到由用作锡原料的氯化锡形成的氧化锡的覆盖率来确定四氯化锡(SnCl4)的添加量。本发明中，氧化锡的覆盖率中不考虑掺杂进氧化锡的锌、铝、氟、钨、铌、钽或磷的质量。当氧化锡的覆盖率是10％至60质量％时，颗粒(B)容易被不均匀被覆。
描述其中颗粒(B)是被覆有掺杂有锌、铝、氟、钨、铌、钽和磷中任一种的氧化锡的氧化钛颗粒的情况。基于颗粒(B)中的氧化锡，掺杂进氧化锡的锌、铝、氟、钨、铌、钽或磷的量(掺杂量)优选为0.1质量％至10质量％。在掺杂量在该范围内的情况下，可以抑制黑点，并且颗粒(B)的粉末电阻率可以容易地控制在1.0×102Ω·cm至1×108Ω·cm的范围内。
颗粒(B)的粉末电阻率在室温和常湿(23℃/50％RH)的环境中如下测量。本发明中，由Mitsubishi chemical Co.,Ltd.制造的电阻测量装置(商品名，Loresta GP)用作测量装置。粒状测量样品通过在500kg/cm2的压力下将待测量的粉体(B)固定来形成。施加的电压是100V。
颗粒(B)的粉末电阻率可以通过氧化锡的覆盖率、烧结时间或烧结温度来控制。
当颗粒(B)的粉末电阻率是1.0×102Ω·cm至1×105Ω·cm时，黑点和亮区电位的变动的抑制是更优异的。
从可以容易地控制由于光透过性而造成的支承体的裂纹隐蔽性与导电性粉体的量之间的比例的观点，颗粒(B)的平均一次粒径优选为100nm至500nm。
氧化锌颗粒可以是用如硅烷偶联剂等的表面处理剂处理以用于抑制由于电荷从支承体注入感光层侧而引起黑点的颗粒。
硅烷偶联剂的实例包括N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、(苯基氨甲基)甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨基异丁基甲基二甲氧基硅烷、N-乙基氨基异丁基甲基二乙氧基硅烷、N-甲基氨丙基甲基二甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、和3-巯丙基三甲氧基硅烷等。
氧化锌颗粒的平均一次粒径不特别限定，只要可以获得电子照相特性即可，但是从导电性的观点优选为10nm至200nm和更优选地20nm至150nm。
氧化锡被覆的颗粒(颗粒(B))的平均一次粒径不特别限定，只要可以获得支承体的缺陷隐蔽性和电子照相特性即可，但是优选为50nm至300nm和更优选地100nm至200nm。
底涂层优选包含粘结剂树脂。粘结剂树脂的实例包括丙烯酸类树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、乙基纤维素树脂、乙烯-丙烯酸共聚物、环氧树脂、酪蛋白树脂、硅酮树脂、明胶树脂、酚醛树脂、聚氨酯树脂、丁缩醛树脂、三聚氰胺树脂、聚丙烯酸酯、聚缩醛、聚酰胺-酰亚胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、聚酰亚胺、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚砜、聚乙烯醇、聚丁二烯、和聚丙烯等。
这些之中，从抑制电位变动的环境依赖性的观点优选固化性树脂。固化性树脂的实例包括酚醛树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、丙烯酸类树脂和三聚氰胺树脂。
聚氨酯树脂由异氰酸酯化合物与多元醇树脂的固化产物组成。
异氰酸酯化合物的实例包括2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、二苯甲烷-4,4'-二异氰酸酯、1-异氰酸酯基-3,3,5-三甲基-5-异氰酸甲酯基环己烷(异佛尔酮二异氰酸酯，IPDI)、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、HDI-三羟甲基丙烷加合物、HDI-异氰脲酸酯、和HDI-缩二脲。
这些异氰酸酯化合物之中，从容易增大交联密度和抑制水的吸附的观点，特别优选如六亚甲基二异氰酸酯、和异佛尔酮二异氰酸酯等的脂族二异氰酸酯。
从底涂层用涂布液的溶液稳定性的观点，异氰酸酯优选为用封端剂封端的封端异氰酸酯。封端剂的实例包括肟系化合物，如甲醛肟、乙醛肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟、丙酮肟、和甲基异丁基酮肟等；活性亚甲基系化合物，如米氏酸(Meldrum's acid)、丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、乙酸乙酯、和乙酰丙酮等；胺系化合物，如二异丙基胺、二苯基苯胺、苯胺、和咔唑等；亚胺系化合物，如乙烯亚胺、和聚乙烯亚胺等；酸酰亚胺系化合物，如琥珀酸酰亚胺、马来酸酰亚胺等；咪唑系化合物，如丙二酸酯、咪唑、苯并咪唑、和2-甲基咪唑等；三唑系化合物，如1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、4-氨基-1,2,4-三唑、和苯并三唑等；酸酰胺系化合物，如乙酰苯胺、N-甲基乙酰胺、和乙酸酰胺等；内酰胺系化合物，如ε-己内酰胺、ε-戊内酰胺、γ-丁内酰胺等；尿素系化合物，如尿素、硫脲、和亚乙基脲等；亚硫酸盐，如亚硫酸氢钠等；硫醇系化合物，如丁基硫醇、和十二烷基硫醇等；酚系化合物，如苯酚、和甲酚等；吡唑系化合物，如吡唑、3,5-二甲基吡唑、和3-甲基吡唑等；醇系化合物，如甲醇、乙醇、2-丙醇、和正丁醇等；和两种以上的这些封端剂的组合。
多元醇树脂的实例包括聚乙烯醇缩醛、多酚、聚乙二醇、聚碳酸酯二醇、聚醚多元醇、和聚丙烯酰基多元醇等。本发明中，特别优选聚乙烯醇缩醛。
底涂层可以包含有机酸金属盐，并且其实例包括有机酸铋、有机酸锌、有机酸钴和有机酸铁。
具体地，优选辛酸铋、辛酸锌、辛酸钴、辛酸铁、环烷酸铋、环烷酸锌、环烷酸钴、和环烷酸铁。更优选辛酸铋、辛酸锌、辛酸钴和辛酸铁，并且特别优选辛酸铋和辛酸锌。
底涂层中的金属氧化物颗粒(氧化锌颗粒(B)与金属氧化物颗粒的总和)与粘结剂树脂的含量比(金属氧化物颗粒:树脂)优选为1:1至4:1(质量比)。当该质量比是1:1至4:1时，满意地抑制在重复使用期间的亮区电位的变动，并且进一步满意地抑制底涂层中龟裂的出现。
有机酸金属盐(有机酸铋、有机酸锌、有机酸钴或有机酸铁)与金属氧化物颗粒的含量比(有机酸金属盐:金属氧化物颗粒)优选为1:200至2:10(质量比)。当该质量比是1:200至2:10时，满意地抑制在重复使用期间的亮区电位的变动，并且在重复使用期间满意地抑制在室温和常湿的环境中的亮区电位的变动与在高温和高湿下的亮区电位的变动之间的差异。
[支承体]
支承体优选具有导电性(导电性支承体)，并且例如是由如铝、不锈钢、铜、镍、或锌等、或其合金等的金属或合金制成的支承体。当使用由铝或铝合金制成的支承体时，可以使用ED管，EI管，或进行切削、电解复合研磨、或者湿式或干式珩磨处理这样的管材。
此外，金属支承体或其上形成了如铝、铝合金、或氧化铟-氧化锡合金等的导电性材料的薄膜的树脂支承体可以用作所述支承体。
另外，出于抑制由于激光束的散射而引起的干涉条纹的目的，支承体的表面可以进行切削处理、粗糙化处理、或氧化铝膜处理等。
出于抑制由于激光束的散射而引起的干涉条纹和隐蔽支承体上的裂纹的目的，导电层可以设置在支承体与底涂层之间。
导电层可以通过施涂导电层用涂布液从而形成膜，然后加热干燥该膜来形成，所述涂布液是通过分散导电性颗粒如炭黑、金属颗粒、或金属氧化物颗粒等，粘结剂树脂，和溶剂制备的。
可以用于导电层的粘结剂树脂的实例包括聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、丙烯酸类树脂、硅酮树脂、环氧树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、和醇酸树脂等。
导电层用涂布液中的溶剂的实例包括醚类溶剂、醇类溶剂、酮类溶剂、和芳族烃类溶剂等。导电层的厚度优选为5μm至40μm和更优选地10μm至30μm。
底涂层设置在支承体或导电层与感光层(电荷产生层和电荷输送层)之间。
底涂层可以通过形成借助于将氧化锌颗粒、颗粒(B)、粘结剂树脂、和溶剂混合和分散而制备的底涂层用涂布液的膜，然后干燥该膜来形成。
分散方法例如是，使用均质器、超声分散机、球磨机、砂磨机、辊磨机、振动磨机、磨碎机、或液体碰撞型高速分散机等的方法。
用于底涂层用涂布液中的溶剂可以任意地选自例如，醇类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂、卤代烃类溶剂、和芳族溶剂等。可以适当地使用的实例包括甲缩醛、四氢呋喃、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、甲基溶纤剂、甲氧基丙醇、丙酮、甲乙酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、和二噁烷等。
用于底涂层用涂布液中的这些溶剂可以单独或作为两种以上的混合物来使用。
另外，出于调节底涂层的表面粗糙度和减少底涂层中龟裂的出现的目的，底涂层可以进一步包含有机树脂颗粒或流平剂。有机树脂颗粒的实例包括疏水性有机树脂颗粒，如硅酮颗粒等，和亲水性有机树脂颗粒，如交联型聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)颗粒等。
此外，底涂层可以包含添加剂以用于改善电特征，改善膜形状稳定性，和改善图像品质。
可以包含的添加剂的实例包括已知的材料，如导电性材料，如例如铝粉、和铜粉等的金属，和炭黑，等等；
电子输送物质，如醌化合物、芴酮化合物、噁二唑化合物、联苯醌化合物、茜素(alizalin)化合物、和二苯甲酮化合物等；
电子输送颜料，如多环缩合化合物、和偶氮化合物等；有机金属化合物如金属螯合物；和硅烷偶联剂，等等。
从抑制底涂层的龟裂的观点和从底涂层的树脂膜的强度的观点，底涂层的干燥温度优选为100℃至190℃。当使用聚氨酯树脂时，从抑制龟裂的观点和从固化性的观点，底涂层的干燥温度优选为130℃至170℃。此外，干燥时间优选为10分钟至120分钟。
底涂层的厚度优选为0.5μm至40μm。当不设置导电层时，从覆盖率的观点，底涂层的厚度优选为10μm至40μm和更优选地15μm至35μm。当设置导电层时，底涂层的厚度优选为0.5μm至10μm。
为了阻止从底涂层到感光层的电荷注入，中间层可以设置在底涂层与感光层之间以用于赋予电阻隔性的目的。
中间层可以通过将包含树脂(粘结剂树脂)的中间层用涂布液施涂至底涂层从而形成膜，然后干燥该膜来形成。
可以用于中间层的树脂(粘结剂树脂)的实例包括聚乙烯醇、聚乙烯基甲基醚、聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚谷氨酸、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺-酰亚胺、聚酰胺酸、三聚氰胺树脂、环氧树脂、聚氨酯、和聚谷氨酸酯等。
