CN105702601B - 清洁系统和方法 - Google Patents

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Abstract

在一个实施例中，本发明公开了一种用于清洁EUV载具的EUV清洁系统和方法。EUV清洁系统包括：分离的肮脏环境和洁净环境；用于双容器载具的不同部件的单独的清洁室；用于使用相同的机械手拾取和放置不同部件的夹持臂；用于将部件保持在不同位置处的夹持臂；用于外容器的水平自旋清洁和干燥；热水和热空气(70℃)清洁处理；用于通过热空气喷嘴清洁内容器以进行干燥的垂直喷嘴和格栅式兆声波喷嘴；用于使用吹扫气体除气不同部件的单独的真空净化室，例如，在高真空(例如，＜10‑6托)情况下，用于内容器的真空净化室和用于外容器的真空净化室；在真空室内部的加热器和RGA传感器；吹扫气体组装台；和吹扫气体装载和卸载台。

Description

清洁系统和方法
本申请是申请人动力微系统公司的国际申请日为2012年6月23日的国际申请号为PCT/IB2012/001250的申请的分案申请，其进入中国国家阶段日期是2013年12月23日，进入中国国家申请号为201280031013.4。
本申请主张2011年6月23日提出申请的题目为“Semiconductor cleaner systemsand methods”的美国临时专利申请第61/500,608号的优先权，该申请通过引用在此并入供参考。
背景技术
半导体元件的制造要求清洁度，例如对颗粒、杂质或异物的控制。这些微粒的存在可能会影响处理好的晶片内的合格装置的产量。因此，通常在专用输送容器中执行这些晶片的输送，例如，暗盒、托架或盘以及可打开或可密封容器或箱，包括前开式统集盒(FOUP)、前开式输送箱(FOSB)、标准机械接口(SMIF)盒或箱。FOUP通常在两个面对长侧处具有用于支撑晶片的梳状引导件，并且可以使用可移除罩闭合。在没有罩的情况下，FOUP是具有带有矩形表面面积的壶状基本形状的中空容器。除了晶片之外，掩模版被存储在掩模版载具中，所述掩模版载具存储在掩模版存储机中。当需要掩模曝光时，掩模版载具被输送到光刻仪。
有时候需要清洁FOUP和掩模版载具以保持在处理半导体晶片时所需的清洁度的标准。可以在专用清理和干燥设备中执行清洁处理。在对清洁度的要求越来越高的情况下，在现代化半导体工厂中的清洁周期数与对清洁度的增加的要求一起升高。例如，理想的是在每一个个体使用之后清洁FOUP以防止例如从一个晶片负载到下一个晶片负载的交叉污染。
因此，理想的是缩短FOUP的全部清洁所需的时间。此外，还期望的是保持清洁消耗尽可能小，尤其是在增加清洁周期的情况下。另一方面，清理必须非常彻底以便满足现代化半导体工厂的清洁度要求。
发明内容
在一个实施例中，本发明公开了一种用于清洁诸如载具的工件的清洁系统和方法。清洁系统包括：分离的肮脏环境和洁净环境中的至少一个；用于双容器载具的不同部件的单独的清洁室；用于使用相同的机械手拾取和放置不同部件的夹持臂；用于将部件保持在不同位置处的夹持臂；用于外容器的水平自旋清洁和干燥；热水和热空气(70℃)清洁处理；用于通过热空气喷嘴清洁内容器以进行干燥的垂直喷嘴和格栅式兆声波喷嘴；用于使用吹扫气体除气不同部件的单独的真空净化室，例如，在高真空(例如，＜10-6托)情况下，用于内容器的真空净化室和用于外容器的真空净化室；在真空室内部的加热器和气体监测器(例如，RGA传感器)；吹扫气体组装台；和吹扫气体装载和卸载台。
附图说明
图1示出了要被清洁的EUV掩模版载具的一个示例性结构；
图2示出了根据本发明的一个实施例的清洗系统的示例性结构；
图3A-3C示出了根据本发明的一个实施例的用于清洁系统的不同结构；
图4A-4B示出了根据本发明的一个实施例的在肮脏环境和洁净环境的示例性流动结构；
图5A-5B示出了根据本发明的一个实施例的用于清洗清洁室的示例性结构；
图6A-6B示出了根据本发明的一个实施例的用于使用分离的肮脏环境和洁净环境清洁对象的示例性流程图；
图7示出了根据本发明的一个实施例的使用分离的肮脏环境洁净环境的另一个示例性清洁过程；
图8A-8B示出了根据本发明的一个实施例的用于对象的不同组分的示例性分离清洁室；
图9示出了根据本发明的一个实施例的使用用于对象的不同部件的单独的清洁室的示例性清洁系统；
图10A-10B示出了根据本发明的一个实施例的用于使用单独的清洁室清洁对象的示例性流程图；
图11示出了根据本发明的一个实施例的用于使用单独的清洁室分别清洁对象的示例性流程图；
图12A-12B示出了根据本发明的一个实施例的示例性机械手；
图13A-13C示出了根据本发明的一个实施例的夹持臂的示例性夹持结构；
图14A-14B示出了根据本发明的一个实施例的用于使用本夹持臂夹持对象的示例性流程图；
图15示出了根据本发明的一个实施例的用于使用单独的清洁室分别清洁对象的示例性流程图；
图16A-16C示出了根据本发明的一个实施例的对象的示例性清洁次序；
图17A-17B示出了根据本发明的一个实施例的用于清洁对象的示例性流程图；
图18A-18C和19A-19B示出了根据本发明的一个实施例的采用超音速或兆声波液体喷射的示例性清洁室；
图20A-20B示出了根据本发明的一个实施例的用于清洁对象的示例性流程图；
图21A示出了根据本发明的一个实施例的示例性净化室；
图21B示出了根据本发明的一个实施例的另一个示例性净化室；
图22A-22B示出了根据本发明的一个实施例的用于对对象进行净化的示例性流程图；
图23A-23B示出了根据本发明的一个实施例的示例性组装台和过程；
图24A-24B示出了根据本发明的一个实施例的用于组装对象的示例性流程图；
图25示出了根据本发明的一个实施例的具有吹扫喷嘴的示例性输送和/或存储台；
图26A-26B示出了根据本发明的一些实施例的清洁器的示例；
图27示出了根据本发明的一些实施例的混合清洁系统的示例；以及
图28示出了根据本发明的一些实施例的清洁系统的示例。
具体实施方式
本发明公开了用于诸如半导体工件容器和掩模版载具的对象的综合清洁的方法和设备。清洁过程可以包括液体清洁、干燥、和真空净化。
清洁方法包括除去诸如有机、无机金属、自然氧化物和微粒物的颗粒和/或污染物以及除去水渍的方法。对于诸如暗盒、FOUP、保持器、载具等的半导体制品来说清洁可能是关键的要求。在清洁处理中，在几微米范围内除去颗粒降至子微米水平并减少残余污染物(金属或离子)已经变成半导体清洁行业所关心的问题的一部分。
清洁处理可以提供具有最小液体剩余的有效对象清洁，这可以有助于随后的干燥处理。例如，要被清洁的物品以最小液阱位于例如水平或垂直表面上。另外，在可能的圈闭位置处，气体喷嘴可以被定位成吹走任何被圈闭液体以有助于最小化液体残余并辅助干燥处理。气体喷嘴优选地提供氮气或过滤空气，但是还可以提供液体或充气液体。在一个方面中，气体喷嘴可以执行清洁动作，并且液体喷嘴可以除去圈闭液体。
在一个实施例中，本发明公开了用于诸如超紫外线(EUV)掩模版载具的高水平清洁度物品的清洁方法和系统。随后的描述使用超紫外辐射掩模版载是示例性的，但是本发明不受此限制，而是可以被应用于具有严格清洁度要求的任何对象，例如低微粒污染物和低除气部件。
图1示出了要被清洁的EUV掩模版载具79的一个示例性结构。EUV掩模版70通常被存储在双容器载具79中，且在内容器与外容器之间的空间77中具有氮气。内容器通常由金属制成，所述内容器包括与下支撑件配合的上罩71。外容器通常由低除气聚合物制成，所述外容器包括与下支撑件74配合的上罩73。两个容器都可以具有用于被操作者或自动输送系统保持的手柄。手柄75被显示为用于外容器的上罩73。外容器的支撑件74可以具有用于接收清除到掩模版载具的内容积77的氮气的入口。
双容器EUV掩模版载具是用于半导体处理的高水平清洁度的一个示例，其中掩模版被存储在两个水平的容器中以防止污染。另外，两个水平之间的容积被氮气清除以避免细菌增长，或防止来自外容器的除气颗粒附到内容器。因此，用于这种清洁对象的种清洁系统需要在被清洁之后保持期望的清洁度水平的改进的特征。
在一个实施例中，本发明公开了在清洁之后，在洁净环境下进行清洁之前，分离肮脏环境。分离可以例如通过防止清洁对象被肮脏环境中的污染物所污染来在对象被清洁之后保持对象的清洁度。在以下说明中，术语“肮脏”用于表示与术语“清洁”的关系，并表示不洁净环境。例如，对象可能是肮脏的，例如需要清洁，在半导体处理所需的清洁度水平方面，而不是日常操作方面。在清洁之后，对象可以是洁净的，例如，比当对象在肮脏状态时更洁净。
在一个实施例中，清洁系统包括一个或多个清洁室，所述清洁室具有与分离的肮脏环境和洁净环境连通的分离的输入端口和输出端口。例如，清洁室具有连接到肮脏环境用于接收将要被清洁的对象的输入端口。清洁室还具有连接到洁净环境以用于将在清洁室中被清洁之后的对象输送到洁净环境的单独的输出端口。清洁室因此将清洁系统分成输入肮脏环境和输出洁净环境。清洁室的输入端口和输出端口同步以防止肮脏环境与洁净环境之间的交叉污染。例如，一次仅打开一个端口以防止肮脏环境中的脏空气进入洁净环境。在一个实施例中，在打开朝向洁净环境的输出端口之前，清洁室具有清洁清除气体(或者清洁压缩空气或氮气)。另外，在打开朝向肮脏环境的输入端口之前，可以在清洁室中建立正压力，因此最小化来自肮脏环境的脏空气的任何回流。可以在打开朝向洁净环境的输出端口之前在清洁室中建立负压力，从而最小化脏空气到洁净环境的任何回流。
在一个实施例中，可以使用不同的装载端口。例如，输入装载端口用于肮脏环境中以用于接收要被清洁的对象。分开的输出卸载端口用于洁净环境中以用于输出清洁对象。进一步地，可以使用不同的机器人操作系统。例如，脏机器人用于肮脏环境中，而分开的清洁机器人用于洁净环境中。
可以在肮脏环境和洁净环境中建立不同的清洁度水平。例如，肮脏环境可以具有过滤层流。洁净环境可以具有提高的清洁度，例如，具有增加的底部和冷却器的过滤的再循环空气或氮气流。洁净环境中的再循环流可以使清洁室与外部环境隔离，从而最小化来自外部空气的任何可能的污染物。冷却器可以安装在再循环通路、冷却空气或氮气流中并防止空气分子的热湍流。
另外，在与清洁室的输出端口的接口处包括在顶部顶板处的风扇和在底部地板处的风扇的清洁空气帘可以进一步隔离洁净环境与肮脏环境的任何可能连通。
在一个实施例，耐用部件优选地位于肮脏环境中以最小化对洁净环境的方位，从而尽可能保持洁净环境清洁。
图2示出了根据本发明的一个实施例的清洗系统的示例性结构。清洁室14将肮脏环境12与洁净环境16分开，且脏机器人12B和输入装载端口12A位于肮脏环境12中，而清洁机器人16B和输出卸载端口16位于洁净环境16中。在典型工件流中，将要被清洁的对象(例如，EUV掩模版载具)被装载到输入装载端口12A中(步骤11)，接着通过脏机器人12B被输送到清洁14在(步骤13)。在清洁室14中被清洁之后，清洁对象通过清洁机器人16B被输送到输出卸载端口16A(步骤15)以被卸载(步骤17)。清洁室可以具有分开的输入门和输出门，且脏对象进入肮脏的输入门13，而清洁对象离开清洁输出门15。进一步地考虑可以被包括以防止洁净环境与肮脏环境之间的交叉污染。例如，可以在清洁对象的输送期间在洁净环境中建立高压力以产生远离洁净环境的层流，从而最小化来自肮脏环境的颗粒回流。另外，可以例如通过使清洁室门互锁而在洁净环境和肮脏环境之间建立隔离，从而防止同时打开输入门和输出门。
图3A-3C示出了根据本发明的一个实施例的用于清洁系统的不同结构。在图3A中，肮脏环境22和洁净环境26被并排定位且具有输入装载端口21和输出卸载端口27。输入装载门21A首先被打开以接收到输入装载端口21的肮脏对象。在关闭输入装载门21A之后，输出装载门21B打开，并且可以通过肮脏的机器人拾取肮脏对象。在关闭输出装载门21B之后，输入室门24A被打开，并且可以将肮脏的对象输送到清洁室24。在清洁之后，对象可以被输送到输出室门24B，所述输出室门24B接着被打开，使得可以通过清洁机器人拾取清洁对象。清洁对象接着被输送到输出卸载端口27，然后通过门27B和27A被输送到外部环境。
图3B示出另一个结构，其中清洁室24具有两个相对的输入门24A和输出门24B。图3C示出了其中清洁系统具有多个清洁室的另一个结构，其中显示了两个清洁室24′和24″。分别在肮脏环境和洁净环境中的线性导向装置22B和26B可以分别将肮脏的机器人22A和清洁机器人26A输送到不同的清洁室24′和24″和从不同的清洁室分别输送肮脏的机器人22A和清洁机器人26A。
除了在清洁之前和清洁之后隔离环境之外，可以保持环境处于不同的清洁度。例如，在其中对象较脏的输入部分处，可以建立较脏的环境。在其中对象已经被清洁并因此较清洁的输出部分处，可以建立洁净环境。
图4A-4B示出了根据本发明的一个实施例的在肮脏环境和洁净环境的示例性流动结构。图4A示出了通过过滤系统32A的在肮脏环境32中的层流32B。电子设备31可以位于肮脏环境32中，所述电子设备31可以通过维修门30被访问。洁净环境36具有再循环流36B，所述再循环流通过升高的底板37，进入冷却器38，并被过滤系统36A过滤。封闭环境可以隔离洁净环境36与外部环境，从而进一步提高洁净环境的清洁度。清洁室34被夹在两个环境32与36之间，所述清洁室34包括吹扫气体入口35A和吹扫气体出口35B。
图4B示出根据本发明的一个实施例的用于洁净环境的示例性幕墙式气流。风扇系统39c位于清洁室的输出端口的前面，因此改变洁净环境中的流动39B，使得在输出门34B处建立幕墙式流动。该幕墙式流动可以最小化来自清洁室34的任何回流，从而防止与洁净环境的任何交叉污染。
除了对于清洗系统的输入部分和输出部分保持不同的清洁度水平之外，可以在输入部分与输出部分之间的连通期间提供气体吹扫以最小化输入部分与输出部分之间的交叉污染。例如，可以在两个部分之间的门打开期间建立从洁净环境到肮脏环境的正压力或流动。可选地，可以在肮脏环境中建立负压力，以还形成从洁净环境到肮脏环境的正压力或流动。
图5A-5B示出了根据本发明的一个实施例的用于清洗清洁室的示例性结构。在图5A中，在打开通向肮脏环境32的输入门之前，清洁室34通过加压，或通过清洁气体45被吹扫。在打开输入门之后，可以建立从清洁室34到肮脏环境32的正流动42，从而最小化由于从肮脏环境的回流导致的任何交叉污染。清洁室34中的压力可以等于或大于肮脏环境32中的压力。
在图5B中，在打开通向洁净环境36的输出门之前，清洁室34被抽真空，或通过清洁气体入口45A和出口45B被压力调节。在打开输出门之后，可以建立从洁净环境36到清洁室34的正流动43，从而最小化由到洁净环境的回流导致的任何交叉污染。清洁室34中的压力可以等于或低于洁净环境36中的压力。
在一些实施例中，本发明公开一种用于清洁诸如掩模版载具的工件的系统。系统可以包括第一台，其中第一台包括用于输送工件的第一机器人机构。第一台可以是清洗系统的输入部分，所述输入部分可以被构造成接收肮脏的工件，例如，需要被清洁的工件。系统可以包括第二台，其中第二台包括用于输送工件的第二机器人机构。第二台可以是清洁系统的输出部分，所述输出部分可以被构造成接收洁净工件，例如已经被清洁系统清洁的工件。系统可以包括室，其中室可操作以清洁工件。室可以包括入口，其中入口可操作以用于能够通过第一机器人机构将工件从第一台被输送到室。室可以包括出口，其中出口可操作以用于能够通过第二机器人机构件工件从室被输送到第二台。室可以包括用于输送清洁液体的液体喷嘴、用于输送干燥气体的干燥喷嘴和用于加热工件的任选的加热器。第二台可以与第一台隔离。总之，清洁室被夹在第一台与第二台之间，并因此第一台和第二台相互隔离。在一些实施例中，第一台和第二台在清洁系统的操作期间也被隔离。例如，清洁室可以被构造成当清洁被分别暴露给第二/第一台时隔离第一/第二台。当面对第二台的门打开时，可以关闭面对第一台的门，从而隔离第一台和第二台。第二台的环境比第一台的环境清洁。因为第一台容纳肮脏的工件，而第二台容纳洁净工件，保持第二台与第一台清洁可以对于工件清洁度是有益的。例如，第一台包括连接到外部环境的过滤层流。第二台包括具有升高的底板和冷却器的过滤再循环气流，其可以保持更加洁净环境。系统可以包括在室的出口处建立幕墙式流动的机构。
在一些实施例中，清洗系统可以包括用于清洁多个工件的多个室。例如，第一室可用于清洁工件的第一部件，而第二室可用于清洁工件的第二部件。系统可以包括连接到第一台以用于接收将要被输送到室的工件的输入载荷端口。系统可以包括连接到第二台以用于接收来自室的工件的输出载荷端口。为了隔离第一台和第二台，在一些实施例中，室的入口和出口没有同时打开以提供第一台与第二台的隔离。系统可以包括建立在入口打开期间从第二台到室的流动或在出口打开期间从室到第一台的流动。
在对象的输送期间，例如，从输入端口(肮脏的)到清洁室(用于清洁)到输出端口(清洁的)，可以建立最小化清洁对象的再污染的条件。
图6A-6B示出了根据本发明的一个实施例的用于使用分离的肮脏环境和洁净环境清洁对象的示例性流程图。在图6A中，操作50建立连接清洁室的具有不同清洁度水平的两个环境。操作51将要被清洁的对象从肮脏环境输送到用于清洁的清洁室并输送到洁净环境，其中清洁对象与肮脏环境隔离以防止交叉污染。
在图6B中，操作54将要被清洁的对象带到肮脏环境。操作55将所述对象从肮脏环境输送到清洁室。操作56在清洁室中清洁对象。操作57将清洁对象从清洁室输送到洁净环境，其中洁净环境与肮脏环境隔离以防止交叉污染。操作58从洁净环境取出清洁对象。
图7示出了根据本发明的一个实施例的使用分离的肮脏环境和洁净环境的另一个示例性清洁过程。在图7中，操作60建立用于接收要被清洁的对象的肮脏环境和用于接收清洁之后的对象的洁净环境，其中两个环境连接用于清洁对象的清洁室。操作61在肮脏环境中建立层流以减少污染物。操作62将要被清洁的对象带到肮脏环境。操作63在通向肮脏环境之前隔离清洁室并给清洁室加压以最小化来自肮脏环境的回流。操作64将要被清洁的对象从肮脏环境输送到清洁室。操作65在清洁室中清洁对象。操作66在洁净环境中建立再循环流以减少污染物。操作67在洁净环境中冷却再循环流和/或在清洁室前面建立流动幕墙以减少污染物。操作68在通向洁净环境之前隔离清洁室和降低压合清洁室以最小化来自清洁室的回流。操作69将清洁对象从清洁室输送到洁净环境。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的方法。所述方法可以包括通过清洁室的入口将工件从第一台输送到室。方法可以包括在清洁室中清洁工件。所述方法可以包括通过室的出口将工件从室输送到第二台。第二台与第一台隔离。第二台的环境比第一台的环境清洁。
在一些实施例中，所述方法可以进一步包括将工件装载到输入载荷端口以被输送到第一台。所述方法还可以包括将工件从第二台卸载到输出载荷端口。所述方法还可以包括在将工件从第一台输送到室之前关闭室的出口。所述方法还可以包括在打开室的入口以用于将工件从第一台输送到室之前给室加压。所述方法还可以包括在将工件从室输送到第二台之前关闭室的入口。所述方法还可以包括在打开室的出口以用于将工件从室输送到第二台之前降低室中的压力。所述方法还可以包括在第二台中建立再循环气流。所述方法还可以包括冷却第二台的环境。所述方法还可以包括在室的出口处建立幕墙式流动。
在一些实施例中，所述方法可以包括确定连接清洁室的具有不同清洁度水平的两个环境；将工件从较脏的环境输送到清洁室以进行清洁；将工件从清洁室输送到洁净环境，其中两个环境在工件的输送期间相互隔离。
上述说明描述了在两个肮脏环境与洁净环境之间的清洁室。然而，本发明没有受限于此，而是可以等同地应用于通过分离输入脏环境与输出洁净环境建立所需的清洁度水平的任何处理室。
进一步地，清洁工件的清洁系统和方法可以包括诸如其它部分中所述的特征的其它特征。例如，特征可以包括单独的清洁室、用于使用同一个机器人把手拾取并放置不同部件的手柄臂、用于将不同部件保持在不同位置的手柄臂、用于外容器的水平自旋清洁和干燥、热水和热空气清洁过程、用于通过热空气喷嘴进行清洁以用于干燥的垂直喷嘴和格栅式兆超声波喷嘴、用于对不同部件进行除气的真空净化室、和吹扫气体装载和卸载台。
在一个实施例中，本发明公开了用于对象的不同部件的单独的清洁室。分离可以防止在清洁过程期间清洁部件被脏部件污染。例如，双容器EUV掩模版载具的内容器比相应的外容器更清洁，这是因为内容器已经被设计成由外容器和惰性气体环境两者来保护。因此，在内部件和外部件共同清洁的情况下，用于外容器部件和用于内容器部件的分离的清洁室可以在清洁期间例如通过外容器最小化内容器的污染。
在一个实施例中，根据清洁度的水平确定清洁室的数量。例如，双容器载具可以具有两个清洁度水平：用于外容器的较脏水平和用于容器的较清洁水平。因此，可以使用两个分离的清洁室。第一清洁室用于清洁双容器载具的外容器，所述外容器包括外容器的上罩和下支撑件。第二清洁室用于清洁双容器载具的内容器，所述内容器包括内容器的上罩和下支撑件
在一个实施例中，清洁度的水平可以进一步被改进。例如，可以建立四个清洁度水平，从而为每一个外容器和内容器产生两个清洁度水平，这是因为容器的上罩和下支撑件可能会吸引不同水平的污染物。因此，可以使用四个单独的清洁室。第一和第二清洁室用于分别清洁双容器载具的外容器的上罩和下支撑件。第三和第四清洁室用于分别清洁双容器载具的内容器的上罩和下支撑件。
在一个实施例中，对象的每一个部件都分别在单独的清洁室中被清洁。例如，双容器载具可以在四个单独的清洁室中被清洁：用于外容器的上罩的清洁室、用于外容器的下支撑件的清洁室、用于内容器的上罩的清洁室和用于内容器的下支撑件的清洁室。
图8A-8B示出了根据本发明的一个实施例的用于对象的不同组分的示例性分离清洁室。在图8A中，四个不同的清洁室83A-83D紧接于彼此设置以用于清洁对象的不同部件，例如，双容器载具80的四个部件80A-80D。载具80被装载到装载台81，然后通过在输送台82中具有手柄臂82B的机器人82A拾取部件。机器人82A可以例如通过线性导向装置82C在多个清洁室83A-83D之间移动。
在图8B中，清洁室83A-83D分离输入肮脏环境82与输出洁净环境86，从而为将要被清洁的对象提供额外的清洁度水平。诸如双容器载具80的对象被装载到输入装载台81，并通过机器人82A被输送到肮脏环境82。从所述肮脏环境82，载具80的部件被放置到不同清洁室83A-83D以被分别清洁。在被清洁之后，洁净的机器人86A拾取所述部件，将所述部件放入洁净环境86中，并输出到卸载台87。
图9示出了根据本发明的一个实施例的使用单独的清洁室用于对象的不同部件的示例性清洁系统。诸如双容器载具80的对象被装载到输入装载台91，并通过机器人被输送到肮脏环境92。从所述肮脏环境92，载具80的部件被放置到不同清洁室93以被分别清洁。在被清洁之后，洁净的机器人拾取所述部件以将所述部件带到洁净环境96。任选的除气室95A-95B可以在将部件组装到组装台98之前容纳除去部件。在被组装之后，组装载具被输出到输出卸载台97。
在一个实施例中，本发明公开了对清洁之后的部件进行净化的除气室95A和95B。可以使用四个除气室。优选地，使用两个除气室，一个用于内容器部件，而一个用于外容器部件。为了除气净化，通过使用两个除气室结合四个清洁室用于内容器和外容器的不同部分，可以实现清洁度水平。在随后的部件中描述除气室的细节。
在一个实施例中，本发明公开了用于在被分别清洁和除气净化之后组装在一起的组装台98。组装台优选地包括与洁净环境96一样清洁或甚至更清洁的洁净环境。例如，组装台可以填充有氮气，以确保载具内部的容积填充有氮气，从而防止任何氧气用于潜在的氧化和细菌增长。在随后的部件中将描述用于组装台的细节。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的系统，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。第一部件可以是由聚合物材料制成并包括盖和主体部分的外箱。第二部件可以是由金属材料制成并包括盖和主体部分的内箱。系统可以包括：第一室，其中第一室可操作以清洁第一部件；第二室，其中第二室可操作以清洁第二部件；第一台，其中第一台连接到第一和第二室，其中第一台包括第一机器人机构，其中第一机器人机构可操作以将第一部件从第一台输送到第一室和将第二部件从第一台输送到第二室。
在一些实施例中，第一部件包括盖和主体，并且其中第一室可操作以清洁盖和主体两者。第一部件可以包括盖和主体，并且其中第一室可以包括可操作以清洁盖的第一盖室和可操作以清洁主体的第一主体室。第二部件可以包括盖和主体，并且其中第二室可操作以清洁盖和主体两者。第二部件可以包括盖和主体，并且其中第二室可操作以清洁盖的第二盖室和可操作以清洁主体的第二主体室。第一室可以包括第一入口和第一出口，其中第二室可以包括第二入口和第二出口，其中第一台连接到第一入口和第二入口，其中系统还可以包括第二台，其中第二台连接到第一出口和第二出口，其中第二台可以包括第二机器人机构，其中第二机器人机构可操作以将第一部件从第一室输送到第二台和将第二部件从第二室输送到第二台。第二台可以与第一台隔离。系统可以进一步包括：连接到第一台以用于接收工件的负载端口；一个或多个第三室，其中第三室可操作以能够在清洁之后对第一和第二部件进行除气；和第四室，其中第四室可操作以能够在清洁之后组装第一和第二部件。
图10A-10B示出了根据本发明的一个实施例的用于使用单独的清洁室清洁对象的示例性流程图。在图10A中，操作100接收包括多个部件的诸如双容器载具的将要被清洁的对象。操作101将对象分解成单个部件。例如，双容器载具可以被分解成外容器和内容器。可选地，双容器载具可以被分解成外容器的盖和支撑件和内容器的盖和支撑件。操作102将单个部件输送到单独的清洁室以用于清洁。操作103优选地在洁净环境中组装清洁的单个部件以保持清洁度。组装台因此优选地与多个清洁室成一体以保持清洁度水平。
在图10B中，单独的环境与单独的清洁室一起被实施。操作104将包括多个部件的对象带到肮脏环境。操作105分解单个部件并将单个部件从肮脏环境输送到单独的清洁室以被单独清洁从而防止交叉污染。操作106将清洁部件从清洁室输送到洁净环境，其中洁净环境与肮脏环境隔离以防止交叉污染。操作107调节被清洁部件。例如，可以对清洁部件进行真空净化，以除去部件内的圈闭气体。操作108组装清洁后的各个部件。
图11示出了根据本发明的一个实施例的用于使用单独的清洁室分别清洁对象的示例性流程图。操作110建立肮脏环境和洁净环境，其中两个环境连接多个清洁室。操作111将双容器载具带到肮脏环境，其中双容器载具包括顶部和底部内容器以及顶部和底部外容器。操作112将双容器载具分解成单个部件。操作113将单个部件输送到单独的清洁室以用于清洁。操作114在各个清洁室中清洁单个部件。操作115将单个部件从清洁室输送到洁净环境。操作116在多个单独的除气室中对单个部件进行除气。操作117组装清洁后的单个部件以形成双容器载具，同时在外容器内部填充惰性气体。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的方法，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述方法可以包括：将工件的第一部件从第一台输送到第一室；将工件的第二部件从第一台输送到第二室；在第一室和第二室中清洁第一部件和第二部件。
在一些实施例中，所述方法可以进一步包括：通过第一出口将第一部件从第一室输送到第二台；通过第二出口将第二部件从第二室输送到第二台；在清洁之后输送第一和第二部件和除气第一和第二部件；以及将第一和第二部件输送到第四室，其中第四室可操作以组装第一和第二部件。
进一步地，清洁工件的清洁系统和方法可以包括诸如其它部分中所述的特征的其它特征。例如，特征可以包括单独的环境、用于使用同一个机器人把手拾取并放置不同部件的手柄臂、用于将不同部件保持在不同位置的手柄臂、用于外容器的水平自旋清洁和干燥、热水和热空气清洁过程、用于通过热空气喷嘴进行清洁以用于干燥的垂直喷嘴和格栅式兆超声波喷嘴、用于对不同部件进行除气的真空净化室、和吹扫气体装载和卸载台。
在一个实施例中，本发明公开了保持将要被清洁的对象的机械手。单个机器手可以用于保持对象的所有部件。可选地，可以使用多个机械手。在一个实施例中，具有可调节夹持臂的抓握手柄用于保持双容器载具的所有不同尺寸的部件。例如，因为外容器比内容器大，因此夹持臂可以被加大以保持外容器和减小以保持内容器。因此，具有夹持臂的单个机械手可以用于保持对象的不同部件。
在一个实施例中，机械手进一步被设计成通过使具有不同清洁度水平的不同与机械手的不同部分接触来避免对象的部件之间的交叉污染。例如，夹持臂在夹持臂的不同位置处夹持不同部件。夹持臂的顶部可以用于支撑外容器部分。夹持臂的中间部分可以用于支撑内容器部分。
在一个实施例中，机械手进一步被设计成最小化颗粒生成。例如，夹持臂被控制从而以最小化可以生成颗粒的摩擦力的最小力夹持部件。代替使用气动控制，具有或没有反馈传感器的电动机控制可以用于控制当保持载具部件时由夹持臂产生的力。
图12A-12B示出了根据本发明的一个实施例的示例性机械手。机械手包括连接到手柄120的两个夹持臂121A和121B。诸如电动机的移动机构126可以移动夹持臂(127)，以用于使夹持臂的夹持扩大或变小以适应不同尺寸的对象。电动机可以具有控制器部件，诸如电流传感器(内置电动机，未示出)或者压力传感器125A/125B，以控制在将要被夹持的对象上的来自夹持臂的力。可以包括任选的插入件122A/122B以进一步减少由于摩擦力生成的颗粒。
图13A-13C示出了根据本发明的一个实施例的夹持臂的示例性夹持结构。在图13A中，夹持臂121从抓握臂插入件122的中间部分131支撑内容器的部件130(例如，上盖)。销135可以用于通过与部件130的凹部137配合而锁定部件130(参见图13C)。在图13B中，夹持臂121从夹持臂插入件122的顶部部分133支撑外容器的部件132(例如，上盖)。销135可以用于通过与部件的凹部配合而锁定部件133(未示出，但是与图13C类似)。夹持臂因此在不同的位置处(中间部分131和顶部部分133)夹持对象的不同部件，从而可以最小化具有不同清洁度水平的不同部件之间的交叉污染。可以使用其它结构，例如，从插入件的底部支撑部件的夹持臂，或在没有插入件的情况下直接通过夹持臂支撑部件的夹持臂。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于保持工件的机械手，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。机械手可以包括：手柄，其中手柄包括两个臂，其中两个臂之间的距离可调节以支撑第一部件和第二部件；连接到两个臂以调节两个臂之间的距离的机构；其中每一个臂都包括用于夹持第一部件的第一部分和用于夹持第二部件的第二部分，其中第一部分和第二部分设置在臂上的不同位置处。
在一些实施例中，机构可以包括电动机。第一部分可以包括中间部分臂。第二部分可以包括顶部部分臂或底部部分臂。机械手可以进一步包括用于控制作用在第一或第二部件上的力的反馈传感器。机械手可以包括连接到臂的插入件，其中第一部分包括插入件的中间部分。机械手可以包括连接到臂的插入件，其中第二部分插入件的顶部部分或底部部分。机械手可以包括用于与第一或第二部件中的凹部配合的销。
图14A-14B示出了根据本发明的一个实施例的用于使用本夹持臂夹持对象的示例性流程图。在图14A中，操作140打开夹持臂以包围工作对象。操作141闭合夹持臂以保持工作对象。操作142任选地感测夹持臂上的力。操作143控制夹持臂的力以最小化由于接触而产生的颗粒。
在图14B中，操作144提供包括多个可分离部件的对象。操作145打开夹持臂以包围对象的部件。操作146移动夹持臂以在夹持臂的预定位置处接触对象，其中选择夹持臂的位置以最小化对象的部件之间的交叉污染。操作147闭合夹持臂以保持对象部件。
图15示出了根据本发明的一个实施例的用于使用单独的清洁室分别清洁对象的示例性流程图。操作150移动夹持臂以在夹持臂的第一位置处接触外容器的顶部部分。操作151将外容器的顶部部分输送到第一处理室。操作152移动夹持臂以在夹持臂的第二位置处接触内容器的顶部部分。操作153将内容器的顶部部分输送到第二处理室。操作154移动夹持臂以在夹持臂的第二位置处接触内容器的底部部分。操作155将内容器的底部部分输送到第三处理室。操作156移动夹持臂以在夹持臂的第一位置处接触外容器的底部部分。操作157将外容器的底部部分输送到第四处理室。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于输送工件的方法，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述方法可以包括：扩大两个夹持臂之间的第一距离以包围第一部件；在夹持臂上的第一部分处夹持第一部件；将第一部件输送到第一目的地；扩大两个夹持臂之间的第二距离以包围第二部件；在夹持臂上的第二部分处夹持第二部件；将第二部件输送到第二目的地，其中第一部分和第二部分设置在臂上的不同位置上。
在一些实施例中，可以通过电动机来执行扩大和夹持。所述方法可以进一步包括使臂上的销与第一或第二部件上的凹部配合。
在一些实施例中，可以在输送具有包围第二部件的第一部件的工件时使用机械手。机械手可以用于本说明书中所述的其它结构。
在一个实施例中，本发明公开了用于清洁对象的不同部件的不同清洁室。为了清洁对象，多个液体喷嘴可以朝向对象表面指向。液体喷嘴可以输送清洗液、冲洗液(例如，DI水)及被设计成用于清洁对象并对对象进行净化的诸如表面活性剂或除金属剂的其它化学液体的混合物。超音速或兆声波喷嘴可以输送高能液体以提高清洁力。例如通过喷射细微液滴和浮质气泡以及载气(例如，氮气、空气或惰性气体)可以谨慎地控制液体的量。液体喷嘴还可以被构造成输送气体，例如，氮气或过滤空气，或气体/液体混合物。可以使用快速蒸发液体，例如低沸腾温度和高蒸气压力的酒精。还可以使用热载气和热液体以，例如，有助于通过蒸发进行快速干燥。另外，室和对象的位置可以被设计成使得可以通过良好的排泄移除液体而没有液体滞留并且没有液体死点。进一步地，在液体清洁周期期间，可以通过快速排放和低室压力，例如通过用干燥气体吹扫和/或通过保持清洁室内部的真空压力，来除去液体蒸汽。
喷嘴可以被设计成能与表面重叠，从而提供对表面的完全覆盖以确保全部清洁。喷嘴可以提供小角度流动，例如，以具有足够的清洁力。冲击角度可以垂直于具有较大力的表面，或可以沿着用于较高表面覆盖率的表面。在一个方面中，将要被清洁的对象是半导体容器，因此污染物往往是小微粒或金属污染物，并且本发明公开了具有用于更高覆盖面积的中间压力和低角度冲击清洁的喷嘴。
在典型的清洁过程中，例如清洗溶液的清洗液被喷射到诸如掩模版载具部件的对象上。诸如表面活性剂、洗涤剂、或净化染物/金属剂的添加剂可以例如通过吸入或泵送被添加到水或其它液体中。净化染物/金属剂可以是诸如螯合剂的去金属剂。代替表面活性剂可以使用高碱性洗涤剂。紫外线光可以被添加以例如辅助污染物的除去。在完成清洁和/或污染物除去之后，接着用诸如DI水的冲洗液进行喷射来冲洗。可以执行周期清洁/冲洗过程以用于有效清洁。清洗液可以被集中以用于再循环。
在一个实施例中，清洁处理提供小液滴到有助于随后的干燥处理。另外，可以提供清除气体或液体喷射以将液滴破坏成甚至更小的液滴。在液体聚集的区域中，例如，在表面的底部处，可以提供气体或液体喷射以将大的聚集在一起的液体破坏成小液滴，从而例如将液体吹走。
在一个实施例中，可以加热液体以增加挥发性，从而增加液体残留物除去的容易性。另外，还可以例如通过IR或UV灯加热对象和处理室。
在清洁室中，对象可以被定位成使得液体可以通过重力向下运动。在液体清洁之后，可以通过气流干燥对象，例如，提供氮气、过滤空气、液体或充气液体的气体喷嘴可以朝向物体指向以有助于除去被表面张力圈闭的液体残留物。例如，除了顶部气体喷嘴可以朝向顶部表面指向之外，底部气体喷嘴可以朝向对象的底部指向，并且其它气体喷嘴朝向可能会圈闭液体残留物的不规则形状的对象指向。此外，可以使用自旋干燥。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的系统。系统可以包括：室；一个或多个第一喷嘴，其中第一喷嘴可操作以输送清洗液；一个或多个第二喷嘴，其中第二喷嘴可操作以输送兆声波液体；一个或多个第三喷嘴，其中第三喷嘴可操作以输送干燥气体；第一机构，用于使第二喷嘴在第一方向上移动；第二机构，用于使工件在第二方向上移动，其中第二方向不同于第一方向。
在一些实施例中，第一方向可以是水平的，而第二方向可以是垂直的。第二喷嘴可以周期地从工件的一侧朝向工件的相对侧移动。工件可以垂直移动。第三喷嘴可以设置在第一喷嘴上方。第二喷嘴可以与第一喷嘴穿插设置。
图16A-16C示出了根据本发明的一个实施例的对象的示例性清洁次序。在图16A中，诸如双容器载具的外容器的上盖的对象从在层流161下的肮脏环境162被带到清洁室164。清洁室例如通过关闭通向洁净环境的进入门而与洁净环境166隔离。另外，可以将吹扫气体163提供给清洁室164以防止污染物从肮脏环境回流到清洁室。
在图16B中，清洁室被隔离，并且液体和气体喷嘴165可以提供清洁对象的液体和气体。对象可以沿水平方向设置，并且可以应用自旋清洁和干燥167以提高清洁和干燥处理。喷嘴165可以顺序地操作，例如，输送用于清洁的液体，并随后输送用于干燥的气体。可以使用热液体和热气体。可以设置加热器以提供热能，从而辅助清洁和干燥处理。
在图16C中，打开出口门，并将对象带到洁净环境166。可以例如通过排气装置169在清洁室中建立低压力以防止洁净环境的任何污染物回流。幕墙式气体168可以用于进一步最小化污染物回流。
图17A-17B示出了根据本发明的一个实施例的用于清洁对象的示例性流程图。在图17A中，操作170旋转将要被清洁的对象。操作171用热液体喷射清洁对象。操作172用热气体干燥对象。操作173使清洁室中的压力与输入环境平衡以防止交叉污染。在图17B中，操作174将双容器载具的外容器的部件从输入环境输送到清洁室。操作175用热液体喷射和热气体干燥旋转地清洁部件。操作176使清洁室中的压力与输出环境平衡以防止交叉污染。操作177将清洁部件从清洁室输送到输出环境。
在一个实施例中，本发明公开了一种清洁要求高水平清洁度的诸如双容器载具的内容器的部件的新颖的清洁室和方法。清洁室使用格栅式超音速或兆声波液体喷洒以清洁对象。在一个实施例中，超音速或兆声波喷嘴在水平方向上移动，同时对象在垂直方向上移动，从而用来自超音速或兆声波喷嘴的喷射覆盖对象的所有表面区域。另外，液体喷射可以用于预先清洁，而干燥喷嘴可以用于干燥。
图18A-18C和19A-19B示出了根据本发明的一个实施例的采用超音速或兆声波液体喷射的示例性清洁室。优选地在垂直方向上并从清洁室的顶部部分将对象带到清洁室184。接着将对象带到底部部分，然后缓慢地升高后部183到达顶部部分，如图18A-18C和19A-19B按顺序所示。在底部部分处，液体喷嘴181将液体输送到对象180以进行清洁。液体喷嘴181优选地被设置成距离对象一距离，从而通过大面积181A喷射在对象表面处。超音速或兆声波喷嘴182清洁对象的顶部部分，并且对象缓慢升高，喷嘴182连续清洁整个对象表面。另外，超音速或兆声波喷嘴在水平方向191上移动，从而可以在水平方向上清洁对象。超音速或兆声波喷嘴优选地靠近对象设置以进行有效的清洁，从而通过小面积182A喷射在对象表面处。通过格栅式作用，包括超音速或兆声波喷嘴的水平移动191和对象的垂直运动193，超音速或兆声波喷射可以覆盖对象的整体表面，从而提供有效的清洁处理。
多个干燥喷嘴183位于超音速或兆声波喷嘴上方，所述干燥喷嘴向下指向对象以用于干燥对象并向下吹送液体。干燥喷嘴183可以被设置成输送向下区域183A。可以使用热液体和热气体以及加热器。液体喷射、超音速或兆声波液体喷射、和干燥喷射的组合可以以高清洁度水平清洁对象。
图20A-20B示出了根据本发明的一个实施例的用于清洁对象的示例性流程图。在图20A中，操作200用热液体喷射清洁对象。操作201用兆声波喷射格栅式地清洁对象。操作202用热气体干燥对象。在图20B中，操作203在将双容器载具的内容器的部件从输入环境输送到清洁室之前使清洁室中的压力与输入环境平衡以防止交叉污染。操作204使部件在第一方向上线性移动部件。操作205用热液体喷射部件。操作206用具有在第二方向上的移动的兆声波液体喷射部件。操作207用热气体干燥部件。操作208在将清洁的部件从清洁室输送到输出环境之前使清洁室中的压力与输出环境平衡以防止交叉污染。
在一些实施例中，用于清洁工件的方法可以包括以下步骤：在清洁室中提供工件；使工件在第一方向上移动；用清洗液喷射工件；用兆声波液体喷射工件，其中兆声波液体包括在第二方向上的移动，其中第二方向不同于第一方向；用干燥气体喷射工件。兆声波喷嘴可以周期性地从工件一侧移动到工件的相对侧。干燥气体可以在清洗液和兆声波液体上方被喷射。清洗液可以与兆声波液体穿插喷射。所述方法可以还包括以下步骤：在将工件输送到清洁室之前使清洁室中的压力平衡，和/或在从清洁室输送出工件之前使清洁室中的压力平衡。
在一个实施例中，本发明公开了一种在清洁之后对部件进行净化的净化室。净化可以使用具有优选地小于10-3托或优选地小于10-6托的高真空的真空室。真空室可以加速部件的除气，从而除去部件内的任何圈闭气体。
真空室可以被设计成提供具有有效泵送和高泵送流导的结构。真空室还可以包括诸如IR加热器或室壁加热器的加热机构。加热器可以被加热到40℃与90℃之间，并且优选地加热到大约70℃。加热温度取决于材料，例如，小于100℃的低温优选地用于聚合物材料，而100℃以上的高温可以用于金属。
在一个实施例中，诸如残留气体分析(RGA)的除气监控传感器被设置成测量真空室中的污染物的除去，其然后可以用于监测净化处理。
在一个实施例中，将诸如氮气的惰性吹扫气体提供给真空室内部以回填由于对污染物进行除气而留下的任何间隙。可以执行周期性加压和抽真空，从而对污染物进行除气，然后用惰性气体进行回填。
在一个实施例中，在通过高真空对部件进行净化之后，在打开之前用氮气给室加压，从而用氮气分子有效地涂布部件的表面(并填充子表面)，从而进一步提高清洁度并防止粘附微粒。
图21A示出了根据本发明的一个实施例的示例性净化室。真空室210包括连接到诸如涡轮泵或低温泵的真空泵219从而在室210内产生高真空的真空管线213。可以设置切断阀217A以隔离真空泵管线。加热器212被设置在真空室中用于加热室以及门211A和211B。可以包括用于监测除气物质的诸如RGA的传感器215。可以设置切断阀217B以隔离气体监测器，例如，传感器215。吹扫气体214可以为真空室提供惰性环境，以例如防止在将部件输送到外面之前污染物的回流。如果部件没有除气太多，则可以使用气体监测器215与净化室的直接连接。例如，对于由金属材料制成的内箱，除气污染物比聚合物材料少得多。
图21B示出了根据本发明的一个实施例的另一个示例性净化室。真空室210包括连接到诸如涡轮泵或低温泵的真空泵219从而在室210内产生高真空的真空管线213。可以设置切断阀217A以隔离真空泵管线。加热器212被设置在真空室中用于加热室以及门211A和211B。可以包括用于监测除气物质的诸如RGA的传感器215。可以设置切断阀217B以隔离气体监测器，例如，传感器215。吹扫气体214可以为真空室提供惰性环境，以例如防止在将部件输送到外面之前污染物的回流。另一个真空泵219A可以连接在阀217B与气体监测器215之间，以保持气体监测器的真空水平。差动阀218可以包括在气体监测器与室之间。不同阀可以包括小孔(与管道的直径相比，使得差动阀的传导性比管道的传导性小得多)，以便限制从室到气体监测器的流动。因此，可以限制从部件释放出的污染物到达气体监测器。如果部件被太多除气，则可以使用气体监测器215与净化室的差动阀连接。例如，对于由聚合物材料制成的外箱，除气污染物可能较高，并因此如果不限制到达气体监测器，则可能会使气体监测器饱和。
在一些实施例中，用于清洁工件的系统可以包括：第一室，其中第一室可操作以清洁工件；第二室，其中第二室包括在工件被清洁之后对工件进行除气的真空环境；机器人机构，用于在第一室与第二室之间输送工件。
所述系统还可以包括：连接到第二室的第一真空泵；连接在第一真空泵与第二室之间的第一切断阀；连接到第二室的气体监测器；连接在气体监测器与第二室之间的第二切断阀；连接在气体监测器与第二室之间的差动阀；连接在差动阀与第二室之间的第二真空泵；用于加热第二室中的工件的加热器；用于将惰性气体注入到第二室的喷嘴。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的系统，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述系统可以包括：第一室，其中第一室可操作以对工件的部件进行除气；通过第一切断阀连接到第一室的第一真空泵；通过一组件连接到第二室的第一气体监测器，其中所述组件包括第二切断阀和差动阀；以流体连通的方式连接在第一气体监测器与组件之间的第二真空泵，其中第二监测器可操作以保持气体监测器处的真空环境；第二室，其中第二室可操作以对工件的第二部件进行除气；通过第三切断阀连接到第二室的第三真空泵；通过第四切断阀连接到第二室的第二气体监测器。
所述系统还可以包括：用于在第一部件输送到第一室之前清洁第一部件的第三室；用于在第二部件输送到第二室之前清洁第二部件的第四室；用于加热第一或第二室中的工件的加热器；和用于将惰性气体注入到第一或第二室的喷嘴。
图22A-22B示出了根据本发明的一个实施例的用于对对象进行净化的示例性流程图。在图22A中，操作220清洁对象。操作221对清洁对象进行除气。操作222任选地注入惰性吹扫气体。操作223任选地加热对象。操作224任选地监测被除气物质。操作225在输送出对象之前对室进行加压。
在一个实施例中，本发明还公开了一种用于通过分离对象的进行除气的部件来而对象进行净化的方法。在图22B中，操作226分别清洁双容器载具的部件。操作227对进行除气处理的类似部件进行分组。操作228组装双容器载具。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的方法，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述方法可以包括：将工件的第一部件到第一室；将外界环境泵送在第一室内；通过差动阀将第一室连接到第一气体监测器；将工件的第二部件输送到第二室；将外界环境泵送在第二室内；将第二室直接连接到第二气体监测器。
所述方法还可以包括以下步骤：在来自第一气体监测器的信号稳定之后，将第一室直接连接到第一气体监测器；在第一或第二室中的气态污染物的水平达到期望水平之后，停止泵送；在将第一部件输送到第一室之前清洁第一部件；在将第二部件输送到第二室之前清洁第二部件；在泵送期间将惰性气体注入到第一或第二室；在泵送期间加热第一或第二室中的第一或第二部件；以及在将第一或第二部件从第一或第二室输送出来之前对第一或第二室进行加压。
在一个实施例中，本发明公开了一种组装台，优选地用于在控制环境下分别组装清洁部件的一体式组装台。对于高水平清洁度，应该考虑避免暴露给潜在的污染物源。因此，在被分别清洁之后，部件在洁净环境中被组装以保持清洁度水平，从而例如最小化由于暴露到外部环境而导致的内容器的任何污染。
在一个实施例中，组装台填充有氮气。因此，在打开输送处理之前从填充有氮气的真空净化室输送之后，部件被输送到填充有氮气的组装台。组装台因此可以保持部件在清洁之后的清洁度。
在一个实施例中，本发明公开了一种用于组装双容器掩模版载具的组装台。组装台可以提供在内容器与外容器之间通过氮气吹扫在洁净环境(优选地氮气环境)中的组装处理。
图23A-23B示出了根据本发明的一个实施例的示例性组装台和方法。将要被组装的部件231A/231B和232A/232B被输送到包括氮气吹扫气体入口234的组装台230。底部支撑件231B放置在氮气喷嘴上。底部支撑件232B和顶部盖232A接着被放置在底部支撑件231B上。顶部盖231A接着被带到组装台。在氮气喷嘴235将氮气提供给底部支撑件231B的情况下，顶部盖231A与底部支撑件231B组装在一起，从而将氮气有效地吹扫并提供给由底部支撑件231B和顶部盖231A形成的外容器的容积。通过在氮气环境下的组装台，在一些情况下，优选地在稍微加压的情况下，组装台被打开，并且组装后的载具接着被输送到外面。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的系统，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述系统可以包括：第一室，其中第一室可操作以清洁工件的第一部件；第二室，其中第二室可操作以清洁工件的第二部件；第三室，其中第三室可操作以在第一和第二部件被清洁之后组装第一和第二部件；连接到第三室的第一气体供应装置，其中第一气体供应装置可操作以将惰性气体输送到第三室；连接到第三室的第二气体供应装置，其中第二气体供应装置可操作以将惰性气体输送到第一或第二部件的内部。第二气体供应装置可以突入到第三室中以与第一部件的开口连接。
图24A-24B示出了根据本发明的一个实施例的用于组装对象的示例性流程图。在图24A中，操作240将对象的部件带到组装室。操作241通过惰性气体给组装室加压。操作242将部件组装在一起，同时使惰性气体流动到组装对象的内部。
在图24B中，操作243使惰性气体在组装室中流动。操作244将双容器载具的外容器的底部部件输送到组装室并使底部部件与惰性气体的喷嘴连接。操作245将内容器的顶部部件和底部部件输送到组装室，从而连接到外容器的底部部件。操作246将双容器载具的外容器的顶部部件输送到组装室。操作247使惰性气体流动到喷嘴。操作248将外容器的顶部部件组装到外容器的底部部件，且惰性气体填充在组装后的外容器的内部。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的方法，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述方法可以包括以下步骤：清洁第一部件；清洁第二部件；将第一部件输送到室；将第二部件输送到室；通过惰性气体给室加压；组装第一和第二部件以形成组装的工件。第一部件设置在连接到室外的气体供应装置的管道上。所述方法还可以包括以下步骤：使惰性气体流动到管道。
在一个实施例中，本发明公开了一种用于通过将氮气吹扫到对象内部的容积的清洁系统的装载和卸载台。为了保持载具内部的对象的清洁度水平，内部容积被诸如氮气的惰性气体连续吹扫。因此，本发明公开可一种用于输送和/或存储台从而确保内部容积的恒定吹扫的惰性气体吹扫。
图25示出了根据本发明的一个实施例的具有吹扫喷嘴的示例性输送和/或存储台。双容器载具250被放置在台252中的氮气吹扫喷嘴254上。通过氮气喷嘴234将氮气255提供给双容器载具250的底部支撑件，使用新鲜氮气不断吹扫外容器内的容积。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于清洁工件的系统，其中工件包括第一部件和第二部件，其中第一部件包围第二部件。所述系统可以包括：第一室，其中第一室可操作以清洁工件的第一部件；第二室，其中第二室可操作以清洁工件的第二部件；第三室，其中第三室可操作以制成组装后的工件；连接到第三室的气体供应装置，其中第一气体供应装置可操作以将惰性气体输送组装后的工件的内部。气体供应装置可以突入到第三室内以与第一部件的开口连接。
在一些实施例中，用于清洁工件的方法可以包括以下步骤：清洁第一部件；清洁第二部件；组装第一和第二部件以形成组装的工件；使惰性气体流动到组装的工件内部。第一部件可以设置在连接到室外的气体供应装置的管道上。
在一些实施例中，本发明公开了一种用于EUV载具的清洁系统，包括：用于输入(用于要被清洁的载具)和输出(用于清洁载具)的单独的环境；用于单独的环境的流动动态；用于载具的不同部分的单独的清洁室；用于最小化载具的不同部分之间的交叉污染的机械手；用于除去除气分子的去气和净化室；和用于将吹扫气体提供给载具的内部的吹扫台。
可以使用不同结构的清洁系统，包括单个吞吐量清洁系统、双吞吐量清洁系统、混合清洁系统和不清洁的清洁系统。
图26A-26B示出了根据本发明的一些实施例的清洁器的示例。图26A显示了标准清洁系统，所述标准清洁系统包括：输入环境262(例如，用于要被清洁的载具的肮脏环境或非洁净环境)；多个清洁室264A-264C；和输出环境266(例如，用于清洁载具的洁净环境)；以及用于除去可除气分子的除气室268。
图26B显示了具有双吞吐量的清洁系统，其中共用相同的输入环境261、两个清洁部分263A-263C和265A-265C、和两个输出环境267和269、以及两个除气室268。要被清洁的载具可以被带到输入环境261，被输送到清洁室部分中的任一个，并在被除气之后被输出到输出环境267或269。
图27示出了根据本发明的一些实施例的混合清洁系统的示例。混合清洁系统可以包括位于输出洁净环境276与输入非洁净环境272之间的清洁室271A-271C以及共用相同的输入和输出环境272的清洁室273。因此诸如掩模版SMIF盒的传统的掩模版箱可以被带到输入环境272，在清洁室273中被清洁，并输出到相同的输入环境272。EUV载具可以被带到输入环境272，在单独的清洁室274A-274C中被清洁，并在除气室278中被除气之后输出到输出环境276。
图28示出了根据本发明的一些实施例的清洁系统的示例。清洁系统可以使用相同输入和输出环境281，具有单独的清洁室284A-284C。EUV载具可以被带到输入环境281，在单独的清洁室284A-284C中被清洁，并被输出到同一环境281以在除气室288中被除气。在共用环境281中可以考虑避免污染物，诸如将输入和输出定位在环境281的分离部分中，并提供从输出部分到输入部分的层流。

Claims (6)

1.一种用于保持工件的机械手，其中工件包括第一部件和第二部件，第一部件为双容器掩模版载具的内容器的部件，并且第二部件为双容器掩模版载具的外容器的部件，所述机械手包括：
手柄，其中手柄包括两个臂，其中两个臂之间的距离能够被调节以支撑第一和第二部件；
连接到两个臂以调节两个臂之间的距离的机构；
其中每一个臂都包括用于夹持第一部件的第一部分和用于夹持第二部件的第二部分，
其中第一部分和第二部分设置在臂上的不同位置上；
还包括连接到每一个臂的插入件，其中第一部分包括插入件的中间部分，并且其中第二部分包括插入件的顶部部分或底部部分。
2.根据权利要求1所述的机械手，还包括用于与第一或第二部件上的凹部配合的销。
3.一种用于输送工件的方法，其中工件包括第一部件和第二部件，第一部件为双容器掩模版载具的内容器的部件，并且第二部件为双容器掩模版载具的外容器的部件，所述方法包括以下步骤：
扩大两个夹持臂之间的第一距离以包围第一部件，其中每一个夹持臂包括插入件；
将第一部件夹持在夹持臂上的第一部分处，其中第一部分包括插入件的中间部分；
将第一部件输送到第一目的地；
扩大两个夹持臂之间的第二距离以包围第二部件；
将第二部件夹持在夹持臂上的第二部分处，其中第二部分包括插入件的顶部部分或底部部分；
将第二部件输送到第二目的地，
其中第一部分和第二部分设置在臂上的不同位置上。
4.根据权利要求3所述的方法，其中扩大和夹持由电动机来执行。
5.根据权利要求3所述的方法，其中夹持由反馈传感器控制。
6.根据权利要求3所述的方法，还包括以下步骤：使臂上的销与第一或第二部件上的凹部配合。
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