CN104133351A - 调色剂和图像形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 59
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 172
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 126
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 94
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 57
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 57
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims abstract description 15
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 80
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 claims description 40
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 27
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 23
- 230000009172 bursting Effects 0.000 claims description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 19
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 17
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 17
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 12
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 7
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 abstract 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 abstract 1
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 description 50
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 37
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 37
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 28
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 26
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 22
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 13
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 10
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 8
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 8
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- KLSLBUSXWBJMEC-UHFFFAOYSA-N 4-Propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=C(O)C=C1 KLSLBUSXWBJMEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 7
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 6
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N ferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 4
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N ethene;styrene Chemical group C=C.C=CC1=CC=CC=C1 BXOUVIIITJXIKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- IRHTZOCLLONTOC-UHFFFAOYSA-N hexacosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO IRHTZOCLLONTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 4
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- REZQBEBOWJAQKS-UHFFFAOYSA-N triacontan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO REZQBEBOWJAQKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 3
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical class OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 3
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 3
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 3
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- SASYHUDIOGGZCN-ARJAWSKDSA-N (z)-2-ethylbut-2-enedioic acid Chemical compound CC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O SASYHUDIOGGZCN-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 2
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 2
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006387 Vinylite Polymers 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOPFSRXAKWQILS-UHFFFAOYSA-N docosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO NOPFSRXAKWQILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000735 docosanol Drugs 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 2
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 238000009396 hybridization Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 2
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- IJTNSXPMYKJZPR-UHFFFAOYSA-N parinaric acid Chemical compound CCC=CC=CC=CC=CCCCCCCCC(O)=O IJTNSXPMYKJZPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- CUXYLFPMQMFGPL-UHFFFAOYSA-N (9Z,11E,13E)-9,11,13-Octadecatrienoic acid Natural products CCCCC=CC=CC=CCCCCCCCC(O)=O CUXYLFPMQMFGPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWPVCFSBPUPIQA-WAYWQWQTSA-N (z)-2-butylbut-2-enedioic acid Chemical compound CCCC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O JWPVCFSBPUPIQA-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- GIWUIBJHKNLBGS-SREVYHEPSA-N (z)-2-pentylbut-2-enedioic acid Chemical compound CCCCC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O GIWUIBJHKNLBGS-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- CCKSYUMJLIMSQK-PLNGDYQASA-N (z)-2-propylbut-2-enedioic acid Chemical compound CCC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O CCKSYUMJLIMSQK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1Cl BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMBUODUULYCPAK-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(docosanoyloxy)propan-2-yl docosanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC DMBUODUULYCPAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBMQNRKSAWNXBT-UHFFFAOYSA-N 1,4-diaminoanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=CC=C2N FBMQNRKSAWNXBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPHYZRNTQNPLFI-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trihydroxytoluene Chemical compound CC1=C(O)C=C(O)C=C1O BPHYZRNTQNPLFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMPVLKNRODMHO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dioctylhexanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)CCC(C(O)=O)CCCCCCCC NJMPVLKNRODMHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDLCYFXQFNHNHY-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)heptan-2-ol Chemical compound CCCCCC(C)(O)C1=CC=C(C=C)C=C1 GDLCYFXQFNHNHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIECLXPVBFNBAE-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)(O)C1=CC=C(C=C)C=C1 JIECLXPVBFNBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical class CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRSMWHGLCNBZSO-UHFFFAOYSA-N 2-ethylidenebutanedioic acid Chemical compound CC=C(C(O)=O)CC(O)=O NRSMWHGLCNBZSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GILMNGUTRWPWSY-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(O)COC(=O)C=C GILMNGUTRWPWSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIDLAEPHWROGFI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC1=C(C(O)=O)C=CC=C1C(O)=O AIDLAEPHWROGFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZJXEIBPJWMWQR-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,1,1-triol Chemical compound CC(C)C(O)(O)O SZJXEIBPJWMWQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCKGFJPFEHHHQA-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-4-phenyldiazenyl-4h-pyrazol-3-one Chemical compound CC1=NN(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C1N=NC1=CC=CC=C1 XCKGFJPFEHHHQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010022579 ATP dependent 26S protease Proteins 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 102100040409 Ameloblastin Human genes 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKEBOXRHKRWBKN-UHFFFAOYSA-N C([SiH2]O[SiH3])S Chemical compound C([SiH2]O[SiH3])S MKEBOXRHKRWBKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIWYTQJOXJXFNK-UHFFFAOYSA-N C=C.C(CCCCCCCC)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C=C.C(CCCCCCCC)C1=CC=CC=C1 JIWYTQJOXJXFNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 102100026735 Coagulation factor VIII Human genes 0.000 description 1
- RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N Dodecyl gallate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010016825 Flushing Diseases 0.000 description 1
- 101000891247 Homo sapiens Ameloblastin Proteins 0.000 description 1
- 101000911390 Homo sapiens Coagulation factor VIII Proteins 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N Karpoxanthin Natural products CC(=C/C=C/C=C(C)/C=C/C=C(C)/C=C/C1(O)C(C)(C)CC(O)CC1(C)O)C=CC=C(/C)C=CC2=C(C)CC(O)CC2(C)C DJOWTWWHMWQATC-KYHIUUMWSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001597008 Nomeidae Species 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACIAHEMYLLBZOI-ZZXKWVIFSA-N Unsaturated alcohol Chemical compound CC\C(CO)=C/C ACIAHEMYLLBZOI-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWQZJLUUZHJGS-UHFFFAOYSA-N Vat Yellow 4 Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3C4=CC=CC=C4C(=O)C4=C3C2=C1C=C4 ZTWQZJLUUZHJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- FXEDRSGUZBCDMO-PHEQNACWSA-N [(e)-3-phenylprop-2-enoyl] (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C(=O)OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 FXEDRSGUZBCDMO-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- VJDDQSBNUHLBTD-GGWOSOGESA-N [(e)-but-2-enoyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(=O)\C=C\C VJDDQSBNUHLBTD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- CGBYBGVMDAPUIH-UHFFFAOYSA-N acide dimethylmaleique Natural products OC(=O)C(C)=C(C)C(O)=O CGBYBGVMDAPUIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- CUXYLFPMQMFGPL-SUTYWZMXSA-N all-trans-octadeca-9,11,13-trienoic acid Chemical compound CCCC\C=C\C=C\C=C\CCCCCCCC(O)=O CUXYLFPMQMFGPL-SUTYWZMXSA-N 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJTNSXPMYKJZPR-WVRBZULHSA-N alpha-parinaric acid Natural products CCC=C/C=C/C=C/C=CCCCCCCCC(=O)O IJTNSXPMYKJZPR-WVRBZULHSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001536 azelaic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- ABHNFDUSOVXXOA-UHFFFAOYSA-N benzyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CC1=CC=CC=C1 ABHNFDUSOVXXOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- CAURZYXCQQWBJO-UHFFFAOYSA-N bromomethyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CBr CAURZYXCQQWBJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLQZEZFINZCXFG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1,4-triol Chemical compound OCCCC(O)O CLQZEZFINZCXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- HIAAVKYLDRCDFQ-UHFFFAOYSA-L calcium;dodecanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O HIAAVKYLDRCDFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical class COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- FXEDRSGUZBCDMO-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid anhydride Natural products C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 FXEDRSGUZBCDMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009514 concussion Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- RTVSUIOGXLXKNM-UHFFFAOYSA-N dec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RTVSUIOGXLXKNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000007791 dehumidification Methods 0.000 description 1
- 150000001990 dicarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IGFFTOVGRACDBL-UHFFFAOYSA-N dichloro-phenyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 IGFFTOVGRACDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 ZZNQQQWFKKTOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N diethylsilane Chemical compound CC[SiH2]CC UCXUKTLCVSGCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N dimethyl fumarate Chemical compound COC(=O)\C=C\C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 229960004419 dimethyl fumarate Drugs 0.000 description 1
- LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N dimethyl maleate Chemical compound COC(=O)\C=C/C(=O)OC LDCRTTXIJACKKU-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZZIHCLFHIXETF-UHFFFAOYSA-N dimethylsilicon Chemical compound C[Si]C JZZIHCLFHIXETF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSALIDVQXCHFEG-UHFFFAOYSA-L disodium;4,8-diamino-1,5-dihydroxy-9,10-dioxoanthracene-2,6-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].O=C1C2=C(N)C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C2C(=O)C2=C1C(O)=C(S([O-])(=O)=O)C=C2N WSALIDVQXCHFEG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 208000035475 disorder Diseases 0.000 description 1
- SVTDYSXXLJYUTM-UHFFFAOYSA-N disperse red 9 Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC SVTDYSXXLJYUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N dodec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000555 dodecyl gallate Substances 0.000 description 1