中间层的厚度优选为0.1μm至2μm。
此外，中间层可以包括含有具有反应性官能团(聚合性官能团)的电子输送物质的组合物的聚合物，以用于改善从感光层到支承体的电荷流动。当感光层形成于中间层上时，这可以抑制中间层的材料洗脱到感光层用涂布液的溶剂中。
电子输送物质的实例包括醌化合物、酰亚胺化合物、苯并咪唑化合物、和亚环戊二烯基(cyclopentadienylidene)化合物等。
反应性官能团的实例包括羟基、硫醇基、氨基、羧基、和甲氧基等。
中间层的组合物中的具有反应性官能团的电子输送物质的含量优选为30质量％至70质量％。该组合物可以进一步包含具有可与具有反应性官能团的电子输送物质反应的基团的交联剂、或具有聚合性官能团的热塑性树脂。具有反应性基团的交联剂的实例包括异氰酸酯化合物等。
感光层(电荷产生层和电荷输送层)设置在底涂层或中间层上。
电荷产生层可以通过施涂借助于将电荷产生物质、粘结剂树脂和溶剂分散而制备的电荷产生层用涂布液从而形成膜，然后干燥该膜来形成。电荷产生层可以包括电荷产生物质的气相沉积膜。
用于电荷产生层中的电荷产生物质的实例包括偶氮颜料、酞菁颜料、靛蓝颜料、苝颜料、多环醌颜料、方酸菁(squarylium)染料、噻喃鎓盐、三苯甲烷染料、喹吖啶酮颜料、薁鎓(azulenium)盐颜料、花青染料、二苯并芘二酮(anthanthrone)颜料、皮蒽酮颜料、呫吨染料、醌亚胺染料、和苯乙烯基染料等。
这些电荷产生物质可以单独或以两种以上的组合来使用。这些之中，从感光性的观点优选氧钛酞菁、氯镓酞菁和羟基镓酞菁。
此外，羟基镓酞菁优选为具有在CuKα特征的X-射线衍射中在2θ为7.4°±0.3°和28.2°±0.3°的布拉格角处具有峰的晶型的羟基镓酞菁晶体。
在层叠型感光层的情况下，用于电荷产生层中的粘结剂树脂的实例包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、丁缩醛树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯树脂、和尿素树脂等。这些之中，优选丁缩醛树脂。这些粘结剂树脂可以单独使用，或作为两种以上的混合物或共聚物来组合使用。
用于电荷产生层用涂布液中的溶剂的实例包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂、和芳族烃类溶剂等。
电荷产生层的厚度优选为0.01μm至5μm和更优选地0.1μm至2μm。
如果需要，感光剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂和增塑剂等可以添加至电荷产生层。
另外，电荷输送层形成于电荷产生层上。电荷输送层可以通过施涂借助于将电荷输送物质和粘结剂树脂溶解在溶剂中而制备的电荷输送层用涂布液从而形成膜，然后干燥该膜来形成。
用于电荷输送层中的电荷输送物质的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、芪化合物、和丁二烯化合物等。这些电荷输送物质可以单独或以两种以上的组合来使用。这些电荷输送物质之中，从电荷迁移率的观点优选三芳胺化合物。
在层叠型感光层的情况下，用于电荷输送层中的粘结剂树脂的实例包括丙烯酸类树脂、丙烯腈树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、酚醛树脂、苯氧基树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺-酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚烯丙基醚树脂、聚芳酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、聚乙烯树脂、聚碳酸酯树脂、聚砜树脂、聚苯醚树脂、聚丁二烯树脂、聚丙烯树脂、和甲基丙烯酸类树脂等。这些之中，优选聚芳酯树脂和聚碳酸酯树脂。这些树脂可以单独或以两种以上的混合物或共聚物组合来使用。
用于电荷输送层用涂布液中的溶剂的实例包括醇类溶剂、亚砜类溶剂、酮类溶剂、醚类溶剂、酯类溶剂、和芳族烃类溶剂等。
关于电荷输送层中电荷输送物质与粘结剂树脂的比例，基于每质量份粘结剂树脂，电荷输送物质的比例优选为0.3质量份至10质量份。
从抑制电荷输送层中的龟裂的观点，干燥温度优选为60℃至150℃和更优选地80℃至120℃。此外，干燥时间优选为10分钟至60分钟。
当电荷输送层是单一层时，电荷输送层的厚度优选为5μm至40μm和更优选地8μm至30μm。当电荷输送层具有层叠结构时，支承体侧上的电荷输送层的厚度优选为5μm至30μm，并且表面侧上的电荷输送层的厚度优选为1μm至10μm。
如果需要，抗氧化剂、紫外线吸收剂、和增塑剂等可以添加至电荷输送层。
此外，本发明中，出于改善耐摩耗性和清洁性的目的，保护层可以设置在电荷输送层上。
保护层可以通过借助于施涂将粘结剂树脂溶解在有机溶剂中而制备的保护层用涂布液从而形成膜，然后干燥该膜来形成。
用于保护层中的树脂的实例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚芳酯树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、和苯乙烯-丙烯腈共聚物等。
此外，为了赋予保护层以电荷输送性，保护层可以通过将具有电荷输送能力的单体材料或聚合物型电荷输送物质使用各种交联反应的任一种固化来形成。保护层优选借助于将具有链聚合性官能团的电荷输送化合物通过聚合或交联来固化形成。
链聚合性官能团的实例包括丙烯酰基、甲基丙烯酰基、烷氧基甲硅烷基、和环氧基等。固化反应例如是自由基聚合、离子聚合、热聚合、光聚合、辐射聚合(电子束聚合)、等离子体CVD法、或光CVD法等。
如果需要，保护层可以进一步包含导电性颗粒、紫外线吸收剂、和耐摩耗性改良剂等。导电性颗粒优选为如氧化锡颗粒等的金属氧化物颗粒。耐摩耗性改良剂例如是如聚四氟乙烯颗粒等的含氟原子的树脂颗粒，氧化铝，或二氧化硅等。
各层用涂布液可以通过使用诸如浸涂法、喷涂法、旋涂法、辊涂法、迈耶棒涂法、或刮刀涂布法等的涂布方法来施涂。
保护层的厚度优选为0.5μm至20μm和更优选地1μm至10μm。
<电子照相设备>
图1示出设置有包括本发明电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造。
图1中，将本发明的鼓状电子照相感光构件1在规定的圆周速度(处理速度)下绕着轴2沿箭头的方向旋转地驱动。将电子照相感光构件1的表面在旋转过程中通过充电单元3(一次充电单元：充电辊)充电至规定正或负电位。接下来，电子照相感光构件1接受曝光光4，其为从原稿反射的光并且从狭缝曝光或激光束扫描曝光的曝光单元(未示出)输出，具有响应于目标图像形成的时间序列的电子数字信号而调制的强度。结果，对应于目标图像信息的静电潜像循序地形成于电子照相感光构件1的表面上。
然后形成于电子照相感光构件1的表面上的静电潜像用显影单元5中的显影剂中包含的调色剂通过正常显影或反转显影来显影，从而形成调色剂图像。接下来，将形成并保持在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像通过从转印单元6(转印辊等)施加的转印偏压循序地转印至转印材料P。
在该情况下，将转印材料P与电子照相感光构件1的旋转同步地从转印材料进给单元(未示出)取出，并且进给至电子照相感光构件1与转印单元6之间的接触部。另外，将具有与由调色剂所拥有的电荷相反的极性的偏压从偏压电源(未示出)施加至转印单元6。
将已经转印了调色剂图像的转印材料P(最终转印材料(纸张或膜))从电子照相感光构件1的表面剥离，递送至其中将调色剂图像定影的定影单元8，然后作为图像形成物(打印件或复印件)打印输出到电子照相设备的外部。当转印材料P是中间转印材料时，通过在多个转印步骤之后的定影来打印输出图像。
在已经转印调色剂图像之后，电子照相感光构件1的表面通过清洁单元7(清洁刮板等)清洁，从而除去附着的材料如转印残余显影剂(转印残余调色剂)。
近年来，已经研究了无清洁器系统，并且转印残余调色剂可以通过显影单元直接除去。此外，将电子照相感光构件1的表面用来自预曝光单元(未示出)的预曝光光(未示出)来去静电(destaticized)，然后重复用于图像形成。如图1中所示，当充电单元3是使用充电辊的接触式充电单元时，预曝光不是必须需要的。
本发明中，选自电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元7的多个组件可以保持在容器中并且一体化组合为处理盒。
可以将处理盒构造为可拆卸自复印机或激光束打印机等的电子照相设备的主体。例如，在盒中一体化支承电子照相感光构件1和充电单元3、显影单元5与清洁单元7中的至少之一。该盒可以用作处理盒9，所述处理盒9是使用如电子照相设备的主体的导轨等的引导单元10而可拆卸自电子照相设备的主体。
当电子照相设备是复印机或打印机时，曝光光4是来自原稿的反射光或透射光。可选地，曝光光4是根据通过用传感器读取原稿而得到的信号通过激光束扫描、LED阵列驱动、或液晶快门阵列驱动照射的光。
本发明的电子照相感光构件可以不仅应用于该电子照相设备，而且可应用于诸如激光束打印机、LED打印机、FAX、液晶快门型打印机等的通常的电子照相设备。
实施例
本发明以下通过给出实施例进一步详细地来描述。然而，本发明不限于这些实施例。此外，下述的"份"表示"质量份"。
[被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛的生产例]
被覆有掺杂有铝的氧化锡的氧化钛颗粒可以如下来生产。掺杂元素的种类与量和锡酸钠的量根据各实施例来改变。
首先，将200g氧化钛颗粒(平均一次粒径200nm)分散在水中。然后，将208g具有41％锡含量的锡酸钠(Na2SnO3)添加至所得分散液且溶解，从而制备混合浆料。然后，锡通过在循环混合浆料的同时添加20％稀硫酸水溶液(质量基准)来中和。添加稀硫酸水溶液直到混合浆料变成pH2.5。中和之后，将氯化铝(基于Sn为8mol％)添加至混合浆料，并且将混合浆料搅拌。结果，获得预期颗粒的前体。将前体用热水洗涤并且进行脱水过滤，从而生产出一种固体。将所得固体在2体积％H2/N2气氛中、500℃下还原烧结1小时。结果，生产了目标导电性颗粒。铝的掺杂量是1.7质量％。
氧化锡中铝的掺杂量(质量％)可以通过例如使用由Spectris Co.,Ltd.制造的波长分散型荧光X-射线分光仪(商品名：Axios)来测量。将感光层和如果需要的底涂层从电子照相感光构件中剥离，刮掉底涂层，并且刮掉的底涂层可以用作测量目标。此外，与底涂层相同的材料的粉体可以用作测量目标。
铝的掺杂量是基于氧化锡的质量由氯化铝(Al2O3)的质量计算的值。
[被覆有锌掺杂的氧化锡的颗粒的生产例]
被覆有掺杂有锌的氧化锡的氧化钛颗粒可以如下来生产。掺杂元素的种类与量和锡酸钠的量根据各实施例来改变。
首先，将200g氧化钛颗粒(平均一次粒径200nm)分散在水中。然后，将208g具有41％锡含量的锡酸钠(Na2SnO3)添加至所得分散液且溶解，从而制备混合浆料。然后，锡通过在循环混合浆料的同时添加20％稀硫酸水溶液(质量基准)来中和。添加稀硫酸水溶液直到混合浆料变成pH2.5。中和之后，将氯化锌(II)(基于Sn为1mol％)添加至混合浆料，并且将混合浆料搅拌。结果，获得预期导电性颗粒的前体。将前体用热水洗涤并且进行脱水过滤，从而生产出一种固体。将所得固体在2体积％H2/N2气氛中、500℃下还原烧结1小时。结果，生产了目标导电性颗粒。掺杂进氧化锡的锌的质量比是1.7质量％。
氧化锡中锌的掺杂量(质量％)可以通过例如使用由Spectris Co.,Ltd.制造的波长分散型荧光X-射线分光仪(商品名：Axios)来测量。将感光层和如果需要的底涂层从电子照相感光构件中剥离，刮掉底涂层，并且刮掉的底涂层可以用作测量目标。此外，与底涂层相同的材料的粉体可以用作测量目标。
锌的掺杂量是基于氧化锡的质量由氯化锌的质量计算的值。
实施例1
直径为30mm和长度为357.5mm的铝圆筒体(导电性支承体)用作支承体。
接下来，100份氧化锌颗粒(比表面积：15m2/g，粉末电阻率：3.7×105Ω·cm)与500份甲苯通过搅拌混合。然后，将1.5份用作硅烷偶联剂的N-(2-氨乙基)-3-氨丙基三甲氧基硅烷(商品名：KBM603，由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)添加至所得混合物并且搅拌6小时。然后，将甲苯在减压下蒸馏掉，并且将残余物通过在140℃下加热6小时来干燥，从而生产了表面处理的氧化锌颗粒。
接下来，将15份作为多元醇树脂的缩丁醛树脂(商品名：BM-1，由SekisuiChemical Co.,Ltd.制造)和15份封端异氰酸酯(商品名：Desmodur BL3175/1，由Sumika Bayer Urethane Co.,Ltd.制造)溶解在包含73.5份甲乙酮和73.5份1-丁醇的混合溶剂中。然后，将78份表面处理的氧化锌颗粒、9份被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：40％)、0.8份茜素(由Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造)、和0.81份辛酸锌(商品名：NikkaOctycs zinc，Zn 8％，由Nihon Kagaku Sangyo Co.,Ltd.制造)添加至所得溶液，然后将所得混合物在23±3℃的环境中在使用直径为0.8mm的玻璃珠的砂磨机中分散3小时。
分散之后，将0.01份硅油(商品名：SH28PA，由Dow Corning Toray SiliconeCo.,Ltd.制造)和5.6份硅酮树脂颗粒(商品名：Tospearl 145，由GE ToshibaSilicone Co.,Ltd.制造)添加至所得分散液并且搅拌，从而形成底涂层用涂布液。
接下来，将底涂层用涂布液通过浸涂来施涂至支承体从而形成膜。将所得膜在150℃下干燥30分钟，从而形成厚度为20μm的底涂层。
接下来，制备具有在CuKα特征的X-射线衍射中在2θ±0.2°为7.4°和28.1°的布拉格角处具有峰的晶型的羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)。
然后，将4份羟基镓酞菁晶体和0.04份由下式(A)表示的化合物添加至通过将2份聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-Lec BX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)溶解于100份环己酮中制备的溶液。将所得混合物在23±3℃的环境中在使用直径为1mm的玻璃珠的立式砂磨机中分散1小时。分散之后，将100份乙酸乙酯添加至所得分散液，从而制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液通过浸涂来施涂至底涂层从而形成膜，并且将所得膜在110℃下干燥10分钟，从而形成厚度为0.20μm的电荷产生层。
接下来，将50份由下式(B)表示的胺化合物(电荷输送物质)、50份由下式(C)表示的胺化合物(电荷输送物质)、和100份聚碳酸酯树脂(商品名：IupilonZ400，由Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.制造)溶解于包含650份氯苯和150份二甲氧基甲烷的混合溶剂中，从而制备电荷输送层用涂布液。使所得电荷输送层用涂布液放置1天，然后将其通过浸涂来施涂至电荷产生层从而形成膜，并且将所得膜在110℃下干燥30分钟，从而形成厚度为21μm的电荷输送层。
接下来，将36份由下式表示的化合物(D)和4份聚四氟乙烯树脂颗粒(商品名：Ruburon L-2，由Daikin Industries,Ltd制造)与60份正丙醇混合，并且将所得混合物在高压分散机中分散，从而制备保护层用涂布液。
将保护层用涂布液通过浸涂来施涂至电荷输送层从而形成膜，并且将该膜在50℃下干燥5分钟。干燥之后，在氮气氛中、在包括70kV的加速电压和8000Gy的吸收光量的条件下，在将支承体旋转的同时，将该膜用电子束照射1.6秒。然后，将该膜在氮气氛中、在该膜在130℃下加热的条件下加热3分钟。另外，从用电子束照射开始到加热3分钟时的氧浓度是20ppm。接下来，将该膜在空气中、在该膜在100℃下的条件下加热30分钟，从而形成厚度为5μm的保护层。
结果，生产了电子照相感光构件，其中底涂层、电荷产生层、电荷输送层和保护层设置在支承体上。接下来，描述评价。
<在重复使用期间的亮区电位的变动的评价>
由Canon Kabushiki Kaisha制造的电子照相复印机(商品名：GP405，改造以致处理速度为300mm/s，并且充电单元是将交流电压叠加在直流电压上的电压施加至辊型接触充电构件(充电辊))用作评价设备。将上述电子照相感光构件设置在评价设备的鼓盒上，并且如下所述评价。
评价设备安装在温度23℃/湿度50％RH的室温常湿的环境下和在温度30℃/湿度85％RH的高温高湿的环境下。充电条件包括在施加至充电辊的电压的交流组分中1500V的峰间电压、1500Hz的频率和-850V的直流组分。曝光条件调节为0.4μJ/cm2。
电子照相感光构件的表面电位通过将电位探针(商品名：Model 16000B-8，由Trek Inc.制造)固定至从评价设备中拆除的显影盒且使用表面电位计(商品名：Model 1344，由Trek Inc.制造)来测量。在电位测量设备中，将电位测量探针放在显影盒的显影位置。电位测量探针相对于电子照相感光构件的位置位于沿电子照相感光构件的轴向的中央，并且距离电子照相感光构件的表面3mm的间隙处分离。
接下来，描述评价。在对于各电子照相感光构件初始设定的充电条件和曝光条件下进行评价。
使电子照相感光构件在温度23℃和湿度50％RH的环境中放置24小时。然后，将附加电子照相感光构件的显影盒设置在电子照相感光构件通过进给50,000张纸来重复使用的评价设备上。在电子照相感光构件通过进给50,000张纸来重复使用之前测量初始亮区电位(VIJa)。
在已经进给50000张纸之后，使电子照相感光构件放置5分钟，然后将显影盒用电位测量装置替代，并且测量进给50000张纸之后的亮区电位(VIJb)。另外，计算重复使用时的亮区电位的变动(ΔVIJ＝|VIJb|-|VIJa|)。
在该情况下，VIJa是在重复使用之前的初始亮区电位。另外，|VIJb|和|VIJa|分别表示VIJb和VIJa的绝对值。
<支承体的缺陷隐蔽性的评价>
支承体的缺陷隐蔽性的评价方法是测量在透明膜上以20μm的厚度形成的底涂层的透过率。透过率通过将膜保持架设置在V-570(由JASCO制造)上并且将未涂布的透明作为参照来测量。透过率通过使用在800nm波长下的光来确定并且分类为下述等级。
等级1：0.5％以下的透过率
等级2：大于0.5％且小于0.8％的透过率
等级3：0.8％以上的透过率
<黑点的评价>
通过以下来评价黑点：形成具有厚度为10μm的电荷输送层的电子照相感光构件，并且使用上述改造的GP405输出白色调图像。将白色调图像的输出结果分类为下述等级。等级1至3认为是显示了本发明的效果的水平。
等级1：1个黑点在对应于感光构件的周长的范围内。
等级2：2个黑点在对应于感光构件的周长的范围内。
等级3：3个黑点在对应于感光构件的周长的范围内。
等级4：4个黑点在对应于感光构件的周长的范围内。
等级5：5个黑点在对应于感光构件的周长的范围内。
比较例1
除了不包含实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
比较例2
除了实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒的量改变为2.1份之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
比较例3
除了在实施例1中，表面处理的氧化锌颗粒的量改变为105份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒的量改变为2.4份之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
比较例4
除了实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒的量改变为33份之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例2
除了实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×102Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例3
除了实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×109Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例4
除了实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有氟掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
比较例5
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为105份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为36份被覆有氟掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×102Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
比较例6
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为60份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为3份被覆有氟掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×106Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例5
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为81份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有钨掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例6
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为78份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为12份被覆有铌掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×104Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例7
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为90份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为12份被覆有钽掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×104Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例8
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为75份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有磷掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×103Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例9
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为78份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为9份被覆有锌掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×107Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例10
除了实施例1的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒的量改变为15.6份之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例11
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为90份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒的量改变为15份之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例12
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为75份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
比较例7
除了在实施例1中，氧化锌颗粒的量改变为75份，并且被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒改变为15份被覆有锑掺杂的氧化锡的氧化钛颗粒(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：40％)之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
实施例13
除了实施例1的底涂层如下所述改变之外，电子照相感光构件通过与实施例1中相同的方法来形成和评价。
首先，100份氧化锌颗粒(比表面积：19m2/g，粉末电阻率：1.0×108Ω·cm)与500份甲苯在搅拌下混合。然后，将1.0份硅烷偶联剂(表面处理剂)添加至所得混合物并且在搅拌下混合6小时。然后，将甲苯在减压下蒸馏掉，并且将残余物在140℃下干燥6小时，从而生产了用硅烷偶联剂表面处理的氧化锌颗粒。在该实施例中，N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷(商品名：KBM602，由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)用作硅烷偶联剂。
接下来，将15份作为多元醇树脂的丁缩醛树脂(商品名：BM-1，由SekisuiChemical Co.,Ltd.制造)和15份封端的异氰酸酯树脂(商品名：TPA-B80E，80％溶液，由Asahi Kasei Kogyo Co.,Ltd.制造)溶解于包含73.5份甲乙酮和73.5份环己酮的混合溶剂中，从而制备了一种溶液。
然后，将78份上述用硅烷偶联剂表面处理的氧化锌颗粒、9份被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛(粉末电阻率：1×108Ω·cm，SnO2被覆率：35％)、和0.8份2,3,4-三羟基二苯甲酮(由Tokyo Chemical Industry Co.,Ltd.制造)添加至所得溶液，然后将所得混合物在使用180份平均粒径为1.0mm的玻璃珠作为分散介质的立式砂磨机中、在23±3℃的环境中、在1500rpm的旋转速度(圆周速度5.5m/s)的条件下分散4小时。
分散之后，将0.01份硅油(商品名：SH28PA，由Dow Corning Toray SiliconeCo.,Ltd.制造)和5.6份交联的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)颗粒(商品名：TECHPOLYMER SSX-102，由Sekisui Kasei Kogyo Co.,Ltd.制造，一次平均粒径：2.5μm)添加至所得分散液并且搅拌，从而制备底涂层用涂布液。
将所得底涂层用涂布液通过浸涂来施涂至铝圆筒体从而形成膜。该膜通过在170℃下加热30分钟来干燥从而形成厚度为30μm的底涂层。
实施例14
除了实施例13的被覆有铝掺杂的氧化锡的氧化钛改变为被覆有锌掺杂的氧化锡的氧化钛(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：35％)之外，电子照相感光构件通过与实施例13中相同的方法来形成和评价。
实施例15
除了实施例14的被覆有锌掺杂的氧化锡的氧化钛(粉末电阻率：1×105Ω·cm，SnO2被覆率：35％)改变为被覆有锌掺杂的氧化锡的氧化钛(粉末电阻率：1×103Ω·cm，SnO2被覆率：20％)之外，电子照相感光构件通过与实施例14中相同的方法来形成和评价。
表1
表2
虽然已参考示例性的实施方案描述了本发明，但将理解本发明不局限于所公开的示例性的实施方案。权利要求的范围应符合最宽泛的解释，以涵盖所有此类修改以及等同的结构和功能。

Claims (9)

1.一种电子照相感光构件，其特征在于包括：
支承体；
所述支承体上的底涂层；和
所述底涂层上的感光层，
其中所述底涂层的体积电阻率为1×1010Ω·cm至1×1013Ω·cm，
所述底涂层包括：
A氧化锌颗粒；和
B选自由被覆有掺杂有锌、铝、氟、钨、铌、钽和磷中任一种的氧化锡的氧化钛颗粒、和被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒组成的组中的至少一种颗粒；
基于所述颗粒A的含量，所述底涂层中的所述颗粒B的含量是3质量％至20质量％。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述颗粒B的粉末电阻率是1×102Ω·cm至1×108Ω·cm。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述底涂层包括粘结剂树脂。
4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中基于所述颗粒B中的氧化锡的质量，所述颗粒B中的掺杂量是0.1质量％至10质量％。
5.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述颗粒B是被覆有掺杂有铝的氧化锡的氧化钛颗粒。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述颗粒B是被覆有氧缺少型氧化锡的氧化钛颗粒。
7.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述颗粒B是被覆有掺杂有锌的氧化锡的氧化钛颗粒。
8.一种处理盒，其特征在于包括：
根据权利要求1-7任一项所述的电子照相感光构件；和
选自由充电单元、显影单元、转印单元和清洁单元组成的组中的至少之一，将所述电子照相感光构件和所述单元中的至少之一一体化支承，并且所述处理盒可拆卸自电子照相设备的主体。
9.一种电子照相设备，其特征在于包括根据权利要求1-7任一项所述的电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。
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