CN104395361A - 新的聚合性化合物及其制造方法 - Google Patents

新的聚合性化合物及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104395361A
CN104395361A CN201380032468.2A CN201380032468A CN104395361A CN 104395361 A CN104395361 A CN 104395361A CN 201380032468 A CN201380032468 A CN 201380032468A CN 104395361 A CN104395361 A CN 104395361A
Authority
CN
China
Prior art keywords
group
represent
alkyl
separately
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201380032468.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104395361B (zh
Inventor
原田佳和
近藤光正
畑中真
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to CN201610391389.6A priority Critical patent/CN106008273A/zh
Publication of CN104395361A publication Critical patent/CN104395361A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104395361B publication Critical patent/CN104395361B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C09K19/56—Aligning agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/40—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings
    • C07C271/42—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/48—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C271/00—Derivatives of carbamic acids, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atom not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C271/06—Esters of carbamic acids
    • C07C271/08—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C271/10—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C07C271/16—Esters of carbamic acids having oxygen atoms of carbamate groups bound to acyclic carbon atoms with the nitrogen atoms of the carbamate groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by singly-bound oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/78—Ring systems having three or more relevant rings
    • C07D311/80—Dibenzopyrans; Hydrogenated dibenzopyrans
    • C07D311/82—Xanthenes
    • C07D311/84—Xanthenes with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 9
    • C07D311/86—Oxygen atoms, e.g. xanthones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/062—Copolymers with monomers not covered by C08L33/06
    • C08L33/066—Copolymers with monomers not covered by C08L33/06 containing -OH groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00—Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)

Abstract

本发明的目的在于提供获得目标的丙烯酸系或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，该方法在制造含有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物时，避免水洗工序，仅通过过滤等将析出的结晶过滤，就能够简便高纯度地以良好的收率进行制造，还提供该化合物。一种获得下述通式(3)－a等所示的化合物的(甲基)丙烯酸系化合物的制造方法，是使下述通式(1)所示的具有异氰酸酯基的丙烯酸酯化合物与下述通式(2)－a等所示的光反应性化合物反应，