- 229940080643 dodecyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 235000010386 dodecyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- WTIFIAZWCCBCGE-UUOKFMHZSA-N guanosine 2'-monophosphate Chemical compound C1=2NC(N)=NC(=O)C=2N=CN1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1OP(O)(O)=O WTIFIAZWCCBCGE-UUOKFMHZSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEEPBTVZSYQUDP-UHFFFAOYSA-N heptatriacontanediamide Chemical compound NC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O FEEPBTVZSYQUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKVQXYMNVZNJHZ-UHFFFAOYSA-N hexacosanediamide Chemical compound NC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O RKVQXYMNVZNJHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000020778 linoleic acid Nutrition 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N linoleic acid Natural products CCCCC\C=C/C\C=C\CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-IXWMQOLASA-N 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- FTQWRYSLUYAIRQ-UHFFFAOYSA-N n-[(octadecanoylamino)methyl]octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NCNC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FTQWRYSLUYAIRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N octamethylcyclotetrasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HMMGMWAXVFQUOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- FATBGEAMYMYZAF-UHFFFAOYSA-N oleicacidamide-heptaglycolether Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011022 operating instruction Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N silyl acetate Chemical compound CC(=O)O[SiH3] UQMGAWUIVYDWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N tetradec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-MDZDMXLPSA-N trans-Brassidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJDDQSBNUHLBTD-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid-anhydride Natural products CC=CC(=O)OC(=O)C=CC VJDDQSBNUHLBTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- CAPIMQICDAJXSB-UHFFFAOYSA-N trichloro(1-chloroethyl)silane Chemical compound CC(Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl CAPIMQICDAJXSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLPXNJHYVOVLSD-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-chloroethyl)silane Chemical compound ClCC[Si](Cl)(Cl)Cl FLPXNJHYVOVLSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940094989 trimethylsilane Drugs 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- UGCDBQWJXSAYIL-UHFFFAOYSA-N vat blue 6 Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C(C=C2Cl)=C1C1=C2NC2=C(C(=O)C=3C(=CC=CC=3)C3=O)C3=CC(Cl)=C2N1 UGCDBQWJXSAYIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019871 vegetable fat Nutrition 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
- 239000001060 yellow colorant Substances 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/083—Magnetic toner particles
- G03G9/0837—Structural characteristics of the magnetic components, e.g. shape, crystallographic structure
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- G03G9/00—Developers
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- G03G9/083—Magnetic toner particles
- G03G9/0838—Size of magnetic components
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- G03G9/00—Developers
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- G03G9/087—Binders for toner particles
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G9/00—Developers
- G03G9/08—Developers with toner particles
- G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
- G03G9/09708—Inorganic compounds
- G03G9/09725—Silicon-oxides; Silicates
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
本发明涉及调色剂和图像形成方法。提供一种调色剂，其甚至在高温高湿环境下或在低温低湿环境下不管转印材料的平滑度都使转印的图像稳定地输出，其甚至在高速打印时对转印构件的清洁性也是优异的，并且其引起更少的构件污染。所述调色剂为包括各自含有粘结剂树脂和蜡的调色剂颗粒和在调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒，其中二氧化硅细颗粒具有一次颗粒的数均粒径为60nm以上且300nm以下，调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率为15％以上且95％以下，和调色剂具有在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
Description
技术领域
本发明涉及用于电子照相体系、静电记录体系、静电印刷体系或调色剂喷射体系的调色剂和图像形成方法。
背景技术
近年来，已经要求如全色打印机或全色复印机等全色图像形成设备不仅处理普通纸而且处理各种材料如具有大的表面凹凸的再生纸。因此，主要采用使用中间转印构件的转印方法。
在使用中间转印构件的转印方法中，通常必须要使可视化的调色剂图像从图像承载构件转印至中间转印构件，然后再次进一步使图像从中间转印构件转印至转印材料。由于与传统方法相比转印操作的数量增加，关注的是点再现性(粗糙度，asperity)的降低和转印效率的降低，这引起图像品质的劣化。另外，虽然通常设置通过调整构件如清洁用目的的刮板刮除在中间转印构件上残留的调色剂的机构，但是残余调色剂等的滑过(passing-through)在高速打印等时发生，引起残余调色剂长时间滞留在中间转印构件上。因此，可能导致调色剂污染等。
于是，作为提高转印性和转印构件的耐污染性的一个手段。最近进行其中各种细颗粒外部添加至调色剂的表面的研究。
例如，在日本专利申请特开No.2012-133338中，已经提议了其中具有平均一次粒径为80nm以上且150nm以下、具有特定分布的外部添加剂附着至调色剂颗粒从而改进点再现性的调色剂。然而，在该提议中，关于外部添加剂附着至调色剂的表面的状态没有进行研究。在高速打印时，可能在一些较少覆盖有外部添加剂的调色剂中导致转印效率的降低，对图像均匀性等具有影响。另外，当具有大的凹凸的材料如再生纸用作转印材料时，增加影响程度。
此外，在日本专利No.4944980中，已经提议了其中外部添加具有体积平均粒径为5nm以上且小于80nm的小粒径细颗粒和具有体积平均粒径为80nm以上且小于200nm的大粒径细颗粒的混合细颗粒的调色剂。在该提议中，调色剂之间的附着力降低，由此尝试减少作为一种转印不良的其中仅中心部如细线未转印的"空白"的数量。然而，中间转印构件上的清洁性在高速打印时很可能不足，容易导致诸如由于构件污染等引起的构件寿命缩短的问题。为了解决该问题，需要进一步改进的调色剂。
发明内容
本发明的目的在于提供解决上述问题的、即使在使用具有大的凹凸的转印材料如再生纸的高速打印时也不削弱转印性的、即使经过长期使用也不引起构件污染的、以及能够稳定地输出图像的调色剂和图像形成方法。
上述问题可以通过各自具有下述构成的调色剂和图像形成方法来解决。
即，本发明涉及包括各自含有粘结剂树脂和蜡的调色剂颗粒以及在调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒的调色剂，其中二氧化硅细颗粒具有一次颗粒的数均粒径为60nm以上且300nm以下，调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率为15％以上且95％以下，和调色剂具有在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
另外，本发明涉及包括下述步骤的图像形成方法：使感光构件的表面充电；通过曝光在感光构件上形成静电潜像；通过调色剂使静电潜像显影从而形成调色剂图像；将调色剂图像一次转印至中间转印构件，然后将中间转印构件上的调色剂图像二次转印至转印材料；和将在一次转印之后残留在中间转印构件上的转印残余调色剂通过清洁构件从中间转印构件除去，其中使用上述调色剂。
本发明可以提供甚至在高温高湿环境下或在低温低湿环境下不管转印材料的平滑度都使转印的图像稳定地输出的、甚至在高速打印时对转印构件的清洁性优异的、以及引起较少构件污染的调色剂和图像形成方法。
参照附图，本发明的进一步特征将从以下示例性实施方案的描述中变得显而易见。
附图说明
图1示出热球形化处理设备的图。
图2示出图像形成设备的示意构造。
图3示出中间转印带清洁设备的示意构造。
具体实施方式
现在，将详细地描述本发明的实施方案。
本发明的调色剂为包括各自含有粘结剂树脂和蜡的调色剂颗粒以及在调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒的调色剂，其中二氧化硅细颗粒具有一次颗粒的数均粒径为60nm以上且300nm以下，调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率为15％以上且95％以下，和调色剂具有在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
作为本发明的本发明人深入研究的结果，他们发现，使调色剂的表面以特定范围覆盖有二氧化硅细颗粒并将在压实状态下的单轴崩坏应力控制在特定范围，由此导致良好地从转印构件转印至记录介质。因而，发现可以获得面内均匀性高的图像和可以实现长时间稳定的图像浓度。虽然上述的机理不知道，但是本发明的发明人认为机理如下所述。
当调色剂一次转印至中间转印构件时，调色剂在高压下压向中间转印构件从而变成压实状态。其后，在二次转印至记录介质的期间，当处于压实状态的调色剂之间的附着力高而中间转印构件和调色剂之间的附着力低时，压实的调色剂块容易离开转印构件而不会内部破坏，因此较少调色剂残留在转印构件上。
换言之，可以使用具有在一定压力下控制的单轴崩坏应力的调色剂，由此导致处于压实状态下的调色剂之间的附着力增加，抑制内部崩坏。此外，调色剂颗粒的表面的二氧化硅颗粒的覆盖率可以控制在上述范围，由此弱化中间转印构件和调色剂之间的附着力，实现良好的转印性。另外，本发明的发明人认为，无论转印材料的平滑性如何，均可以呈现这样的效果。转印材料的平滑性的程度通过辊的表面性质、加压力和速度等调节，并且由贝克平滑度(Bekk smoothness)等表示。
