CN103732390B

CN103732390B - 带保护膜的微细凹凸结构体及其制造方法

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Publication number: CN103732390B
Application number: CN201280039761.7A
Authority: CN
Inventors: 泷原毅; 守诚一朗; 冈本英子
Original assignee: Mitsubishi Rayon Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Kasei Corp
Priority date: 2011-08-16
Filing date: 2012-08-16
Publication date: 2015-07-01
Anticipated expiration: 2032-08-16
Also published as: KR101412270B1; EP2746040B1; JPWO2013024887A1; US9519082B2; WO2013024887A1; CN103732390A; US20140205805A1; TWI519423B; TW201309484A; EP2746040A4; EP2746040A1; JP5356612B2; KR20140032512A

Abstract

本发明提供一种将保护膜粘附于表面具有微细凹凸结构的微细凹凸结构体的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，微细凹凸结构体表面的水接触角为40°以下，保护膜的胶粘剂层在厚度方向上进行压缩至压缩率为20％时的压缩应力为0.6～3.0MPa。另外，在微细凹凸结构体的微细凹凸结构侧表面的红外线吸收光谱的3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值（A1/A2）为0.1～0.8，在保护膜的胶粘剂层表面的3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值（B1/B2）为0.6～1.3。

Description

带保护膜的微细凹凸结构体及其制造方法

技术领域

本发明涉及带保护膜的微细凹凸结构体及其制造方法。

本申请要求基于2011年8月16日在日本申请的特愿2011-177818号和2011年11月25日在日本申请的特愿2011-257915号的优先权，在这里引用其内容。

背景技术

已知表面具有微细凹凸呈规则配置的微细凹凸结构的微细凹凸结构体，通过使折射率连续变化，能表现出防反射性能。为了使微细凹凸结构体表现出良好的防反射性能，相邻凸部之间或凹部之间的间隔（周期）需要在可见光波长以下。这样的微细凹凸结构体通过莲花效应也能表现出超防水性能。

作为形成微细凹凸结构的方法，例如，提出了下述的方法等。

·使用表面形成有微细凹凸结构的模具而进行注塑成形或者加压成形的方法（方法1）。

·在模具和透明基材之间配置活性能量线固化性树脂组合物（以下记为树脂组合物），通过活性能量线的照射使树脂组合物固化，并在固化物上转印模具的微细凹凸结构后，自固化物剥离模具的方法（方法2）。

·在树脂组合物上转印模具的微细凹凸结构后，自树脂组合物剥离模具，并通过活性能量线的照射使树脂组合物固化的方法（方法3）。

在这些中，考虑到微细凹凸结构的转印性和表面组成的自由度，适宜采用通过活性能量线的照射使树脂组合物固化、进而转印模具的微细凹凸结构的方法（方法2、3）。该方法特别适用于采用能连续生产的带状或辊状模具的情况，是一种生产率优良的方法。

然而，微细凹凸结构体存在下述问题。

·与采用相同的树脂组合物制作的表面平滑的成形体相比，其耐擦伤性差。

·在连续生产转印有模具的微细凹凸结构的膜状微细凹凸结构体，并以辊状卷取该微细凹凸结构体时，若固化物的硬度不充分，则卷紧会使微细凹凸结构的形状（特别是凸部形状）发生变化。

·由于将转印有模具的微细凹凸结构的膜状微细凹凸结构体贴附于各种显示器等时的负荷，微细凹凸结构的形状（特别是凸部形状）会发生变化。

因此，为了维持（保护）微细凹凸结构的形状，可在使用微细凹凸结构体之前的期间，在微细凹凸结构侧的表面粘附保护膜。

然而，微细凹凸结构的周期为数nm～数百nm时，由于与通常的微细凹凸结构相比，凸部之间的间隔狭窄，微细凹凸结构体与保护膜的接触面积小。

另外，保护膜的胶粘剂层的胶粘剂成分难以深入微细凹凸结构的凹部。因此，保护膜与微细凹凸结构体紧贴不充分，在保管时或运输时，会使保护膜剥离。

作为紧贴性优良的保护膜，且该膜是表面具有微细凹凸结构的光学膜用保护膜，公开了下述保护膜。

（1）具有胶粘剂层且将该胶粘剂层贴附于棱镜片后，对于在特定条件下推压时的棱镜片的胶粘剂层的厚度，深入度为45％以下的保护膜（专利文献1）。

（2）具有表面粗糙度为0.030μm以下的胶粘剂层的保护膜（专利文献2）。

另一方面，在追求这样的保护膜紧贴性中，采用具有含胶粘力强于通常的胶粘剂等的胶粘剂层的保护膜（强胶粘保护膜）时，存在由胶粘剂产生微细凹凸结构体的表面污染问题。它被认为是以下情况的原因：随着时间的流逝，胶粘剂层的胶粘剂成分渗透至微细凹凸结构的凹部深处，或剥离保护膜时在微细凹凸结构体的表面残留胶粘剂成分（以下，将这些记为残胶）。微细凹凸结构体的表面污染会导致防反射性能的下降。具体来说，存在以下情况：反射率的波长依赖性发生变化，或整体反射率增加。

因此，作为易于粘附于微细凹凸结构体且胶粘剂成分难以渗透至微细凹凸结构的凹部深处的保护膜，公开了下述保护膜。

（3）为了使保护膜粘附于微细凹凸结构体的微细凹凸结构以外的部分，在基材膜表面层积胶粘剂层的保护膜（专利文献3）。

然而，（1）～（3）的保护膜并非充分满足紧贴性和抑制残胶。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2011-13496号公报

专利文献2：日本专利特开2011-88356号公报

专利文献3：日本专利特开2010-120348号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明是鉴于上述情况而产生的，其目的在于提供一种带保护膜的微细凹凸结构体及其制造方法，其中，该带保护膜的微细凹凸结构体是以下的一种带保护膜的微细凹凸结构体：

表面具有微细凹凸结构的微细凹凸结构体与保护膜紧贴性良好、不会不小心被剥离，并在剥离保护膜后，在微细凹凸结构上难以产生残胶。

解决问题的手段

本发明人经专心研究，发现以下结果：

通过谋求微细凹凸结构的表面与胶粘剂层之间的作用力以及剥离保护膜时的胶粘剂层自身拉力的平衡，能解决由胶粘剂成分引起的微细凹凸结构体的表面污染（残胶）。

在（2）的保护膜中，通过将胶粘剂层设计为低玻璃化转变温度，微细凹凸结构深入胶粘剂层，通过获得接触面积，表现出紧贴性。在传统的保护膜中，如何增加接触面积是重要的。

然而，即使不通过增加接触面积，增强接触部位中的胶粘剂层与微细凹凸结构的相互作用，也能保持充分的紧贴性。

胶粘剂层的强度（凝聚力）弱时，由于弱于自微细凹凸结构的表面剥离胶粘剂层时所必需的力，故具有产生断裂，引起胶粘剂层凝聚破坏的趋势。

因此，基于以下构思，从而完成本发明：

胶粘剂层若具有充分的强度，使其能承受自微细凹凸结构的表面剥离胶粘剂层时所必要的力时，则难以引起残胶。

也就是说，本发明具有以下形态。

（1）一种带保护膜的微细凹凸结构体，其是将保护该微细凹凸结构体表面的保护膜粘附于微细凹凸结构体而得到的带保护膜的微细凹凸结构体，所述微细凹凸结构体表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构；

所述微细凹凸结构体表面的水接触角为40°以下；

所述保护膜具有与所述微细凹凸结构侧表面相接的胶粘剂层，并且将所述胶粘剂层在厚度方向上压缩至压缩率为20％时的压缩应力为0.6～3.0MPa。

（2）一种带保护膜的微细凹凸结构体，其是将保护该微细凹凸结构体表面的保护膜粘附于微细凹凸结构体而得到的带保护膜的微细凹凸结构体，所述微细凹凸结构体表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构；

所述保护膜具有与所述微细凹凸结构侧表面相接的胶粘剂层，在所述微细凹凸结构表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值（A1/A2）为0.1～0.8；在所述胶粘剂层表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值（B1/B2）为0.6～1.3。

（3）如（1）记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，在所述胶粘剂层表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值（B1/B2）为0.6～1.3。

（4）如（1）记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，在所述微细凹凸结构表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值（A1/A2）为0.1～0.8。

（5）如（1）记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，10～60℃中的至少任意一种的温度下的所述储能模量E'，为1×10⁶～6×10⁶Pa的范围。

（6）如（2）或（5）记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，所述胶粘剂层具有储能模量E'为1.5×10⁶Pa以上范围的橡胶状平坦区。

（7）一种带保护膜的微细凹凸结构体的制造方法，其是制造所述（1）或（2）记载的带保护膜的微细凹凸结构体的方法；

所述方法中，通过加热所述胶粘剂层，使所述保护膜粘附于所述微细凹凸结构体的表面。

（8）如（7）记载的带保护膜的微细凹凸结构体的制造方法，其中，在所述胶粘剂层的储能模量E'为6×10⁶Pa以下的状态下，使所述保护膜粘附于所述微细凹凸结构体的表面。

发明效果

本发明的带保护膜的微细凹凸结构体中，表面具有微细凹凸结构的微细凹凸结构体与保护膜紧贴性良好、不会不小心被剥离，并在剥离保护膜后，在微细凹凸结构上难以产生残胶。

根据本发明的带保护膜的微细凹凸结构体的制造方法，能制造以下的一种带保护膜的微细凹凸结构体：

附图说明

图1是显示带保护膜的微细凹凸结构体的一例截面图。

图2是显示微细凹凸结构体的一例截面图。

图3是显示微细凹凸结构体的其他例截面图。

图4是说明求出酯键的C=O伸缩振动的峰面积时基线的引入方法的红外线吸收光谱。

图5是说明求出OH伸缩振动的峰面积时基线的引入方法的红外线吸收光谱。

图6是显示表面具有阳极氧化的氧化铝的模具的制造工序的截面图。

图7是实施例2-5、2-6中的胶粘剂层的储能模量E'图。

符号说明

1 带保护膜的微细凹凸结构体

10 微细凹凸结构体

11 基材

12 固化物

13 凸部

13a 顶部

13b 顶部

14 凹部

14a 底部

15 中间层

20 保护膜

21 胶粘剂层

22 膜基材

30 铝板

31 细孔

32 氧化膜

33 凹槽

34 氧化膜

35 细孔

40 模具

具体实施方式

本说明书中的“（甲基）丙烯酸酯”意味着丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，“（甲基）丙烯酰基”意味着丙烯酰基或甲基丙烯酰基。

另外，本说明书中的“活性能量线”是指可见光、紫外线、电子束、等离子、热线（红外线等）等。

此外，本说明书中的“可见光波长”的含义是380～780nm的波长。

图1、图2、图3、图6中，为了将各层制作成在图面上能识别程度的大小，在每层中采用了不同的比例尺。

另外，图2和图3中，对于与图1相同的构成要素，采用相同的符号，并省略其说明。

<带保护膜的微细凹凸结构体>

“第一实施方式”

关于本发明的第一实施方式中的带保护膜的微细凹凸结构体，例如，如图1所示，具有微细凹凸结构体10和保护膜20。

带保护膜的微细凹凸结构体1是使微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧的表面与保护膜20的胶粘剂层21相接那样，将保护膜20粘附于微细凹凸结构体10。

在微细凹凸结构体10为膜状或片状时的带保护膜的微细凹凸结构体1，可为规定大小的层积膜形状或卷轴状。

（微细凹凸结构体）

如图2所示，本实施方式的微细凹凸结构体10具有基材11和在基材11表面上形成的表面具有微细凹凸结构的固化物12。

另外，存在将形成微细凹凸结构侧（微细凹凸结构侧）的表面称为“微细凹凸结构体表面”的情况。此外，还存在将微细凹凸结构体为膜状或片状时的与微细凹凸结构侧相对侧的表面称为“微细凹凸结构体背面”的情况。

基材：

作为本实施方式的基材11，只要是能支撑表面具有微细凹凸结构的固化物12的基材即可，但将微细凹凸结构体10适用于显示器构件等时，优选为透明基材，即透光的基材。

作为透明基材的材料，可举出合成高分子（甲基丙烯酸甲酯（共）聚合物、聚碳酸酯、苯乙烯（共）聚合物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物等）、半合成高分子（纤维素二乙酸酯、纤维素三乙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯等）、聚酯（聚对苯二甲酸乙二酯、聚乳酸等）、聚酰胺、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯基缩醛、聚醚酮、聚氨酯、它们的复合物（聚甲基丙烯酸甲酯与聚乳酸的复合物、聚甲基丙烯酸甲酯与聚氯乙烯的复合物等）、玻璃等。

基材11的形状，可根据微细凹凸结构体10的用途进行适当选择，但在微细凹凸结构体10为防反射膜等时，优选为片状或膜状。

作为基材11的制造方法，可举出注塑成形法、挤压成形法、铸造成形法等。

作为改良紧贴性、防静电性、耐擦伤性、耐候性等特性的目的，可对基材11的表面实施涂布或电晕处理。

固化物：

本实施方式的固化物12是由活性能量线固化性树脂组合物（以下记为树脂组合物）的固化物构成，且该固化物12表面具有微细凹凸结构。

微细凹凸结构是由等间隔排列的圆锥状凸部13与凹部14形成。

微细凹凸结构的周期，即从凸部13的顶部13a至与其相邻的凸部13的顶部13a的距离W₁为可见光波长以下。

微细凹凸结构的周期为可见光波长以下，即380nm以下时，能抑制可见光的散射，可适用于防反射膜等光学用途中。

微细凹凸结构的周期，从易于形成凸部13的观点来看，优选为25nm以上。

微细凹凸结构的周期，是通过场致发射形扫描电子显微镜，测量10个点的相邻凸部13之间的距离W₁，将这些值加以平均而得到的值。

凸部13的高度（或凹部14的深度），即从凸部13的顶部13a至凹部14的底部14a的垂直距离d₁，优选为能抑制反射率由波长不同而变动的深度。具体来说，优选60nm以上，更优选90nm以上，进一步优选150nm以上，特别优选180nm以上。凸部13的高度在150nm附近时，能将人类易识别的550nm的波长区域光的反射率降到最低。特别是，凸部13的高度为150nm以上时，凸部13的高度越高，可见光区域中的最高反射率与最低反射率的差就越小。因此，凸部13的高度为150nm以上时，反射光的波长依赖性变小，变得不能识别肉眼观察到的色味差异。

凸部13的高度，从凸部13的耐擦伤性变良好的观点来看，优选为400nm以下。

凸部13的高度，是通过场致发射形扫描电子显微镜，测量10个凸部13的高度（垂直距离d1），将这些值加以平均而得到的值。

凸部13的形状，为垂直面的截面积从顶部13a侧至基材11侧呈连续增大的形状时，能使折射率连续增加并通过抑制由波长引起的反射率变化（波长依赖性）和抑制可见光的散射而变为低反射率，故而优选。

固化物的水接触角：

然而，如上所述，微细凹凸结构的周期为数nm～数百nm时，由于凸部13之间的间隔狭窄，微细凹凸结构体10与保护膜20的接触面积小，保护膜20难以充分紧贴于微细凹凸结构体10。

因此，本发明人经专心研究，其结果发现，由于微细凹凸结构的周期而引起的紧贴性下降，能通过固化物12的物性而进行改善。由树脂组合物形成固化物12时，根据其表面的自由能不同而紧贴性发生变化。例如，已知进行氟涂布处理时，污渍变得难以附着；硅酮处理时，表面摩擦会降低。因此，使用低极性材料时，具有表面自由能变低、紧贴性下降的趋势。相反地，使用高极性材料时，具有表面自由能变高、紧贴性增加的趋势。

作为表面自由能的指标，本发明人着眼于水接触角。

水接触角是指在宏观上当作平面的表面上滴落水滴时，在平面、水滴和空气这3相交叉点中的水滴切线的角度。一般水接触角为90°以下时，成为亲水表面，水接触角大于90°时，成为防水表面。水接触角越小，表示其表面的表面自由能越高。

如上所述，对于表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构，微细凹凸结构的构成材料（树脂组合物）为亲水性，其表面的水接触角变小，成为亲水表面。相反地，微细凹凸结构的构成材料为疏水性时，其表面的水接触角变大，成为疏水表面。

本实施方式中，微细凹凸结构体10表面的水接触角为40°以下，优选为5～30°，更优选为10～20°。水接触角为40°以下时，表面自由能变大，保护膜20良好紧贴于微细凹凸结构体10。

为了使微细凹凸结构体10表面的水接触角为40°以下，可简单地使固化物12的材料（树脂组合物）中含有亲水性的聚合性成分。例如，通过使用具有聚乙二醇结构的聚合性成分等，能使微细凹凸结构体10表面的水接触角变为40°以下。作为具有聚乙二醇结构的聚合性成分，例如，可举出聚乙二醇二丙烯酸酯和聚乙二醇单丙烯酸酯等。

微细凹凸结构体的指纹去除性：

将微细凹凸结构体10作为防反射膜等使用时，通常可将其贴附于显示器等对象物的表面而进行使用。因此，由于与人手接触的机会多，微细凹凸结构体10优选具有使用时能去除指纹污渍的指纹去除性。具体来说，优选如国际公开第2008/096872号公报中所示的通过水擦拭能去除指纹污渍的微细凹凸结构体。

对于通过水擦拭是否能去除指纹污渍的判断，例如，可通过下述所示的方法进行。

通过喷漆等将微细凹凸结构体10的与微细凹凸结构侧相对侧的表面涂黑，在微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧的表面附着一个食指指纹后，通过在5分钟以内，将其在灌有自来水的水槽中浸渍3秒，使自来水充分渗入。接着，使用拧干至无水滴滴落程度的清洁布，并施以每1cm见方10g的负荷，擦拭指纹附着的微细凹凸结构体10表面一次后，肉眼评价该表面的外观。评价是在室温23℃、相对湿度65％的环境下，并在荧光灯（1000勒克司）下多方向倾斜进行。肉眼未观察到污渍的微细凹凸结构体10，视为能通过水擦拭去除指纹污渍。

微细凹凸结构体10表面的水接触角为40°以下时，如上所述，保护膜20良好紧贴于微细凹凸结构体10，并且由于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧的表面变为亲水性，通过水润湿扩散于微细凹凸结构体10表面附着的污渍与微细凹凸结构体10表面之间而使污渍漂浮，进而能去除污渍。因此，通过水擦拭容易去除指纹污渍。

固化物的红外线吸收光谱：

微细凹凸结构体10的微细凹凸结构表面，即固化物12表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值（A1/A2）优选为0.1～0.8，更优选为0.2～0.7，进一步优选为0.3～0.6。

A1/A2为0.1以上时，保护膜20能更良好地紧贴于微细凹凸结构体10。A1/A2为0.8以下时，能避免微细凹凸结构体10吸水进而因表面张力引起凸部13相互之间粘连的现象。

另外，A1/A2为0.1～0.8时，如上所述，保护膜20能更良好地紧贴于微细凹凸结构体10，并且由于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧的表面变为亲水性，通过水润湿扩散于微细凹凸结构体10表面附着的污渍与微细凹凸结构体10表面之间而使污渍漂浮，进而能去除污渍。因此，通过水擦拭容易去除指纹污渍。

另外，关于A1/A2与胶粘剂层21对微细凹凸结构体10的紧贴性的关系以及红外线吸收光谱的测量方法等，在后述的第二实施方式中进行详细说明。

微细凹凸结构体的用途：

本实施方式的微细凹凸结构体10，由于表面具有周期在可见光波长以下的微细凹凸结构，因此，适用于光学用途，特别是作为防反射膜、立体形状的防反射体等防反射物品。

微细凹凸构造体的其他形式：

本实施方式的微细凹凸结构体10并不局限于如图2所示的微细凹凸构造体10。

例如，具有微细凹凸结构的固化物12可形成于基材11的一面或两面。

另外，微细凹凸结构可形成于整个固化物12的表面或一部分表面。

另外，凸部13的形状并不局限于如图2所示的圆锥状或角锥状，还可为如图3所示的凸部13的顶部13b为曲面的吊钟状。另外，垂直面的截面积还能采用从顶部侧至基材侧连续增大的形状。此外，为了有效体现微细凹凸结构体10的防水性能，优选细的凸部13的顶部，优选微细凹凸结构体10与水滴的接触面中的固化物12的占有面积尽量少。

中间层：

另外，如图3所示，为了提高耐擦伤性、紧贴性等各种物性，可在基材11与固化物12之间设置中间层15。

作为中间层15的材料，可举出丙烯酸系树脂、聚酯、聚氨酯、丙烯酸接枝聚酯、聚乙烯亚胺、聚碳酸酯、聚丁二烯、苯乙烯系树脂等。

（保护膜）

本实施方式的保护膜20为保护微细凹凸结构体10表面的膜，如图1所示，其被贴附于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧表面。

保护膜20具有膜基材22和在膜基材22表面形成的胶粘剂层21。

胶粘剂层：

本实施方式的胶粘剂层21与微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧表面相接。

胶粘剂层21的厚度，优选为3～200μm，更优选为3～100μm，进一步优选为3～50μm。

胶粘剂层的压缩应力：

如上所述，使保护膜20粘附于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧表面时，胶粘剂层21中的胶粘剂成分渗入至微细凹凸结构的凹部14的深处，剥离保护膜20时，胶粘剂层21的一部分或胶粘剂成分残留于微细凹凸结构体10表面。为了抑制残胶，可使胶粘剂成分中的低分子量成分含量较少即可，但仅仅如此的话，不一定充分。

将保护膜20粘附于具有亚微米级的微细凹凸结构的微细凹凸结构体10的表面时，在胶粘剂层21的强度过强（过硬）时，不能确保与微细凹凸结构体10表面的接触面积，另外，由于胶粘剂层21中的胶粘剂成分难以深入凹部14，存在保护膜20对微细凹凸结构体10的紧贴性变差的问题。另一方面，胶粘剂层21的强度过弱（过软）时，存在胶粘剂层21的胶粘剂成分过于深度深入微细凹凸结构的凹部14、保护膜20变得难以从微细凹凸结构体10剥离的问题。另外，剥离保护膜20时，也存在因胶粘剂层21的凝集破坏而产生残胶、污染微细凹凸结构体10表面的问题。

为了提高保护膜20的紧贴性，可采用玻璃化转变温度低的聚合物等作为胶粘剂成分。然而，采用玻璃化转变温度低的聚合物时，具有形成的胶粘剂层21变软的趋势，剥离保护膜20时，易于引起凝集破坏。

因此，将保护膜20容易紧贴于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧表面（紧贴性）和在微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧表面残胶难以产生（低污染性）兼容是困难的。

因此，本发明人经专心研究，得到以下结果：为了使紧贴性优良的同时，并解决残胶问题，查明了胶粘剂层21的凝集力仅需要充分超过微细凹凸结构体10的表面与胶粘剂层21的紧贴力。相关理由如下所述。

例如，微细凹凸结构体10为片状或膜状时，保护膜20粘附于微细凹凸结构体10的带保护膜的微细凹凸结构体1，通常以辊状卷取、搬运和保管。因此，在将微细凹凸结构体10表面按压于保护膜20的胶粘剂层21的状态下，即在受到压缩应力的状态下，长时间保持。此时，压缩强度弱的胶粘剂层21中，由于随着时间的流逝，胶粘剂层21的胶粘剂成分深度深入微细凹凸结构的凹部14中，因此，紧贴力强，其结果是，剥离保护膜20时需要大的力（剥离力）。剥离力超过胶粘剂层21的凝集力时，产生残胶。另外，在初期，即使不产生残胶，由于长期保管，会产生残胶，因此，不实用。根据这样的理由，胶粘剂层21需要仅超过充分紧贴力的凝集力。

进一步地，本发明人发现：通过着眼于作为胶粘剂层21的凝集力指标的压缩应力，将胶粘剂层21的压缩应力设定在特定的范围内，就不会产生残胶，而且也能确保与微细凹凸结构体10的紧贴性，即能使紧贴性和低污染性兼容。

在本实施方式中，将耗费应力前的胶粘剂层21在厚度方向上压缩至压缩率20%时的压缩应力为0.6～3.0MPa，优选为0.6～2.8MPa，更优选为1.0～2.8MPa，进一步优选为1.55～2.8MPa。

压缩应力为0.6MPa以上时，微细凹凸结构过于深入胶粘剂层21，接触面积增大，从而增加剥离力，能防止剥离力超过胶粘剂层21的凝集力。因此，剥离时，胶粘剂层21难以产生凝聚破坏，能抑制向微细凹凸结构体10表面的胶残留。另一方面，压缩应力为3.0MPa以下时，能贴附于微细凹凸结构体10。另外，由于微细凹凸结构适度深入胶粘剂层21而适当增加接触面积，因此，容易表现出微细凹凸结构体10与保护膜20的紧贴性。

另外，压缩应力也反映了胶粘剂层21的凝集力，虽然是衡量微细凹凸结构的深入程度，但也作为胶粘剂层21的凝集破坏的应力指标。

胶粘剂层21的压缩应力是按照以下方式测量的值。

首先，在两片玻璃板之间流入构成胶粘剂层21的胶粘剂成分（胶粘剂组合物），并在夹持厚约2mm的垫片的状态下，通过光固化形成板状，将该板打穿成1cm正方形的芯片状，作为压缩试验用试验片。

采用一般的拉伸压缩试验机，在试验片的厚度方向上施加压缩应力，测量此时的应变，做成压缩应力-应变曲线。测量最好是在室温23℃、相对湿度65％的环境下进行。

压缩试验中，应变变大时，应力急剧增加。由于容易出现试验片的很多偏移等的影响，本发明中，根据将施加应力前的试验片的厚度压缩至20%时的压缩应力，评价胶粘剂层21的合适物性。

另外，压缩至压缩率20％是指，例如，施加应力前的试验片的厚度为5mm时，压缩其20％即1mm整，如此状态。

胶粘剂层21的压缩应力在上述范围内时，可使胶粘剂层21适度交联。

对于胶粘剂组合物中含有的各种成分，会进行详细后述，例如，通过光固化形成胶粘剂层21时，优选在胶粘剂组合物中混合含2～15摩尔％的二丙烯酸酯这样的交联性单体或多官能团单体的聚合性成分，其中，二丙烯酸酯这样的交联性单体或多官能团单体的具体例子为聚亚烷基二醇二（甲基）丙烯酸酯【聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯等】、烷基二（甲基）丙烯酸酯【1,6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、1,9-壬二醇二（甲基）丙烯酸酯等】、双官能单体【乙氧基化双酚A二（甲基）丙烯酸酯、环氧二丙烯酸酯、聚氨酯二丙烯酸酯等】、甘油三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯和这些的乙氧基改性物等多官能单体。更优选为3～10摩尔％，进一步优选为5～8摩尔％。

另外，通过在侧链具有羟基的聚合物中加入二异氰酸酯等化合物而使其后交联形成胶粘剂层21时，优选添加构成聚合物的单体成分变为4摩尔％以上这样的交联剂，但也可控制聚合物中的能交联的官能团数，还可对添加的交联剂量进行调整。

另外，如上所述，为了抑制残胶，提高胶粘剂层21的凝集力是重要的。为了提高凝集力，可在胶粘剂组合物中适当混合具有易于形成氢键结构的化合物。作为易于形成氢键的结构，可举出氨酯键，可通过异氰酸酯化合物进行后交联的方法或采用聚氨酯丙烯酸酯并使其光固化、从而在聚合的同时进行交联的方法，来形成胶粘剂层21。

胶粘剂层的红外线吸收光谱：

在胶粘剂层21表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值（B1/B2）优选为0.6～1.3，更优选为0.6～1.1，进一步优选为0.7～1.0。

B1/B2为0.6以上时，保护膜20能更良好地紧贴于微细凹凸结构体10。B1/B2为1.3以下时，保护膜20与微细凹凸结构体10不能极端紧贴，使残胶变得难以产生。

另外，B1/B2也反映胶粘剂层21的凝集力，虽然是衡量与微细凹凸结构体10的紧贴性，但也作为胶粘剂层21的凝集力指标。B1/B2为0.6以上时，胶粘剂层21自身的凝集力也变得充分，使残胶变得难以产生。

另外，关于B1/B2与胶粘剂层21对微细凹凸结构体10的紧贴性的关系等，在后述的第二实施方式中进行详细说明。

胶粘剂层的储能模量E'：

本实施方式的胶粘剂层21，其在粘弹性测量中的储能模量E'优选在10～60℃中的至少任意一种的温度下，为1×10⁶～6×10⁶Pa的范围。在10～60℃中的至少任意一种的温度下，储能模量E'为1×10⁶Pa以上时，变为难以产生残胶的胶粘剂层21，储能模量E'为6×10⁶Pa以下时，由于压着，保护膜20能容易粘附于微细凹凸结构体10。

胶粘剂层21的储能模量E'更优选在10～40℃中的至少任意一种的温度下，为1×10⁶～6×10⁶Pa的范围。

在这里，“在10～60℃中的至少任意一种的温度下，为1×10⁶～6×10⁶Pa的范围”是指在储能模量E'的测量中，升温过程中的10～60℃之间的任意一点中，储能模量E'显示为1×10⁶～6×10⁶Pa的值。例如，达到59℃时，即使储能模量E'显示为大于6×10⁶Pa的值，但在60℃时变为6×10⁶Pa的话即可，即在10～60℃的整个温度区域中，不一定需要一直在1×10⁶～6×10⁶Pa的范围。

储能模量E'可通过公知的粘弹性测量装置进行测量。

例如，将胶粘剂组合物成形为厚500μm的膜，将该膜打穿成宽5mm的长条状作为试验片，通过采用粘弹性测量装置，在拉伸模式、卡盘间2cm、1Hz下以2℃/分钟升温至-50～100℃的条件下进行测量，能求出储能模量E'。

另外，本实施方式的胶粘剂层21，其在橡胶状平坦区的储能模量E'优选为1.5×10⁶Pa以上的范围，更优选为2×10⁶Pa以上的范围，进一步优选为2×10⁶～6×10⁶Pa的范围。橡胶状平坦区的储能模量E'为1.5×10⁶Pa以上时，变为残胶难以产生的胶粘剂层21。特别是，橡胶状平坦区的储能模量E'为2×10⁶Pa以上时，在高温高湿下等残酷的环境中，即使长期保管带保护膜的微细凹凸结构体1时，也为残胶难以产生的胶粘剂层21。橡胶状平坦区的储能模量E'为6×10⁶Pa以下时，由于压着，保护膜20能容易粘附于微细凹凸结构体10。

橡胶状平坦区，如后述实施例2-5、2-6中的胶粘剂层的储能模量E'图（图7）所示，在玻璃化转变温度以上的温度区域中，储能模量E'不依赖于温度，在基本为定值的范围。作为一个基准，某温度下的储能模量E'与达到高于该温度20℃的温度区域下的储能模量E'的变化率为±10％的范围内时，可认为是平坦。

通常，胶粘剂组合物不交联时，在玻璃化转变温度以上的温度区域中，储能模量E'持续降低。橡胶状平坦区是在胶粘剂组合物交联时所看到的现象。因此，橡胶状平坦区的储能模量E'反映胶粘剂组合物的交联状态。

另外，进行拉伸模式下的储能模量E'时，若胶粘剂组合物中含有的聚合物成分不能充分交联，则当超过玻璃化转变温度时，聚合物成分滑出，不能进行储能模量E'的测量。在拉伸模式下，不能测量10～60℃的储能模量E'可认为是指表现出交联度低的现象，橡胶状平坦区的储能模量E'不在1.5×10⁶Pa以上的含义。

胶粘剂组合物：

本实施方式的胶粘剂层21是由胶粘剂组合物形成。胶粘剂组合物至少含有胶粘剂。

作为胶粘剂，只要能形成至少满足上述压缩应力条件的胶粘剂层21并具有所期望的胶粘性的物质即可，可举出聚氨酯系胶粘剂、橡胶系胶粘剂、硅酮系胶粘剂、丙烯酸系胶粘剂等。其中，透明性和耐久性优良、优选作为光学膜用途、从耐热性高并且低成本的观点来看，优选丙烯酸系胶粘剂。

作为丙烯酸系胶粘剂，可举出丙烯酸酯与其它单体进行共聚合而得到的丙烯酸系共聚物。

作为丙烯酸酯，可举出丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸丙二醇酯、聚丙二醇单丙烯酸酯、丙烯酰胺、丙烯酸缩水甘油酯、环己烷二甲醇单丙烯酸酯等。丙烯酸酯可单独使用一种或将两种以上并用。

作为其它单体，可举出丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、丙烯腈、醋酸乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸叔丁基氨基乙酯、甲基丙烯酸正乙基己酯等。其中，优选为甲基丙烯酸正乙基己酯。其它单体可单独使用一种或将两种以上并用。

另外，侧链所占的体积高（嵩高い）的单体，具有使共聚物的玻璃化转变温度降低、变得易于体现出胶粘力的趋势。作为这样的单体，已知有聚氧化烯单丙烯酸酯、长链烷基丙烯酸酯等。通过将这些单体作为其它单体进行适量使用，胶粘剂层21能达到合适的物性。然而，大量使用时，存在聚合、固化不充分以及作为未反应的单体残留于胶粘剂层21中的情况。未反应的单体可能作为低分子量成分渗出，成为导致胶残留的原因。因此，侧链分量高的单体含量，在丙烯酸酯与其它单体的总计100质量％中，优选为小于40质量％，更优选为小于30质量％。

丙烯酸系共聚物中含有的丙烯酸酯与其它单体的单元比（丙烯酸酯/其它单体），只要能发挥丙烯酸系共聚物所期望的胶粘力即可，并能根据保护膜20的用途等进行适当设定。

另外，丙烯酸系共聚物的重均分子量（Mw），只要能发挥丙烯酸系共聚物所期望的胶粘力即可，并没有特别限定。

胶粘剂组合物还可含有交联剂。

作为交联剂，可举出环氧系交联剂、异氰酸酯系交联剂等。

作为环氧系交联剂，可举出多官能团环氧系化合物。

作为多官能团环氧系化合物，可举出山梨糖醇聚缩水甘油醚、聚甘油聚缩水甘油醚、季戊四醇聚缩水甘油基醚、双甘油聚缩水甘油基醚、甘油聚缩水甘油醚、三羟甲基丙烷聚缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、聚丁二烯二缩水甘油醚等。

作为异氰酸酯系交联剂，可举出多异氰酸酯化合物、多异氰酸酯化合物的三聚体、使多异氰酸酯化合物与多元醇化合物反应而得到的末端具有异氰酸酯基的聚氨酯预聚物以及这样的聚氨酯预聚物的三聚体等。

作为多异氰酸酯化合物，可举出2,4-甲苯二异氰酸酯、2,5-甲苯二异氰酸酯、1,3-苯二亚甲基二异氰酸酯、1,4-苯二亚甲基二异氰酸酯、二苯基甲烷-4,4'-二异氰酸酯、3-甲基二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二环己基甲烷-4,4'-二异氰酸酯、二环己基甲烷-2,4'-二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯等。

另外，还能采用一分子中具有2个以上聚合性部位的聚氨酯丙烯酸酯。为了易于反映进料的组成比，优选采用多官能团单体进行交联度的调整。

作为聚氨酯丙烯酸酯，可采用市售产品或采用使含丙烯酰基的化合物与异氰酸酯化合物以合适比率进行反应而得到的物质。作为市售产品，可举出ダイセル·サイテック公司制造的“Ebecryl（注册商标）”系列、东亚合成公司制造的アロニックス（注册商标）M1200、日本合成化学公司制造的紫光系列等。

交联剂的含量根据交联剂的种类不同而不同，相对于胶粘剂100质量份，优选为1～40质量份，更优选为5～30质量份。交联剂的含量为1质量份以上时，通过胶粘剂交联，凝集力增加，残胶变得难以产生。交联剂的含量为40质量份以下时，交联密度不会过于变高，通过压着，保护膜20能容易粘附于微细凹凸结构体10。

胶粘剂组合物还可进一步含有金属螯合剂。

金属螯合剂是具有金属元素和盐形成部位的物质，在与胶粘剂同时使用时，通过金属元素与胶粘剂具有的羧基等形成螯合键，从而能进行交联。

作为金属螯合剂，可举出铝螯合物（异丙醇铝、丁酸铝、乙醇铝、乙酰乙酸乙酯铝、乙酰丙酮铝、乙酰丙酮双乙基乙酰乙酸铝、烷基乙酰乙酸铝等）、钛螯合物【二丙氧基-双（乙酰丙酮）钛、二丁氧基钛-双（辛烯甘醇酸酯）、二丙氧基钛-双（乙酰乙酸乙酯）、二丙氧基钛-双（乳酸）、二丙氧基钛-双（三乙醇胺）、二正丁氧基钛-双（三乙醇胺）、三正丁氧基钛单硬脂酸酯、钛酸丁酯二聚体、聚（乙酰丙酮钛）等】、锆螯合物（四乙酰丙酮锆、单乙酰丙酮锆、双乙酰丙酮锆、乙酰丙酮双乙酰乙酸乙酯锆、乙酸锆等）、有机羧酸金属盐化合物（辛酸锌、月桂酸锌、硬脂酸锌、辛酸锡等）、锌螯合物（乙酰丙酮锌螯合物、苯甲酰丙酮锌螯合物、二苯甲酰甲烷锌螯合物、乙酰乙酸乙酯锌螯合物等）等。其中，从能容易调整交联胶粘剂的交联速度的观点来看，优选为铝螯合物（异丙醇铝、丁酸铝、乙醇铝、乙酰乙酸乙酯铝、乙酰丙酮铝、乙酰丙酮双乙基乙酰乙酸铝、烷基乙酰乙酸铝等）。

金属螯合剂的含量根据金属螯合剂的种类不同而不同，相对于胶粘剂100质量份，优选为0.06～0.50质量份。金属螯合剂的含量小于0.06质量份时，形成胶粘剂层21时的交联速度慢，生产性可能下降。金属螯合剂的含量超过0.50质量份时，虽然效果能达到顶点，但成本增加。

胶粘剂组合物还可进一步含有其它添加剂。

胶粘剂为使如构成丙烯酸系胶粘剂的丙烯酸酯和其它单体那样、通过光照射进行固化的感光性单体成分聚合而形成的感光性胶粘剂，在膜基材22上涂布含感光性胶粘剂的胶粘剂组合物后，通过紫外线或可见光照射进行聚合、固化，形成胶粘剂层21时，可使其含有活性能量线聚合引发剂作为其它添加剂。

活性能量线聚合引发剂，是通过活性能量线的照射而开裂，产生使聚合反应开始的自由基的化合物。作为活性能量线，从装置成本或生产性的观点来看，优选为紫外线。

作为活性能量线聚合引发剂，可举出举二苯甲酮、4,4-二（二乙基氨基）二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、叔丁基蒽醌、2-乙基蒽醌；2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮等噻吨酮类；二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、苄基二甲基缩酮、1-羟基环己基-苯基酮、2-甲基-2-吗啉代（4-硫甲基苯基）-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-（4-吗啉基苯基）-丁酮等苯乙酮类；苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚等苯偶姻醚类；2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、二（2,6-二甲氧基苯甲酰）-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、二（2,4,6-三甲基苯甲酰）-苯基氧化膦等酰基氧化膦类；甲基苯甲酰甲酸酯、1,7-二吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等。活性能量线聚合引发剂可单独使用一种或将两种以上并用。特别是，优选并用两种以上的吸收波长不同的化合物。

另外，根据需要，也可并用过氧化物（过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐、过氧化苯甲酰等）、偶氮系引发剂等热聚合引发剂。

活性能量线聚合引发剂的含量，相对于胶粘剂组合物中含有的全部单体的含量的总计100质量份，优选为0.01～10质量份，更优选为0.1～5质量份，进一步优选为0.2～3质量份。活性能量线聚合引发剂的含量为0.01质量份以上时，胶粘剂组合物的固化性优良，固化物（胶粘剂层21）的机械特性、特别是耐擦伤性变良好。活性能量线聚合引发剂的含量为10质量份以下时，能抑制因固化物内残留的聚合引发剂引起的弹性模量和耐擦伤性下降或着色。

另外，胶粘剂组合物也可含有作为其它添加剂的活性能量线吸收剂、抗氧化剂等。

活性能量线吸收剂优选能吸收在胶粘剂组合物固化时所照射的活性能量线、进而抑制树脂劣化的物质。作为活性能量线吸收剂，可举出二苯甲酮系紫外线吸收剂、苯并三唑系紫外线吸收剂、苯甲酸酯系紫外线吸收剂等。作为市售产品，可举出チバ·スペシャリティ·ケミカルズ公司制造的チヌビン系列的400或479、共同药品公司制造的Viosorb系列的110。

作为抗氧化剂，可举出苯酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、受阻胺系抗氧化剂。作为市售产品，可举出チバ·スペシャリティ·ケミカルズ公司制造的IRGANOX系列。

活性能量线吸收剂、抗氧化剂，可单独使用一种或将两种以上并用。

活性能量线吸收剂和/或抗氧化剂的含量，相对于胶粘剂组合物中含有的全部单体的含量的总计100质量份，优选为0.01～5质量份，更优选为0.01～1质量份，进一步优选为0.01～0.5质量份。活性能量线吸收剂和/或抗氧化剂的含量为0.01质量份以上时，能抑制固化物的黄色化或雾度上升，提高耐候性。活性能量线吸收剂和/或抗氧化剂的含量为5质量份以下时，能使胶粘剂组合物的固化性、固化物的耐擦伤性和固化物对膜基材22的紧贴性变良好。

进一步说，根据需要，胶粘剂组合物还可含有脱模剂、润滑剂、增塑剂、抗静电剂、光稳定剂、阻燃剂、阻燃助剂、阻聚剂、填充剂、硅烷偶联剂、着色剂、强化剂、无机填料、耐冲击性改性剂等其它添加剂。

另外，胶粘剂组合物还可含有溶剂，但优选不含溶剂。当不含有溶剂时，例如，将胶粘剂组合物涂布于膜基材22上，经活性能量线照射进行聚合，并使其固化，形成胶粘剂层21的过程中，无需担心溶剂残留于固化物中。另外，考虑制造工序时，不需要用于去除溶剂的设备投资，在成本方面，也是优选的。

本发明中，由于优选比较少的胶粘剂层21中的低分子量成分的含量，在交联剂、金属螯合剂、抗氧化剂、活性能量线吸收剂、活性能量线聚合引发剂等添加剂作为低分子量成分时，优选比较少的这样的添加剂含量，特别是，优选胶粘剂层21中不含作为低分子量成分的添加剂。

膜基材：

本实施方式的膜基材22，只要是不对作为保护对象的微细凹凸结构体10造成损伤这样的具有充分强度的膜基材即可。

作为膜基材22的材料，可举出烯烃系树脂（聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物等）、氟系树脂（聚氟乙烯、聚偏二氟乙烯、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物等）、氯系树脂（聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯等）、丙烯酸系树脂（聚甲基丙烯酸甲酯等）、砜类树脂（聚醚砜等）、酮系树脂（聚醚醚酮等）、热塑性聚酯（聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二酯）、聚酰亚胺、聚酰胺等。其中，从透明性优良、特别适合于将微细凹凸结构体10用于光学用途的情况而且能得到平滑性良好的膜基材22的观点来看，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯。另外，膜基材22透明性优良时，可隔着保护膜20检查微细凹凸结构体10的状态。

膜基材22中，为了提高与胶粘剂层21的紧贴性，可对形成有胶粘剂层21侧的表面进行电晕处理、等离子处理这样的表面处理或进行打底剂（底漆）的涂布等。

膜基材22的厚度，只要是在粘附于微细凹凸结构体10时，能紧贴性良好地进行贴合以及充分防止受损的厚度即可，虽然可根据保护膜20的用途等进行适当设定，但通常为12～100μm左右，优选为16～80μm，更优选为25～50μm。膜基材22的厚度超过100μm时，紧贴性良好地粘附于微细凹凸结构体10可能会变难。膜基材22的厚度小于12μm时，对于充分防止微细凹凸结构体10受损可能会变难。

保护膜的制造方法：

本实施方式的保护膜20能通过以下方法进行制造：

将胶粘剂组合物涂布于膜基材22表面的方法；将胶粘剂层21转印于膜基材22表面的方法；将胶粘剂组合物与膜基材22的材料熔融共挤压成形的方法；或通过将胶粘剂组合物与膜基材22的材料分别挤压成形的方法等成形为膜状后，再通过胶粘方法等。

其中，从能良好形成胶粘剂层21的平滑性的观点来看，优选将胶粘剂组合物涂布于膜基材22表面的方法。

另外，胶粘剂层21还可通过将聚合物溶液中混合异氰酸酯化合物等交联剂形成的混合液涂布于膜基材22表面，经加热等保护而形成，或将胶粘剂组合物以规定的厚度涂布于膜基材22表面，并经活性能量线照射使其固化而形成。

露出胶粘剂层21时，在实际使用保护膜20之前，可以用经剥离处理过的剥离片、剥离膜等隔离物保护胶粘剂层21。特别是，如果适当设定隔离物的表面粗糙度Ra，能容易控制隔离物剥离后的胶粘剂层21的表面粗糙度Ra。

作为隔离物，可举出塑料膜（聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酯膜等）、多孔性材料（纸、布、无纺布等）、网、发泡片、金属箔以及它们的层积体等适当的薄叶体等。

其中，从表面平滑性优良的观点来看，优选为塑料膜。

以隔离物保护胶粘剂层21时，在膜基材22表面形成胶粘剂层21后，可在胶粘剂层21上层积隔离物，或在膜基材22与隔离物之间夹持胶粘剂组合物，经活性能量线照射，固化胶粘剂组合物，在膜基材22与隔离物之间形成胶粘剂层21。

保护膜的特性：

本实施方式的保护膜20的剥离强度（剥离力），只要能与微细凹凸结构体10紧贴的程度即可，相对于微细凹凸结构体10，优选为0.010～5.000N/25mm，更优选为0.010～3.000N/25mm，进一步优选为0.015～1.000N/25mm。剥离强度在上述范围时，能以充分的强度紧贴于微细凹凸结构体10，并且不要时，能容易地从微细凹凸结构体10剥离。

保护膜20的剥离强度是按照以下方式测量的。

将保护膜20切断成宽25mm×长150mm大小的长条状试验片后，在按照JIS Z0237的规格的条件下，层积于表面具有微细凹凸结构的被粘体。然后，将试验片在剥离角180°、剥离速度300mm/分钟、室温的条件下，测量试验片长度方向上进行剥离时的剥离强度。剥离强度的测量中，例如，可采用インストロン公司制造的万能试验机5565。作为表面具有微细凹凸结构的被粘体，通常，在实际中，采用能使保护膜20胶粘的物质。

“第二实施方式”

关于本发明的第二实施方式的带保护膜的微细凹凸结构体，例如，如图1所示，具有微细凹凸结构体10和保护膜20。

（微细凹凸结构体）

本实施方式的微细凹凸结构体10，如图2所示，具有基材11和在基材11表面上形成的表面具有微细凹凸结构的固化物12。

基材：

本实施方式的基材11与第一实施方式的基材11相同。

固化物：

本实施方式的固化物12是由树脂组合物的固化物构成，其表面具有微细凹凸结构。

微细凹凸结构由等间隔排列的圆锥状凸部13与凹部14形成。

本实施方式的固化物12的微细凹凸结构的周期、凸部13的高度和凸部13的形状与第一实施方式的固化物12相同。

固化物的红外线吸收光谱：

如上所述，微细凹凸结构的周期为数nm～数百nm时，由于凸部13相互之间的间隔狭窄，微细凹凸结构体10与保护膜20的接触面积小，保护膜20难以充分紧贴于微细凹凸结构体10。

因此，本发明人经专心研究，其结果发现，由于微细凹凸结构的周期而引起的紧贴性下降，能通过固化物12的物性而进行改善。由树脂组合物形成固化物12时，根据其表面存在的官能团或化合物不同而紧贴性发生变化。例如，已知进行氟涂布处理时，污渍变得难以附着；硅酮处理时，表面摩擦会降低。因此，使用低极性材料时，具有紧贴性下降的趋势。相反地，表面存在多的羟基、酰胺基等形成氢键的官能团时，具有紧贴性增加的趋势。

本发明人着眼于作为有助于提高紧贴性的官能团的羟基或酰胺基。

羟基中，由于氢原子和氧原子的电负性差异，氧原子带若干负电，氢原子带若干正电。另外，氢原子中存在的非共有电子对容易与质子相互作用，是易于形成所谓的氢键的官能团。

酰胺基中，由于氮原子和氢原子的电负性差异，氮原子带若干负电，氢原子带若干正电。另外，氮原子中存在的非共有电子对容易与质子相互作用，是易于形成所谓的氢键的官能团。

分子内或分子间易于形成氢键的高分子化合物，易于变得凝集力增加、高强度和高弹性，进而变得容易断裂。

作为评价这些羟基和酰胺基量的方法，已知有红外分光法。

红外分光法是对样品照射红外线，从而测量对应于分子振动的能量吸收的方法；ATR法（全反射法）中，使样品紧贴于高折射率介质（棱镜），利用介质与样品的界面上产生的红外线全反射。这是测量反射时通过红外线稍微深入样品内部而产生的倏逝波的方法，用于样品表面的结构分析等。

作为样品，采用在调整至温度23℃、相对湿度50％的房间中静置一昼夜以上的样品。

作为装置，只要是能测量红外线吸收光谱的装置即可，例如，可举出Nicolet公司的FT-IR Avater330。

测量，例如，是通过采用ダイヤモンド制造的棱镜，安装规定的夹具，并按照ATR法在测量波数4000～700cm^-1、分辨率4cm^-1、累计次数64这样的条件下进行的。

根据得到的红外线吸收光谱，例如，采用OMNIC E.S.P.软件包的峰面积工具，求出酯键C=O伸缩振动的峰面积（S_C=O）和OH伸缩振动的峰面积（S_OH）的比值（S_OH/S_C=O）。酯键C=O伸缩振动的峰面积是在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的吸收曲线的面积，OH伸缩振动的峰面积是在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的吸收曲线的面积。如图4和图5所示，基线是连接各自的吸收曲线的两侧下端或连接与别的吸收曲线之间的谷底的线。

在红外线吸收光谱的3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的吸收曲线反映来自羟基或酰胺基的氢键的形成状态。

在红外线吸收光谱的1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的吸收曲线是在采用（甲基）丙烯酸酯作为聚合性成分时，来自其（甲基）丙烯酰基必含的羰基的峰。

酯键C=O伸缩振动的峰面积（S_C=O）和来自OH伸缩振动的峰面积（S_OH）的比值（S_OH/S_C=O）是定量反映表面氢键形成能的值。

本实施方式中，微细凹凸结构体10的微细凹凸结构表面，即在固化物12表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值（A1/A2）优选为0.1～0.8，更优选为0.2～0.7，进一步优选为0.3～0.6。

A1/A2为0.1以上时，表面能形成氢键的官能团变多，保护膜20良好紧贴于微细凹凸结构体10。A1/A2为0.8以下时，能避免微细凹凸结构体10吸水进而因表面张力引起凸部13相互之间粘连的现象。

为了使A1/A2为0.1以上，可简便地使固化物12（树脂组合物）中含有亲水性聚合性成分。例如，可采用侧链末端具有羟基的聚合性成分、残留一部分羟基的多官能团单体、具有聚氨酯键的单体等。

另外，通过适当调整亲水性聚合性成分的使用量，可使A1/A2变为0.8以下。

作为侧链末端具有羟基的聚合性成分，可举出2-羟乙基（甲基）丙烯酸酯、2-羟丙基（甲基）丙烯酸酯、4-羟丁基（甲基）丙烯酸酯、末端羟基型的聚乙二醇单丙烯酸酯等。

作为残留一部分羟基的多官能团单体，可举出季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等。

作为具有聚氨酯键的单体，可举出使具有异氰酸酯基的化合物（六亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯的三聚体、异佛尔酮二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯的三聚体等）与具有羟基的单体（2-羟乙基丙烯酸酯等）直接反应得到的化合物；使异氰酸酯化合物与多元醇化合物反应得到的引入了聚氨酯侧链或末端具有聚合性反应基团的化合物等。

作为亲水性聚合性成分的市售产品，可举出ダイセル·サイテック公司的Ebecryl（注册商标）系列、东亚合成公司制造的アロニックス（注册商标）系列、日本化药公司制造的KAYARAD（注册商标）系列等。

微细凹凸结构体的指纹去除性：

如上所述，将微细凹凸结构体10作为防反射膜等使用时，通常可将其贴附于显示器等对象物的表面而进行使用。因此，由于与人手接触的机会多，微细凹凸结构体10优选具有使用时能去除指纹污渍的指纹去除性。具体来说，优选如国际公开第2008/096872号公报中所示的通过水擦拭能去除指纹污渍的微细凹凸结构体。

对于通过水擦拭是否能去除指纹污渍的判断，例如，按照前面第一实施方式的说明中所示例的方法进行。

A1/A2为0.1～0.8时，如上所述，保护膜20良好紧贴于微细凹凸结构体10，并且由于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧的表面变为亲水性，通过水润湿扩散于微细凹凸结构体10表面附着的污渍与微细凹凸结构体10表面之间而使污渍漂浮，进而能去除污渍。因此，通过水擦拭能容易去除指纹污渍。

微细凹凸结构体的用途：

本实施方式的微细凹凸结构体10，由于表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构，因此，适用于光学用途，特别是作为防反射膜、立体形状的防反射体等防反射物品。

微细凹凸构造体的其他形式：

作为本实施方式的微细凹凸结构体10的其它形式，可举出前面第一实施方式的说明中所示例的形式。

中间层：

另外，如图3所示，为了提高耐擦伤性、紧贴性等各种物性，本实施方式的微细凹凸结构体10中，还可在基材11与固化物12之间设置中间层15。

中间层15的材料，与第一实施方式的中间层15的材料相同。

（保护膜）

保护膜20具有膜基材22和在膜基材22表面形成的胶粘剂层21。

胶粘剂层：

本实施方式的胶粘剂层21接触于微细凹凸结构体10的微细凹凸结构侧表面。

胶粘剂层的红外线吸收光谱：

如上所述，本发明人经专心研究，得到以下结果：为了使紧贴性优良的同时，并解决残胶问题，查明了胶粘剂层21的凝集力仅需要充分超过微细凹凸结构体10的表面与胶粘剂层21的紧贴力。相关理由如第一实施方式中说明的那样。

进一步地，本发明人发现：通过着眼于分子内或分子间中的氢键形成作为胶粘剂层21的凝集力指标，将胶粘剂层21表面的红外线吸收光谱中的酯键C=O伸缩振动的峰面积（S_C=O）和来自于OH伸缩振动的峰面积（S_OH）的比值（S_OH/S_C=O）设定在特定的范围内，就不会产生残胶，而且也能确保与微细凹凸结构体10的紧贴性，即能使紧贴性和低污染性兼容。

本实施方式中，胶粘剂层21表面的红外线吸收光谱的在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值（B1/B2）优选为0.6～1.3，更优选为0.6～1.1，进一步优选为0.7～1.0。

B1/B2为0.6以上时，表面能形成氢键的官能团变多，保护膜20良好紧贴于微细凹凸结构体10。B1/B2为1.3以下时，保护膜20与微细凹凸结构体10不能极端紧贴，使残胶变得难以产生。

另外，B1/B2也反映胶粘剂层21的凝集力，虽然也衡量与微细凹凸结构体10的紧贴性，但也作为胶粘剂层21的凝集力指标。B1/B2为0.6以上时，胶粘剂层21自身的凝集力也变得充分，使残胶变得难以产生。

为了使B1/B2变为0.6～1.3，与微细凹凸结构体10表面相同地，可简便地使胶粘剂层21的材料（胶粘剂组合物）中含有亲水性聚合性成分。例如，可采用侧链末端具有羟基的聚合性成分、残留一部分羟基的多官能团单体、具有氨酯键的单体等。

胶粘剂层的储能模量E'：

本实施方式的胶粘剂层21，其在橡胶状平坦区的储能模量E'优选为1.5×10⁶以上的范围，更优选为1.5×10⁶～6×10⁶Pa的范围。橡胶状平坦区的储能模量E'为1.5×10⁶Pa以上时，变为残胶难以产生的胶粘剂层21。橡胶状平坦区的储能模量E'为6×10⁶Pa以下时，由于压着，保护膜20能容易粘附于微细凹凸结构体10。

关于橡胶状平坦区，如第一实施方式中说明的那样。

本实施方式的胶粘剂层21的储能模量E'优选在10～60℃中的至少任意一种的温度下，为1.5×10⁶～6×10⁶Pa的范围。

“在10～60℃中的至少任意一种的温度下，为1.5×10⁶～6×10⁶Pa的范围”是指在储能模量E'的测量中，升温过程中的10～60℃之间的任意一处中，储能模量E'显示为1.5×10⁶～6×10⁶Pa的值。例如，即使达到59℃时，储能模量E'显示为大于6×10⁶Pa的值，但在60℃时变为6×10⁶Pa即可，在10～60℃的整个温度区域中，不一定需要一直在1.5×10⁶～6×10⁶Pa的范围。

关于储能模量E'的测定方法，如第一实施方式中说明的那样。

胶粘剂组合物：

本实施方式的胶粘剂层21是由胶粘剂组合物形成。

本实施方式的胶粘剂组合物与第一实施方式的胶粘剂组合物相同。

膜基材：

本实施方式的膜基材22与第一实施方式的膜基材22相同。

保护膜的制造方法：

本实施方式的保护膜20的制造方法与第一实施方式的保护膜20的制造方法相同。

保护膜的特性：

关于保护膜20的剥离强度的测量方法，如第一实施方式中说明的那样。

<带保护膜的微细凹凸结构体的制造方法>

本发明的带保护膜的微细凹凸结构体，能通过将保护膜粘附于微细凹凸结构体进行制造。

（微细凹凸结构体的制造）

作为微细凹凸结构体的制造方法，例如，可举出下述方法等。

·在模具和透明基材之间配置树脂组合物，通过活性能量线的照射使树脂组合物固化，并在固化物上转印模具的微细凹凸结构后，自固化物剥离模具的方法（方法2）。

在这些中，从微细凹凸结构的转印性和表面组成的自由度的观点来看，优选为方法2、3，特别优选为方法2。方法2特别适用于采用能连续生产的带状或辊状模具的情况，是一种生产性优良的方法。

作为在模具上形成微细凹凸结构（反转结构）的方法，可举出电子束光刻法、激光干涉法等。例如，通过在合适的支撑基板上涂布合适的光致抗蚀剂膜，用紫外线激光、电子线、X线等光进行曝光，显影，得到形成有微细凹凸结构的模具。另外，介由光致抗蚀剂层对支撑基板通过干蚀刻进行选择性蚀刻，除去抗蚀剂层，能直接在支撑基板上形成微细凹凸结构。

另外，也可将阳极氧化的多孔氧化铝作为模具利用。例如，也可将以草酸、硫酸、磷酸等作为电解液经由规定电压将铝进行阳极氧化而形成的20～200nm的细孔结构，作为模具加以利用。根据该方法，将高纯度铝由恒压长时间阳极氧化后，先除去氧化膜，再进行阳极氧化，由此可自组织地形成规则性非常高的细孔。进一步，也可以通过在第二次进行阳极氧化的工序中组合阳极氧化处理和孔径扩大处理，能形成截面非矩形而是三角形或吊钟型的细孔。此外，也可以通过适当调节阳极氧化处理和孔径扩大处理的时间或条件，可锐化细孔最深部的角度。

进一步，也可根据具有微细凹凸结构的母模，通过电铸法等制作复制模具。

模具本身的形状并没有特别限定，例如，可以是平板状、带状、辊状中的任一种。特别地，做成带状或辊状时，可连续地转印微细凹凸结构，能进一步提高生产性。

作为在模具与基材间配置树脂组合物的方法，可举出通过以模具与基材间已配置了树脂组合物的状态按压模具与基材，向模具的微细凹凸结构中注入树脂组合物的方法等。

在制造上述第一实施方式的微细凹凸结构体时，对于树脂组合物，只要是微细凹凸结构体表面的水接触角变为40°以下的树脂组合物即可。

另一方面，在制造上述第二实施方式的微细凹凸结构体时，对于树脂组合物，只要是固化物的A1/A2变为0.1～0.8的树脂组合物即可。

另外，这些树脂组合物优选适当含有分子中具有自由基聚合性键和/或阳离子聚合性键的单体、低聚物、反应性聚合物的树脂组合物，进一步地，还可含有非反应性聚合物。另外，树脂组合物通常含有用于固化的聚合引发剂。作为聚合引发剂，可举出公知的聚合引发剂。

作为对基材与模具之间的树脂组合物照射活性能量线进行聚合固化的方法，优选通过紫外线照射的方法。作为照射紫外线的灯，可举出高压汞灯、金属卤化物灯、辐深灯等。

紫外线的照射量根据聚合引发剂的吸收波长或含量来决定即可。通常，紫外线的累积光量优选400～4000mJ/cm²，更优选400～2000mJ/cm²。累积光量为400mJ/cm²以上时，能使树脂组合物充分固化，抑制因固化不足而引起的耐擦伤性下降。累积光量为4000mJ/cm²以下时，在防止固化物的着色或基材的劣化方面具有意义。照射强度优选将输出功率抑制在不会导致基材劣化等的程度。

树脂组合物的聚合、固化后，自固化物剥离模具，得到具有微细凹凸结构的固化物，从而得到微细凹凸结构体。

另外，基材为立体形状的层积体等时，也可将形成的微细凹凸结构体粘贴在另外成形的立体形状的层积体。

如此所得的微细凹凸结构体，在基材表面上模具的微细凹凸结构以钥匙和钥匙孔的关系得到转印，具有高耐擦伤性，且在兼具有防水性的同时，由于连续的折射率变化，表现出优良的防反射性能，因此，适合作为防反射膜或立体形状的防反射体。

（保护膜的粘附）

如此得到的微细凹凸结构体中，以保护膜的胶粘剂层与微细凹凸结构体的微细凹凸结构侧表面接触那样进行保护膜的粘附，得到带保护膜的微细凹凸结构体。此时，优选以在运输、加工时，保护膜不浮起或不被剥离，随后又能剥离保护膜与微细凹凸结构体的、这种程度的力，在微细凹凸结构体上层积保护膜并施加压力使其紧贴。特别是，优选在制造微细凹凸结构体后，继续在生产线上压着保护膜。例如，以微细凹凸结构体与保护膜层积的状态通过橡胶辊等之间，施加适当的力，得到紧贴适度的带保护膜的微细凹凸结构体。将保护膜粘附于微细凹凸结构体时的压力，通常在0.1～10MPa的范围内。

另外，保护膜的胶粘剂层硬化时，优选通过在粘贴于微细凹凸结构体前，加热胶粘剂层，达到所期望的储能模量E'，从而使其粘附于微细凹凸结构体表面。加热胶粘剂层时，无需加热保护膜的整个粘贴区，通过加热粘贴中所用的辊至所期望的温度，就能充分应对。保护膜的粘贴，可通过一对橡胶辊之间进行粘贴或以通过一个橡胶辊在平板状的壁面或台面上进行推压的方法进行粘贴。例如，粘贴中所用的橡胶辊，以通过橡胶辊内侧设置的加热装置进行加热进而将橡胶辊表面变为40～60℃那样进行设定。微细凹凸结构体和保护膜中的任意一个通过在室温下输送供应于粘贴区，经橡胶辊对保护膜的胶粘剂层进行加热，使胶粘剂层变为适于粘贴的物性，从而使微细凹凸结构体与保护膜良好粘贴。

经橡胶辊的加热，也可只经与保护膜接触的橡胶辊进行加热。特别是，优选在加热胶粘剂层而使其储能模量E'达到6×10⁶Pa以下的状态下，将保护膜粘附于微细凹凸结构体表面。胶粘剂层的储能模量E'变为6×10⁶Pa以下时，将保护膜粘附于微细凹凸结构体表面时，由于微细凹凸结构体表面变得易于适度深入保护膜的胶粘剂层，因此，能进行更容易且紧贴性良好地粘贴。

<作用效果>

以上说明的第一实施方式的带保护膜的微细凹凸结构体中，由于微细凹凸结构体表面的水接触角为40°以下，微细凹凸结构体与保护膜紧贴良好，不会因不小心而被剥离。另外，由于保护膜的胶粘剂层的压缩应力为0.6～3.0MPa，胶粘剂层具有适度的凝集力，在剥离保护膜后，在微细凹凸结构上难以产生残胶。

另外，以上说明的第二实施方式的带保护膜的微细凹凸结构体中，由于微细凹凸结构体的所述微细凹凸结构侧表面的A1/A2为0.1～0.8，微细凹凸结构体与保护膜紧贴良好，不会因不小心而被剥离。另外，由于保护膜的胶粘剂层表面的B1/B2为0.6～1.3，胶粘剂层具有适度的凝集力，在剥离保护膜后，在微细凹凸结构上难以产生残胶。

另外，由于因保护膜保护着微细凹凸结构体表面，第一实施方式和第二实施方式的带保护膜的微细凹凸结构体在发货、运输、保存时，能防止微细凹凸结构的受损。

另外，由于在剥离保护膜后，在微细凹凸结构上残胶少，因此，第一实施方式和第二实施方式的带保护膜的微细凹凸结构体在维持高防反射性能的状态下，能提供微细凹凸结构体。

另外，构成保护膜的胶粘剂层或膜基材透明性优良时，能不剥离保护膜而以隔着保护膜的方式检查微细凹凸结构状态。作为微细凹凸结构状态的检查，可举出全光线透过率、雾度、反射率等定量的光学特性测量进而检出缺陷制品的有无等。

实施例

以下，通过实施例对本发明进行具体的说明，但本发明并不局限于这些实施例。

另外，以下记载中，若无特别说明，“份”意味着“质量份”。

（各种测定和评价方法）

（1）模具的细孔测量：

对由阳极氧化的多孔氧化铝构成的模具的一部分的纵截面进行1分钟Pt蒸镀，采用场致发射形扫描电子显微镜（日本电子公司制造，JSM-7400F），在加速电压3.00kV下进行观察，测量相邻细孔的间隔（周期）和细孔的深度。具体来说，分别测量10个点，取其平均值作为测量值。

（2）微细凹凸结构体的凸部测量：

对微细凹凸结构体的纵截面进行10分钟的Pt蒸镀，在与上述（1）的情况相同的装置和条件下，测量相邻凸部的间隔（周期）和凸部的高度。具体来说，分别测量10个点，取其平均值作为测量值。

（3）水接触角的测量：

在微细凹凸结构体的微细凹凸结构侧表面（微细凹凸结构体表面）滴下5μL离子交换水，采用自动接触角测量器（KRUSS公司制造），按照θ/2法，算出微细凹凸结构体表面的水接触角。

（4）红外线吸收光谱：

采用Nicolet公司的FT-IR Avater330，按照ATR法在测量波数4000～700cm^-1、分辨率4cm^-1、累计次数64的条件下，测量微细凹凸结构体的微细凹凸结构侧表面或胶粘剂层表面的红外线吸收光谱。作为样品，采用在调整至温度23℃、相对湿度50％的房间中静置一昼夜以上的样品。

根据得到的红外线吸收光谱，采用OMNIC E.S.P.软件包的峰面积工具，求出酯键C=O伸缩振动的峰面积（S_C=O）和OH伸缩振动的峰面积（S_OH）的比值（S_OH/S_C=O）。酯键C=O伸缩振动的峰面积是在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的吸收曲线面积，OH伸缩振动的峰面积是在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的吸收曲线面积。基线是连接各自的吸收曲线的两侧下端或连接与别的吸收曲线之间的谷底的线。

（5）反射率的测量：

采用分光光度计（日立公司制造的U-4100）在入射角5°的条件下，测量样品在波长380nm～780nm之间的相对反射率，其中，所述样品是用砂纸（GRITNo.500）对微细凹凸结构体的与微细凹凸结构侧相对侧的表面（微细凹凸结构体的背面）进行粗糙化后并涂黑的样品。

（6）压缩应力的测量：

采用构成胶粘剂层的胶粘剂组合物，将其成形为厚度约2mm的膜，并将该膜打穿成1cm正方形的板状，作为试验片。对于得到的试验片，通过压缩试验机以0.1mm/分钟的速度在厚度方向上压缩至压缩率为20％，测量压缩率为20％的压缩应力。

（7）储能模量E'的测量：

采用构成胶粘剂层的胶粘剂组合物，将其成形为厚度500μm的膜，将该膜打穿成宽5mm的长条状，作为试验片。对于得到的试验片，采用粘弹性测量装置（セイコーインスツルメンツ公司，DMS110）在拉伸模式、卡盘间2cm、1Hz下，以2℃/分钟升温至-50～100℃的条件下进行测量，求出储能模量E'。

（8）紧贴性评价

（8-1）紧贴性评价1

对于通过押切式裁断机裁断加热保护膜至40℃后立即粘贴于微细凹凸结构体而得到的试验片时的状态，用肉眼进行观察，当保护膜不能自微细凹凸结构体剥离时，判断为紧贴性良好，并记为“○”；被剥离时，判断为紧贴性不良，并记为“×”。

（8-2）紧贴性评价2

对于通过押切式裁断机裁断得到的带保护膜的微细凹凸结构体时的状态，用肉眼进行观察，当保护膜不能自微细凹凸结构体剥离时，判断为紧贴性良好，并记为“○”；被剥离时，判断为紧贴性不良，并记为“×”。

（9）残胶评价

（9-1）残胶评价1

将加热保护膜至40℃后立即粘贴于微细凹凸结构体而得到的试验片在23℃、相对湿度50％的环境下保管2周。然后，剥离保护膜，与（5）相同地进行微细凹凸结构体的反射率测量。

在400nm、550nm、700nm的波长下，求出保护膜粘附前的微细凹凸结构体的反射率与以粘附保护膜的状态下经2周后的微细凹凸结构体的反射率的差，计算平均值，按照以下评价标准，评价残胶程度。

A：差的平均值为±0.02％以内。

B：差的平均值超过±0.02％，但在±0.06％以内。

C：差的平均值超过±0.06%。另外，反射率曲线发生变化。

（9-2）残胶评价2

将得到的带保护膜的微细凹凸结构体在23℃、相对湿度50％的环境下保管2周。然后，剥离保护膜，与（5）相同地进行微细凹凸结构体的反射率测量。

A：差的平均值为±0.02％以内。

B：差的平均值超过±0.02％，但在±0.06％以内。

C：差的平均值超过±0.06%。另外，反射率曲线发生变化。

（模具的制作）

按照如图6所示的工序，如以下方式制作模具（细孔深度180nm）。

首先，对纯度99.99％的铝板30进行布轮研磨，接着，在高氯酸/乙醇混合溶液（1/4体积比）中电解研磨，使其镜面化。

工序（a）：

将铝板30在0.3M草酸水溶液中，在直流40V、温度16℃的条件下进行30分钟的阳极氧化，使氧化膜32产生细孔31。

工序（b）：

将形成有氧化膜32的铝板30浸于6质量％磷酸/1.8质量％铬酸混合水溶液中6小时，去除氧化膜32，露出与细孔31对应的周期性的凹槽33。

工序（c）：

对于使凹槽33露出的铝板30，在0.3M草酸水溶液中，直流40V、温度16℃的条件下进行30秒的阳极氧化，形成具有细孔35的氧化膜34。

工序（d）：

将形成有氧化膜34的铝板浸于32℃的5质量％的磷酸中8分钟，进行细孔35的直径扩大处理。

工序（e）：

对于进行了直径扩大处理的铝板30，在0.3M草酸水溶液中，直流40V、温度16℃的条件下进行30秒的阳极氧化，形成从细孔35开始延伸至下方的小直径的细孔35。

工序（f）：

总计重复上述工序（d）和工序（e）4次，最后进行工序（e），得到具有平均间隔（周期）100nm、深度180nm的大致圆锥形状的细孔35的阳极氧化的多孔氧化铝。

将得到的阳极氧化的多孔氧化铝用去离子水洗涤，通过鼓风去除表面水分，浸于将表面防污涂布剂（ダイキン工业公司制造，オプツールDSX）用稀释剂（ハーベス公司制造，HD-ZV）稀释至固体成分成为0.1质量％的溶液中10分钟，风干20小时，得到模具40。

（微细凹凸结构体（1-1）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（1-1）的制备：

将新中村化学公司制造的A-DPH20份、第一工业制药公司制造的ニューフロンティアPET-320份、聚乙二醇二丙烯酸酯（新中村化学公司制造，NK酯A-200）35份、丙烯酸羟乙酯25份、作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）1841.0份以及Irgacure（イルガキュア）8190.5份混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（1-1）。

微细凹凸结构体（1-1）的制造：

将活性能量线固化性树脂组合物（1-1）调温至50℃，并将其流入至调温至50℃的模具的形成有细孔的表面，在其上面边展开厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜（三菱树脂公司制造，WE97A），边覆盖。然后，从膜侧使用辐深灯以带速6.0m/分钟、使累积光量成为1000mJ/cm²地进行紫外线照射，使活性能量线固化性树脂组合物（1-1）固化。接着，自膜剥离模具，得到微细凹凸结构体（1-1）。

在得到的微细凹凸结构体（1-1）的表面上转印有模具的微细凹凸结构，如图2所示，形成了相邻凸部13的平均间隔（周期）W₁为100nm、凸部13的平均高度d₁为180nm的大致圆锥形状的微细凹凸结构。水接触角、A1/A2和反射率的结果如表1所示。

（微细凹凸结构体（1-2）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（1-2）的制备：

将三羟甲基乙烷/琥珀酸/丙烯酸以摩尔比为2/1/4进行反应而得到的混合物70份、聚乙二醇二丙烯酸酯（新中村化学公司制造，NK酯A-600）20份、丙烯酸羟乙酯3份、丙烯酸甲酯7份、1.0份作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）184以及0.1份Irgacure（イルガキュア）819混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（1-2）。

微细凹凸结构体（1-2）的制造：

除采用活性能量线固化性树脂组合物（1-2）以外，其他通过与微细凹凸结构体（1-1）的制造方法相同的方法，制造微细凹凸结构体（1-2）。

在得到的微细凹凸结构体（1-2）的表面上转印有模具的微细凹凸结构，如图2所示，形成了相邻凸部13的平均间隔（周期）W₁为100nm、凸部13的平均高度d₁为180nm的大致圆锥形状的微细凹凸结构。水接触角、A1/A2和反射率的结果如表1所示。

（微细凹凸结构体（2-1）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（2-1）的制备：

将双季戊四醇六丙烯酸酯（第一工业制药公司制造，ニューフロンティアA-DPH）20份、季戊四醇三丙烯酸酯（第一工业制药公司制造，ニューフロンティアPET-3）20份、聚乙二醇二丙烯酸酯（新中村化学公司制造，NK酯A-200）35份、丙烯酸羟乙酯25份、1.0份作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）184以及0.5份Irgacure（イルガキュア）819混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（2-1）。

微细凹凸结构体（2-1）的制造：

将活性能量线固化性树脂组合物（2-1）调温至50℃，并将其流入至调温至50℃的模具的形成有细孔的表面，在其上面边展开厚度40μm的三醋酸纤维素膜，边覆盖。然后，从膜侧使用辐深灯以带速6.0m/分钟、使累积光量成为1000mJ/cm²地进行紫外线照射，使活性能量线固化性树脂组合物（2-1）固化。接着，自膜剥离模具，得到微细凹凸结构体（2-1）。

在得到的微细凹凸结构体（2-1）的表面上转印有模具的微细凹凸结构，如图2所示，形成了相邻凸部13的平均间隔（周期）W₁为100nm、凸部13的平均高度d₁为180nm的大致圆锥形状的微细凹凸结构。水接触角、A1/A2和反射率的结果如表1所示。

（微细凹凸结构体（2-2）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（2-2）的制备：

将双季戊四醇六丙烯酸酯（第一工业制药公司制造，ニューフロンティアA-DPH）20份、季戊四醇三丙烯酸酯（第一工业制药公司制造，ニューフロンティアPET-3）25份、乙氧基化的二季戊四醇六丙烯酸酯（第一工业制药公司制造，ニューフロンティアDPEA-12）25份、聚乙二醇二丙烯酸酯（新中村化学公司制造，NK酯A-600）25份、丙烯酸甲酯5份、1.0份作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）184以及0.1份Irgacure（イルガキュア）819混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（2-2）。

微细凹凸结构体（2-2）的制造：

除采用活性能量线固化性树脂组合物（2-2）、将厚度38μm的丙烯酸膜（三菱レイヨン公司制造，アクリプレンHBS010）作为基材以外，其他通过与微细凹凸结构体（2-1）的制造方法相同的方法，制造微细凹凸结构体（2-2）。

在得到的微细凹凸结构体（2-2）的表面上转印有模具的微细凹凸结构，如图2所示，形成了相邻凸部13的平均间隔（周期）W₁为100nm、凸部13的平均高度d₁为180nm的大致圆锥形状的微细凹凸结构。水接触角、A1/A2和反射率的结果如表1所示。

（微细凹凸结构体（2-3）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（2-3）的制备：

将三羟甲基乙烷/琥珀酸/丙烯酸以摩尔比为2/1/4进行反应而得到的混合物70份、聚乙二醇二丙烯酸酯（新中村化学公司制造，NK酯A-600）20份、丙烯酸羟乙酯3份、丙烯酸甲酯7份、1.0份作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）184以及0.1份Irgacure（イルガキュア）819混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（2-3）。

微细凹凸结构体（2-3）的制造：

除采用活性能量线固化性树脂组合物（2-3）、将厚度38μm的丙烯酸膜（三菱レイヨン公司制造，アクリプレンHBS010）作为基材以外，其他通过与微细凹凸结构体（2-1）的制造方法相同的方法，制造微细凹凸结构体（2-3）。

在得到的微细凹凸结构体（2-3）的表面上转印有模具的微细凹凸结构，如图2所示，形成了相邻凸部13的平均间隔（周期）W₁为100nm、凸部13的平均高度d₁为180nm的大致圆锥形状的微细凹凸结构。水接触角、A1/A2和反射率的结果如表1所示。

（微细凹凸结构体（2-4）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（2-4）的制备：

将三羟甲基乙烷/琥珀酸/丙烯酸以摩尔比为2/1/4进行反应而得到的混合物45份、1,6-己二醇二丙烯酸酯45份、硅酮二丙烯酸酯（信越シリコーン公司制造，X-22-1602）10份、1.0份作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）184以及0.1份Irgacure（イルガキュア）819混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（2-4）。

微细凹凸结构体（2-4）的制造：

除采用活性能量线固化性树脂组合物（2-4）、将厚度38μm聚对苯二甲酸乙二酯膜（三菱树脂公司制造，WE97A）作为基材以外，其他通过与微细凹凸结构体（2-1）的制造方法相同的方法，制造微细凹凸结构体（2-4）。

在得到的微细凹凸结构体（2-4）的表面上转印有模具的微细凹凸结构，如图2所示，形成了相邻凸部13的平均间隔（周期）W₁为100nm、凸部13的平均高度d₁为180nm的大致圆锥形状的微细凹凸结构。水接触角、A1/A2和反射率的结果如表1所示。

（微细凹凸结构体（2-5）的制造）

活性能量线固化树脂组合物（2-5）的制备：

将聚氨酯丙烯酸酯（ダイセル·サイテック公司制造，Ebecryl8402）20份、环己烷二甲醇单丙烯酸酯（日本化成公司制造）80份、1.0份作为活性能量线聚合引发剂的日本チバガイギー公司制造的Irgacure（イルガキュア）184以及0.1份Irgacure（イルガキュア）819混合，并使其均匀溶解，制备活性能量线固化性树脂组合物（2-5）。

微细凹凸结构体（2-5）的制造：

除采用活性能量线固化性树脂组合物（2-5）、将厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二酯（以下，记为PET）膜（三菱树脂公司制造，WE97A）作为基材以外，其他通过与微细凹凸结构体（2-1）的制造方法相同的方法，制造微细凹凸结构体（2-5）。

得到的微细凹凸结构体（2-5），自模具剥离的最初，与其他微细凹凸结构体相同地，是透明且防反射性能优良的微细凹凸结构体，但经剥离后数分钟，逐渐显现出白色的霭。模具的微细凹凸结构被转印，在固化物表面林立微细凸部，但微细凹凸结构体（2-5）中，由于在固化物表面存在多的羟基、氨基等能形成氢键的官能团，故凸部间的相互作用强，凸部相互之间粘连，变为光漫反射的大小。A1/A2和反射率的结果如表1所示。

【表1】

（实施例1-1）

（保护膜的制备）

作为基材，采用易带胶粘层的PET膜（东洋纺织公司制造，A4300，厚度38μm）。

按照表2所示的混合组成，制备光聚合性的胶粘剂组合物。在膜基材表面涂布得到的胶粘剂组合物，在其上面覆盖聚乙烯膜，用滚轮使厚度变为均匀那样进行展开。

采用辐深UV灯（D灯泡）（フュージョンＵＶシステムズ·ジャパン公司制造），使累积光量变为大约1000mJ/cm²那样进行活性能量线照射，得到在膜基材表面形成有胶粘剂层（厚度约3～5μm）的保护膜，该胶粘剂层是由胶粘剂组合物的固化物构成。压缩应力、B1/B2和储能模量E'如表2所示。

（带保护膜的微细凹凸结构体的制造）

将微细凹凸结构体（1-1）和保护膜切成宽5cm的长条状，采用重2kg的橡胶滚轮进行粘贴，使保护膜的胶粘剂层粘附于微细凹凸结构体（1-1）的微细凹凸结构侧表面，得到带保护膜的微细凹凸结构体。

另外，基于（8-1）紧贴性评价1和（9-1）残胶评价1，制作紧贴性和残胶评价用的试验片，进行紧贴性和残胶评价。结果如表2所示。

（实施例1-2～1-5、比较例1-1～1-7）

除了采用如表2～4所示的混合组成制备胶粘剂组合物而得到胶粘剂组合物和如表2～4所示种类的微细凹凸结构体以外，其它与实施例1-1相同，制造带保护膜的微细凹凸结构体，并进行各评价。结果如表2～4所示。

（实施例2-1）

（保护膜的制作）

按照表5所示的混合组成，制备光聚合性的胶粘剂组合物。在膜基材表面涂布得到的胶粘剂组合物，在其上面覆盖聚乙烯膜，用滚轮使厚度变为均匀那样进行展开。

采用辐深UV灯（D灯泡）（フュージョンUVシステムズ·ジャパン公司制造），使累积光量变为大约1000mJ/cm²那样进行活性能量线照射，得到在膜基材表面形成有胶粘剂层（厚度约3～5μm）的保护膜，该胶粘剂层是由胶粘剂组合物的固化物构成。压缩应力、B1/B2和储能模量E'如表5所示。

（带保护膜的微细凹凸结构体的制造）

将微细凹凸结构体（2-1）和保护膜切成宽5cm的长条状，采用重2kg的橡胶滚轮进行粘贴，使保护膜的胶粘剂层粘附于微细凹凸结构体（2-1）的微细凹凸结构侧表面，得到带保护膜的微细凹凸结构体。基于（8-2）紧贴性评价2和（9-2）残胶评价2，进行紧贴性和残胶评价。结果如表5所示。

（比较例2-1）

（带保护膜的微细凹凸结构体的制造）

将微细凹凸结构体（2-1）和丙烯酸系保护膜（日立化成工业公司制造，ヒタレックスDP-1010）切成宽5cm的长条状，尝试采用重2kg的橡胶滚轮进行粘贴，使保护膜的胶粘剂层粘附于微细凹凸结构体（2-1）的微细凹凸结构侧表面，但紧贴性差，无法得到带保护膜的微细凹凸结构体。B1/B2如表7所示。

（比较例2-2）

（带保护膜的微细凹凸结构体的制造）

将微细凹凸结构体（2-1）和丙烯酸系保护膜（サンエー化研公司制造，SAT HC1138T5-J）切成宽5cm的长条状，尝试采用重2kg的橡胶滚轮进行粘贴，使保护膜的胶粘剂层粘附于微细凹凸结构体（2-1）的微细凹凸结构侧表面，但紧贴性差，无法得到带保护膜的微细凹凸结构体。B1/B2如表7所示。

（实施例2-2～2-7、比较例2-3～2-10）

除了采用如表5～8所示的混合组成制备胶粘剂组合物而得到胶粘剂组合物和如表5～8所示种类的微细凹凸结构体以外，其它与实施例2-1相同，制造带保护膜的微细凹凸结构体，并进行各评价。结果如表5～8所示。另外，实施例2-5、2-6中的胶粘剂层的储能模量E'图如图7所示。

【表2】

【表3】

【表4】

【表5】

【表6】

【表7】

【表8】

表2～8中的缩写如下所述。

·EB8402：双官能团的聚氨酯丙烯酸酯（ダイセル·サイテック公司制造，エベクリル8402）。

·CHDMMA：环己烷二甲醇单丙烯酸酯（日本化成公司制造）。

·HPA：丙烯酸2-羟丙酯。

·AP400：聚丙二醇单丙烯酸酯（日油公司制造，ブレンマーAP-400）。

·IOA：丙烯酸异辛酯。

·DAR TPO：2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦（日本チバガイギー公司制造，DAROCURE TPO）。

由表2～4所示的结果明显可知，各实施例的带保护膜的微细凹凸结构体中，保护膜良好紧贴于微细凹凸结构体。而且，即使经2周后，残胶也不产生，能剥离保护膜。

特别是，在实施例1-1～1-3、1-5中所使用的保护膜所具有的胶粘剂层，其在10～60℃中的至少任意一种的温度下的储能模量E'为1×10⁶～6×10⁶Pa的范围。其中，实施例1-1、1-2中，25℃下的储能模量E'在1×10⁶～6×10⁶Pa的范围内，在室温（25℃）下的粘贴也没有问题。另外，实施例1-3中所使用的保护膜所具有的胶粘剂层，其在25℃下的储能模量E'显示大于6×10⁶Pa的值，但35℃下的储能模量E'变为2.5×10⁶Pa。另外，实施例1-5中所使用的保护膜所具有的胶粘剂层，其在25℃下的储能模量E'显示大于6×10⁶Pa的值，但45℃下的储能模量E'变为4.6×10⁶Pa。根据这些结果，实施例1-3、1-5中所使用的保护膜，与实施例1-1、1-2中所使用的保护膜相比，虽然在室温（25℃）下的粘贴困难，但在储能模量E'变为6×10⁶Pa以下的状态下，将保护膜粘附于微细凹凸结构体表面时，也就是说，在即将粘贴于微细凹凸结构体时，加热保护膜的胶粘剂层至例如35℃或45℃时，显示能容易粘贴。

另外，实施例1-1、1-2、1-4、1-5中所使用的保护膜所具有的胶粘剂层，具有储能模量E'为2×10⁶Pa以上的橡胶状平坦区，即使长期保管或在高湿热环境下，其物性也难以变化。

另一方面，采用压缩至压缩率为20%时的压缩应力小于0.6MPa的具有胶粘剂层的保护膜的比较例1-1～1-3、1-5、1-6的带保护膜的微细凹凸结构体，由于胶粘剂层过软，经2周后，剥离保护膜时，产生残胶。特别是，比较例1-5、1-6中，产生的残胶致使反射率的波长依赖性发生变化。

比较例1-4中，由于胶粘剂层过软，胶粘剂层过于渗入至微细凹凸结构的凹部深处，从刚粘贴后的阶段，就不能剥离保护膜。另外，无法选取胶粘剂层的压缩应力和储能模量E'的评价用试验片。

采用压缩至压缩率为20%时的压缩应力为3.1MPa的具有胶粘剂层的保护膜的比较例1-7的带保护膜的微细凹凸结构体，由于胶粘剂层过硬，胶粘剂层难以渗入微细凹凸结构的凹部，其紧贴性差。因此，不进行反射率的测量。

另外，由表5～8所示的结果明显可知，各实施例中的带保护膜的微细凹凸结构体中，保护膜良好紧贴于微细凹凸结构体。而且，即使经2周后，残胶也不产生，能剥离保护膜。

另外，实施例中所使用的保护膜所具有的胶粘剂层，其在橡胶平坦区的储能模量E'为1.5×10⁶Pa以上，即使长期保管或在高湿热环境下，物性也难以改变。

另一方面，采用胶粘剂层表面的B1/B2小于0.6的保护膜的比较例2-1～2-3、2-5、2-7中，胶粘剂层表面能形成氢键的官能团少，紧贴性差，无法得到带保护膜的微细凹凸结构体。

另外，采用胶粘剂层表面的B1/B2超过1.3的保护膜的比较例2-4、2-6、2-8中，与微细凹凸结构体表面的相互作用强，经2周后，剥离保护膜时，产生残胶。

另外，比较例2-9、2-10中，由于微细凹凸结构体的微细凹凸结构侧表面的A1/A2小于0.1，能形成氢键的官能团少，与保护膜的胶粘剂层无法充分进行相互作用，紧贴性差，无法得到带保护膜的微细凹凸结构体。

产业上的利用可能性

本发明的带保护膜的微细凹凸结构体，能在维持作为微细凹凸结构体的优良的光学性能的同时，防止运输、加工中的微细凹凸结构的受损。此外，即使长期保管，残胶也不产生，能发挥初期的光学性能。因此，本发明的自带保护膜的微细凹凸结构体剥离保护膜的微细凹凸结构体，能利用于例如，建材用途（壁、屋顶等）、窗材（房屋、汽车、电车、船舶等）、镜子等，在工业上极其有用。另外，还可利用于追求防反射性能的显示器等用途中。

Claims

1.一种带保护膜的微细凹凸结构体，其是将保护该微细凹凸结构体表面的保护膜粘附于微细凹凸结构体而得到的带保护膜的微细凹凸结构体，所述微细凹凸结构体的表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构；

所述微细凹凸结构体表面的水接触角为40°以下；

2.一种带保护膜的微细凹凸结构体，其是将保护该微细凹凸结构体表面的保护膜粘附于微细凹凸结构体而得到的带保护膜的微细凹凸结构体，所述微细凹凸结构体的表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构；

所述保护膜具有与所述微细凹凸结构侧表面相接的胶粘剂层，

在所述微细凹凸结构表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值A1/A2为0.1～0.8；

在所述胶粘剂层表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值B1/B2为0.6～1.3。

3.如权利要求1记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，在所述胶粘剂层表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积B2的比值B1/B2为0.6～1.3。

4.如权利要求1记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，在所述微细凹凸结构表面的红外线吸收光谱中，在3700～3100cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A1与在1730±10cm^-1区域中的表示最大吸收的峰面积A2的比值A1/A2为0.1～0.8。

5.如权利要求1记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，10～60℃中的至少任意一种温度下的所述胶粘剂层的储能模量E'，为1×10⁶～6×10⁶Pa的范围。

6.如权利要求2或5记载的带保护膜的微细凹凸结构体，其中，所述胶粘剂层具有储能模量E'为1.5×10⁶Pa以上范围的橡胶状平坦区。

7.一种带保护膜的微细凹凸结构体的制造方法，其是制造权利要求1或2记载的带保护膜的微细凹凸结构体的方法；

8.如权利要求7记载的带保护膜的微细凹凸结构体的制造方法，其中，在所述胶粘剂层的储能模量E'为6×10⁶Pa以下的状态下，使所述保护膜粘附于所述微细凹凸结构体的表面。