Description

新的聚合性化合物及其制造方法
技术领域
本发明涉及期待用于对树脂组合物赋予功能的丙烯酸系或甲基丙烯酸系化合物的提供以及它们的制造方法。
背景技术
近年，在使用了液晶显示器的电视等的显示器的领域、半导体领域中，在将某种树脂组合物作为光学相关材料涂布在基板上后，通过照射紫外光来进行光构图的情况增加。例如，在液晶显示器材料中，通过在基板上设置由光取向性的材料形成的涂膜、照射偏光，能够获得能将液晶控制为向某一方向取向的膜。另外，作为用于高性能化的配合，通过混合多种这样的光取向性材料，而不是混合一种，来进一步增加对紫外线的灵敏度，改善膜的耐久性等。
另外，在各种产业中非常一般使用的各种树脂中，原料中使用了具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物(本说明书中也称作丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物、或者(甲基)丙烯酸系化合物)的树脂被广泛应用。该化合物通过利用丙烯酰基或甲基丙烯酰基的不饱和双键的聚合反应，作为丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂能够获得透明性、耐久性优异的树脂。
在使用了液晶显示器的光取向技术的取向材料的形成中，作为能够利用的光取向性的材料，已知在侧链具有肉桂酰基和查尔酮基等的光二量化部位的丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂等。有报告称这些树脂通过照射偏光UV，能够显示控制液晶的取向的性能(以下也称作液晶取向性)。(专利文献1～专利文献3)
只要是上述所示的具有光反应性基的丙烯酸系或甲基丙烯酸系化合物衍生物，就可以利用丙烯酰基或甲基丙烯酰基的聚合反应，制造能够进行光构图的丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。例如已知具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基、作为光反应性基具有桂皮酸的化合物，已经研究了使用这些化合物的光构图材料等。(专利文献4)
现有技术文献
专利文献
专利文献1:专利第3611342号公报
专利文献2:特开2009－058584号公报
专利文献3:特表2001－517719号公报
专利文献4:特表2005－528486号公报
发明内容
作为这些具有光反应性基等的特定的官能基的丙烯酸系或甲基丙烯酸系化合物衍生物的合成方法，一直以来采用如下方法：在含有特定的官能基的化合物的具有羟基、氨基等活性氢的部位，与丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯等的酰卤化物、或丙烯酸酐、甲基丙烯酸酐等的酸酐反应。
但是，该方法中，为了除去与酰氯等反应后副生的盐酸或其盐、或与酸酐反应后生成的丙烯酸、甲基丙烯酸，需要组合用有机溶剂和水进行洗涤的工序。在该洗涤工序中，水洗操作不但增加操作工序，而且从产生废水等的理由来看，在经济性、环境负荷方面都增加了负担，希望尽力避免这样的水洗工序。
进而，根据目标物的不同，有时含有亲水性基团和疏水性基团的两者，在这种情况下，由于对于有机层和水层的两层的亲和性高，有时会引起分液不良、制造天数的增加、回收率的下降。
本发明的目的在于提供获得具有目标的光反应性基的丙烯酸系或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，该方法在制造含有光反应性基的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物时，避免水洗工序，仅通过过滤等将析出的结晶过滤，就能够简便高纯度地以良好的收率进行制造，本发明的目的还在于提供具有目标的光反应性基的丙烯酸系或甲基丙烯酸系化合物。
本发明者们为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现，对具有光反应性基的化合物的活性氢，使其与具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸系化合物的异氰酸酯基作用，不需要水洗工序，仅通过过滤就能够获得作为目标物的具有光反应性基的(甲基)丙烯酸系化合物，从而完成了本发明。
即，本发明涉及丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(1)所示的具有异氰酸酯基的丙烯酸酯化合物、或具有异氰酸酯基的甲基丙烯酸酯化合物与下述通式(2)－a或(2)－b所示的光反应性化合物反应，来获得下述通式(3)－a或(3)－b所示的化合物；本发明还涉及该丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物。
通式(1)所示的具有异氰酸酯基的化合物：
[化1]
[式中，
R1表示氢或甲基，
R2表示－O－、－S－、－NH－或－NR7－(式中，R7表示碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基，或者表示碳原子数4～20的1价的芳香环基或杂环基，它们为非取代或者可以被甲基、氟原子或氯原子单取代或多取代)，
S3表示单键、或者，非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的、碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基，其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被基团G1替换，其中、G1表示选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NH－CO－、－CO－NH－，－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－NH－CO－O－、－O－CO－NR7－、－O－CO－NH－、－NR7－CO－NR7－、－NH－CO－NR7－、－NR7－CO－NH－、－NH－CO－NH－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－中的基团(式中，R7如上所示)，其中，氧原子不相互直接结合，或者，该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被通式(Q)所示的基团替换，
[化2]
(式中，
C1和C2分别独立地表示从下述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、非取代的或取代的碳原子数2～18的非芳香族或芳香族的碳环或杂环形成的2价基团，
[化3]
Z1和Z2分别独立地表示选自－O－、－CO－、－CH2(CO)－、－SO－、－CH2(SO)－、－SO2－、－CH2(SO2)－、－COO－、－OCO－、－COCF2－、－CF2CO－、－S－CO－、－CO－S－、－SOO－、－OSO－、－SOS－、－CH2－CH2－、－OCH2－、－CH2O－、－CH＝CH－、－C≡C－、－CH＝CH－COO－、－OCO－CH＝CH－、－CH＝N－、－C(CH3)＝N－、－N＝N－、－O－CO－O－和单键中的基团，其中，氧原子不相互直接结合，
a1和a2分别独立地表示0～3的整数，并且a1+a2≤4]。
通式(2)－a或(2)－b所示的化合物：
[化4]
[化5]
[式中，
n表示1或2的整数，
n为1的情况下，
R3表示－NH2、－NHR7、羧基、－CH2COOH、－CHR7COOH、－C(R7)2COOH(式中，R7如上所示，同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、羟基或巯基，
n为2的情况下，
R3表示－NH－、－CH(COOH)－或－CR7(COOH)－(式中，R7如上所示)，
其中－A－S2－R3基或－E－S1－B－R3基中，R3直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(其中E、S1、B不同时表示单键)、
S2独立地表示与上述S3中定义的基团相同的基团，
A表示从上述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、碳原子数2～18的脂肪族环、芳香环或杂环形成的2价基团，或者，表示这些环的2～3个被选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－O－CO－NR7－、－NR7－CONR7－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－(式中，R7如上所示)中的2价基团连接而得的结构所形成的2价基团，其中，氧原子不相互直接结合，另外上述A的脂肪族环、芳香环或杂环为非取代或者表示卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，
X和Y分别独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、可以被氟原子取代的碳原子数1～20个的烷基(该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，
E表示氧原子、硫原子、－C(R5)R6－、－NH－、－NR7－(式中，R5和R6分别独立地表示氢原子或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氰基和/或可以被卤原子单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，R7如上所示)，
S1独立地表示与上述S3中定义的基团相同的基团，
B表示单键、或独立地表示与上述A中定义的基团相同的基团，
D表示氢原子、－Si(CH3)3、－Si(CH3)2－O－Si(CH3)3或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被选自氰基、氟原子、氯原子和脂环式基中的基团单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基G1替换)，
其中A、B、D、E、S1、S2、X、Y的组合中不包括R3所示的基。]。通式(3)－a或(3)－b所示的化合物：
[化6]
[化7]
[式中，
R1、R2、S3、S2、A、X、Y、E、S1、B、D和n如上所示，
n为1的情况下，
R4表示单键、－CH2－、－CHR7－、－C(R7)2－(式中，R7如上所示，同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、氧原子、硫原子、－NH－、NR7－(式中，R7如上所示)，
n为2的情况下，
R4表示3价的氮原子、3价的CH或3价的CR7(式中，R7如上所示)，其中－A－S2－R4－基或－E－S1－B－R4－基中，R4直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(其中E、S1、B不同时表示单键)]。
本发明可以提供在制造具有光反应性基的具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物的过程中，避免水洗工序，简便地获得光反应性化合物的制造方法。
另外，本发明，在异氰酸酯基与光反应性化合物的反应中，不混入水分的条件下不发生副反应，因此仅过滤就能获得目标化合物。
具体实施方式
本发明的制造方法按照下述的流程实施。即，丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(1)所示的具有异氰酸酯基的丙烯酸酯化合物或具有异氰酸酯基的甲基丙烯酸酯化合物与下述通式(2)－a或(2)－b所示的光反应性化合物反应，来获得下述通式(3)－a或(3)－b所示的化合物。
[化8]
[化9]
关于本发明中的异氰酸酯化合物，是下述通式(1)所示的化合物。
[化10]
上述式中，R1表示氢或甲基。
R2表示－O－、－S－、－NH－或－NR7－(式中，R7表示碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基，或者，表示碳原子数4～20的1价的芳香环基或杂环基，它们为非取代或者可以被甲基、氟原子或氯原子单取代或多取代)。特别地，R2优选为－O－或－NH－。
S3表示单键、或者，表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的、碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基。
其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被基团G1替换。G1表示选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NH－CO－、－CO－NH－，－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－NH－CO－O－、－O－CO－NR7－、－O－CO－NH－、－NR7－CO－NR7－、－NH－CO－NR7－、－NR7－CO－NH－、－NH－CO－NH－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－中的基团(式中，R7如上所示)。其中，氧原子不相互直接结合。另外，在本说明书中，所谓“氧原子不相互直接结合”是指，在取代基与取代基的交界处，不结合氧原子，例如在本项中，相邻的R2基为氧原子，S3的末端的CH2基被G1替换的情况下，G1为－O－基团的情况、以及从与R2结合侧来看G1为－O－CO－基的情况除外。
或者该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被通式(Q)所示的基团替换。
[化11]
上述通式(Q)中、C1和C2分别独立地表示从下述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、非取代的或取代的碳原子数2～18的非芳香族或芳香族的碳环或杂环形成的2价基团。
[化12]
其中，C1和C2分别独立地优选为1，2－亚苯基、1，3－亚苯基、1，4－亚苯基、1，2－亚环己基、1，3－亚环己基或1，4－亚环己基。
Z1和Z2分别独立地表示选自－O－、－CO－、－CH2(CO)－、－SO－、－CH2(SO)－、－SO2－、－CH2(SO2)－、－COO－、－OCO－、－COCF2－、－CF2CO－、－S－CO－、－CO－S－、－SOO－、－OSO－、－SOS－、－CH2－CH2－、－OCH2－、－CH2O－、－CH＝CH－、－C≡C－、－CH＝CH－COO－、－OCO－CH＝CH－、－CH＝N－、－C(CH3)＝N－、－N＝N－、－O－CO－O－和单键中的基团。其中，氧原子不相互直接结合。
其中优选Z1和Z2分别独立地为选自－O－、－CO－、－COO－、－OCO－、－CH＝CH－、－C≡C－、－N＝N－和单键中的基团。
a1和a2分别独立地表示0～3的整数，并且a1+a2≤4。
优选S3表示单键、或者，表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～10的环状、直链状或支链状的亚烷基(其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)。
作为碳原子数5～20的环状的烷基，可以列举出环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、环十一烷基、环十二烷基、环十三烷基、环十四烷基、环十五烷基、环十六烷基、环十七烷基、环十八烷基、环十九烷基、环二十烷基、降冰片基(Norbornyl)等。
作为碳原子数1～20的直链状或支链状的烷基，可以列举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、t－丁基、戊基、己基、庚基、辛基、2－乙基己基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基等。
作为碳原子数4～20的1价的芳香环基或杂环基，表示噻吩基、吡咯基、吡啶基、苯基、联噻吩基、联吡啶基、联苯基、菲基、萘基、蒽基等。
作为碳原子数1～20的直链状或支链状的亚烷基，可以列举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚异丙基、亚丁基、亚异丁基、亚戊基、亚己基、亚庚基、亚辛基、2－乙基亚己基、亚壬基、亚癸基、亚十一烷基、亚十二烷基、亚十三烷基、亚十四烷基、亚十五烷基、亚十六烷基、亚十七烷基、亚十八烷基、亚十九烷基、亚二十烷基等。
作为碳原子数5～20的环状的亚烷基，表示亚环戊基、亚环己基、亚环庚基、亚环辛基、亚环壬基、亚环癸基、亚环十一烷基、亚环十二烷基、亚环十三烷基、亚环十四烷基、亚环十五烷基、亚环十六烷基、亚环十七烷基、亚环十八烷基、亚环十九烷基、亚环二十烷基、降冰片基等。
作为碳原子数4～20的2价的芳香环基或杂环基，可以列举出从噻吩基、吡咯基、吡啶基、苯基、联噻吩基、联吡啶基、联苯基、菲基、萘基、蒽基的1价的芳香环基或杂环基中除去1个氢原子而得的基团。
其中，优选上述通式(1)所示的异氰酸酯化合物为甲基丙烯酸-2-异氰酸根合乙酯或丙烯酸-2－异氰酸根乙基酯。
本发明中的光反应性化合物为下述通式(2)－a或(2)－b所示的化合物。
[化13]
[化14]
上述式中，n表示1或2的整数，n为1的情况下，R3表示－NH2、－NHR7(式中，R7如上所示)、羧基、－CH2COOH、－CHR7COOH、－C(R7)2COOH(式中，R7如上所示，同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、羟基或巯基，n为2的情况下，R3表示－NH－、－CH(COOH)－、－CR7(COOH)－(式中，R7如上所示)。
其中－A－S2－R3基或－E－S1－B－R3基中，R3直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(另外E、S1、B不同时表示单键)。
R3是与上述通式(1)所示的异氰酸酯化合物的异氰酸酯基反应的基团，如下述定义那样，通式(2)－a或(2)－b中，R3以外的基团的定义中不包括上述R3定义的基团。
另外上述通式(2)－a或(2)－b中、S2独立地表示与上述通式(3)中的S3中的定义相同的基团。即S2表示单键、或者，表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基(其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1或上述通式(Q)所示的基团替换)。
A表示从上述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、碳原子数2～18的脂肪族环、芳香环或杂环形成的2价基团，或者，表示这些环的2～3个被选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－O－CO－NR7－、－NR7－CONR7－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－(式中，R7如上所示)中的2价基团连接而得的结构所形成的2价基团。其中，氧原子不相互直接结合。
另外上述A的脂肪族环、芳香环或杂环为非取代或者表示卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)。