本发明的发明人还认为，当采用上述构造时，甚至在通过刮除构件如刮板清洁中间转印构件的步骤中在中间转印构件的表面和刮除刮板之间压实的状态下调色剂颗粒之间的附着力也类似地增加，另一方面，转印构件和调色剂之间的附着力减小，由此使残余调色剂的收回顺利地进行从而呈现抑制如滑过等清洁不良和构件污染的效果。
本发明的调色剂为如下的调色剂：
i)包括各自含有粘结剂树脂和蜡的调色剂颗粒以及在调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒，
ii)二氧化硅细颗粒具有一次颗粒的数均粒径为60nm以上且300nm以下，和
iii)调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率为15％以上且95％以下(优选为20％以上且95％以下)。
当二氧化硅细颗粒的一次颗粒的数均粒径小于60nm时，调色剂的表面上的凹凸减少，从而导致调色剂与构件之间的附着性(attachability)增加，引起对转印性和转印清洁的不利影响。另外，当一次颗粒的数均粒径大于300nm时，二氧化硅细颗粒在调色剂的表面上的分散很可能不均匀，不能实现令人满意的覆盖率，并且产生调色剂之间的附着力的位移(displacement)容易引起图像不均匀。
另外，当二氧化硅细颗粒的覆盖率小于15％时，调色剂与构件之间的附着力增加并且在转印时的平衡降低，容易引起转印不良。
另外，本发明的调色剂具有在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
当单轴崩坏应力小于2.5kPa时，调色剂之间的附着力减小，并且调色剂块在转印时的压实状态下崩坏，容易引起图像杂乱(image disorder)。另外，当单轴崩坏应力大于3.5kPa时，微小点的再现如细线的再现困难。
另外，在本发明中，调色剂优选具有80质量％以上的二氧化硅细颗粒的固着率，相对于二氧化硅细颗粒的总量。当固着率为80质量％以上时，即使在长时期使用之后也有利地抑制二氧化硅细颗粒从调色剂的表面的脱离，并且实现更好的转印性。
如在本发明的情况中为了使二氧化硅细颗粒的覆盖率设定为相对大的值的同时可使调色剂在压实时的单轴崩坏应力设定在本发明中限定的范围内，可给出如下所述的方法：将具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物引入各调色剂颗粒中并且使二氧化硅细颗粒通过热风处理固着至调色剂颗粒的表面的方法。
聚合物引入调色剂中可改进蜡在调色剂中的分散性并且可以增加热风处理时蜡移动至各调色剂颗粒的表面的速度。结果，蜡不均匀地分布在固着至调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒和聚合物之间，提供具有上述特性的调色剂。
[树脂]
用于本发明的调色剂的粘结剂树脂不特别限定，并且可以使用任何下述的聚合物或树脂。
可以使用例如：苯乙烯及其取代的产物的均聚物，如聚苯乙烯、聚对氯苯乙烯和聚乙烯基甲苯；苯乙烯系共聚物，如苯乙烯-对氯苯乙烯共聚物、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、苯乙烯-乙烯基萘共聚物、苯乙烯-丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-α-甲基氯甲基丙烯酸酯共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-乙烯基甲基醚共聚物、苯乙烯-乙烯基乙基醚共聚物、苯乙烯-乙烯基甲基酮共聚物和苯乙烯-丙烯腈-茚共聚物；和聚氯乙烯、酚醛树脂、天然树脂改性的酚醛树脂、天然树脂改性的马来酸树脂、丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚乙酸乙烯酯、硅酮树脂、聚酯树脂、聚氨酯、聚酰胺树脂、呋喃树脂、环氧树脂、二甲苯树脂、聚乙烯醇缩丁醛、萜烯树脂、香豆酮-茚树脂和石油系树脂。
在这些聚合物和树脂之中，从控制低温定影性和带电性控制的观点，优选使用聚酯树脂。
可以优选用于本发明中的聚酯树脂为在其粘结剂树脂链中具有"聚酯单元"的树脂，并且形成聚酯单元的组分的具体实例包括二元醇或高级醇单体组分，和酸单体组分如二价以上的羧酸、二价以上的羧酸酐和二价以上的羧酸酯。
二元醇或高级醇单体组分的实例包括双酚A的烯化氧加合物，如聚氧丙烯(2.2)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷、聚氧丙烯(3.3)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷、聚氧乙烯(2.0)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷、聚氧丙烯(2.0)-聚氧乙烯(2.0)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷和聚氧丙烯(6)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷，和乙二醇、二甘醇、三甘醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,4-丁烯二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,4-环己烷二甲醇、二丙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亚甲基二醇、山梨糖醇、1,2,3,6-己四醇、1,4-脱水山梨糖醇、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、1,2,4-丁三醇、1,2,5-戊三醇、甘油、2-甲基丙烷三醇、2-甲基-1,2,4-丁三醇、三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷和1,3,5-三羟基甲基苯。
这些单体之中，可以优选使用芳族二醇作为醇单体组分。在形成聚酯树脂的醇单体组分中，优选以80mol％以上的比例包含芳族二醇。
另一方面，酸单体组分如二价以上的羧酸、二价以上的羧酸酐和二价以上的羧酸酯包括：如邻苯二甲酸、间苯二甲酸和对苯二甲酸等芳族二羧酸或其酐；如琥珀酸、己二酸、癸二酸和壬二酸等烷基二羧酸或其酐，；用具有6-18个碳原子的烷基或烯基取代的琥珀酸或其酐；和如富马酸、马来酸和柠康酸等不饱和二羧酸或其酐。
其中，优选使用如对苯二甲酸、琥珀酸、己二酸、富马酸、偏苯三酸、均苯四酸、二苯甲酮四羧酸等多价羧酸或其酐作为酸单体组分。
另外，从摩擦带电量的稳定性的观点，聚酯树脂的酸值优选为1mg KOH/g以上且20mg KOH/g以下。
应注意，酸值可以通过调节要用于树脂中的单体的类型和共混量而设定在上述范围内。具体地，酸值可以通过在树脂生产时调节醇单体组分比例或酸单体组分比例和分子量来控制。另外，酸值可以通过在酯缩聚之后使端基醇与多元酸单体(例如，偏苯三酸)反应来控制。
从改进蜡在调色剂颗粒中的分散性的观点，本发明的调色剂，在其调色剂颗粒中，优选包含具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物。另外，包含这种聚合物的调色剂颗粒可以进行热风处理，由此控制调色剂颗粒中存在的蜡的状态。
具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物可以特别优选具有乙烯基系树脂组分作为主链和具有聚烯烃作为侧链的接枝聚合物或具有聚烯烃作为主链和具有乙烯基系树脂组分作为侧链的接枝聚合物。
具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物对于在调色剂生产时在捏合步骤和表面平滑步骤中熔融的粘结剂树脂和蜡用作表面活性剂。因此，优选上述聚合物，因为可以控制蜡在调色剂颗粒中的一次平均分散粒径并且可以控制在如果需要时使用热风的表面处理中蜡迁移至调色剂的表面的速度。
可以用于提供接枝聚合物的聚烯烃不特别限定，只要聚烯烃为具有一个双键的不饱和烃系单体的聚合物或共聚物即可，并且可以使用各种聚烯烃。各自特别地优选使用聚乙烯系或聚丙烯系。
另一方面，为提供接枝聚合物中的乙烯基系树脂组分而使用的乙烯基系单体可包括下述。
苯乙烯系单体，例如，苯乙烯系及其衍生物，如苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯、对苯基苯乙烯、对氯苯乙烯、3,4-二氯苯乙烯、对乙基苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、对正丁基苯乙烯、对叔丁基苯乙烯、对正己基苯乙烯、对正辛基苯乙烯、对正壬基苯乙烯、对正癸基苯乙烯和对正十二烷基苯乙烯。
含氮原子的乙烯基系单体如：含氨基的α-亚甲基脂肪族单羧酸酯系，如甲基丙烯酸二甲氨基乙酯和甲基丙烯酸二乙氨基乙酯；和丙烯酸或甲基丙烯酸衍生物，如丙烯腈、甲基丙烯腈和丙烯酰胺。
含羧基的乙烯基系单体如：不饱和二元酸，如马来酸、柠康酸、衣康酸、烯基琥珀酸、富马酸和中康酸；不饱和二元酸酐，如马来酸酐、柠康酸酐、衣康酸酐和烯基琥珀酸酐；不饱和二元酸半酯，如甲基马来酸半酯、乙基马来酸半酯、丁基马来酸半酯、甲基柠康酸半酯、乙基柠康酸半酯、丁基柠康酸半酯、甲基衣康酸半酯、甲基烯基琥珀酸半酯、甲基富马酸半酯和甲基中康酸半酯；不饱和二元酸酯，如马来酸二甲酯和富马酸二甲酯；α,β-不饱和酸，如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸和肉桂酸；α,β-不饱和酸酐，如巴豆酸酐和肉桂酸酐，以及α,β-不饱和酸和低级脂肪酸的酐；和具有羧基的单体，如烯基丙二酸、烯基戊二酸，以及烯基己二酸，其酐和其单酯。
含有羟基的乙烯基系单体如：丙烯酸酯系和甲基丙烯酸酯系如丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯和甲基丙烯酸2-羟丙酯，以及4-(1-羟基-1-甲基丁基)苯乙烯和4-(1-羟基-1-甲基己基)苯乙烯。
由丙烯酸酯系形成的酯单元如：如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸2-氯乙酯和丙烯酸苯酯。
由甲基丙烯酸酯系形成的酯单元如：α-亚甲基脂肪族单羧酸酯系，如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸正辛酯、甲基丙烯酸十二酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、和甲基丙烯酸二乙氨基乙酯。
具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物可以通过已知的方法如上述单体之间的反应以及一种聚合物的单体与其他聚合物的反应来获得。
乙烯基系树脂组分的构成单元可以优选包括苯乙烯系单元，以及还包括丙烯腈或甲基丙烯腈。
聚合物中烃化合物与乙烯基系树脂组分的质量比(烃化合物/乙烯基系树脂组分)可以优选为1/99至75/25。优选以上述范围使用烃化合物和乙烯基系树脂组分，因为使蜡分散在调色剂颗粒中并且可以在如果需要的使用热风的表面处理中控制蜡迁移至调色剂的表面的速度。
具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物的含量相对于100质量份粘结剂树脂可以优选为0.2质量份以上且20质量份以下。
优选以上述范围使用上述聚合物，因为使蜡分散在调色剂颗粒中并且可以在使用热风的表面处理中控制蜡迁移至调色剂的表面的速度。
[蜡]
用于本发明的调色剂的蜡不特别限定，但是包括下述：烃系蜡，如低分子量聚乙烯、低分子量聚丙烯、亚烷基共聚物、微晶蜡、石腊和费托蜡；烃系蜡的氧化物，如聚环氧乙烷蜡的氧化物或其嵌段共聚产物；含有脂肪酸酯作为主要组分的蜡，如巴西棕榈蜡；和通过使部分或全部脂肪酸酯脱氧的蜡，如脱氧的巴西棕榈蜡。另外，上述蜡包括下述：包含线性脂肪酸，如棕榈酸、硬脂酸和褐煤酸；不饱和脂肪酸，如巴西烯酸、桐油酸和十八碳四烯酸；不饱和醇，如十八醇、芳烷基醇、山嵛醇、巴西棕榈醇、二十六醇和蜂花醇；多元醇如山梨糖醇；由如棕榈酸、硬脂酸、山嵛酸和褐煤酸等脂肪酸与如十八醇、芳烷基醇、山嵛醇、巴西棕榈醇、二十六醇和蜂花醇等醇的酯；脂肪酸酰胺，如亚油酸酰胺、油酸酰胺和月桂酸酰胺；包含脂肪酸双酰胺，如亚甲基双硬脂酸酰胺(methylenebisstearic acid amide)、亚乙基双癸酸酰胺、亚乙基双月桂酸酰胺和六亚甲基双硬脂酸酰胺；不饱和脂肪酸酰胺如亚乙基双油酸酰胺、六亚甲基双油酸酰胺、N,N'-二油基己二酸酰胺和N,N'-二油基癸二酸酰胺；芳族二酰胺，如间二甲苯双硬脂酸酰胺和N,N'-二硬脂基间苯二甲酸酰胺；脂肪族金属盐，如硬脂酸钙、月桂酸钙、硬脂酸锌和硬脂酸镁(通称为金属皂)；通过用如苯乙烯和丙烯酸等乙烯基系单体接枝脂肪族烃系蜡获得的蜡；由如山嵛酸单甘油酯等脂肪酸和多元醇形成的部分酯化产物；和通过植物油脂的氢化获得的具有羟基的甲基酯化合物。
这些蜡中，从提高低温定影性和耐定影卷绕性的观点，优选烃系蜡如石蜡和费托蜡。
使用的蜡的含量相对于100质量份粘结剂树脂优选为0.5质量份以上且20质量份以下。另外，从同时满足调色剂的贮存稳定性和耐高温污损性的观点，在用示差扫描量热计(DSC)测量的升温时的吸热曲线中，在30℃以上且200℃以下的温度范围中存在的最大吸热峰处的峰值温度优选为50℃以上且110℃以下。
[着色剂]
可以包含在本发明的调色剂中的着色剂包括下述。
黑色着色剂包括炭黑；和通过使用黄色着色剂和品红色着色剂及青色着色剂调色的着色剂。虽然对于着色剂可以单独使用颜料，但在考虑到全色图像的图像品质，更优选组合使用染料和颜料以提高着色剂的鲜明度。
品红色着色颜料包括下述：C.I.颜料红1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、39、40、41、48:2、48:3、48:4、49、50、51、52、53、54、55、57:1、58、60、63、64、68、81:1、83、87、88、89、90、112、114、122、123、146、147、150、163、184、202、206、207、209、238、269和282；C.I.颜料紫19；和C.I.瓮红1、2、10、13、15、23、29和35。
品红色着色染料包括下述：油溶性染料如：C.I.溶剂红1、3、8、23、24、25、27、30、49、81、82、83、84、100、109和121；C.I.分散红9；C.I.溶剂紫8、13、14、21和27；和C.I.分散紫1，和碱性染料如C.I.碱性红1、2、9、12、13、14、15、17、18、22、23、24、27、29、32、34、35、36、37、38、39和40；和C.I.碱性紫1、3、7、10、14、15、21、25、26、27和28。
青色着色颜料包括下述：C.I.颜料蓝2、3、15:2、15:3、15:4、16和17；C.I.瓮蓝6；C.I.酸性蓝45，和其中酞菁骨架用1-5个邻苯二甲酰亚胺甲基取代的铜酞菁颜料。
品红色着色染料包括C.I.溶剂蓝70。
黄色着色颜料包括下述：C.I.颜料黄1、2、3、4、5、6、7、10、11、12、13、14、15、16、17、23、62、65、73、74、83、93、94、95、97、109、110、111、120、127、128、129、147、151、154、155、168、174、175、176、180、181和185；和C.I.瓮黄1、3和20。
黄色着色染料包括C.I.溶剂黄162。
着色剂优选以相对于100质量份粘结剂树脂为0.1质量份以上且30质量份以下的量使用。
[电荷控制剂]
如果需要，本发明的调色剂还可以包含电荷控制剂。作为调色剂包含的电荷控制剂，可以利用已知的那些。特别地，可以特别地利用为无色的并且调色剂的带电速度高并且能够稳定地保持恒定的带电量的芳族羧酸的金属化合物。
负带电用电荷控制剂包括水杨酸金属化合物、萘甲酸金属化合物、二羧酸金属化合物、在侧链具有磺酸或羧酸的高分子化合物、在侧链具有磺酸盐或磺酸酯的高分子化合物、在侧链具有羧酸盐或羧酸酯的高分子化合物、硼化合物、脲化合物、硅化合物和杯芳烃。正带电用电荷控制剂包括季铵盐化合物。电荷控制剂可以内部或外部添加至调色剂颗粒。电荷控制剂的添加量相对于100质量份粘结剂树脂优选为0.2质量份以上且10质量份以下。
[二氧化硅细颗粒]
作为本发明中的二氧化硅细颗粒，优选使用通过诸如湿法、火焰熔融法和气相法等任何方法生产的二氧化硅细颗粒。
湿法包括溶胶-凝胶法，所述溶胶-凝胶法包括：将烷氧基硅烷滴在包括其中存在的水的有机溶剂中；将混合物物用催化剂进行水解和缩合反应；从所得二氧化硅溶胶悬浮液中除去溶剂；和干燥产物，从而提供溶胶凝胶二氧化硅。
火焰熔融法包括以下方法：包括将在常温下为气态或液态的硅化合物预先气化；然后将硅化合物在通过供给包括氢气和/或烃以及氧气的易燃气体形成的外焰中分解和熔融，以提供二氧化硅细颗粒(熔融二氧化硅)。在火焰熔融法中，二氧化硅细颗粒可以在外焰中由硅化合物生产，同时二氧化硅细颗粒可以熔着并聚结以致得到期望的粒径和形状，然后将所得物冷却，并且通过袋式过滤器等收集。要用作原料的硅化合物不特别限定，只要所述化合物在常温下为气态或液态的即可。其实例包括：环状硅氧烷如六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷和十甲基环五硅氧烷，硅氧烷如硫甲基二硅氧烷和八甲基三硅氧烷，烷氧基硅烷如四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷和二甲基二甲氧基硅烷，有机硅烷化合物如四甲基硅烷、二乙基硅烷和六甲基二硅氮烷，硅卤化物如单氯硅烷、二氯硅烷、三氯硅烷和四氯硅烷，和无机硅如甲硅烷和乙硅烷。
气相法包括热解法(fumed method)，所述热解法包括使四氯化硅与氧气、氢气和稀释气体(例如，氮气、氩气和二氧化碳)在高温下一起燃烧，从而生产二氧化硅细颗粒。
二氧化硅细颗粒优选进行表面处理用于使其表面进行疏水化处理的目的。作为该情况中的表面处理剂，优选使用硅烷偶联剂或硅油。
硅烷偶联剂的实例包括六甲基二硅氮烷、三甲基硅烷、三甲基氯硅烷、三甲基乙氧基硅烷、二甲基二氯硅烷、甲基三氯硅烷、烯丙基二甲基氯硅烷、烯丙基苯基二氯硅烷、苄基二甲基氯硅烷、溴甲基二甲基氯硅烷、α-氯乙基三氯硅烷、β-氯乙基三氯硅烷、氯甲基二甲基氯硅烷、三有机甲硅烷基硫醇、三甲基甲硅烷基硫醇、三有机甲硅烷基丙烯酸酯、乙烯基二甲基乙酰氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、六甲基二硅氧烷、1,3-二乙烯基四甲基二硅氧烷、1,3-二苯基四甲基二硅氧烷和每分子具有2-12个硅氧烷单元并且在位于末端的单元中包含键合至一个硅原子的羟基的二甲基聚硅氧烷。
要用于在本发明中要使用的二氧化硅细颗粒的处理的硅油的实例包括二甲基硅油、烷基改性的硅油、α-甲基苯乙烯改性的硅油、氯苯基硅油和氟改性的硅油。硅油不限于上述油。硅油优选具有在25℃温度下的粘度为50-1,000mm2/s。当粘度小于50mm2/s时，硅油通过施加的热而部分地挥发，由此容易引起带电性的劣化。当粘度大于1,000mm2/s时，在处理操作的方面变得难以处理硅油。可以使用已知的技术作为处理硅油的方法。所述方法的实例包括：包括通过使用混合机混合硅酸盐细粉末与硅油的方法；包括通过使用喷雾机使硅油在硅酸盐细粉末中喷雾的方法；或包括将硅油溶解在溶剂中然后将所得物与硅酸盐细粉末混合的方法。处理方法不限于此。
本发明的二氧化硅细颗粒优选采用作为表面处理剂的六甲基二硅氮烷或硅油处理。
[外部添加剂]
本发明中，如果需要，可以进一步添加外部添加剂用于提高流动性或调节摩擦带电量的目的。
外部添加剂优选为无机细颗粒如二氧化硅、氧化钛、氧化铝和钛酸锶。无机细颗粒优选用如硅烷化合物、硅油或其混合物等疏水化剂来进行疏水化。
关于使用的外部添加剂的比表面积，从抑制外部添加剂的埋入的观点，优选比表面积为10m2/g以上且50m2/g以下的无机细颗粒。
另外，外部添加剂的用量相对于100质量份调色剂颗粒优选为0.1质量份以上且5.0质量份以下。
虽然调色剂颗粒和外部添加剂可以使用已知的混合机如亨舍尔混合机混合，但是用于这种混合的设备不特别限定，只要能够进行混合即可。
[生产方法]
本发明的调色剂的生产方法不特别限定，并且对于其可以使用已知的生产方法。这里，记载使用粉碎技术的调色剂生产方法作为一个实例。
在原料混合步骤中，例如，称量预定量的作为用于形成调色剂颗粒的材料的粘结剂树脂和蜡以及如果需要的其他组分如着色剂和电荷控制剂，并且共混和混合。混合设备的一个实例包括双锥混合机、V-型混合机、鼓型混合机、超级混合机、亨舍尔混合机、诺塔混合机和Mechano Hybrid(由NipponCoke & Engineering Co.,Ltd.制造)。
然后，将混合的材料熔融和捏合，并且蜡等分散在粘结剂树脂中。在熔融和捏合步骤中，可以使用分批型捏合机如压力捏合机和班伯里混合机，或连续式捏合机，以及由于连续生产的优点主要使用单螺杆或双螺杆挤出机。其实例包括：KTK-型双螺杆挤出机(由Kobe Steel,Ltd.制造)；TEM-型双螺杆挤出机(由Toshiba Machine Co.,Ltd.制造)；PCM捏合机(由Ikegai Corporation制造)；双螺杆挤出机(由K.C.K.Corporation制造)；共捏合机(co-kneader)(由Buss AG制造)；和KNEADEX(由Nippon Coke&Engineering Co.,Ltd.制造)。此外，通过熔融和捏合获得的树脂组合物也可以通过双辊等压延，并且在冷却步骤中通过水等冷却。
然后，在粉碎步骤中将树脂组合物的冷却产物粉碎以便具有期望的粒径。在粉碎步骤中，将冷却产物通过粉碎机如破碎机、锤磨机或削磨机粗粉碎，然后通过例如，Kryptron System(由Kawasaki Heavy Industries,Ltd.制造)、Super Rotor(由Nisshin Engineering Inc.制造)、涡轮磨机(Turbo Mill)(由TurboKogyo Co.,Ltd.制造)或喷气体系的细粉碎机进一步细粉碎。
其后，如果需要，使用分级机或筛分机如惯性分级体系的Elbow-Jet(由Nittetsu Mining Co.,Ltd.制造)、离心分级体系的Turboplex(由HosokawaMicron Corporation制造)、TSP分离器(由Hosokawa Micron Corporation制造)或Faculty(由Hosokawa Micron Corporation制造)进行分级从而提供调色剂颗粒。
另外，粉碎之后，如果需要，可以使用杂化系统(Hybridization System)(由Nara Machinery Co.,Ltd.制造)、机械熔合系统(Mechanofusion System)(由Hosokawa Micron Corporation制造)、Faculty(由Hosokawa Micron Corporation制造)或Meteorainbow MR型(由Nippon Pneumatic Mfg.Co.,Ltd.制造)进行调色剂颗粒的表面处理如球形化处理。
本发明中，特别优选进行以下：将二氧化硅细颗粒分散在通过上述生产方法获得的调色剂颗粒的表面上，并且在分散的同时通过使用热风的表面处理使二氧化硅细颗粒固着在调色剂颗粒的表面上。
本发明中，例如，调色剂可以通过使用图1中示出的表面处理设备进行使用热风的表面处理，并且如果需要进行分级来获得。
使用热风的表面处理特别优选如下：通过从高压空气供给喷嘴喷射而喷出调色剂并且使喷出的调色剂的表面通过使调色剂暴露于热风中来处理，热风温度落入100℃以上且450℃以下的范围中。
这里，图1示意性描述使用热风的表面处理方法，但不限于此。图1为示出用于本发明中的表面处理设备的一个实例的截面图。具体地，无机细颗粒分散在调色剂颗粒的表面上，其后供给至表面处理设备。然后，从调色剂供给口100供给的调色剂颗粒114通过从高压空气供给喷嘴115喷射的注入空气加速，并且移行至位于高压空气供给喷嘴115下方的气流喷射构件102。气流喷射构件102喷射扩散空气，并且该扩散空气使调色剂颗粒向外侧扩散。此时，可以调整注入空气的流量和扩散空气的流量，由此控制调色剂的扩散状态。
另外，为了防止调色剂颗粒熔着的目的，在调色剂供给口100的外周、表面处理设备的外周和输送配管116的外周上各自设置冷却夹套106。应注意，冷却水(优选地，防冻液如乙二醇)优选通过冷却夹套。另一方面，通过扩散空气扩散的调色剂颗粒的表面用从热风供给口101供给的热风处理。此时，热风温度C(℃)优选为100℃以上且450℃以下，更优选100℃以上且400℃以下，和特别优选150℃以上且300℃以下。
当热风温度低于100℃时，在调色剂颗粒的表面中可能发生表面粗糙度的变化。另外，当温度超于450℃时，熔融状态进行至如此大的程度以致可能进行调色剂颗粒的聚结，以引起调色剂的粗大化和熔着。
其表面用热风处理的调色剂颗粒通过从设置在设备上部的外周上的冷风供给口103供给的冷风冷却。在该情况下，为了控制在设备中的温度分布和控制调色剂的表面状态的目的，冷风可以从设置在设备主体的侧面上的第二冷风供给口104引入。狭缝形状、百叶窗形状、多孔板形状或网眼形状等可用于第二冷风供给口104的出口，并且可以根据目的选择与中心方向水平的方向或沿着设备的壁面的方向作为引入冷风的方向。在该情况下冷风温度E(℃)优选为-50℃以上且10℃以下，和更优选-40℃以上且8℃以下。另外，冷风优选为脱湿的冷风。具体地，冷风的绝对水分量优选为5g/m3以下和更优选3g/m3以下。
当冷风温度在上述范围中时，可在抑制颗粒之间的聚结的产生的同时有利地进行球形化。另外，当冷风的绝对水分量为5g/m3以下时，蜡的溶出速度是适当的，从而容易控制二氧化硅细颗粒的固着率在本申请的范围中。
其后，将冷却的调色剂颗粒由吹风机吸取并且通过输送配管116由旋流分离器回收。
另外，调色剂颗粒如果需要也可以通过使用由Nara Machinery Co.,Ltd.制造的杂化体系(Hybridization System)或由Hosokawa Micron Corporation制造的机械熔合体系(Mechanofusion System)进行进一步的表面改性和球形化处理。在该情况下，如果需要也可以使用为风力式筛的筛分机如High Bolter(由Shin Tokyo Kikai Co.,Ltd.制造)。
其后，如果需要，也可以外部添加其他无机细颗粒从而赋予流动性和提高带电稳定性。混合设备的一个实例包括双锥混合机、V-型混合机、鼓型混合机、超级混合机、亨舍尔混合机、诺塔混合机和MECHANO HYBRID(由Nippon Coke&Engineering Co.,Ltd.制造)。
接着，将描述关于本发明的各物理性质的测量方法。
[最大压实应力(a)和单轴崩坏应力(b)的测量方法]
最大压实应力(a)和单轴崩坏应力(b)可以通过Shear Scan TS-12(由Sci-Tec Inc.制造)测量。在Shear Scan中，相对于根据在由Prof.Virendra M.Puri.著作的CHARACTERIZING POWDER FLOWABILITY(2002年1月24日出版)中记载的Mohr-Coulomb模型的原理进行测量。
具体地，在室温环境(23℃、60％RH)中通过使用剪切力可以沿截面方向线性地施加的线性剪切池(圆筒形状、直径：80mm，容积：140cm3)进行测量。将调色剂装入池中，施加1.0kPa的垂直载荷，并且作成压实粉末层以致在该垂直载荷下为最密堆积状态(在本发明中优选通过Shear Scan的测量，这是因为可以自动检测压实状态下的压力并且可以在没有个体差异的情况下作成该层)。类似地，通过将垂直载荷设定为3.0kPa、5.0kPa和7.0kPa形成压实粉末层。然后，在连续地施加用于形成压实粉末层施加的垂直载荷的同时剪切力逐渐施加至在各垂直载荷下形成的样品，并且进行用于测量此时的剪切应力的变化的试验，从而确定稳态点(stationary point)。当压实粉末层到达稳态点时其如下确定：当剪切应力的位移和沿用于施加垂直载荷的载荷施加单元的垂直方向的位移减小并且它们两者在上述试验中均具有稳定值时，认为压实粉末层达到稳态点。然后，垂直载荷逐渐从达到稳态点的压实粉末层中除去，创建在各载荷处的破坏包络线(垂直载荷应力对剪切应力的图)，并且求得Y-截距和斜率。在通过Mohr-Coulomb模型的分析中，单轴崩坏应力和最大压实应力由下述表达式表示，并且Y-截距表示"内聚力"和斜率表示"内部摩擦角"。
单轴崩坏应力
最大压实应力 c＝内聚力， σssp＝在稳态点处的垂直载荷)
绘出在各载荷处计算的单轴崩坏应力和最大压实应力的图(流函数图，Flow Function Plot)，并且基于该图画出直线。该直线用于确定在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力。
本发明中，重要的是控制调色剂的在最大压实应力为10.0kPa时的调色剂的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
[覆盖率X的计算]
本发明中的覆盖率X通过借助于使用图像分析软件Image-Pro Plus5.0版本(Nippon Roper K.K.)分析由日立超高分辨率场发射扫描电子显微镜S-4800(Hitachi High-Technologies Corporation)捕捉的调色剂表面图像来计算。S-4800的图像捕捉条件如下。
(1)试样制备
将导电性糊剂薄薄地施涂至试样台(铝试样台：15mm×6mm)上，并且将调色剂吹到上面。此外，应用吹气以从试样台上除去多余的调色剂并充分干燥剩余的调色剂。试样台设置在试样保持器上，并且通过试样高度量规调整其高度至36mm。
(2)用S-4800观察的条件的设定
覆盖率X的计算使用通过用S-4800观察反射电子图像获得的图像来进行。反射电子图像可以用于测量具有优异精度的覆盖率X，这是因为无机细颗粒比二次电子图像的情况下更少地过度带电。应注意，当除了二氧化硅细颗粒之外的颗粒存在于调色剂颗粒的表面上时，通过能量分散型X-射线分析仪(EDAX)进行元素分析以鉴定二氧化硅细颗粒，然后计算覆盖率X。
将液氮注入安装至S-4800的镜体的防污染阱(anti-contamination trap)中直至液氮溢出，并且使该阱放置30分钟。S-4800的"PC-SEM"开始进行冲洗(清洁作为电子源的FE芯片)。点击屏幕上的控制面板中的加速电压显示部分并且按压[冲洗]按钮从而打开冲洗执行对话框。确认冲洗强度为2并执行冲洗。确认由于冲洗引起的发射电流为20-40μA。将试样保持器插入S-4800的镜体的试样室中。按压控制面板上的[原点]，从而将试样保持器移动至观察位置。
点击加速电压显示部分，从而打开HV设定对话框，并且加速电压设定为[0.8kV]和发射电流设定为[20μA]。在操作面板的[基本]列表中，信号选择设定为[SE]，对于SE检测器选择[上(U)]和[+BSE]，并且在[+BSE]右方的选择框中选择[L.A.100]从而导致具有反射电子图像的观察模式。类似地，在操作面板的[基本]列表中，电子光学系统条件块的探针电流、聚焦模式和WD分布设定为[正常(Normal)]、[UHR]以及[3.0mm]。按压控制面板的加速电压显示部分中的[ON]按钮从而施加加速电压。
(3)焦点调节
转动操作面板上的聚焦旋钮[COARSE]，并且调节获得一定程度聚焦的光圈对准(aperture alignment)。点击控制面板中的[Align]从而显示对准对话框，并且选择[光束(beam)]。转动操作面板上的STIGMA/ALIGNMENT旋钮(X,Y)从而使要显示的光束移动至同心圆的中心。然后，选择[光圈(aperture)]，并且一次转动一下STIGMA/ALIGNMENT旋钮(X,Y)以进行调焦从而图像的移动可停止或最小化。关闭光圈对话框，并且使用自动对焦实现聚焦。其后，放大倍率设定为50,000×(50k)，如上所述，使用聚焦旋钮和STIGMA/ALIGNMENT旋钮，进行焦点调节，并且使用自动对焦再次实现聚焦。重复操作以实现聚焦。这里，由于当观察表面具有大的倾斜角时覆盖率测量的精度容易变低，所以通过选择在聚焦调节期间整个待观察表面同时聚焦的调色剂颗粒来选择并分析表面具有小的倾斜的调色剂颗粒。
(4)图像保存
使用ABC模式进行亮度调节，并且用640×480像素的大小拍摄照片并保存。图像文件用于进行下述分析。取用各调色剂颗粒的一张照片，并获得至少30个调色剂颗粒的图像。
(5)图像分析
在本发明中，覆盖率X通过使用下述分析软件计算从而使通过上述过程获得的图像进行二值化处理。这里，上述单一图像分为12个正方形，并分析各正方形。图像分析软件Image-Pro Plus5.0版本的分析条件如下。
软件：Image-ProPlus5.1J
在工具栏中从"测量"中顺序选择"计数/尺寸"然后"选项"，并且设定二值化条件。在目标提取选项中选择"8连结"，并且将"平滑化"设定为0。另外，不选择"预筛选"、"孔穴填充"和"凸包"，并且将"边界线除外"设定为"无"。在工具栏中从"测量"中选择"测量项目"，并且对于面积筛选范围输入"2-107"。
覆盖率通过围绕正方形区域计算。这里，进行所述围绕以使区域的面积(C)为24,000-26,000像素。通过"处理"-二值化进行自动二值化，并且计算没有二氧化硅区域的总面积(D)。
覆盖率使用下述表达式由正方形区域的面积C和没有二氧化硅区域的总面积D来计算。
覆盖率X(％)＝100-(D/C×100)
所有获得的数据的平均值定义为本发明中的覆盖率X。
[二氧化硅细颗粒的固着率(A)的计算]
二氧化硅细颗粒的固着率由在正常状态下的调色剂中的二氧化硅细颗粒的量和在除去未固着至调色剂表面上的二氧化硅细颗粒之后残留的二氧化硅细颗粒的量来计算。
(1)未固着的无机细颗粒的除去
如下所述除去未固着的无机细颗粒。
向100ml离子交换水中，添加160g蔗糖，并且用热水温热的同时溶解从而制备蔗糖溶液。将通过添加23ml蔗糖溶液和6.0ml非离子表面活性剂、优选Contaminon N(由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.生产：商品名))制备的溶液装入50ml由聚乙烯制成的密封试样瓶中，向其中添加1.0g测量试样，并且通过轻轻摇动密封瓶来搅拌混合物。然后，使瓶放置1小时。将放置1小时的样品通过KM振荡器(Iwaki Sangyo：商品名)在350spm下摇动20分钟。这里，设定震荡的角度以使相对于振荡器的正上方位置(垂直)作为0°时振荡的支柱向前移动15°并向后移动20°。将试样瓶固定至安装至支柱的前端的固定保持器(试样瓶的盖子固定至支柱的中心的延长上)。将振荡的样品快速转移至离心用容器。将转移至离心用容器的样品通过高速冷却离心分离机H-9R(由Kokusan Co.,Ltd.制造：商品名)在20℃的预设温度、最短的加速-减速时间、3,500rpm的转数和30分钟的旋转时间的条件下进行离心分离。回收在最上部分分离出的调色剂、通过真空过滤器过滤，接着用干燥器干燥1小时以上。
固着率通过下述表达式计算。
固着率(A)＝{1-(P1-P2)/P1}×100
(等式中，P1表示在初始调色剂中的SiO2量"质量％"，P2表示在通过上述方法除去未固着至调色剂表面的二氧化硅细颗粒后调色剂中的SiO2量"质量％"。调色剂中的SiO2量通过由通过XRF测量确定的调色剂的SiO2强度画出校准曲线来计算)。
[二氧化硅细颗粒的粒径的计算]
二氧化硅细颗粒的一次颗粒的数均粒径由通过日立超高分辨率场发射扫描电子显微镜S-4800(Hitachi High-Technologies Corporation)捕捉的调色剂的表面的图像来计算。S-4800的图像捕捉条件如下。
操作(1)和(2)以与上述"覆盖率X的计算"中相同的方式进行，放大倍率设定为50,000×，从而以与操作(3)中相同的方式在调色剂的表面上进行聚焦调节。然后，使用ABC模式进行亮度调节。其后，放大倍率设定为100,000×，然后以与操作(3)中相同的方式使用聚焦旋钮和STIGMA/ALIGNMENT旋钮进行聚焦调节，并且使用自动对焦进一步实现聚焦。重复聚焦调节操作并且在100,000×的放大倍率下进行聚焦。
其后，测量调色剂的表面上的至少300个无机细颗粒的粒径从而确定一次颗粒的数均粒径。这里，由于二氧化硅细颗粒也作为聚集体存在，因此确定可以鉴定为一次颗粒的二氧化硅细颗粒的最大直径，并且将获得的最大直径进行算术平均从而提供一次颗粒的数均粒径。
<重均粒径(D4)的测量方法>
调色剂颗粒的重均粒径(D4)通过分析测量数据来计算，所述测量数据是通过借助于使用安装有100μm口管并采用孔电阻法的精密粒径分布测量设备"Coulter Counter Multisizer3"(注册商标，由Beckman Coulter,Inc.制造)和用于设定测量条件和分析测量数据的附属的专用软件"Beckman Coulter Multisizer3Version3.51"(由Beckman Coulter,Inc.制造)测量25000个有效测量通道获得的。
作为用于测量中的电解水溶液，可以使用通过将特级氯化钠溶解于离子交换水中至浓度为约1质量％获得的电解水溶液，例如"ISOTON II"(由Beckman Coulter,Inc.制造)。
此外，在测量和分析之前，如下设定专用软件。
在专用软件的"标准操作方法(SOM)的变更界面"中，将控制模式中的总计数设定为50000个颗粒，将测量次数设定为1次，并将Kd值设定为通过使用"10.0μm标准颗粒"(Beckman Coulter,Inc.)获得的值。将阈值和噪音水平通过按压阈值/噪音水平测量按钮来自动设定。此外，将电流设定为1600μA，增益(gain)设定为2，将电解水溶液设定为ISOTON II，并且在测量后进行的口管冲洗的项目中输入复选。
在专用软件的"从脉冲至粒径的转化的设定界面"中，将元件间隔(bininterval)设定为对数粒径，将粒径元件数设定为256，并将粒径范围设定为2μm-60μm。
测量方法如下所述具体地进行。
1.将约200ml前述电解水溶液放入Multisizer3专用的250ml圆底玻璃烧杯中，并将该烧杯放在样品台中，用搅拌器棒在每秒24转下进行逆时针搅拌。通过分析软件的"口冲洗(aperture flush)"功能先将口管内的污垢和气泡除去。
2.将约30ml前述电解水溶液放入100ml平底玻璃烧杯中，并将约0.3ml通过用离子交换水三质量倍稀释"Contaminon N"(用于清洗精密测量仪器的中性pH7清洁剂的10质量％水溶液，其包含非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和有机助洗剂，由Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造)制备的稀释液作为分散剂添加至该烧杯中。
3.在"Ultrasonic Dispersion System Tetora150"(Nikkaki Bios Co.,Ltd.)，即具有电输出为120W、装备有相位偏移180°而设置的振荡频率为50kHz的两个振荡器的超声波分散机中，将预定量的离子交换水引入超声波分散机的水槽中，将约2ml的Contaminon N添加至水槽中。
4.将项目2中描述的烧杯放在超声波分散机的烧杯固定孔中，操作超声波分散机。以使在烧杯中电解水溶液的表面的共振状态为最高水平这样的方式调节烧杯的高度。
5.在将根据项目4中设定的烧杯中的电解水溶液用超声波照射时，将约10mg调色剂颗粒以小等分试样添加于电解水溶液中以分散于其中。超声波分散处理继续另外60秒。此外，在超声波分散期间适当控制水槽中的水温度为10℃以上且40℃以下。
6.通过使用移液管，将如上所述项目5中的含分散的调色剂颗粒的电解水溶液滴入如上所述项目1中的放置在样品台中的圆底烧杯中，以便进行调节以得到测量浓度为约5％。然后进行测量，直到测量颗粒的数量达到50000个。
7.通过设备附带的前述专用软件分析测量数据，并计算重均粒径(D4)。此外，在专用软件设定为图/体积％时的分析/体积统计值(算术平均)界面上显示的"平均粒径"对应于重均粒径(D4)。
<调色剂颗粒的平均圆形度的测量方法>
调色剂颗粒的平均圆形度用"FPIA-3000"(Sysmex Corporation)流式颗粒图像分析仪，使用由校准过程中的测量和分析条件来测量。
测量方法如下所述。首先，将约20mL从中已除去固体杂质的离子交换水放入玻璃容器。接下来，将约0.2ml通过用离子交换水约三重量倍稀释"Contaminon N"(用于清洗精密分析仪的中性(pH7)清洁剂的10wt％水溶液，其包含非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂和有机助洗剂；购自Wako PureChemical Industries,Ltd.)制备的稀释液作为分散剂添加至其中。然后添加约0.02g测量样品并使用超声波分散机进行分散处理2分钟，从而形成测量用分散液。此时将该分散液适当地冷却至10℃以上且40℃以下的温度。使用具有50kHz振荡频率和150W电输出的桌式超声波清洗器/分散机(例如，VS-150，购自Velvo-Clear)作为超声波分散机，将给定量的离子交换水放入水槽并将约2mL Contaminon N添加至该槽中。
使用装配有“UPlanApro”(放大倍率，10X；数值孔径(numerical aperture)，0.40)作为物镜并使用颗粒鞘(Particle Sheath)“PSE-900A”(购自SysmexCorporation)作为鞘试剂的流式颗粒图像分析仪进行测量。
将根据上述过程制备的分散液引入流式颗粒图像分析仪，并且在HPF测量模式时，以总计数模式测量3,000个调色剂颗粒。接下来，将在颗粒分析期间的二值化阈值设定为85％并将分析的粒径限定为1.985μm以上且小于39.69μm的圆当量直径来测定调色剂颗粒的平均圆形度。
对于该测量，在测量开始前使用参照胶乳颗粒(例如，"RESEARCH ANDTEST PARTICLES Latex Microsphere Suspensions5200A"使用离子交换水的稀释液，购自Duke Scientific)进行自动焦点调节。优选随后从测量开始起每2小时进行焦点调节。
本发明中，使用流式颗粒图像分析仪，该流式颗粒图像分析仪已由SYSMEX CORPORATION进行校准工作并收到由SYSMEX CORPORATION颁发的校准证书。除了要分析的颗粒的直径限定为1.985μm以上且小于39.69μm之外，在与收到校准证书时的测量和分析条件下进行测量。
在FPIA-3000(购自Sysmex Corporation)流式颗粒图像分析仪中采用的测量原理为捕捉流动颗粒作为静止图像并进行图像分析。将已添加至样品室的样品进给至具有样品抽吸注射器的扁平鞘流动池。进给至扁平鞘流动池的样品被夹持在鞘试剂之间，形成扁平流。
通过扁平鞘流动池的样品用频闪光以1/60-秒间隔照射，能够使流动颗粒捕捉为静止图像。因为流是扁平化的，图像以聚焦的状态被捕捉。颗粒图像用CCD照相机捕捉，并且捕捉到的图像为用512x512像素处理分辨率(每像素0.37μm x0.37μm)处理的图像，处理之后对各颗粒图像进行轮廓提取，并且计算颗粒图像的投影面积S和周长L等。
接下来，使用上述面积S和周长L测定圆当量直径和圆形度。圆当量直径为面积与颗粒图像的投影面积相同的圆的直径。
圆形度定义为通过将由圆当量直径确定的圆的周长除以颗粒投影图像的周长提供的值，并使用下式计算。
圆形度＝2×(π×S)1/2/L
当颗粒图像是圆形的时，圆形度为1.000。随着颗粒图像的圆周的不均匀程度变越大，圆形度值变越小。在计算各颗粒的圆形度之后，将0.200-1.000的圆形度范围除以800，计算所得圆形度的算术平均值，并且将所得值看作是平均圆形度。
[图像形成方法的说明]
本发明的图像形成方法包括使感光构件的表面充电的充电步骤；通过曝光在感光构件上形成静电潜像的潜像形成步骤；通过具有本发明上述构成的调色剂使静电潜像显影从而形成调色剂图像的显影步骤；将调色剂图像一次转印至中间转印构件，然后将中间转印构件上的调色剂图像二次转印至转印材料的转印步骤；和在一次转印步骤之后残留在中间转印构件上的转印残余调色剂通过清洁构件从中间转印构件除去的清洁步骤。
然后，示出关于本发明中的图像形成设备的一个实例。
图2示出根据本发明的图像形成设备的实施方案的示意性构造。本发明的图像形成设备为在中间转印构件上使用多个转印体系、包括多个平行配置的图像形成部(各图像形成部包括图像承载构件和进行充电、曝光及显影以在图像承载构件上形成调色剂图像的各装置)的串联式电子照相图像形成设备，其中将形成于多个图像承载构件上的各颜色的调色剂图像多次转印至作为二次图像承载构件的中间转印构件上，其后在作为二次图像承载构件的中间转印构件上的多次转印的调色剂图像一起转印至记录材料上。
如图2所示，本实施方案的图像形成设备包括形成黄色、品红色、青色和黑色的各颜色的图像的各图像形成部Pa、Pb、Pc和Pd。在各图像形成部中，一次充电装置2a、2b、2c和2d，曝光系统6以及黄色、品红色、青色和黑色各颜色的显影设备3Y、3M、3C和3Bk用于在各感光鼓1a、1b、1c和1d上进行充电、曝光和显影，在各感光鼓1a至1d上形成各颜色的调色剂图像。
图像形成设备还包括作为输送装置的、承载从各感光鼓1a-1d多次转印的调色剂图像并且输送调色剂图像至其中调色剂图像一起转印至记录材料P上的二次转印部位N2'的用作第二图像承载构件的带状中间转印构件，即中间转印带8c。中间转印带8c卷绕在中间转印带驱动辊43、张力辊41和作为二次转印相对构件的二次转印相对辊42上，并且沿图2中的箭头W的方向旋转。
各感光鼓1a-1d隔着插入其间的中间转印带8c分别与作为转印充电装置的一次转印充电辊40a、40b、40c和40d相对。
当开始图像形成操作时，中间转印带8c沿箭头W的方向旋转，形成于各感光鼓1a-1d上的各颜色的调色剂图像顺序叠加并且通过各一次转印充电辊40a-40d的作用在一次转印部位N2静电地转印至中间转印带8c上。
根据本发明，各转印充电辊40a-40d在比中间转印带8c上的图像形成区域宽的区域上供给电荷，从而从各感光鼓1a-1d转印调色剂图像至中间转印带8c上。
另一方面，将记录材料容纳盒21中容纳的记录材料P通过记录材料供给辊22进给至图像形成设备，并被夹持在定位辊7之间。其后，以与进入二次转印部位N2'的作为二次转印充电装置的二次转印充电辊45和用作二次转印相对构件的二次转印相对辊42同步，将多次转印至中间转印带8c上的调色剂图像的前端进给至二次转印部位N2'(所述辊42和辊45彼此相对并且分别与中间转印带8c的背面(内侧)和正面(外侧)抵接)，并且中间转印带8c上的调色剂图像通过二次转印充电辊45的作用一起转印至记录材料P上。
其后，将承载未定影的调色剂图像的记录材料P输送至定影设备5，并且加热加压，由此将未定影的调色剂图像定影在记录材料P上从而形成永久图像。另外，在调色剂图像二次转印至记录材料P之后中间转印带8c上残留的调色剂等，在通过放电装置17和18放电以除去静电吸附力后，通过具有清洁装置的中间转印带清洁器46除去。
然后，描述用于本发明中的中间转印带的清洁方法。
作为一个实例，描述关于可以用于其中多个调色剂图像形成于中间转印构件上的串联型图像形成设备的毛刷清洁方法的清洁方法，但是不限于毛刷清洁方法。
图3为中间转印带清洁设备46的放大图。图3中，中间转印带清洁设备46设置有与张力辊41相对并且与旋转中的中间转印带8c接触的导电性毛刷201。导电性毛刷201的旋转方向与中间转印带8c的方向相同。即，毛刷和带在辊隙位置处相互反向地表面移动。导电性毛刷201与金属辊202接触，并且从电源203向其施加电压。将具有与调色剂的电荷相反的电荷的电压施加至与导电性毛刷201接触的金属辊202。
通过导电性毛刷201的电阻在金属辊202和导电性毛刷201之间产生电位差，使得从中间转印带8c除去的调色剂从导电性毛刷201转移至金属辊202。转移至金属辊202的调色剂通过刮板204擦除并回收。电位差还在中间转印带8c和导电性毛刷201之间类似地产生，并且通过电场的静电力和通过接触的擦除力使调色剂通过导电性毛刷201回收。例如，当+700V的电压施加至金属辊202时，导电性毛刷201具有+400V的电压从而清洁在中间转印带8c上的负调色剂。
[转印材料的物理性质]
本发明中转印材料的物理性质值通过下述测量方法来测量。转印材料的基重根据JIS-P-8124测量。转印材料的表面的贝克平滑度根据JIS-P-8119测量。
实施例
虽然上面描述了本发明的基本构成和特征，但是下面基于实施例具体描述本发明。然而，本发明完全不限于实施例。
[粘结剂树脂1的生产例]
4升四颈玻璃烧瓶装载有76.9质量份(0.167mol)聚氧丙烯(2.2)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷、24.1质量份(0.145mol)对苯二甲酸和0.5质量份四丁氧基钛，并装配有温度计、搅拌棒、冷凝器和氮气导入管，并且放置在覆套式加热器中。然后，将烧瓶的内容物用氮气置换。然后，在搅拌混合物的同时，逐渐升高烧瓶内的温度。在200℃温度下搅拌的同时使混合物进行反应4小时(第一反应步骤)。其后，添加2.0质量份(0.010mol)偏苯三酸酐至所得物，并且使混合物在180℃下进行反应1小时(第二反应步骤)从而提供作为聚酯树脂的粘结剂树脂1。
粘结剂树脂1的酸值和羟值分别为10mg KOH/g和65mg KOH/g。另外，关于通过GPC测量的分子量，重均分子量(Mw)为8,000，数均分子量(Mn)为3,500和峰值分子量(Mp)为5,700，软化点为90℃。
[粘结剂树脂2的生产例]
4升四颈玻璃烧瓶装载有71.3质量份(0.155mol)聚氧丙烯(2.2)-2,2-双(4-羟苯基)丙烷、24.1质量份(0.145mol)对苯二甲酸和0.6质量份四丁氧基钛，并装配有温度计、搅拌棒、冷凝器和氮气导入管，并且放置在覆套式加热器中。然后，将烧瓶的内容物用氮气置换。然后，在将混合物搅拌的同时逐渐升高烧瓶内的温度。在200℃温度下搅拌的同时使混合物进行反应2小时(第一反应步骤)。其后，添加5.8质量份(0.030mol)偏苯三酸酐至所得物，并且使混合物在180℃下进行反应10小时(第二反应步骤)从而提供作为聚酯树脂的粘结剂树脂2。
粘结剂树脂2的酸值和羟值分别为15mg KOH/g和7mg KOH/g。另外，关于通过GPC测量的分子量，重均分子量(Mw)为200,000，数均分子量(Mn)为5,000和峰值分子量(Mp)为10,000，软化点为130℃。
[聚合物生产例1]
将上述材料装入高压釜中，并且该体系用N2置换。然后，在搅拌混合物的同时将体系内的温度升高并保持在180℃下。将50质量份的叔丁基过氧化氢的2质量％二甲苯溶液经5小时连续滴加至该体系中并将混合物冷却，其后分离并除去溶剂。由此，获得低密度聚乙烯与乙烯基树脂组分反应的聚合物A。测量聚合物A的分子量，并且重均分子量(Mw)为7,100和数均分子量(Mn)为3,000。另外，通过将聚合物分散在45体积％的甲醇水溶液中获得的分散液，在25℃温度下测量的在600nm波长处的透过率为69％。
[聚合物生产例2]
将上述材料装入高压釜中，并且该体系用N2置换。然后，在搅拌混合物的同时使体系内的温度升高并保持在170℃下。将50质量份的叔丁基过氧化氢的2质量％二甲苯溶液经5小时连续滴加至该体系中并将混合物冷却，其后分离并除去溶剂。由此，获得低密度聚乙烯与乙烯基树脂组分反应的聚合物B。测量聚合物B的分子量，并且重均分子量(Mw)为6,900和数均分子量(Mn)为2,900。另外，通过将聚合物分散在45体积％的甲醇水溶液中获得的分散液，在25℃温度下测量的在600nm波长处的透过率为63％。
[二氧化硅细颗粒1的生产例]
在二氧化硅细颗粒1的生产中，具有能够形成内焰和外焰的双管结构的烃-氧混合燃烧器用作燃烧炉。用于喷射浆料的双流体喷嘴设置在燃烧器的中心部从而引入作为原料的硅化合物。烃-氧的易燃气体从双流体喷嘴的外周喷射从而形成用作还原气氛的内焰和外焰。控制易燃气体和氧的量和流量以调节气氛、温度和各火焰的长度等。二氧化硅细颗粒由火焰中的硅化合物形成，并且进一步熔合直至颗粒具有期望的粒径。其后，将颗粒冷却然后通过袋式过滤器等收集，由此获得二氧化硅细颗粒。
六甲基环三硅氧烷用作作为原料的硅化合物以生产二氧化硅细颗粒。99.6质量％的所得二氧化硅细颗粒用0.4质量％六甲基二硅氮烷表面处理。一次平均粒径总结在表1中。
[二氧化硅细颗粒2-7的生产例]
除了二氧化硅原料的平均粒径如表1中示出的改变之外，二氧化硅细颗粒2-7通过与在二氧化硅细颗粒1的情况中相同的过程来制备。一次平均粒径、处理剂和物理性质总结在表1中。
<调色剂1的生产例>
上述配方中列出的原料使用亨舍尔混合机(FM-75型，由Mitsui Mining Co.,Ltd.制造)在20s-1的转数和5分钟的旋转时间下混合，然后将混合物通过设定在125℃温度下的双螺杆捏合机(PCM-30型，由Ikegai Corporation制造)捏合。冷却所得捏合的产物，并且通过锤磨机粗粉碎为1mm以下从而提供粗粉碎产物。所得粗粉碎产物通过机械粉碎机(T-250，由Turbo Kogyo Co.,Ltd.制造)细粉碎。另外，旋转型分级机(200TSP，由Hosokawa Micron Corporation制造)用于进行分级，以提供调色剂颗粒。旋转型分级机(200TSP，由HosokawaMicron Corporation制造)在50.0s-1的分级马达转数的条件下操作。所得调色剂颗粒具有重均粒径(D4)为5.7μm。
向100质量份所得调色剂颗粒中，添加4.5质量份二氧化硅细颗粒1，并且将所得物通过亨舍尔混合机(FM-75型，由Mitsui Mining Co.,Ltd.制造)在30s-1的转数和10分钟的旋转时间下混合，通过图1中示出的表面处理设备表面处理。操作条件如下：进给量＝5kg/hr、热风温度C＝220℃、热风流量＝6m3/min、冷风温度E＝5℃、冷风流量＝4m3/min、冷风绝对水分量＝3g/m3、吹风机风量＝20m3/min和注入气体流量＝1m3/min。所得处理的调色剂颗粒具有平均圆形度为0.963和重均粒径(D4)为6.2μm。
向100质量份所得处理的调色剂颗粒中，添加0.5份钛酸锶细颗粒，并且将所得物通过亨舍尔混合机(FM-75型，由Mitsui Mining Co.,Ltd.制造)在30s-1的转数和10分钟的旋转时间下混合从而提供调色剂1。所得调色剂的物理性质示于表1中。
<调色剂2-13的生产例>
除了蜡、聚合物、二氧化硅细颗粒以及它们各自的添加份数如表1中所示改变和热风温度如表1所示设定之外，各调色剂2-13以与调色剂1的生产例相同的方式获得。各所得调色剂的物理性质示于表1中。
<调色剂14的生产例>
上述配方中列出的原料使用亨舍尔混合机(FM-75型，由Mitsui MiningCo.,Ltd.制造)在20s-1的转数和5分钟的旋转时间下混合，然后将混合物通过设定在125℃温度下的双螺杆捏合机(PCM-30型，由Ikegai Corporation制造)捏合。冷却所得捏合的产物，并且通过锤磨机粗粉碎为1mm以下从而提供粗粉碎产物。所得粗粉碎产物通过机械粉碎机(T-250，由Turbo Kogyo Co.,Ltd.制造)细粉碎。另外，旋转型分级机(200TSP，由Hosokawa Micron Corporation制造)用于进行分级，以提供调色剂颗粒。旋转型分级机(200TSP，由HosokawaMicron Corporation制造)在50.0s-1的分级马达转数的条件下操作。所得调色剂颗粒具有重均粒径(D4)为5.7μm。
向其中添加2.5质量份二氧化硅细颗粒5，并且将所得物通过亨舍尔混合机(FM-75型，由Mitsui Mining Co.,Ltd.制造)在30s-1的转数和60分钟的旋转时间下混合从而提供调色剂14。所得调色剂的物理性质示于表1中。
<调色剂15和16以及比较用调色剂17-22的生产例>
除了蜡、聚合物、二氧化硅细颗粒以及它们各自的添加份数如表1中示出的改变之外，各调色剂15和16以及比较用调色剂17-22以与调色剂8的生产例相同的方式获得。各所得调色剂的物理性质示于表1中。
表1
[磁性载体的生产例]
<共聚物1的生产>
将25质量份的具有重均分子量为5,000、具有由下式(3)表示的结构并在一端具有烯键式不饱和基团(甲基丙烯酰基)的甲基丙烯酸甲酯大分子单体(平均值n＝50)和75质量份的具有环己基作为单元和具有为由下式(4)表示的结构的酯部分的甲基丙烯酸环己酯单体添加至具有回流冷凝器、温度计、氮气导入管和磨合方式(ground-in)搅拌设备的四颈烧瓶中。另外，向其中添加90质量份甲苯、110质量份甲基乙基酮和2.0质量份偶氮二异戊腈。所得混合物在氮气流、70℃下保持10小时。在聚合反应完成之后，反复洗涤从而提供接枝共聚物溶液(固成分：33质量％)。通过凝胶渗透色谱法(GPC)的溶液的重均分子量为56,000。另外，Tg为91℃。所得聚合物定义为共聚物1。
<载体核的生产>
步骤1(称量和混合步骤)：
称量铁素体原料以得到上述配方。其后，通过使用由氧化锆制成的球的干式球磨机粉碎和混合原料2小时。
步骤2(煅烧步骤)：
粉碎和混合之后，将所得物使用燃烧器型烧制炉在空气中在1,000℃下烧制3小时从而制备煅烧的铁素体。铁素体的组成如下。
(MnO)a(MgO)b(SrO)c(Fe2O3)d
其中a＝0.39，b＝0.11，c＝0.01和d＝0.50。
步骤3(粉碎步骤)：
将所得物通过破碎机粉碎至约0.5mm，其后将30质量份水添加至100质量份煅烧的铁素体中，并通过使用由氧化锆制成的球将所得物通过湿式球磨机粉碎2小时。浆料通过使用由氧化锆制成的珠的湿式珠磨机粉碎4小时从而提供铁素体浆料。
步骤4(造粒步骤)：
作为粘结剂，将相对于100质量份煅烧的铁素体2.0质量份的聚乙烯醇添加至铁素体浆料中，并且将所得物通过喷雾干燥器(制造商：OhkawaraKakohki Co.,Ltd.)造粒为具有约36μm直径的球形颗粒。
步骤5(主烧制步骤)：
为了控制烧制气氛，将所得物在氮气氛(氧浓度：1.00体积％以下)下的电炉中在1,150℃下烧制4小时。
步骤6(筛分步骤)：
在使聚集的颗粒破碎之后，粗颗粒通过用具有250μm筛目的筛子筛分除去，从而提供磁性核颗粒。
<磁性载体1的生产例>
共聚物1溶解在甲苯中以致固成分为10质量％。向其中以相对于100质量份覆盖树脂的固成分为5质量份的量添加炭黑(#25，由Mitsubishi ChemicalCorporation生产)，并且将所得物充分搅拌和分散。
然后，将万能混合搅拌机(由Fuji Paudal Co.,Ltd.制造)用作涂布设备，并且将涂布液分三份装入其中以致覆盖树脂的量(作为固成分)相对于100质量份载体核为1.5质量份。在该情况下，使混合搅拌机的内部减压，并且向其导入氮气以用氮气置换气氛。将所得混合物加热至65℃的温度，并且保持在减压(700MPa)、氮气氛下的同时搅拌，除去溶剂直至载体不流动。将所得物在搅拌和氮气导入下进一步加热至100℃的温度，并且保持1小时。冷却之后，获得磁性载体1。
[实施例1]
调色剂1和磁性载体1通过V-型混合机(V-10型：由Tokuju Corporation制造)在0.5s-1和5分钟的旋转时间下混合以致调色剂浓度为9质量％。由此，获得双组分型显影剂1。双组分型显影剂1用于进行下述评价。结果示于表3中。
(评价1)转印性的评价方法
作为图像形成设备，使用由Canon Inc.制造的imageRUNNER ADVANCEC5255改造的全色复印机。在于高温高湿环境(30℃/80％RH)和低温低湿环境(10℃/15％RH)下50,000张的耐久图像输出试验后，输出实心图像。实心图像形成期间在感光构件鼓上的转印残余调色剂通过用透明聚酯粘合带胶粘剥离。将用于剥离的粘合带贴在纸上，并且通过分光浓度计500系列(X-Rite,Inc.)测量其图像浓度。另外，仅将粘合带贴在纸上，并且还测量在该情况下的图像浓度。计算作为通过从前者图像浓度减去后者图像浓度获得的值的图像浓度差，并且基于下述评价标准来评价。
在对于50,000张的连续通纸时间期间，在与第一张纸的情况相同的显影条件和相同的转印条件(没有校准)下进行通纸。关于评价纸，将复印用普通纸CS-680(A4，基重：68g/m2，由Canon Marketing Japan Inc.售卖)用于50,000张的耐久图像输出，和对于输出试验后的实心图像，除了复印用普通纸CS-680之外，还使用复印纸多用途纸(Multi-Purpose Paper)：通称语音纸(VoicePaper)(A4，基重：75g/m2，由Canon USA,Inc.售卖)。
(转印性的评价标准)
A：非常好(图像浓度差小于0.05)
B：良好(图像浓度差为0.05以上且小于0.10)
C：一般(图像浓度差为0.10以上且小于0.15)
D：稍差(图像浓度差为0.15以上且小于0.20)
E：差(图像浓度差为0.20以上)
(评价2)清洁的评价方法
在高温高湿环境(30℃/80％RH)对于50,000张的耐久图像输出试验之后，对于1,000张进一步输出具有图像面积率为10％的图像。作为评价纸，使用复印用普通纸CS-680(A4，基重：68g/m2，由Canon Marketing Japan Inc.售卖)。在输出1,000张之后的图像中，观察由于残留而没有被清洁的调色剂引起的纵条纹图像的产生，并且基于下述评价标准来评价。
(清洁性的评价标准)
A：非常好(没有产生纵条纹图像。)
B：良好(产生2-3个轻微纵条纹图案。)
C：一般(产生一些轻微纵条纹图案。)
D：稍差(产生一些宽的纵条纹图案。)
E：差(产生大量的宽的纵条纹图案。)
[实施例2-16]
除了调色剂如表2中示出的改变之外，各双组分型显影剂以与实施例1中相同的方式获得。以与实施例1中相同的方式进行评价，并且结果示于表3中。
[比较例1-6]
除了调色剂如表2中示出的改变之外，各双组分型显影剂以与实施例1中相同的方式获得。以与实施例1中相同的方式进行评价，并且结果示于表3中。
表2
| 调色剂No. | 载体No. | 双组分显影剂No. | |
| 实施例1 | 调色剂1 | 载体1 | 双组分显影剂1 |
| 实施例2 | 调色剂2 | 载体1 | 双组分显影剂2 |
| 实施例3 | 调色剂3 | 载体1 | 双组分显影剂3 |
| 实施例4 | 调色剂4 | 载体1 | 双组分显影剂4 |
| 实施例5 | 调色剂5 | 载体1 | 双组分显影剂5 |
| 实施例6 | 调色剂6 | 载体1 | 双组分显影剂6 |
| 实施例7 | 调色剂7 | 载体1 | 双组分显影剂7 |
| 实施例8 | 调色剂8 | 载体1 | 双组分显影剂8 |
| 实施例9 | 调色剂9 | 载体1 | 双组分显影剂9 |
| 实施例10 | 调色剂10 | 载体1 | 双组分显影剂10 |
| 实施例11 | 调色剂11 | 载体1 | 双组分显影剂11 |
| 实施例12 | 调色剂12 | 载体1 | 双组分显影剂12 |
| 实施例13 | 调色剂13 | 载体1 | 双组分显影剂13 |
| 实施例14 | 调色剂14 | 载体1 | 双组分显影剂14 |
| 实施例15 | 调色剂15 | 载体1 | 双组分显影剂15 |
| 实施例16 | 调色剂16 | 载体1 | 双组分显影剂16 |
| 比较例1 | 调色剂17 | 载体1 | 双组分显影剂17 |
| 比较例2 | 调色剂18 | 载体1 | 双组分显影剂18 |
| 比较例3 | 调色剂19 | 载体1 | 双组分显影剂19 |
| 比较例4 | 调色剂20 | 载体1 | 双组分显影剂20 |
| 比较例5 | 调色剂21 | 载体1 | 双组分显影剂21 |
| 比较例6 | 调色剂22 | 载体1 | 双组分显影剂22 |
表3
与根据本发明的实施例相比，比较例没有实现充分的效果，并且该原因认为如下。
在比较例1中，使用具有一次颗粒的数均粒径为50nm的二氧化硅细颗粒。因此，认为由于与转印构件的剥离性不足，未获得本发明的效果。
在比较例2中，使用具有一次颗粒的数均粒径为350nm的二氧化硅细颗粒。因此，认为由于调色剂颗粒表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率低并且与转印构件的剥离性不足，未获得本发明的效果。
比较例3中，使用具有低的调色剂颗粒表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率的调色剂。因此，认为由于与转印构件的剥离性不足，未获得本发明的效果。
比较例4中，二氧化硅细颗粒的添加份数高并使用具有高的调色剂颗粒表面的二氧化硅细颗粒的覆盖率的调色剂。因此，认为由于调色剂之间的单轴崩坏应力低从而引起清洁不良并且二氧化硅细颗粒具有低固着率并且耐久之后其与中间转印材料的剥离性不足，未获得本发明的效果。
比较例5中，使用具有小的份数的蜡和具有低的二氧化硅细颗粒的固着率的调色剂。因此，认为由于调色剂之间的单轴崩坏应力低并且耐久之后与中间转印材料的剥离性不足，未获得本发明的效果。
比较例6中，使用具有大的份数的蜡和不包括聚合物的调色剂。因此，认为由于调色剂之间的单轴崩坏应力太高，未获得本发明的效果。
虽然已经描述了关于示例性实施方案的本发明，但是应理解本发明不限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围应与最广泛的解释相一致，以便涵盖所有此类修改以及同等的结构和功能。
Claims (11)
1.一种调色剂，其包括：
各自含有粘结剂树脂和蜡的调色剂颗粒；和
在所述调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒，其中：
所述二氧化硅细颗粒具有一次颗粒的数均粒径为60nm以上且300nm以下；
所述调色剂颗粒的表面的所述二氧化硅细颗粒的覆盖率为15％以上且95％以下；和
所述调色剂具有在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
2.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述调色剂具有所述二氧化硅细颗粒的固着率相对于所述二氧化硅细颗粒的总量为80质量％以上。
3.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述调色剂颗粒的表面的所述二氧化硅细颗粒的覆盖率为20％以上且95％以下。
4.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述调色剂颗粒包含具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物。
5.根据权利要求4所述的调色剂，其中所述聚合物包括下述中的一种：
具有乙烯基系树脂组分作为主链和具有聚烯烃作为侧链的接枝聚合物，和
具有聚烯烃作为主链和具有乙烯基系树脂组分作为侧链的接枝聚合物。
6.根据权利要求4所述的调色剂，其中以相对于100质量份所述粘结剂树脂为0.2质量份以上且20质量份以下的量包含所述具有乙烯基系树脂组分和烃化合物相互反应的结构的聚合物。
7.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述粘结剂树脂包括具有酸值为1mg KOH/g以上且20mg KOH/g以下的聚酯树脂。
8.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述蜡的含量为0.5质量份以上且20质量份以下，相对于100质量份所述粘结剂树脂。
9.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述二氧化硅细颗粒用硅烷偶联剂和硅油之一进行表面处理。
10.根据权利要求9所述的调色剂，其中所述二氧化硅细颗粒用六甲基二硅氮烷进行表面处理。
11.一种图像形成方法，其包括：
使感光构件的表面充电；
通过曝光在所述感光构件上形成静电潜像；
通过调色剂使所述静电潜像显影从而形成调色剂图像；
将所述调色剂图像一次转印至中间转印构件，然后将所述中间转印构件上的调色剂图像二次转印至转印材料；和
将在一次转印之后残留在所述中间转印构件上的转印残余调色剂通过清洁构件从所述中间转印构件除去，其中：
所述调色剂包括各自含有粘结剂树脂和蜡的调色剂颗粒以及在所述调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒；
所述二氧化硅细颗粒具有一次颗粒的数均粒径为60nm以上且300nm以下；
所述调色剂颗粒的表面的所述二氧化硅细颗粒的覆盖率为15％以上且95％以下；和
所述调色剂具有在最大压实应力为10.0kPa时的单轴崩坏应力为2.5kPa以上且3.5kPa以下。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013096481 | 2013-05-01 | ||
| JP2013-096481 | 2013-05-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104133351A true CN104133351A (zh) | 2014-11-05 |
| CN104133351B CN104133351B (zh) | 2018-05-11 |
Family
ID=50555094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410177767.1A Active CN104133351B (zh) | 2013-05-01 | 2014-04-29 | 调色剂和图像形成方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20140329176A1 (zh) |
| EP (1) | EP2799929B1 (zh) |
| JP (1) | JP6462999B2 (zh) |
| KR (1) | KR20140130634A (zh) |
| CN (1) | CN104133351B (zh) |
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| US9915885B2 (en) | 2015-05-13 | 2018-03-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Toner |
| JP6740014B2 (ja) | 2015-06-15 | 2020-08-12 | キヤノン株式会社 | トナー及びトナーの製造方法 |
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- 2014-04-24 US US14/261,140 patent/US20140329176A1/en not_active Abandoned
- 2014-04-29 EP EP14166298.1A patent/EP2799929B1/en active Active
- 2014-04-29 CN CN201410177767.1A patent/CN104133351B/zh active Active
- 2014-04-30 KR KR20140052262A patent/KR20140130634A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-05-01 JP JP2014094467A patent/JP6462999B2/ja active Active
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| JP6462999B2 (ja) | 2019-01-30 |
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| JP2020181035A (ja) | トナー |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |