CN104749908B - 电子照相感光构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及电子照相感光构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备。提供一种电子照相感光构件，其包括：支承体；在支承体上形成的底涂层；和在底涂层上形成的感光层，其中底涂层包括组合物的固化物，所述组合物含有：(i)具有由以下特定式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物，(ii)选自聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇的至少一种树脂；和(iii)由特定式(A1)‑(A8)任意之一表示的化合物固化产物。

Description

电子照相感光构件、其生产方法、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件和电子照相感光构件的生产方法，以及各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
背景技术
电子照相感光构件通常包括支承体和在支承体上形成的感光层。此外，为了抑制从支承体朝向感光层的电荷的注入从而抑制图像缺陷如黑点的出现，通常在支承体和感光层之间形成底涂层。
近年来，具有额外高的感光度的电荷产生物质已经被用作电子照相感光构件用电荷产生物质。
然而，随着电荷产生物质的感光度的升高，待产生的电荷的量增加。因此，引起电荷易于滞留在感光层中并且因此易于出现重影的问题。具体地，易于出现其中输出图像中前向旋转时只有用光照射的部分的浓度增加的所谓的正重影现象。
为解决该问题，日本专利申请特开No.2010-122440、日本专利申请特开No.2007-148294和日本专利申请特开No.2007-179031各自公开涉及将电子输送物质引入底涂层中的技术。此外，日本专利申请特开No.2007-148294描述以下技术。当将电子输送物质引入底涂层中时，将底涂层固化使得在底涂层的上层(感光层)形成时电子输送物质不可能在感光层用涂布液中的溶剂中溶出。
当今对电子照相图像的质量的要求不停止而变得越来越复杂，因此对正重影的容许范围已经变得显著地严格。
此外，本发明的发明人做出的研究已经发现上述各文献中公开的技术就正重影的抑制效果而言存在改进余地。
发明内容
本发明目的在于提供抑制正重影的电子照相感光构件和所述电子照相感光构件的生产方法。本发明目的也在于提供各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
根据本发明的一个方面，提供电子照相感光构件，其包括：
支承体；
在支承体上形成的底涂层；和
在底涂层上形成的感光层，
其中底涂层包括组合物的固化产物，所述组合物包括：
(i)具有由下式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物，
(ii)选自由聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇组成的组的至少一种树脂，和
(iii)由下式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物。
式(1)中，R1和R2各自独立地表示单键或具有1-6个碳原子的亚烷基，以及X表示由下式(2)-(7)任意之一表示的二价基团。
式(2)-(7)中，R21、R22、R23、R31、R32、R33、R42和R43各自独立地表示氢原子或甲基，以及R41表示单键或亚甲基。
式(A1)-(A8)中，R101-R106、R201-R210、R301-R308、R401-R408、R501-R510、R601-R606、R701-R708和R801-R810各自独立地表示由下式(A)表示的单价基团、氢原子、氰基、硝基、卤原子、烷氧羰基、未取代的或取代的烷基、通过用氧原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用NR10取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或者未取代的或取代的芳基，和R10表示氢原子或烷基，条件是R101-R106至少之一、R201-R210至少之一、R301-R308至少之一、R401-R408至少之一、R501-R510至少之一、R601-R606至少之一、R701-R708至少之一和R801-R810至少之一各自表示由式(A)表示的单价基团。
取代的烷基的取代基为烷基、芳基或卤原子，以及取代的芳基的取代基包括卤原子、硝基、氰基、烷基或卤代烷基。
Z201、Z301、Z401和Z501各自独立地表示碳原子、氮原子或氧原子。当Z201表示氧原子时，R209和R210不存在，以及当Z201表示氮原子时，R210不存在。当Z301表示氧原子时，R307和R308不存在，以及当Z301表示氮原子时，R308不存在。当Z401表示氧原子时，R407和R408不存在，以及当Z401表示氮原子时，R408不存在。当Z501表示氧原子时，R509和R510不存在，以及当Z501表示氮原子时，R510不存在。
式(A)中，α、β和γ至少之一表示具有可聚合官能团的基团，并且可聚合官能团包括选自由羟基、硫醇基、氨基和羧基组成的组的至少一种基团。l和m各自独立地表示0或1，并且l和m的和为0以上且2以下。
α表示具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基、通过用氧原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或通过用NR19取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团，并且由α表示的各基团可具有可聚合官能团。R19表示氢原子或烷基。
取代的亚烷基的取代基为具有1-6个碳原子的烷基、苯甲基、烷氧羰基或苯基。
β表示亚苯基、用具有1-6个碳原子的烷基取代的亚苯基、用硝基取代的亚苯基、用卤原子取代的亚苯基或用烷氧基取代的亚苯基，并且由β表示的各基团可具有可聚合官能团。
γ表示氢原子、具有1-6个主链碳原子的烷基或具有1-6个主链碳原子并且用具有1-6个碳原子的烷基取代的烷基，并且由γ表示的各基团可具有可聚合官能团。
此外，根据本发明的另一方面，提供一种处理盒，其包括：
电子照相感光构件；和
选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组的至少一种单元，
处理盒一体地支承电子照相感光构件和所述至少一种单元，
处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
此外，根据本发明的再一方面，提供电子照相设备，其包括：
电子照相感光构件；
充电单元；
曝光单元；
显影单元；和
转印单元。
此外，根据本发明的另一方面，提供生产电子照相感光构件的方法，所述电子照相感光构件包括：
支承体；
在支承体上形成的底涂层；和
在底涂层上形成的感光层，
该方法包括以下步骤：
制备底涂层用涂布液，所述涂布液包括含有以下组分的组合物：
(i)具有由式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物，
(ii)选自由聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇组成的组的至少一种树脂，和
(iii)由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物；和
形成底涂层用涂布液的涂膜，接着将涂膜干燥和固化以形成底涂层。
如上所述，根据本发明的各方面，可以提供抑制正重影的电子照相感光构件和所述电子照相感光构件的生产方法。此外，根据本发明的其它实施方式，可以提供各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
参照附图，本发明的进一步特征将从以下示例性描述变得明显。
附图说明
图1A和1B各自为自示出电子照相感光构件的层构造的一个实例的图。
图2为示出包括含有电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的一个实例的图。
图3为示出用于本发明中重影评价的图像的图。
图4为示出本发明中单点桂马图案的半色调图像的图。
具体实施方式
参照附图，现在将详细描述本发明的优选实施方式。
本发明的发明人已经推测为什么含有本发明的底涂层的电子照相感光构件具有通过其可以在高的水平下获得抑制正重影的优异效果的原因如下所述。
本发明中，具有由式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物的异氰酸酯基、选自聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇的至少一种树脂的-OH基团和由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物的可聚合官能团彼此键合。因此，形成聚合物(固化产物)。当底涂层含有聚合物时，可以形成能够输送电子并且难溶于溶剂的底涂层。下文中，有时将由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物称为“电子输送物质”。
然而，在含有通过使如上所述的含有多种构成材料(异氰酸酯化合物、电子输送物质和树脂)的组合物聚合而获得的固化产物的底涂层的情况下，具有相同结构的构成材料聚集，因此易于形成不均匀的底涂层。因此，电子易于滞留在底涂层中或底涂层和感光层之间的界面处，因此易于出现重影。考虑到上述，需要选择构成材料使得构成材料可以难以聚集并且可以在涂布感光层时不溶出。
本发明的异氰酸酯化合物具有以下特征：化合物在异氰酸酯基之间具有亚苯基、亚环己基或亚萘基。由于该特征，化合物进一步具有以下特征：异氰酸酯基彼此不相邻，因此化合物适度地庞大且具有大的体积。可能由于上述，显示在异氰酸酯化合物的异氰酸酯基与树脂聚合时对膜聚集(不均匀分布)的抑制作用。此外，电子输送物质与键合至抑制不均匀分布的树脂的分子链的异氰酸酯化合物相键合，因此电子输送物质也均匀地存在于底涂层中而不存在不均匀地分布。可能由于上述，获得其中源自异氰酸酯化合物、电子输送物质和树脂的结构均匀地存在的聚合物，电子的滞留显著地降低，并且获得额外高的水平的重影抑制效果。
除了本发明的异氰酸酯化合物以外的异氰酸酯化合物的例子包括具有链结构的异氰酸酯化合物如六亚甲基二异氰酸酯、具有长的侧链的异氰酸酯化合物和设置各-NCO基团使得彼此相邻的异氰酸酯化合物。此外，该例子包括通过将具有电子输送能力的部位与异氰酸酯化合物直接键合而获得的化合物。在通过聚合任意此类异氰酸酯化合物而获得的聚合物的情况下，源自该化合物的结构的聚集易于在聚合物中发生，因此在某些情况下不能充分地获得高水平的正重影抑制效果。
为了可以获得充分的重影抑制效果，可以期望固化时的立体位阻通过经电子输送物质的结构的选择使得本发明的电子输送物质均匀地存在于膜中而抑制。发明人认为作为上述的结果而获得高水平的重影抑制效果。发明人认为在其中羟基与蒽醌如茜素直接配位的蒽醌衍生物的情况下，蒽醌结构引起固化时的立体位阻，因此不能获得均匀的固化和充分的固化，并且在某些情况下不能获得重影抑制效果。
如上所述，本发明的电子照相感光构件为包括支承体、在支承体上形成的底涂层和在底涂层上形成的感光层的电子照相感光构件。
图1A和1B各自示出本发明的电子照相感光构件的层构造的一个实例。图1A和1B中，附图标记101表示支承体，附图标记102表示底涂层，附图标记103表示感光层，以及附图标记104表示保护层。
感光层优选为通过将含有电荷产生物质的电荷产生层和含有电荷输送物质的电荷输送层依次从与底涂层更近的侧层压而获得的层压型感光层。此外，要引入电荷输送层的电荷输送物质优选为空穴输送物质。
支承体优选为具有导电性的支承体(导电性支承体)。其例子包括由金属(或由合金)如铝、铝合金、不锈钢、铜、镍和锌制成的支承体。此外，当使用由铝制成的支承体或由铝合金制成的支承体时，可以使用ED管或EI管等。
通过在由金属制成的支承体或由树脂制成的支承体上形成导电材料如铝、铝合金或氧化铟-氧化锡合金的薄膜而获得的产物也可以用作支承体。
此外，例如，为了抑制由于激光的散射导致的干涉条纹的目的，可以使支承体的表面进行切削处理、粗糙化处理、氧化铝膜处理、复合电解研磨处理、湿式珩磨(honing)处理或干式珩磨处理等。复合电解研磨包括：用具有电解作用的电极和电解质溶液进行电解；和用具有研磨作用的磨石进行研磨。
例如，为了抑制由于激光的散射导致的干涉条纹和隐藏(覆盖)支承体中的缺陷的目的，可以在支承体和底涂层之间形成导电层。
导电层可以通过以下步骤形成：将通过使炭黑、如金属颗粒和金属氧化物颗粒等导电性颗粒、粘结剂树脂和溶剂进行分散处理而获得的导电层用涂布液涂布以形成涂膜；和干燥得到的涂膜。
分散处理方法为，例如，涉及使用均化器、超声波分散机、球磨机、砂磨机、辊磨机、振动磨机(vibration mill)、超微磨碎机或液体碰撞型高速分散机的方法。
要用于导电层的粘结剂树脂的例子包括聚酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇缩丁醛、丙烯酸类树脂、硅酮树脂、环氧树脂、密胺树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂和醇酸树脂。此外，可以仅使用这些粘结剂树脂的一种或者可以作为混合物或共聚物组合使用其两种以上。
导电层用涂布液的溶剂的例子包括醚系溶剂、醇系溶剂、酮系溶剂和芳香族烃系溶剂。此外，可以仅使用这些溶剂的一种或者可以组合使用其两种以上。
导电层的厚度优选为5μm以上且40μm以下，更优选为10μm以上且30μm以下。
底涂层在支承体或导电层与感光层(电荷产生层和电荷输送层)之间形成。
底涂层包含组合物的固化产物，所述组合物含有：
(i)具有由下式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物，
(ii)选自由聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇组成的组的至少一种树脂，和
(iii)由下式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物。
式(1)中，R1和R2各自独立地表示单键或具有1-6个碳原子的亚烷基，以及X表示由下式(2)-(7)任意之一表示的二价基团。
式(2)-(7)中，R21、R22、R23、R31、R32、R33、R42和R43各自独立地表示氢原子或甲基，以及R41表示单键或亚甲基。
式(A1)-(A8)中，R101-R106、R201-R210、R301-R308、R401-R408、R501-R510、R601-R606、R701-R708和R801-R810各自独立地表示由下式(A)表示的单价基团、氢原子、氰基、硝基、卤原子、烷氧羰基、未取代的或取代的烷基、通过用氧原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用NR10取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或者未取代的或取代的芳基，和R10表示氢原子或烷基，条件是R101-R106至少之一、R201-R210至少之一、R301-R308至少之一、R401-R408至少之一、R501-R510至少之一、R601-R606至少之一、R701-R708至少之一和R801-R810至少之一各自表示由式(A)表示的单价基团。
取代的烷基的取代基为烷基、芳基或卤原子，以及取代的芳基的取代基为卤原子、硝基、氰基、烷基或卤代烷基。Z201、Z301、Z401和Z501各自独立地表示碳原子、氮原子或氧原子。当Z201表示氧原子时，R209和R210不存在，以及当Z201表示氮原子时，R210不存在。当Z301表示氧原子时，R307和R308不存在，以及当Z301表示氮原子时，R308不存在。当Z401表示氧原子时，R407和R408不存在，以及当Z401表示氮原子时，R408不存在。当Z501表示氧原子时，R509和R510不存在，以及当Z501表示氮原子时，R510不存在。
式(A)中，α、β和γ至少之一表示具有可聚合官能团的基团，并且可聚合官能团为选自由羟基、硫醇基、氨基和羧基组成的组的至少一种。l和m各自独立地表示0或1，并且l和m的和为0以上且2以下。
α表示具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基、通过用氧原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或通过用NR19取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团，并且由α表示的各基团可具有可聚合官能团。R19表示氢原子或烷基。
取代的亚烷基的取代基为具有1-6个碳原子的烷基、苯甲基、烷氧羰基或苯基。
β表示亚苯基、用具有1-6个碳原子的烷基取代的亚苯基、用硝基取代的亚苯基、用卤原子取代的亚苯基或用烷氧基取代的亚苯基，并且由β表示的各基团可具有可聚合官能团。
γ表示氢原子、具有1-6个主链碳原子的烷基或具有1-6个主链碳原子并且用具有1-6个碳原子的烷基取代的烷基，并且由γ表示的各基团可具有可聚合官能团。
形成底涂层的方法如下所述。首先，形成含有异氰酸酯化合物、选自由聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇组成的组的至少一种树脂、以及由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物的底涂层用涂布液的涂膜。接着，将底涂层用涂布液的涂膜在加热下干燥并且固化以形成底涂层。涂膜形成之后，将这些化合物通过化学反应聚合(固化)。此时进行加热促进化学反应并且因此促进聚合。
用于底涂层用涂布液中的溶剂为，例如，醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂或芳香族烃溶剂。
固化产物的含量，从重影的抑制的观点，相对于底涂层的总质量，优选为50质量％以上且100质量％以下，更优选为80质量％以上且100质量％以下。
除了固化产物之外，可以将任意其它树脂、除了异氰酸酯化合物以外的交联剂、有机颗粒、无机颗粒或流平剂等引入底涂层以改进底涂层的成膜性和电特性。要指出底涂层中任意此类材料的含量，相对于底涂层的总质量，优选为小于50质量％，更优选为小于20质量％。
由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物优选具有150以上且1,000以下的分子量。当分子量落入该范围内时，源自电子输送物质的结构可以以额外均一的方式存在于底涂层中。
此外，从源自电子输送物质的结构的均一性的观点，由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物的分子量与异氰酸酯化合物的分子量之比优选为3/20至50/20，更优选为12/20至28/20。
接着，以下示出电子输送物质的具体的例子。表1-1、表1-2、表1-3和表1-4示出由式(A1)表示的化合物的具体例子。表2-1和表2-2示出由式(A2)表示的化合物的具体例子。表3-1和表3-2示出由式(A3)表示的化合物的具体例子。表4-1和表4-2示出由式(A4)表示的化合物的具体例子。表5-1和表5-2示出由式(A5)表示的化合物的具体例子。表6示出由式(A6)表示的化合物的具体例子。表7-1和表7-2示出由式(A7)表示的化合物的具体例子。表8-1和表8-2示出由式(A8)表示的化合物的具体例子。各表中，A'由与A相同的结构式来表示，并且其单价基团的具体的例子示于列A和A'中。当各表中的γ表示“-”时，γ表示氢原子，并且在将其引入列α或β中示出的结构中的同时，示出由γ表示的氢原子。
(表1-1)
(表1-2)
(表1-3)
(表1-4)
(表2-1)
(表2-2)
(表3-1)
(表3-2)
(表4-1)
(表4-2)
(表5-1)
(表5-2)
(表6)
(表7-1)
(表7-2)
(表8-1)
(表8-2)
这些示例性化合物中，化合物A124或化合物A135为显示出优异的正重影抑制效果的化合物。
具有由式(A2)-(A6)任意之一表示的结构的衍生物(电子输送物质的衍生物)可以从Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.、Sigma-Aldrich Japan K.K.或Johnson MattheyJapan Incorporated购得。具有由式(A1)表示的结构的衍生物可以通过从Tokyo ChemicalIndustry CO.,LTD.、Sigma-Aldrich Japan K.K.或Johnson Matthey JapanIncorporated购得的萘四羧酸二酐和一元胺衍生物之间的反应来合成。具有由式(A7)表示的结构的衍生物可以通过使用可以从Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.或Sigma-Aldrich Japan K.K.购得的苯酚作为原料来合成。具有由式(A8)表示的结构的衍生物可以通过可以从Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.或Sigma-Aldrich Japan K.K.购得的苝四羧酸二酐和一元胺衍生物之间的反应来合成。
由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物具有可与异氰酸酯化合物的异氰酸酯基(羟基、硫醇基、氨基或羧基)聚合的可聚合官能团。两种方法均可用作将任意此类可聚合官能团引入具有由式(A1)-(A8)任意之一表示的结构的衍生物中的方法。第一种方法涉及将可聚合官能团直接引入具有由式(A1)-(A8)任意之一表示的结构的衍生物中。第二种方法涉及：合成具有由式(A1)-(A8)任意之一表示的结构的衍生物；和合成之后引入具有可聚合官能团或可以用作可聚合官能团的前体的官能团的结构。可用作第二种方法的为涉及借助于基于具有由式(A1)-(A8)任意之一表示的结构的衍生物的卤化物的交叉偶联反应将含有官能团的芳基引入的方法，该反应涉及使用钯催化剂和碱。另一可用的为涉及借助于基于具有由式(A1)-(A8)任意之一表示的结构的衍生物的卤化物的交叉偶联反应将含有官能团的烷基引入的方法，该反应涉及使用FeCl3催化剂和碱。另一可用的为涉及使具有由式(A1)-(A8)任意之一表示的结构的衍生物的卤化物进行锂化，并且使得环氧化合物或CO2作用于所得物，从而引入羟基烷基或羧基的方法。
本发明的异氰酸酯化合物为具有由式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物。
从成膜性的观点，本发明异氰酸酯化合物优选为式(1)中的R1和R2各自独立地表示单键、亚甲基、亚乙基或亚丙基的此类化合物。
接着，给出异氰酸酯化合物的具体的例子。
异氰酸酯化合物可以为具有用封端剂封端的异氰酸酯基的异氰酸酯化合物，即，所谓的封端的异氰酸酯化合物。
用于将异氰酸酯化合物的异氰酸酯基封端的封端剂的例子包括：肟系化合物如甲醛肟、乙醛肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟、丙酮肟或甲基异丁基酮肟；活性亚甲基系化合物如麦德鲁姆酸(Meldrum's acid)、丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、乙酸乙酯或乙酰丙酮；胺系化合物如二异丙基胺、二苯基苯胺、苯胺或咔唑；亚胺系化合物如乙烯亚胺或聚乙烯亚胺；酸酰亚胺系化合物如琥珀酰亚胺或马来酰亚胺；丙二酸酯；咪唑系化合物如咪唑，苯并咪唑或2-甲基咪唑；三唑系化合物如1,2,3-三唑、1,2,4-三唑、4-氨基-1,2,4-三唑或苯并三唑；酸酰胺系化合物如乙酰苯胺、N-甲基乙酰胺或乙酰胺；内酰胺系化合物如ε-己内酰胺、δ-戊内酰胺或γ-丁内酰胺；脲系化合物如脲、硫脲或亚乙基脲；亚硫酸盐如亚硫酸氢钠；硫醇系化合物如丁基硫醇或十二烷基硫醇；苯酚系化合物如苯酚或甲酚；吡唑系化合物如吡唑、3,5-二甲基吡唑或3-甲基吡唑；和醇系化合物如甲醇、乙醇、2-丙醇或正丁醇。此外，可以仅使用这些封端剂的一种或者可以组合使用其两种以上。
聚乙烯醇缩醛通常可以作为树脂购得，并且可以购得的树脂的例子包括由SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造的KW-1、KW-3、BX-1和BM-1。
要指出具有由下式(9)表示的结构单元、由下式(10)表示的结构单元和由下式(11)表示的结构单元的聚乙烯醇缩醛是优选的。
式中(9)，R91表示具有1-5个碳原子的烷基。
要用于底涂层中的聚丙烯酸类多元醇通过将包括具有羟基的不饱和单体的单体组分聚合而获得。此外，聚丙烯酸类多元醇优选为具有丙烯酸类单元或甲基丙烯酸类单元的丙烯酸类树脂。聚丙烯酸类多元醇通常可以作为树脂购得，并且可以购得的树脂的例子包括由DIC Corporation制造的BURNOCK WE-300和WE-304。
此外，就固化性、成膜性和重影抑制而言，底涂层优选满足由以下表达式(8)表示的范围。
0.4≤(iii)/(i)+(ii)≤1.0 (8)
表达式(8)中，(i)、(ii)和(iii)分别表示相对于组合物的总质量化合物(i)、(ii)和(iii)的含量(质量比)。
感光层(电荷产生层和电荷输送层)在底涂层上形成。
当感光层为层压型感光层时，电荷产生层可以通过以下步骤形成：涂布通过使电荷产生物质、粘结剂树脂和溶剂进行分散处理而获得的电荷产生层用涂布液；和干燥得到的涂膜。此外，电荷产生层可以为电荷产生物质的沉积膜。
用于分散处理的方法为，例如，涉及使用均化器、超声波分散机、球磨机、砂磨机、辊磨机、振动磨机、超微磨碎机或液体碰撞型高速分散机的方法。
电荷产生物质的例子包括偶氮颜料、酞菁颜料、靛蓝颜料、苝(perylene)颜料、多环醌颜料、方酸染料、噻喃鎓盐(thiapyrylium salt)、三苯甲烷染料、喹吖啶酮颜料、薁鎓盐(azulenium salt)颜料、花青染料、蒽醌颜料、皮蒽酮颜料、氧杂蒽染料、醌亚胺染料和苯乙烯基染料。其中，从感光度的观点，氧钛酞菁、氯化镓酞菁或羟基镓酞菁是优选的。此外，羟基镓酞菁之中，在CuKα特征X射线衍射中布拉格角2θ在7.4°±0.3°和28.2°±0.3°处具有峰的晶形的羟基镓酞菁晶体是优选的。此外，可以仅使用这些电荷产生物质的一种或者可以组合使用其两种以上。
在感光层为层压型感光层的情况下，要用于电荷产生层的粘结剂树脂的例子包括聚碳酸酯、聚酯、缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩醛、丙烯酸类树脂、醋酸乙烯酯树脂和尿素树脂。其中，缩丁醛树脂是优选的。此外，可以仅使用这些粘结剂树脂的一种或者可以作为混合物或共聚物组合使用其两种以上。
要用于电荷产生层用涂布液的溶剂的例子包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂。此外，可以仅使用这些溶剂的一种或者可以组合使用其两种以上。
电荷产生层的厚度优选为0.01μm以上且5μm以下，更优选为0.1μm以上且2μm以下。
此外，根据要求可以将各种敏化剂、抗氧化剂、UV吸收剂、塑化剂等各自引入电荷产生层中。
包括层压型感光层的电子照相感光构件中，电荷输送层在电荷产生层上形成。
电荷输送层可以通过以下步骤形成：涂布通过将电荷输送物质和粘结剂树脂溶解在溶剂中而获得的电荷输送层用涂布液；和干燥得到的涂膜。
电荷输送物质大致分为空穴输送物质和电子输送物质。空穴输送物质的例子包括三芳基胺化合物、腙化合物、苯乙烯基化合物、茋化合物和丁二烯化合物。其中，三芳基胺化合物是优选的。此外，可以仅使用这些电荷输送物质的一种或者可以组合使用其两种以上。
在感光层为层压型感光层的情况下，要用于电荷输送层的粘结剂树脂的例子包括丙烯酸类树脂、丙烯腈树脂、烯丙基树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅酮树脂、酚醛树脂、苯氧基树脂、聚丙烯酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰胺、聚烯丙基醚、聚芳酯、聚酰亚胺、聚氨酯树脂、聚酯、聚乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚苯醚、聚丁二烯、聚丙烯和甲基丙烯酸类树脂。其中，聚芳酯或聚碳酸酯是优选的。此外，可以仅使用这些粘结剂树脂的一种或者可以作为混合物或共聚物组合使用其两种以上。
要用于电荷输送层用涂布液的溶剂的例子包括醇系溶剂、亚砜系溶剂、酮系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂和芳香族烃系溶剂。此外，可以仅使用这些溶剂的一种或者可以组合使用其两种以上。
要引入电荷输送层中的电荷输送物质和粘结剂树脂之比(电荷输送物质/粘结剂树脂)优选为0.3/1以上且10/1以下(质量比)。
将电荷输送层用涂布液的涂膜加热的温度(干燥温度)优选为60℃以上且150℃以下，更优选为80℃以上且120℃以下。此外，用于将涂膜加热的时间(干燥时间)优选为10分钟以上且60分钟以下。
当电子照相感光构件的电荷输送层数为1时，电荷输送层的厚度优选为5μm以上且40μm以下，更优选为8μm以上且30μm以下。
当电荷输送层为层压构造时，在支承体侧的电荷输送层的厚度优选为5μm以上且30μm以下，以及在表面侧的电荷输送层的厚度优选为1μm以上且10μm以下。
此外，根据需要可以将抗氧化剂、UV吸收剂或塑化剂等引入电荷输送层中。
此外，本发明中，例如，为了改进电子照相感光构件的耐久性和清洁性的目的，保护层可以在感光层(电荷输送层)上形成。
保护层可以通过以下步骤形成：涂布通过将树脂(或单体和/或其低聚物)溶解在溶剂中而获得的保护层用涂布液；以及干燥和/或固化得到的涂膜。
要用于保护层的树脂的例子包括聚乙烯醇缩丁醛、聚酯、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚芳酯、聚氨酯树脂、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物和苯乙烯-丙烯腈共聚物。其中，丙烯酸类树脂或甲基丙烯酸类树脂是优选的。此外，可以仅使用这些树脂的一种或者可以组合使用其两种以上。
此外，为了可以将电荷输送能力赋予保护层，保护层(第二电荷输送层)可以通过将具有电荷输送能力(空穴输送能力)的单体借助于各种聚合反应或交联反应固化而形成。具体地，保护层(第二电荷输送层)优选为通过将具有链可聚合官能团的电荷输送性的化合物(空穴输送性化合物)聚合或交联以固化所述化合物而形成。
链可聚合官能团的例子包括丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、烷氧基甲硅烷基和环氧基。用于固化的反应为，例如，自由基聚合反应或离子聚合反应。此外，在固化反应时，可以使用热、如UV光等光或如电子束等放射线等。
此外，根据需要，可以将导电性颗粒、UV吸收剂或耐磨耗性改进剂等引入保护层中。导电性颗粒的例子包括金属氧化物颗粒如氧化锡颗粒。耐磨耗性改进剂的例子包括如聚四氟乙烯颗粒等含有氟原子的树脂颗粒、氧化铝和二氧化硅。
保护层的厚度优选为0.5μm以上且20μm以下，更优选为1μm以上且10μm以下。
各层用涂布液的涂布中，可以使用，例如，如浸渍涂布法、喷涂法、旋涂法、辊涂法、迈耶棒涂法或刮刀涂布法等涂布方法。
图2示出包括含有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的示意性构造的一个实例。
图2中，将本发明的圆筒形(鼓状)电子照相感光构件1沿由箭头指示的方向以预定的周速度(处理速度)围绕轴2旋转驱动。
旋转过程中，通过充电单元3(一次充电单元：充电辊等)将电子照相感光构件1的表面(外周面)充电至预定的正的或负的电位。
接着，将电子照相感光构件1的表面用来自曝光单元(图像曝光单元)(未示出)的曝光光(图像曝光光)4照射。由此，在电子照相感光构件1的表面上形成静电潜像。
接着，将在电子照相感光构件1的表面上形成的静电潜像用显影单元5中的显影剂(调色剂)显影(正常显影或反转显影)，从而在电子照相感光构件1的表面上形成调色剂图像。接着，将在电子照相感光构件1的表面上形成的调色剂图像通过转印单元6(如转印辊)转印至转印材料7。
此处，将转印材料7与电子照相感光构件1的旋转同步从转印材料供给单元(未示出)中取出，并供给至电子照相感光构件1和转印单元6之间的空间(抵接部)。此外，将与调色剂的电荷的极性相反的电压(转印偏压)从偏压电源(未示出)施加至转印单元6。
将其上已转印有调色剂图像的转印材料7从电子照相感光构件1的表面分离并且输送至使调色剂图像进行定影处理的定影单元8。由此，将转印材料作为图像形成物(打印件或复印件)打印出来至电子照相设备的外侧。转印单元6可以为包括，例如，一次转印构件、中间转印构件和二次转印构件的中间转印系统的转印单元。
在将调色剂图像转印至转印材料7之后的电子照相感光构件1的表面通过清洁单元9(如清洁刮板)清洁，由此除去附着物质如转印残余显影剂(转印残余调色剂)。此外，转印残余调色剂可以通过显影单元等(无清洁器系统)回收。
此外，使电子照相感光构件1的表面通过用来自预曝光单元(未示出)的预曝光光10照射而进行抗静电处理。之后，将表面重复用于图像形成。要指出当充电单元3为使用如图2中示出的充电辊等的接触充电单元时，预曝光不是必需的。
本发明中，可以采用以下步骤：将选自，例如，电子照相感光构件1、充电单元3、显影单元5和清洁单元9的两个以上的构成要素容纳在容器中并且一体地结合以构成处理盒。此外，处理盒可以可拆卸地安装至电子照相设备的主体上。例如，将电子照相感光构件1，以及选自由充电单元3、显影单元5和清洁单元9组成的组的至少一种单元一体地支承以提供盒。此外，通过使用引导单元12如电子照相设备的主体的轨道，将盒可以用作可拆卸地安装至电子照相设备的主体上的处理盒11。曝光光4的例子包括：来自原稿的反射光或透射光；以及根据通过用传感器将读取的原稿信号化而获得的信号而进行的通过用激光束的扫描、LED阵列的驱动或液晶快门阵列的驱动而施加的光。
下文中，将通过实施例的方式详细描述本发明。要指出实施例中术语“份”指“质量份”。首先，描述根据本发明的电子输送物质的合成例。
(合成例1)
在氮气气氛下，将5.4份萘四羧酸二酐、4份2-甲基-6-乙基苯胺和3份2-氨基-1-丁醇添加至200份二甲基乙酰胺，并且将混合物在室温下搅拌1小时以制备溶液。制备溶液之后，将溶液回流8小时，并且将析出物通过过滤分离并用乙酸乙酯重结晶以提供1.0份化合物A101。
(合成例2)
在氮气气氛下，将5.4份萘四羧酸二酐(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)和5份2-氨基丁酸(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)添加至200份二甲基乙酰胺，并且将混合物在室温下搅拌1小时以制备溶液。制备溶液之后，将溶液回流8小时，并且将析出物通过过滤分离并用乙酸乙酯重结晶以提供4.6份化合物A128。
(合成例3)
在氮气气氛下，将5.4份萘四羧酸二酐(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)、4.5份2,6-二乙基苯胺(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)和4份4-氨基苯硫醇添加至200份二甲基乙酰胺，并且将混合物在室温下搅拌1小时以制备溶液。制备溶液之后，将溶液回流8小时，并且将析出物通过过滤分离并用乙酸乙酯重结晶以提供1.3份化合物A114。
(合成例4)
在氮气气氛下，在室温下经2小时将2.5份苯胺(由Tokyo Chemical IndustryCO.,LTD.制造)和溶解于50份水的50份二甲基乙酰胺添加至200份二甲基乙酰胺和1.8份萘四羧酸二酐(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)。之后，将混合物在40℃下和120℃下各搅拌1小时，接着回流8小时。在将二甲基乙酰胺通过在减压下蒸馏除去之后，将100份以1/1含有甲醇和水的溶液添加至残余物中以析出晶体，并且将晶体通过过滤而分离。在将晶体溶解于乙酸乙酯和THF的混合溶液之后，将溶液通过硅胶柱色谱(洗脱液：乙酸乙酯)而分离。之后，将含有目标产物的部分浓缩，并且将得到的晶体用乙酸乙酯和THF的混合溶液重结晶以提供1.6份化合物A124。要指出THF指四氢呋喃。
(合成例5)
在氮气气氛下，将3.6份胺(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)和50份二甲基乙酰胺添加至200份二甲基乙酰胺和2.7份萘四羧酸二酐(由Tokyo ChemicalIndustry CO.,LTD.制造)。之后，将混合物在120℃搅拌3小时，接着回流5小时。在将二甲基乙酰胺通过在减压下蒸馏除去之后，将100份水添加至残余物以析出晶体，并且将晶体通过过滤而分离。将晶体用乙醇重结晶以提供3.1份化合物A135。
(合成例6)
由2.8份4-(羟甲基)苯基硼酸(由Sigma-Aldrich Japan K.K.制造)和菲醌(由Sigma-Aldrich Japan K.K.制造)在氮气气氛下通过Chem.Educator No.6,227-234(2001)中描述的合成方法来合成7.4份3,6-二溴-9,10-菲二酮。将7.4份3,6-二溴-9,10-菲二酮添加至100份甲苯和50份乙醇的混合溶剂，并且将100份20％的碳酸钠水溶液滴加至混合物。之后，将0.55份四(三苯基膦)钯(0)添加至得到的混合物，然后回流2小时。反应之后，将有机相用氯仿萃取并且用水洗涤，随后用无水硫酸钠干燥。在将溶剂在减压下除去之后，将残余物通过硅胶色谱纯化以提供3.2份化合物A216。
(合成例7)
由2.8份3-氨基苯基硼酸一水合物和二氮杂菲醌(由Sigma-Aldrich Japan K.K.制造)在氮气气氛下用与合成例6中相同的方式来合成7.4份2,7-二溴-9,10-二氮杂菲醌。将7.4份2,7-二溴-9,10-二氮杂菲醌添加至100质量份甲苯和50质量份乙醇的混合溶剂，并且将100份20％的碳酸钠水溶液滴加至混合物。之后，将0.55份四(三苯基膦)钯(0)添加至得到的混合物，然后回流2小时。反应之后，将有机相用氯仿萃取并且用水洗涤，随后用无水硫酸钠干燥。在将溶剂在减压下除去之后，将残余物通过硅胶色谱纯化以提供2.2份化合物A316。
(合成例8)
在氮气气氛下，将7.4份苝四羧酸二酐(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)、4份2,6-二乙基苯胺(由Tokyo Chemical Industry CO.,LTD.制造)和4份2-氨基苯基乙醇添加至200份二甲基乙酰胺，并且将混合物在室温下搅拌1小时以制备溶液。制备溶液之后，将溶液回流8小时，并且将析出物通过过滤分离并用乙酸乙酯重结晶以提供5.0份化合物A803。
接着，如下所述生产并评价电子照相感光构件。
[实施例1]
将长度为260.5mm且直径为30mm的铝圆筒(JIS-A3003，铝合金)用作支承体(导电性支承体)。
接着，将50份用氧缺少型氧化锡覆盖的氧化钛颗粒(粉体电阻率：120Ω·cm，氧化锡覆盖率：40％)、40份酚醛树脂(PRIOPHENJ-325，由DIC Corporation制造，树脂固含量：60％)和40份甲氧基丙醇装入使用直径各自为1mm的玻璃珠的砂磨机，并且使混合物进行3小时分散处理以制备导电层用涂布液。将导电层用涂布液通过浸渍涂布施涂至支承体，并且将得到的涂膜在145℃下干燥并热固化30分钟以形成厚度为16μm的导电层。
导电层用涂布液中用氧缺陷型氧化锡覆盖的氧化钛颗粒的平均粒径通过使用由HORIBA,Ltd.制造的粒度分布计(商品名：CAPA700)并且使用四氢呋喃作为分散介质在5,000rpm的转数下通过离心沉降法来测量。结果，求得平均粒径为0.33μm。
接着，将8份示例性化合物A101、10份异氰酸酯化合物(2-1)、0.1质量份作为催化剂的二月桂酸二辛基锡和2份聚乙烯醇缩醛(商品名：BM-1，由SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造)溶解于100份二甲基乙酰胺和100份甲乙酮的混合溶剂以制备底涂层用涂布液。将底涂层用涂布液通过浸渍涂布施涂至导电层，并且将得到的涂膜通过在160℃加热30分钟而固化。由此，形成厚度为0.5μm的底涂层。
接着，将10份Y型氧钛酞菁晶体(电荷产生物质)、5份聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-LEC BX-1，由SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造)和260份环己酮装入使用直径各自为1mm的玻璃珠的砂磨机，并且使混合物进行1.5小时分散处理。接着，将240份乙酸乙酯添加至所得物以制备电荷产生层用涂布液。将电荷产生层用涂布液通过浸渍涂布施涂至底涂层，并且将得到的涂膜在95℃干燥10分钟以形成厚度为0.3μm的电荷产生层。
接着，将50份由下式(B)表示的胺化合物(空穴输送物质)、50份由下式(C)表示的胺化合物(空穴输送物质)和100份聚碳酸酯(商品名：Iupilon Z400，由MITSUBISHI GASCHEMICAL COMPANY,INC.制造)溶解于350份二甲苯和250份二甲氧基甲烷的混合溶剂以制备电荷输送层用涂布液。
由此，生产支承体上包括导电层、底涂层、电荷产生层和空穴输送层的电子照相感光构件。
将生产的电子照相感光构件在温度为15℃和湿度为10％RH的环境下安装至由Canon INC.制造的激光束打印机(商品名：LBP-2510)的改造机器，接着进行表面电位的测量和输出图像的评价。关于前述的细节如下所述。
如下所述进行表面电位评价的测量。首先，将激光束打印机的青色用处理盒改造并将电位探针(型号6000B-8：由TREK JAPAN制造)安装在显影位置处。然后，电子照相感光构件的中央部的电位用表面电位计(型号344：由TREK JAPAN制造)来测量。在测量鼓的表面电位期间，设定图像曝光的光量使得初始暗区电位(Vd)变成-500V和初始亮区电位(Vl)变成-100V。
随后，将生产的电子照相感光构件安装至激光束打印机的青色用处理盒，并将处理盒安装至青色处理盒位置，随后输出图像。首先，将一张实白图像、5张重影评价用图像、一张实黑图像和5张重影评价用图像依次连续地输出。接着，将全色图像(各颜色的打印率为1％的文字图像)输出至10,000张A4大小的普通纸。之后，将1张实白图像、5张重影评价用图像、一张实黑图像和5张重影评价用图像依次连续地输出。
用于重影评价的各图像通过以下获得：在如图3中示出的图像的前端处的白色图像中输出四角形“实心图像”；以及输出之后生产图4中示出的“单点桂马图案”的半色调图像。要指出图3中的“重影”部为由“实心图像”导致的重影可能出现的部位。
正重影的评价通过测量单点桂马图案的半色调图像的图像浓度和重影部的图像浓度之间的差来进行。浓度差使用分光浓度计(商品名：X-Rite504/508，由X-Rite制造)在一个重影评价用图像的十点处来测量。对重影评价用的全部的10个图像进行该操作，并且计算全部的100个测量值的平均值以评价初始图像输出时的麦克白(Macbeth)浓度差(初始阶段)。接着，浓度差的波动通过计算输出10,000张之后的麦克白浓度差和初始图像输出时麦克白浓度差之间的差(变化)来测定。麦克白浓度差越小意味着正重影抑制程度越大。此外，输出10,000张之后的麦克白浓度差和初始图像输出时麦克白浓度差之间的差越小意味着正重影的变化越小。表9示出结果。将小于0.05的麦克白浓度差认为是获得本发明的重影抑制效果的情况。
[实施例2～56]
除了将实施例1中的(i)异氰酸酯化合物、(ii)树脂和(iii)电子输送物质的种类和含量如表9中所示的改变以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，并且类似地进行正重影评价。表9示出结果。
(表9)
(表9)(续表)
[比较例1]
除了将实施例1中的2份聚乙烯醇缩醛(商品名：BM-1，由SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造)改变为2份聚(对羟基苯乙烯)(商品名：MARUKA LYNCUR，由MaruzenPetrochemical CO.,LTD.制造)以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件。此外，类似地进行重影评价。表10示出结果。
[比较例2]
除了将实施例1中的10份异氰酸酯化合物(2-1)改变为10份六亚甲基二异氰酸酯以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，并且类似地进行重影评价。表10示出结果。
[比较例3]
除了将实施例1中的8份化合物A101改变为8份茜素以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，并且类似地进行重影评价。表10示出结果。
[比较例4]
实施例1中，将2份聚乙烯醇缩醛(商品名：BM-1，由SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造)改变为2份丙烯酸类多元醇树脂(商品名：BURNOCK WE-300，由DIC Corporation制造)，以及将8份化合物A101改变为8份茜素。除了前述以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，并且类似地进行重影评价。表10示出结果。
[比较例5]
实施例1中，将10份异氰酸酯化合物(2-1)改变为10份六亚甲基二异氰酸酯，以及将8份化合物A101改变为8份茜素。除了前述以外，以与实施例1中相同的方式生产电子照相感光构件，并且类似地进行重影评价。表10示出结果。
(表10)
虽然参照示例性实施方式描述本发明，但应了解本发明不局限于公开的示例性实施方式。权利要求书的范围符合最宽泛的解释以涵盖所有此类改进以及等同的结构和功能。

Claims (11)

1.一种电子照相感光构件，其包括：
支承体；
在所述支承体上形成的底涂层；和
在所述底涂层上形成的感光层，
其特征在于：所述底涂层包括组合物的固化产物，所述组合物包括：
(i)由下式(1)表示的异氰酸酯化合物，
(ii)选自由聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇组成的组的至少一种树脂，和
(iii)由下式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物：
式(1)中，R1和R2各自独立地表示单键或具有1-6个碳原子的亚烷基，以及X表示由下式(2)-(7)任意之一表示的二价基团：
式(2)-(7)中，R21、R22、R23、R31、R32、R33、R42和R43各自独立地表示氢原子或甲基，以及R41表示单键或亚甲基；
式(A1)-(A8)中：
R101-R106、R201-R210、R301-R308、R401-R408、R501-R510、R601-R606、R701-R708和R801-R810各自独立地表示由下式(A)表示的单价基团、氢原子、氰基、硝基、卤原子、烷氧羰基、未取代的或取代的烷基、通过用氧原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用NR10取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或者未取代的或取代的芳基，以及R10表示氢原子或烷基，条件是R101-R106至少之一、R201-R210至少之一、R301-R308至少之一、R401-R408至少之一、R501-R510至少之一、R601-R606至少之一、R701-R708至少之一和R801-R810至少之一各自表示由式(A)表示的单价基团；
所述取代的烷基的取代基包括烷基、芳基或卤原子，以及所述取代的芳基的取代基包括卤原子、硝基、氰基、烷基或卤代烷基；
Z201、Z301、Z401和Z501各自独立地表示碳原子、氮原子或氧原子；
当Z201表示氧原子时，R209和R210不存在，以及当Z201表示氮原子时，R210不存在；
当Z301表示氧原子时，R307和R308不存在，以及当Z301表示氮原子时，R308不存在；
当Z401表示氧原子时，R407和R408不存在，以及当Z401表示氮原子时，R408不存在；和
当Z501表示氧原子时，R509和R510不存在，以及当Z501表示氮原子时，R510不存在：
式(A)中：
α、β和γ至少之一表示具有可聚合官能团的基团，并且所述可聚合官能团包括选自由羟基、硫醇基、氨基和羧基组成的组的至少一种基团；
l和m各自独立地表示0或1，并且l和m的和为0以上且2以下；
α表示具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基、通过用氧原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或通过用NR19取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团，并且由α表示的各基团可具有所述可聚合官能团；
R19表示氢原子或烷基；
所述取代的亚烷基的取代基包括具有1-6个碳原子的烷基、苯甲基、烷氧羰基或苯基；
β表示亚苯基、用具有1-6个碳原子的烷基取代的亚苯基、用硝基取代的亚苯基、用卤原子取代的亚苯基或用烷氧基取代的亚苯基，并且由β表示的各基团可具有所述可聚合官能团；和
γ表示氢原子、具有1-6个主链碳原子的烷基或具有1-6个主链碳原子并且用具有1-6个碳原子的烷基取代的烷基，并且由γ表示的各基团可具有所述可聚合官能团。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述底涂层满足以下表达式(8)：
0.4≤(iii)/(i)+(ii)≤1.0 (8)
表达式(8)中，(i)、(ii)和(iii)分别表示相对于所述组合物的总质量所述化合物(i)、(ii)和(iii)的含量。
3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中式(1)中的R1和R2各自独立地表示单键、亚甲基、亚乙基或亚丙基。
4.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中所述(ii)中的所述聚乙烯醇缩醛具有由下式(9)表示的结构单元、由下式(10)表示的结构单元和由下式(11)表示的结构单元：
式中(9)，R91表示具有1-5个碳原子的烷基，
5.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，其中所述(ii)中的所述丙烯酸类多元醇包括通过使包含具有羟基的不饱和单体的单体组分聚合而获得的且具有丙烯酸类单元和甲基丙烯酸类单元之一的丙烯酸类树脂。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中由式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物的分子量与所述异氰酸酯化合物的分子量之比为12/20至28/20。
7.一种处理盒，其特征在于，其包括：
根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件；和
选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组的至少一种单元，
所述处理盒一体地支承所述电子照相感光构件和所述至少一种单元，
所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。
8.一种电子照相设备，其特征在于，其包括：
根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件；
充电单元；
曝光单元；
显影单元；和
转印单元。
9.一种电子照相感光构件的生产方法，所述电子照相感光构件包括：
支承体；
在所述支承体上形成的底涂层；和
在所述底涂层上形成的感光层，
其特征在于，所述方法包括：
制备底涂层用涂布液，所述涂布液包含组合物，所述组合物包含：
(i)具有由下式(1)表示的结构的异氰酸酯化合物，
(ii)选自由聚乙烯醇缩醛和丙烯酸类多元醇组成的组的至少一种树脂，和
(iii)由下式(A1)-(A8)任意之一表示的化合物；和
形成所述底涂层用涂布液的涂膜，接着将所述涂膜干燥和固化以形成所述底涂层：
式(1)中，R1和R2各自独立地表示单键或具有1-6个碳原子的亚烷基，以及X表示由下式(2)-(7)任意之一表示的二价基团：
式(2)-(7)中，R21、R22、R23、R31、R32、R33、R42和R43各自独立地表示氢原子或甲基，以及R41表示单键或亚甲基；
式(A1)-(A8)中：
R101-R106、R201-R210、R301-R308、R401-R408、R501-R510、R601-R606、R701-R708和R801-R810各自独立地表示由下式(A)表示的单价基团、氢原子、氰基、硝基、卤原子、烷氧羰基、未取代的或取代的烷基、通过用氧原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用NR10取代在未取代的或取代的烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或者未取代的或取代的芳基，和R10表示氢原子或烷基，条件是R101-R106至少之一、R201-R210至少之一、R301-R308至少之一、R401-R408至少之一、R501-R510至少之一、R601-R606至少之一、R701-R708至少之一和R801-R810至少之一各自表示由式(A)表示的单价基团；
所述取代的烷基的取代基包括烷基、芳基或卤原子，以及所述取代的芳基的取代基包括卤原子、硝基、氰基、烷基或卤代烷基；
Z201、Z301、Z401和Z501各自独立地表示碳原子、氮原子或氧原子；
当Z201表示氧原子时，R209和R210不存在，以及当Z201表示氮原子时，R210不存在；
当Z301表示氧原子时，R307和R308不存在，以及当Z301表示氮原子时，R308不存在；
当Z401表示氧原子时，R407和R408不存在，以及当Z401表示氮原子时，R408不存在；和
当Z501表示氧原子时，R509和R510不存在，以及当Z501表示氮原子时，R510不存在：
式(A)中：
α、β和γ至少之一表示具有可聚合官能团的基团，并且所述可聚合官能团包括选自由羟基、硫醇基、氨基和羧基组成的组的至少一种基团；
l和m各自独立地表示0或1，并且l和m的和为0以上且2以下；
α表示具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基、通过用氧原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、通过用硫原子取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团、或通过用NR19取代在具有1-6个主链碳原子的未取代的或取代的亚烷基的主链中的一个碳原子而得到的基团，并且由α表示的各基团可具有所述可聚合官能团；
R19表示氢原子或烷基；
所述取代的亚烷基的取代基包括具有1-6个碳原子的烷基、苯甲基、烷氧羰基或苯基；
β表示亚苯基、用具有1-6个碳原子的烷基取代的亚苯基、用硝基取代的亚苯基、用卤原子取代的亚苯基或用烷氧基取代的亚苯基，并且由β表示的各基团可具有所述可聚合官能团；和
γ表示氢原子、具有1-6个主链碳原子的烷基或具有1-6个主链碳原子并且用具有1-6个碳原子的烷基取代的烷基，并且由γ表示的各基团可具有所述可聚合官能团。
10.根据权利要求9所述的电子照相感光构件的生产方法，其中所述底涂层满足以下表达式(8)：
0.4≤(iii)/(i)+(ii)≤1.0 (8)
表达式(8)中，(i)、(ii)和(iii)分别表示相对于所述组合物的总含量所述化合物(i)、(ii)和(iii)的含量。
11.根据权利要求9或10所述的电子照相感光构件的生产方法，其中式(1)中的R1和R2各自独立地表示单键、亚甲基、亚乙基或亚丙基。
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6463104B2 (ja) 2013-12-26 2019-01-30 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP6508948B2 (ja) 2015-01-26 2019-05-08 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP6588731B2 (ja) 2015-05-07 2019-10-09 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP6639256B2 (ja) 2016-02-10 2020-02-05 キヤノン株式会社 電子写真装置、およびプロセスカートリッジ
JP7046571B2 (ja) 2017-11-24 2022-04-04 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7057104B2 (ja) 2017-11-24 2022-04-19 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置
JP7187270B2 (ja) 2017-11-24 2022-12-12 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7034768B2 (ja) 2018-02-28 2022-03-14 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2019152699A (ja) 2018-02-28 2019-09-12 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7034769B2 (ja) 2018-02-28 2022-03-14 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7054366B2 (ja) 2018-05-31 2022-04-13 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP7059112B2 (ja) 2018-05-31 2022-04-25 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置
US10747130B2 (en) 2018-05-31 2020-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Process cartridge and electrophotographic apparatus
JP7150485B2 (ja) 2018-05-31 2022-10-11 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7059111B2 (ja) 2018-05-31 2022-04-25 キヤノン株式会社 電子写真感光体およびその製造方法、並びにプロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置
JP7129225B2 (ja) 2018-05-31 2022-09-01 キヤノン株式会社 電子写真感光体および電子写真感光体の製造方法
CN110703551B (zh) * 2018-07-09 2021-07-27 中强光电股份有限公司 波长转换元件、投影装置及波长转换元件的制作方法
JP7413054B2 (ja) 2019-02-14 2024-01-15 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP7358276B2 (ja) 2019-03-15 2023-10-10 キヤノン株式会社 電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ
US11573499B2 (en) 2019-07-25 2023-02-07 Canon Kabushiki Kaisha Process cartridge and electrophotographic apparatus
US11320754B2 (en) 2019-07-25 2022-05-03 Canon Kabushiki Kaisha Process cartridge and electrophotographic apparatus
JP7337649B2 (ja) 2019-10-18 2023-09-04 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7337652B2 (ja) 2019-10-18 2023-09-04 キヤノン株式会社 プロセスカートリッジ及びそれを用いた電子写真装置
JP7330851B2 (ja) 2019-10-18 2023-08-22 キヤノン株式会社 電子写真装置、プロセスカートリッジ、及びカートリッジセット
JP7401256B2 (ja) 2019-10-18 2023-12-19 キヤノン株式会社 電子写真装置、プロセスカートリッジ及びカートリッジセット
JP7433867B2 (ja) * 2019-11-29 2024-02-20 キヤノン株式会社 画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP7444691B2 (ja) 2020-04-21 2024-03-06 キヤノン株式会社 電子写真感光体の製造方法
JP7483477B2 (ja) 2020-04-21 2024-05-15 キヤノン株式会社 電子写真感光ドラム、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4946766A (en) * 1988-03-14 1990-08-07 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor having intermediate layer comprising indium oxide
US5135829A (en) * 1989-10-23 1992-08-04 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor having intermediate layer comprising modified indium oxide
US5747206A (en) * 1995-08-15 1998-05-05 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor
US5834147A (en) * 1993-11-05 1998-11-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Photosensitive member for electrophotography
JP2007148294A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP2007179031A (ja) * 2005-11-30 2007-07-12 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP2010122440A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Sharp Corp 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62276561A (ja) * 1986-05-26 1987-12-01 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体
JPS63208853A (ja) * 1987-02-26 1988-08-30 Ricoh Co Ltd 電子写真用感光体
JPH0762762B2 (ja) 1987-10-12 1995-07-05 キヤノン株式会社 フルカラー電子写真装置
US20070049676A1 (en) * 2005-08-26 2007-03-01 Xerox Corporation Thick electrophotographic imaging member undercoat layers
CN101878453B (zh) 2007-12-04 2012-06-27 佳能株式会社 电子照相感光构件、生产电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4946766A (en) * 1988-03-14 1990-08-07 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor having intermediate layer comprising indium oxide
US5135829A (en) * 1989-10-23 1992-08-04 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor having intermediate layer comprising modified indium oxide
US5834147A (en) * 1993-11-05 1998-11-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Photosensitive member for electrophotography
US5747206A (en) * 1995-08-15 1998-05-05 Fuji Xerox Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor
JP2007148294A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP2007179031A (ja) * 2005-11-30 2007-07-12 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP2010122440A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Sharp Corp 電子写真感光体およびそれを用いた画像形成装置

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