X和Y分别独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、可以被氟原子取代的碳原子数1～20的、优选碳原子数1～10的烷基(该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)。
E表示氧原子、硫原子、－C(R5)R6－、－NH－、－NR7－(式中，R5和R6分别独立地表示氢原子或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氰基和/或可以被卤原子单取代或多取代、其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，R7如上所示)。
S1独立地表示与上述通式(1)中的S3中的定义相同的基团。
B表示单键、或独立地表示上述A中的定义相同的基团。
D表示氢原子、－Si(CH3)3、－Si(CH3)2－O－Si(CH3)3或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被选自氰基、氟原子、氯原子和脂环式基中的基团单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基G1替换)。
其中A、B、D、E、S1、S2、X、Y的组合中不包括R3所示的基。
作为上述A的具体例，可以列举出下述组2所示的基团。式中，—表示与相邻基团的连接键，Me表示甲基，R7如上所示。
[化15]
另外A中的组1所示的基团的更优选的例子是下述组3所示的基团，特别优选下述组4所示的基团。式中，—表示与相邻基团的连接键，Me表示甲基，R7如上所示。
[化16]
[化17]
用本发明的制造方法制造的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物是下述通式(3)－a或(3)－b所示的化合物。本发明也以下述通式(3)－a或(3)－b所示的化合物为对象。
[化18]
[化19]
上述式中，R1、R2、S3、S2、A、X、Y、E、S1、B、D和n如上所示。
另外，n为1的情况下，R4表示单键、－CH2－、－CHR7－、－C(R7)2－(式中，R7如上所示，同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、氧原子、硫原子、－NH－、NR7－(式中，R7如上所示)，n为2的情况下，R4表示3价的氮原子、3价的CH或3价的CR7(式中，R7如上所示)，即，附加了2个通式(3)－a或(3)－b中的括号内所示的基团的3价的氮原子、3价的CH或3价的CR7(式中，R7如上所示)。
其中－A－S2－R4－基或－E－S1－B－R4－基中，R4直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(另外E、S1、B不同时表示单键)。
作为上述通式(3)－a或(3)－b所示的化合物的例子，可以列举出下述所示的化合物，但是不特别限于此。另外式中，p表示2～8的整数。
[化20]
上述通式(1)所示的异氰酸酯化合物可以是市售的或者用已知的方法制造。例如、如果在化合物中具有丙烯酰基或甲基丙烯酰基并且具有伯胺，则通过使光气或三光气反应，可以由伯胺构建异氰酸酯基团，获得目标的异氰酸酯化合物。除此之外，作为一般的构建异氰酸酯基的方法，通过下述方法也能够获得异氰酸酯化合物，所述方法是：在二月桂酸二丁基锡等的锡催化剂下、使N－取代氨基甲酸酯骨架热分解的方法；利用由酰基叠氮进行的库尔提斯(Curtius)重排的方法；或者，使异羟肟酸进行洛森重排的方法。
上述通式(2)－a或(2)－b所示的光反应性化合物可以为市售品或者通过已知的方法来制造，例如可以通过美国专利申请公开第2010/0305230号说明书记载的方法来合成。
上述通式(1)所示的具有异氰酸酯基的丙烯酸酯化合物或具有异氰酸酯基的甲基丙烯酸酯化合物和上述通式(2)－a或(2)－b所示的光反应性化合物的使用量没有特别的限定，优选相对于光反应性化合物的活性氢：1当量，使用异氰酸酯化合物0.80当量～1.02当量。进一步优选使用异氰酸酯化合物0.98当量～1.00当量。在异氰酸酯化合物为液体的情况下，可以多于上述数值范围来使用。
作为反应溶剂，只要对反应惰性，就没有特别的限定，可以列举出例如己烷、环己烷、苯、甲苯等的烃类；四氯化碳、氯仿、1，2－二氯乙烷等的卤素系烃类；乙醚、二异丙基醚、1，4－二烷、四氢呋喃等的醚类；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮等的酮类；乙腈、丙腈等的腈类；乙酸乙酯、丙酸乙酯等的羧酸酯类；N，N－二甲基甲酰胺、N，N－二甲基乙酰胺、N－甲基－2－吡咯烷酮、1，3－二甲基－2－咪唑啉酮等的含氮非质子性极性溶剂；二甲基亚砜、环丁砜等的含硫非质子性极性溶剂；吡啶、甲基吡啶等的吡啶类等。这些溶剂可以单独使用，也可以混合使用其中的2种以上。优选为甲苯、乙腈、乙酸乙酯，更优选为甲苯、乙腈。
对溶剂的使用量(反应浓度)没有特别的限定，可以不使用溶剂地实施反应，另外，在使用溶剂的情况下，相对于光反应性化合物，可以使用0.1～100倍质量的溶剂。优选1～10倍质量，更优选3～6倍质量。
对反应温度没有特别的限定，例如为－90～150℃、优选为0～100℃、进一步优选为20℃～80℃。
反应时间通常为0.05～200小时、优选0.5～100小时。
在反应时，可以添加阻聚剂。作为这样的阻聚剂，可以使用BHT(2，6－二叔丁基－p－甲酚)、氢醌、对甲氧基苯酚等，只要阻碍丙烯酰基、甲基丙烯酰基的聚合，就没有特别的限定。
对添加阻聚剂的情况下的添加量没有特别的限定，相对于具有异氰酸酯基的丙烯酸酯化合物或具有异氰酸酯基的甲基丙烯酸酯化合物的总使用量(质量)，为0.001wt％～10wt％，优选为0.1～1wt％。本说明书中，wt％是指质量％。
为了缩短反应时间，可以添加催化剂，作为其例子，可以列举出二丁基锡二月桂酸酯、二辛基锡双(异辛基硫代乙醇酸酯)、二丁基锡双(异辛基硫代乙醇酸酯)、二丁基锡二乙酸酯等的有机锡化合物；三乙基胺、三甲基胺、三丙基胺、三丁基胺、二异丙基乙基胺、N，N－二甲基环己基胺、吡啶、四甲基丁烷二胺、N－甲基吗啉、1，4－二氮杂二环－2.2.2－辛烷、1，8－二氮杂二环[5.4.0]十一烯、1，5－二氮杂二环[4.3.0]壬烯－5等的胺类；p－甲苯磺酸、甲磺酸、氟硫酸等的有机磺酸；硫酸、磷酸、高氯酸等的无机酸；四丁基钛酸酯、四乙基钛酸酯、四异丙基钛酸酯等的钛化合物；铋三(2－乙基己酸酯)等的铋系化合物；季铵盐等。这些催化剂可以单独使用，也可以组合2种以上使用。另外，这些催化剂优选为液体，或者溶解在反应溶剂中。
在添加催化剂的情况下，相对于具有异氰酸酯基的丙烯酸酯化合物或具有异氰酸酯基的甲基丙烯酸酯化合物的总使用量(质量)，可以以0.005质量％～100质量％的量使用催化剂，优选0.05质量％～10质量％、进一步优选0.1质量％～5质量％。如果作为催化剂使用有机锡化合物、钛化合物、铋系化合物，则优选同样为0.005质量％～0.1质量％。
本反应可以在常压或加压下进行，另外，可以为分批式也可以为连续式。
实施例
下面，列举实施例，来进一步详细地说明本发明，但是本发明不限于此。
另外，本发明中的简略符号分别表示下述含义。
2－IEM：甲基丙烯酸-2-异氰酸根合乙酯
BHT：2，6－二叔丁基－p－甲酚
DBU：1，8－二氮杂二环[5.4.0]十一碳烯
CIN1：3－(4－〔6－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]己基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯
CIN2：3－(4－〔3－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]丙基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯
CIN3：3－(4－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]苯基)丙-2-烯酸甲基酯
HPLC：高效液相色谱
[实施例1]
3－(4－〔6－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]己基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN1]的合成(1)
[化21]
在氮气氛下，将3－〔4－[(6－羟基己基)氧基]苯基〕丙烯酸甲基酯[1](512.6g、1.841mol)、二氮杂二环十一碳烯(DBU)(5.975g、0.03925mol)、二丁基羟基甲苯(BHT)(3.008g、0.01365mol)和甲苯2357g加入到4口烧瓶中，加热到55℃。然后，滴加甲基丙烯酸-2-异氰酸根合乙酯[2](299.4g、1.930mol)，滴加结束1.5小时后用高效液相色谱(HPLC)来确认原料消失。然后冷却，在内温变为26℃时，结晶析出。然后进一步冷却在内温2℃搅拌1小时，然后将析出的结晶过滤。将滤取的结晶用冷却至2℃的甲苯867.0g洗涤2次滤饼，然后干燥，获得3－(4－〔6－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]己基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN1](698.7g、1.612mol、收率87.6％)。
化合物[CIN1]的结构通过1H－NMR分析确认获得下述的波谱数据。
1H－NMR(CDCl3)：δ7.65(d，1H)，7.46(d，2H)，6.88(d，2H)，6.31(d，1H)，6.12(s，1H)，5.61(s，1H)4.92(s，1H)，4.23(t，2H)，4.08(t，2H)，3.98(t，2H)，3.79(s，3H)，3.48－3.51(br，2H)，1.95(s，3H)，1.78－1.82(m，2H)，1.62－1.67(m，2H)，1.42－1.52(m，4H).
[实施例2]
3－(4－〔6－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]己基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN1]的合成(2)
在氮气氛下，将3－〔4－[(6－羟基己基)氧基]苯基〕丙烯酸甲基酯[1](511.6g、1.837mol)、二丁基锡二月桂酸酯(0.1386g、0.2195mmol)、二丁基羟基甲苯(略称BHT)(2.834g、0.01286mol)和乙腈2345g加入到4口烧瓶中，加热到63℃。然后，滴加甲基丙烯酸-2-异氰酸根合乙酯[2](299.8g、1.932mol)，在滴加结束2小时后用高效液相色谱(略称HPLC)确认原料消失。然后冷却至内温变为5℃，搅拌1小时后将析出的结晶过滤。将所滤取的结晶用冷却至2℃的甲苯867.0g洗涤2次滤饼，然后干燥，获得3－(4－〔6－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]己基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN1](620.4g、1.431mol、收率77.9％)。
化合物[CIN1]的结构通过1H－NMR分析，显示与实施例1同等的波谱数据。
[实施例3]
3－(4－〔3－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]丙基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN2]的合成
[化22]
在氮气氛下，将3－〔4－[(3－羟基丙基)氧基]苯基〕丙烯酸甲基酯[3](2.50g、10.6mmol)、二氮杂二环十一碳烯(DBU)(0.0448g、0.294mmol)、二丁基羟基甲苯(BHT)(0.0189g、0.0858mmol)和甲苯11.5g加入到4口烧瓶中，加热到55℃。然后，滴加甲基丙烯酸-2-异氰酸根合乙酯[2](2.02g、13.0mmol)，滴加结束1.5小时后用高效液相色谱(HPLC)来确认原料消失。然后冷却析出结晶。然后进一步冷却在内温2℃搅拌1小时后，将析出的结晶过滤。将滤取的结晶用冷却至2℃的甲苯4.40g洗涤2次滤饼，然后干燥，获得3－(4－〔3－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]丙基氧基〕苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN2](3.16g、8.07mmol、收率76.3％)。
化合物[CIN2]的结构通过1H－NMR分析确认获得下述波谱数据。
1H－NMR(CDCl3)：δ7.65(d，1H)，7.46(d，2H)，6.89(d，2H)，6.31(d，1H)，6.12(s，1H)，5.59(s，1H)4.97(s，1H)，4.22－4.28(m，4H)，4.07(t，2H)，3.79(s，3H)，3.50(q，2H)，2.10－2.15(m，2H)，1.94(s，3H).
[实施例4]
3－(4－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN3]的合成
[化23]
在氮气氛下，将3－(4－羟基)苯基丙烯酸甲基酯[4](8.90g、50.0mmol)、二丁基锡二月桂酸酯(4.30mg、0.00681mmol)、二丁基羟基甲苯(BHT)(80.0mg、0.363mmol)和甲苯100ml加入到4口烧瓶中，加热到55℃。然后，滴加甲基丙烯酸-2-异氰酸根合乙酯[2](8.53g、55.0mmol)，滴加结束1.5小时后用高效液相色谱(HPLC)确认原料消失。追加甲苯100ml，然后冷却，析出结晶。然后在室温搅拌18小时后，将析出的结晶过滤。将滤取的结晶用甲苯100ml洗涤2次滤饼，然后干燥，获得3－(4－[2－(甲基丙烯酰氧基)乙基氨基甲酰基氧基]苯基)丙-2-烯酸甲基酯[CIN3](13.5g、40.5mmol、收率81.0％)。
化合物[CIN3]的结构通过1H－NMR分析确认获得下述的波谱数据。
1H－NMR(CDCl3)：δ7.67(d，1H)，7.52(d，2H)，7.16(d，2H)，6.38(d，1H)，6.17(s，1H)，5.63(s，1H)，5.43(s，1H)，4.31(t，2H)，3.81(s，3H)，3.66－3.58(m，2H)，1.98(s，3H).
[实施例5]
＜使用了CIN1的共聚合体的制造＞
将上述实施例1中获得的CIN140.0g、甲基丙烯酸2－羟基乙基酯(HEMA)10.0g、作为聚合催化剂的α，α’－偶氮双异丁腈(AIBN)1.2g溶解在丙二醇单甲基醚(PM)204.8g中，在85℃反应20小时，从而获得共聚合体溶液(固体成分浓度20质量％)。所获得的共聚合体通过凝胶渗透色谱法(GPC)，使用聚苯乙烯作为标准样品获得的数平均分子量：Mn为6，500，重均分子量：Mw为12，000。
另外，上述共聚合体的数平均分子量和重均分子量，在使用日本分光(株)製GPC装置(Shodex(注册商标)柱KF803L和KF804L)，将溶出溶剂四氢呋喃以流量1mL/分钟在柱中(柱温40℃)流动，溶出的条件下测定。
＜含有共聚合体的固化膜形成用组合物的调制＞
例A：
将上述共聚合体溶液5g、聚酯聚醇(己二酸/二甘醇共聚合体、数平均分子量：4800)0.8g、六甲氧基甲基三聚氰胺1.0g、p－甲苯磺酸一水和物0.1g、丙二醇单甲基醚41.4g混合，调制例A的固化膜形成用组合物。
例B：
使聚酯聚醇的添加量为1.5g、丙二醇单甲基醚的添加量为52.4g，除此之外，按照与例A同样的顺序调制例B的固化膜形成用组合物。
例C：
代替聚酯聚醇，添加聚己内酯三醇(数平均分子量：2000)0.8g，除此之外，按照与例A同样的顺序调制例C的固化膜形成用组合物。
[粘结性的评价]
使用旋涂机将例A～例C的各固化膜形成用组合物以2000rpm在TAC膜上旋转涂布30秒，然后在温度110℃在热循环式炉中加热干燥120秒，形成固化膜。对该固化膜垂直照射20mJ/cm2的313nm的直线偏光。
使用旋涂机，在曝光后的固化膜的上涂布メルク株式会社製的水平取向用聚合性液晶溶液RMS03－013C，然后在60℃在热板上预烘烤60秒，形成膜厚1.0μm的涂膜。对该膜上的涂膜以1000mJ/cm2曝光，制作相位差材。
对所获得的膜上的相位差材，使用切刀进行网格切割(cross cut)(1mm×1mm×100个网格)，然后贴上ニチバン(株)製セロテープ(注册商标)，接着查数在剥离该セロテープ(注册商标)时基板上的膜没有被剥离而残留的网格数的个数。膜没有被剥离而残留的网格数残留90个以上的情况下，可以被评价为粘结性良好。
[取向灵敏度的评价]
使用旋涂机将例A～例C的各固化膜形成用组合物以2000rpm、30秒旋转涂布在TAC膜上，然后在温度110℃、120秒、热循环式炉中进行加热干燥，形成固化膜。在该固化膜上垂直照射313nm的直线偏光，形成取向材。
使用旋涂机，在膜上的取向材上涂布メルク株式会社製的水平取向用聚合性液晶溶液RMS03－013C，然后在60℃在热板上进行60秒的预烘烤，形成膜厚1.0μm的涂膜。将该膜上的涂膜以1000mJ/cm2曝光，制作相位差材。
对所制作的膜上的相位差材，以每个膜用一对偏光板夹住、观察相位差材中的相位差特性的表现状态，以取向材显示液晶取向性所需要的偏光UV的曝光量作为取向灵敏度。
[图案形成性的评价]
使用旋涂机，在TAC膜上以2000rpm、30秒将例A～例C的各固化膜形成用组合物旋转涂布，然后在温度110℃、120秒、热循环式炉中进行加热干燥，形成固化膜。对该固化膜介由100μm的线-间隔掩模(line andspace mask)，垂直照射313nm的直线偏光30mJ/cm2。然后，取下掩模，将基板旋转90度后，垂直照射313nm的直线偏光15mJ/cm2，获得形成了液晶的取向控制方向有90度的不同的2种液晶取向区域的取向材。
在该膜上的取向材上，使用旋涂机涂布メルク株式会社製的水平取向用聚合性液晶溶液RMS03－013C，然后在60℃在热板上进行60秒的预烘烤，形成膜厚1.0μm的涂膜。对该膜上的涂膜进行1000mJ/cm2的曝光，制作图案化相位差材。
对所制作的膜上的图案化相位差材，使用偏光显微镜进行观察，将没有取向缺陷地形成了相位差图案的情况评价为○，将观察到取向缺陷的情况评价为×。
[粘结耐久性的评价]
使用旋涂机将例A～例C的各固化膜形成用组合物以2000rpm旋转涂布30秒，然后在温度110℃、120秒、热循环式炉中进行加热干燥，形成固化膜。对该固化膜垂直照射313nm的直线偏光20mJ/cm2。
使用旋涂机在曝光后的膜上涂布メルク株式会社製的水平取向用聚合性液晶溶液RMS03－013C，然后在60℃在热板上进行预烘烤60秒，形成膜厚1.0μm的涂膜。对该膜以1000mJ/cm2进行曝光，制作相位差材。
将形成了相位差材的膜在温度80℃、湿度90％的条件保管100小时，然后使用切刀对膜上的相位差材进行网格切割(1mm×1mm×100个网格)，然后贴上セロテープ(注册商标)，接着查数剥离该セロテープ(注册商标)时基板上的膜没有剥离而残留的网格数的个数。在与保管100小时之前评价的初期的粘结性没有差异的情况，可以评价为耐久性良好。
[评价的结果]
以上评价的结果示于下表1。
[表1]
表1
如表1所示，含有由CIN1获得的共聚合体的固化膜形成用树脂组合物，都能够以少曝光量显示液晶取向性，显示高取向灵敏度，进行光学构图。进而显示高粘结耐久性。
产业可利用性
本发明的化合物作为用于形成液晶显示元件的液晶取向膜、在液晶显示元件的内部、外部设置的光学异向性膜的材料，是适合的。

Claims (9)

1.下述通式(3)－a或(3)－b所示的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物，
[上述式中，
R1表示氢或甲基，
R2表示－O－、－S－、－NH－或－NR7－(式中，R7表示碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基、或碳原子数4～20的1价的芳香环基或杂环基，它们为非取代或者可以被甲基、氟原子或氯原子单取代或多取代)，
S3表示单键、或者表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的、碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基，其中，该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被基团G1替换，其中G1表示选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NH－CO－、－CO－NH－、－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－NH－CO－O－、－O－CO－NR7－、－O－CO－NH－、－NR7－CO－NR7－、－NH－CO－NR7－、－NR7－CO－NH－、－NH－CO－NH－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－中的基团(式中，R7如上所示)，其中，氧原子不相互直接结合，
或者，该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被通式(Q)所示的基团替换，
(式中，
C1和C2分别独立地表示从下述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、非取代的或取代的碳原子数2～18的非芳香族或芳香族的碳环或杂环形成的2价基团，
组1：
Z1和Z2分别独立地表示选自－O－、－CO－、－CH2(CO)－、－SO－、－CH2(SO)－、－SO2－、－CH2(SO2)－、－COO－、－OCO－、－COCF2－、－CF2CO－、－S－CO－、－CO－S－、－SOO－、－OSO－、－SOS－、－CH2－CH2－、－OCH2－、－CH2O－、－CH＝CH－、－C≡C－、－CH＝CH－COO－、－OCO－CH＝CH－、－CH＝N－、－C(CH3)＝N－、－N＝N－、－O－CO－O－和单键中的基团，其中，氧原子不相互直接结合，
a1和a2分别独立地表示0～3的整数，并且a1+a2≤4)
n表示1或2的整数，
n为1的情况下，
R4表示单键、－CH2－、－CHR7－、－C(R7)2－(式中，R7如上所示，在同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、氧原子、硫原子、－NH－或NR7－(式中，R7如上所示)，
n为2的情况下，
R4表示3价的氮原子、3价的CH或3价的CR7(式中，R7如上所示)，
其中，在－A－S2－R4－基或－E－S1－B－R4－基中，与R4直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(其中E、S1、B不同时表示单键)，
S2独立地表示与上述S3中定义的基团相同的基团，
A表示从上述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、碳原子数2～18的脂肪族环、芳香环或杂环形成的2价基团，或者，表示这些环的2～3个被选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－O－CO－NR7－、－NR7－CONR7－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－(式中，R7如上所示)中的2价基团连接而得的结构所形成的2价基团，其中，氧原子不相互直接结合，另外上述A的脂肪族环、芳香环或杂环为非取代或者可以被选自卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)中的基团单取代或多取代，
X和Y分别独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、可以被氟原子取代的碳原子数1～20的烷基(该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，
E表示氧原子、硫原子、－C(R5)R6－、－NH－、－NR7－(式中，R5和R6分别独立地表示氢原子或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氰基和/或可以被卤原子单取代或多取代，其中，在该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，R7如上所示)，
S1独立地表示与上述S3中定义的基团相同的基团，
B表示单键、或独立地表示与上述A中定义的基团相同的基团，
D表示氢原子、－Si(CH3)3、－Si(CH3)2－O－Si(CH3)3或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被选自氰基、氟原子、氯原子和脂环式基中的基团单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)]。
2.根据权利要求1所述的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物，在上述通式(3)－a或(3)－b中，
S3表示单键、或者表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～10的环状、直链状或支链状的亚烷基(其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求1中记载的基团G1替换)，
S2表示单键、或者表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基(其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求1中记载的基团G1或权利要求1中记载的通式(Q)所示的基团替换)，
A表示从下述组3所示的基团(式中，－表示与相邻基的连接键，Me表示甲基，R7如权利要求1所示)中选择的、选自碳原子数2～18的脂肪族环基、芳香环基、或杂环基中的2价基团，
组3：
另外上述A的脂肪族环、芳香环或杂环为非取代或者可以被选自卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求1中记载的基团G1替换)中的基团单取代或多取代。
3.根据权利要求2所述的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物，在上述通式(3)－a或(3)－b中，
R2表示－O－或－NH－，
通式(Q)中的C1和C2分别独立地表示1，2－亚苯基、1，3－亚苯基、1，4－亚苯基、1，2－亚环己基、1，3－亚环己基或1，4－亚环己基，
A表示从下述组4所示的基团(式中，－表示与相邻基的连接键)中选择的、选自碳原子数2～18的脂肪族环基、芳香环基、或杂环基中的2价基团，
组4：
另外上述A的脂肪族环、芳香族环或杂环为非取代或者被选自卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求1中记载的基团G1替换)中的基团单取代或多取代。
4.根据权利要求3所述的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物，在上述通式(3)－a或(3)－b中，
通式(Q)中的Z1和Z2分别独立地表示选自－O－、－CO－、－COO－、－OCO－、－CH＝CH－、－C≡C－、－N＝N－和单键中的基团；
X和Y分别独立地表示氢原子、甲基或氰基、
E表示氧原子、硫原子、－C(R5)R6－、－NH－或－NR7－(式中，R5和R6分别独立地表示氢原子或碳原子1～10的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氰基和/或可以被卤原子单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求1中记载的基团G1替换)，R7如上所示)。
5.下述通式(3)－a或(3)－b所示的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，其特征在于，使下述通式(1)所示的异氰酸酯化合物与下述通式(2)－a或(2)－b所示的光反应性化合物反应，
[式中，
R1表示氢或甲基，
R2表示－O－、－S－、－NH－或－NR7－(式中，R7表示碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基、或者表示碳原子数4～20的1价的芳香环基或杂环基、它们为非取代或者可以被甲基、氟原子或氯原子单取代或多取代)、
S3表示单键、或者表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基，其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被基团G1替换，其中G1表示选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NH－CO－、－CO－NH－、－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－NH－CO－O－、－O－CO－NR7－、－O－CO－NH－、－NR7－CO－NR7－、－NH－CO－NR7－、－NR7－CO－NH－、－NH－CO－NH－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－中的基团(式中，R7如上所示)，其中，氧原子不相互直接结合，
或者，该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被通式(Q)所示的基团替换，
(式中，
C1和C2分别独立地表示从下述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、非取代的或取代的碳原子数2～18的非芳香族或芳香族的碳环或杂环形成的2价基团、
组1：
Z1和Z2分别独立地表示选自－O－、－CO－、－CH2(CO)－、－SO－、－CH2(SO)－、－SO2－、－CH2(SO2)－、－COO－、－OCO－、－COCF2－、－CF2CO－、－S－CO－、－CO－S－、－SOO－、－OSO－、－SOS－、－CH2－CH2－、－OCH2－、－CH2O－、－CH＝CH－、－C≡C－、－CH＝CH－COO－、－OCO－CH＝CH－、－CH＝N－、－C(CH3)＝N－、－N＝N－、－O－CO－O－和单键中的基团，其中，氧原子不相互直接结合，
a1和a2分别独立地表示0～3的整数，并且a1+a2≤4]，
[式中，
n表示1或2的整数，
n为1的情况下，
R3表示－NH2、－NHR7、羧基、－CH2COOH、－CHR7COOH、－C(R7)2COOH(式中，R7如上所示，同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、羟基或巯基、
n为2的情况下，
R3表示－NH－、－CH(COOH)－或－CR7(COOH)－(式中，R7如上所示)、
其中，在－A－S2－R3基或－E－S1－B－R3基中，与R3直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(其中E、S1、B不同时表示单键)、
S2独立地表示与上述S3中定义的基团相同的基团，
A表示从上述组1所示的基团(式中，R7如上所示)中选择的、碳原子数2～18的脂肪族环、芳香环或杂环形成的2价基团、或者表示这些环的2～3个被选自－O－、－CO－、－CO－O－、－O－CO－、－NR7－、－NR7－CO－、－CO－NR7－、－NR7－CO－O－、－O－CO－NR7－、－NR7－CONR7－、－CH＝CH－、－C≡C－、－O－CO－O－和－Si(CH3)2－OSi(CH3)2－(式中，R7如上所示)中的2价基团连接而得的结构所形成的2价基团，其中，氧原子不相互直接结合，另外上述A的脂肪族环、芳香环或杂环为非取代、或者表示卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，
X和Y分别独立地表示氢原子、氟原子、氯原子、氰基、可以被氟原子取代的碳原子数1～20个的烷基(该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，
E表示氧原子、硫原子、－C(R5)R6－、－NH－、－NR7－(式中，R5和R6分别独立地表示氢原子或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氰基和/或可以被卤原子单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，R7如上所示)，
S1独立地表示与上述S3中定义的基团相同的基团，
B表示单键、或独立地表示与上述A中定义的基团相同的基团，
D表示氢原子、－Si(CH3)3、－Si(CH3)2－O－Si(CH3)3或碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被选自氰基、氟原子、氯原子和脂环式基中的基团单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被上述基团G1替换)，
其中A、B、D、E、S1、S2、X、Y的组合中不包括R3所示的基团]
[式中，
R1、R2、S3、S2、A、X、Y、E、S1、B、D和n如上所示，
n为1的情况下，
R4表示单键、－CH2－、－CHR7－、－C(R7)2－(式中，R7如上所示，同一碳原子上结合2个R7的情况下，2个R7可以相同也可以不同)、氧原子、硫原子、－NH－或NR7－(式中，R7如上所示)，
n为2的情况下，
R4表示3价的氮原子、3价的CH或3价的CR7(式中，R7如上所示)，
其中，在－A－S2－R4－基或－E－S1－B－R4－基中，与R4直接结合的基团为羰基、氧原子、硫原子或氮原子的基团除外(其中E、S1、B不同时表示单键)]。
6.根据权利要求5所述的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，在上述通式(1)中，
S3表示单键、或者表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～10的环状、直链状或支链状的亚烷基(其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求5中记载的基团G1替换)、
上述通式(2)－a或(2)－b中，
S2表示单键、或者表示非取代的或被氰基和/或被卤原子单取代或多取代的碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的亚烷基(其中该亚烷基中的1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求5中记载的基团G1或权利要求5中记载的通式(Q)所示的基团替换)、
A表示从下述组3所示的基团(式中，－表示与相邻基的连接键，Me表示甲基，R7如权利要求5所示)中选择的、选自碳原子数2～18的脂肪族环基、芳香环基、或杂环基中的2价基团，
组3：
另外上述A的脂肪族环、芳香环或杂环为非取代或者可以被选自卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求5中记载的基团G1替换)中的基团单取代或多取代。
7.根据权利要求6所述的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，在上述通式(1)中，
R2表示－O－或－NH－，
上述通式(2)－a或(2)－b中，
通式(Q)中的C1和C2分别独立地表示1，2－亚苯基、1，3－亚苯基、1，4－亚苯基、1，2－亚环己基、1，3－亚环己基或1，4－亚环己基，
A表示从下述组4所示的基团(式中，－表示与相邻基的连接键)中选择的、选自碳原子数2～18的脂肪族环基、芳香环基、和杂环基中的2价基团，
组4：
另外上述A的脂肪族环、芳香族环或杂环为非取代或者被选自卤原子、氰基和碳原子数1～20的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氟原子和/或氯原子单取代或多取代，另外该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求5中记载的基团G1替换)中的基团单取代或多取代。
8.根据权利要求7所述的丙烯酸系化合物或甲基丙烯酸系化合物的制造方法，在上述通式(2)－a或(2)－b中，
通式(Q)中的Z1和Z2分别独立地表示选自－O－、－CO－、－COO－、－OCO－、－CH＝CH－、－C≡C－、－N＝N－和单键中的基团；
X和Y分别独立地表示氢原子、甲基或氰基、
E表示氧原子、硫原子、－C(R5)R6－、－NH－或－NR7－(式中，R5和R6分别独立地表示氢原子或碳原子数1～10的环状、直链状或支链状的烷基(该烷基为非取代或者可以被氰基和/或可以被卤原子单取代或多取代，其中该烷基中，1个以上的不相邻的－CH2－基可以分别独立地被权利要求5中记载的基团G1替换)，R7如上所示)。
9.根据权利要求8所述的制造方法，上述通式(1)所示的异氰酸酯化合物为甲基丙烯酸‐2‐异氰酸根合乙酯或丙烯酸‐2‐异氰酸根合乙酯。
CN201380032468.2A 2012-06-20 2013-06-20 聚合性化合物及其制造方法 Active CN104395361B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610391389.6A CN106008273A (zh) 2012-06-20 2013-06-20 新的聚合性化合物及其制造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012-138959 2012-06-20
JP2012138959 2012-06-20
PCT/JP2013/066969 WO2013191252A1 (ja) 2012-06-20 2013-06-20 新規重合性化合物及びその製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610391389.6A Division CN106008273A (zh) 2012-06-20 2013-06-20 新的聚合性化合物及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104395361A true CN104395361A (zh) 2015-03-04
CN104395361B CN104395361B (zh) 2018-08-03

Family

ID=49768844

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610391389.6A Pending CN106008273A (zh) 2012-06-20 2013-06-20 新的聚合性化合物及其制造方法
CN201380030686.2A Active CN104379666B (zh) 2012-06-20 2013-06-20 固化膜形成用组合物、取向材以及相位差材
CN201380032468.2A Active CN104395361B (zh) 2012-06-20 2013-06-20 聚合性化合物及其制造方法

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610391389.6A Pending CN106008273A (zh) 2012-06-20 2013-06-20 新的聚合性化合物及其制造方法
CN201380030686.2A Active CN104379666B (zh) 2012-06-20 2013-06-20 固化膜形成用组合物、取向材以及相位差材

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10000701B2 (zh)
JP (2) JP6090601B2 (zh)
KR (2) KR102021775B1 (zh)
CN (3) CN106008273A (zh)
TW (2) TWI641581B (zh)
WO (2) WO2013191251A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106916085A (zh) * 2017-01-12 2017-07-04 永胜光学股份有限公司 改质姜黄素
CN109153629A (zh) * 2016-05-18 2019-01-04 日本瑞翁株式会社 化合物的制造方法、化合物以及混合物
CN110461965A (zh) * 2017-03-27 2019-11-15 日产化学株式会社 固化膜形成用组合物、取向材及相位差材

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102311602B1 (ko) * 2013-08-27 2021-10-13 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 경화막 형성조성물, 배향재 및 위상차재
KR102296695B1 (ko) * 2014-02-28 2021-09-02 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 위상차재 형성용 수지 조성물, 배향재 및 위상차재
US10100201B2 (en) * 2014-02-28 2018-10-16 Nissan Chemical Industries, Ltd. Cured film formation composition, orientation material and retardation material
JP6326966B2 (ja) * 2014-05-26 2018-05-23 ユニマテック株式会社 含フッ素ウレタン（メタ）アクリレートの製造法
JP6369146B2 (ja) * 2014-06-06 2018-08-08 大日本印刷株式会社 光配向性を有する熱硬化性組成物、配向層、配向層付基材、位相差板およびデバイス
CN106604973B (zh) * 2014-08-28 2020-04-17 日产化学工业株式会社 固化膜形成用组合物、取向材料及相位差材料
JP6410026B2 (ja) * 2014-09-01 2018-10-24 日産化学株式会社 光配向性を有する水素結合硬化膜形成組成物
JP6725883B2 (ja) * 2015-03-11 2020-07-22 日産化学株式会社 硬化膜形成組成物、配向材および位相差材
US10483905B2 (en) * 2015-06-15 2019-11-19 Dan Vance Image producing nanostructure surface
US10795207B2 (en) * 2015-07-29 2020-10-06 Lg Display Co., Ltd. Quantum rod layer, method of fabricating the same and display device including the same
KR102506034B1 (ko) * 2015-07-29 2023-03-07 엘지디스플레이 주식회사 퀀텀로드층, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
JP6741550B2 (ja) 2016-10-18 2020-08-19 Ｅｎｅｏｓ株式会社 内燃機関の潤滑方法
CN114746512B (zh) * 2019-11-25 2023-09-22 日产化学株式会社 固化膜形成用组合物、取向材料及相位差材

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0480212A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Seiko Epson Corp プラスチックレンズ用組成物
US5442090A (en) * 1990-03-07 1995-08-15 Basf Aktiengesellschaft Radiation-curable urethane acrylate compounds containing amine and urea groups
CN1151411A (zh) * 1995-09-15 1997-06-11 罗利克公司 可交联的光活性聚合物材料
CN101157640A (zh) * 2007-09-20 2008-04-09 湖南大学 具有星型结构六官能团的丙烯酸聚氨酯及其合成方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS611342A (ja) 1984-06-14 1986-01-07 Noboru Yamada 製燻法
EP0611786B1 (de) 1993-02-17 1999-04-14 Rolic AG Orientierungsschicht für Flüssigkristalle
JP3767962B2 (ja) 1997-02-19 2006-04-19 シャープ株式会社 映像表示システム
WO1999015576A1 (en) 1997-09-25 1999-04-01 Rolic Ag Photocrosslinkable polyimides
JP4524458B2 (ja) 2002-05-31 2010-08-18 エルシコン・インコーポレーテッド 光学配向層調製用分岐ハイブリッドポリマー材料
JP2005049865A (ja) 2003-07-17 2005-02-24 Arisawa Mfg Co Ltd 光学位相差素子の製造方法
JP2007025203A (ja) * 2005-07-15 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp 光学補償シート及び液晶表示装置
JP4816003B2 (ja) * 2005-10-28 2011-11-16 Ｄｉｃ株式会社 光配向膜用組成物、光配向膜の製造方法、及びこれを用いた光学異方体、光学素子、その製造方法
US8123977B2 (en) * 2005-11-07 2012-02-28 Lg Chem, Ltd. Copolymer for liquid crystal alignment, liquid crystal aligning layer including copolymer for liquid crystal alignment, and liquid crystal display including liquid crystal aligning layer
JP5316740B2 (ja) 2007-08-30 2013-10-16 Ｊｓｒ株式会社 液晶配向膜の形成方法
EP2447769B1 (en) * 2009-06-23 2015-03-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo alignment properties
EP2457964B1 (en) * 2009-07-21 2015-09-09 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition forming thermoset film having photo alignment
US9475901B2 (en) * 2009-12-08 2016-10-25 Transitions Optical, Inc. Photoalignment materials having improved adhesion
KR101796954B1 (ko) * 2010-04-08 2017-11-13 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 광배향성을 가지는 열경화막 형성 조성물
TWI535773B (zh) * 2010-08-05 2016-06-01 日產化學工業股份有限公司 樹脂組成物、液晶配向材料及相位差材料
US10465116B2 (en) * 2010-12-23 2019-11-05 Rolic Ag Photoactive polymer materials

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5442090A (en) * 1990-03-07 1995-08-15 Basf Aktiengesellschaft Radiation-curable urethane acrylate compounds containing amine and urea groups
JPH0480212A (ja) * 1990-07-23 1992-03-13 Seiko Epson Corp プラスチックレンズ用組成物
CN1151411A (zh) * 1995-09-15 1997-06-11 罗利克公司 可交联的光活性聚合物材料
CN101157640A (zh) * 2007-09-20 2008-04-09 湖南大学 具有星型结构六官能团的丙烯酸聚氨酯及其合成方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109153629A (zh) * 2016-05-18 2019-01-04 日本瑞翁株式会社 化合物的制造方法、化合物以及混合物
CN106916085A (zh) * 2017-01-12 2017-07-04 永胜光学股份有限公司 改质姜黄素
CN110461965A (zh) * 2017-03-27 2019-11-15 日产化学株式会社 固化膜形成用组合物、取向材及相位差材

Also Published As

Publication number Publication date
TW201414784A (zh) 2014-04-16
CN106008273A (zh) 2016-10-12
TWI596149B (zh) 2017-08-21
KR102021775B1 (ko) 2019-09-17
JP6296244B2 (ja) 2018-03-20
WO2013191252A1 (ja) 2013-12-27
KR20150023559A (ko) 2015-03-05
WO2013191251A1 (ja) 2013-12-27
KR102042441B1 (ko) 2019-11-08
CN104379666A (zh) 2015-02-25
TW201414702A (zh) 2014-04-16
JPWO2013191251A1 (ja) 2016-05-26
TWI641581B (zh) 2018-11-21
US20150275091A1 (en) 2015-10-01
US10000701B2 (en) 2018-06-19
KR20150023557A (ko) 2015-03-05
JP6090601B2 (ja) 2017-03-08
CN104395361B (zh) 2018-08-03
JPWO2013191252A1 (ja) 2016-05-26
CN104379666B (zh) 2016-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104395361A (zh) 新的聚合性化合物及其制造方法
JP5062419B2 (ja) 重合性液晶化合物及びそれを含有する重合性液晶組成物並びにそれらを用いて得られる重合体
TWI488846B (zh) Polymerizable liquid crystal compounds and polymerizable liquid crystal compositions and alignment films
CN106316853A (zh) 用于液晶取向层的化合物及其制造方法和应用、以及含有其的组合物
CN107406720A (zh) 固化膜形成用组合物、取向材及相位差材
CN107429081A (zh) 固化膜形成用组合物、取向材和相位差材
CN109438459B (zh) 一种有机二阶非线性光学发色团及其合成方法和应用
JP6048398B2 (ja) 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物および配向フィルム
TW201736424A (zh) 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件
JPH07165848A (ja) 非線形光学において使用可能な架橋可能ポリマー材料およびその製造方法
CA2505881A1 (en) Second order nonlinear optical chromophores, polymers containing same, and electro-optic devices therefrom
KR20150105610A (ko) 비대칭성 이관능기를 갖는 굽은핵 반응성 메소젠 및 이의 제조방법
KR20140103447A (ko) 벤질리딘 프탈이미드 단량체, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 중합체, 이를 포함하는 광배향막 및 이를 포함하는 위상차 필름
CN105051104A (zh) 组合物和单层涂布型水平取向膜
JP2013028571A (ja) ビスフェノールジエステル型酸二無水物、その製造法及びポリイミド
JP5754344B2 (ja) テトラハイドロペンタレン型酸二無水物、その製造法及びポリイミド
KR102112704B1 (ko) 신규한 반응성 메조겐 화합물, 이를 포함하는 역파장분산 보상필름용 조성물 및 이를 포함하는 역파장분산 보상필름
CN106132925B (zh) 具有聚合性基团和交联性基团的化合物及其制造方法
WO2014065327A1 (ja) ヒドロキシル基を有するアクリルまたはメタクリル化合物及びその製造方法
WO2022237644A1 (zh) 查尔酮结构的肟酯类光引发剂及其制备方法与应用
JP2015013908A (ja) ４，４’−スルホニルジフェニルエステル型酸二無水物、その製造法及びポリイミド
JP2004123579A (ja) トラン誘導体、およびそれを用いた光学材料
JP2018172530A (ja) ブロック共重合体、分散剤、着色組成物およびカラーフィルタ
KR20140129883A (ko) 말레이미드계 주사슬을 갖는 찰콘계 광배향 소재

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant