CN102375334B - 微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法 - Google Patents

微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法。所述微透镜阵列制造方法包括：在包含多个光接收部分的结构上形成抗蚀剂膜；使用其中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案的光掩模来将所述抗蚀剂膜曝光；通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案；以及通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述多个微透镜，其中，所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。

Description

微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法
技术领域
本发明涉及制造微透镜阵列的方法、制造固态图像传感器的方法和固态图像传感器。
背景技术
在固态图像传感器中，为了增大光接收部分的光收集效率，对于各像素布置微透镜，以与各光接收部分对应。彩色固态图像传感器可具有例如蓝色、绿色和红色滤色器。由于形成微透镜的材料具有折射率的波长色散(dispersion)，因此，具有相同形状的微透镜根据入射光的波长而具有不同的焦点位置。作为制造单芯片彩色CCD的方法，日本专利公开No.7-38075公开了通过改变用于形成蓝色、绿色和红色微透镜的抗蚀剂(resist)膜的厚度来形成不同形状的蓝色、绿色和红色微透镜的方法。
在日本专利公开No.7-38075中公开的方法中，由于用于形成微透镜的蓝色、绿色和红色抗蚀剂膜必须具有不同的厚度，因此，必须对于各颜色执行曝光工艺和显影工艺。制造工艺的数量增加，并且，会在不同颜色的微透镜之间出现对准误差。另外，由于抗蚀剂膜形成工艺，因此曝光工艺和显影工艺必须被执行多次。先形成的微透镜的形状因形成剩余微透镜的工艺而发生改变。
发明内容
本发明的第一方面是要提供有利于简化微透镜阵列的制造工艺和/或防止微透镜之间的对准误差的技术。
根据本发明的第一方面，提供一种制造微透镜阵列的方法，该方法包括：在包含多个光接收部分的结构上形成抗蚀剂膜；使用其中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案的光掩模将所述抗蚀剂膜曝光；通过将曝光后的抗蚀剂膜显影来形成抗蚀剂图案；以及通过退火所述抗蚀剂图案来形成多个微透镜，其中，所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。
本发明的第二方面是要提供有利于简化固态图像传感器的制造工艺和/或者防止微透镜之间的对准误差的技术。
根据本发明的第二方面，提供一种制造固态图像传感器的方法，该方法包括：形成包含多个光接收部分的结构；在所述结构上形成抗蚀剂膜；使用其中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案的光掩模将所述抗蚀剂膜曝光；通过将曝光后的抗蚀剂膜显影来形成抗蚀剂图案；以及通过退火所述抗蚀剂图案来形成多个微透镜，其中，所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。
本发明的第三方面是要提供具有新颖的结构的固态图像传感器。
根据本发明的第三方面，提供一种固态图像传感器，所述固态图像传感器包含具有焦点检测功能的第一像素和不具有焦点检测功能而获得图像信号的第二像素，所述第一像素包含第一光接收部分、第一微透镜和被布置在第一光接收部分和第一微透镜之间的具有开口的遮光膜，并且，第二像素包含第二光接收部分和第二微透镜，其中，第一微透镜和第二微透镜具有相互不同的焦距，并且，第一微透镜在合焦(in-focus)状态中焦点位于所述开口中。
参照附图阅读示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清晰。
附图说明
图1包括图1A～1D，其中，图1A～1D是例示在第一实施例中使用的光掩模的示图；
图2A表示第一实施例的固态图像传感器及其制造方法；
图2B是示出根据第一实施例的固态图像传感器的结构的示图；
图3A～3C是用于解释第二实施例的示图；
图4是用于解释第三实施例的示图；
图5A～5C是用于解释第三实施例的示图；
图6是例示微透镜之间的对准误差的示图；
图7是例示正感光抗蚀剂材料的感光度(sensitivity)曲线的曲线图；
图8A～8D是用于解释第四实施例的示图；
图9A～9C是用于解释第四实施例的曲线图；
图10A～10C是用于解释第五实施例的曲线图；
图11是用于解释第五实施例的示图；
图12A～12C是用于解释第六实施例的示图；
图13A和图13B是用于解释第六实施例的曲线图；
图14A和图14B是用于解释第七实施例的曲线图。
具体实施方式
将参照图6来描述当通过多个光刻工艺形成不同类型的微透镜时这些不同类型的微透镜之间的对准误差。在图6所例示的固态图像传感器中，在两种类型的微透镜91和92中的微透镜91中存在由对准误差导致的偏移15。相应地，偏移15的存在使得微透镜91的焦点位置(在沿图像感测表面的方向上的位置)偏离设计位置。出于这种原因，具有微透镜91的像素的感光度与具有微透镜92的像素的感光度不同。
在本发明的第一实施例中，形成用于通过使用光掩模在一个曝光工艺中形成蓝色、绿色和红色微透镜的潜像图案，其中，在所述光掩模中布置有用于形成蓝色、绿色和红色微透镜的透镜图案。所述潜像图案被显影以形成抗蚀剂图案。所述抗蚀剂图案然后被退火，以使其表面平滑化，由此形成微透镜的弯曲表面。
图1D是示出在本发明的第一实施例中使用的光掩模PM的一部分的平面图。附图标记B、G和R分别表示用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案。图1A、图1B和图1C例示用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案的曝光光透射率。曝光光透射率分布可由面积强度法给出。面积强度法是根据点图案密度来确定强度的方法。点图案布局不是由图1D所示的圆给出的，而是可以是获得图1A、图1B和图1C所示的透射率的任意布局。在图1A、图1B和图1C所示的例子中，用于在中心位置处形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案的透射率分别为30％、20％和10％。考虑要形成的微透镜的形状、抗蚀剂材料的感光度曲线和曝光装置中的光掩模照明条件等来确定光透射率分布。
曝光装置使用光掩模PM以在抗蚀剂膜中形成通过使用与图1A、图1B和图1C的透射率对应的曝光量分布来曝光的潜像图案。作为抗蚀剂材料，如图7(感光度曲线)所例示的那样，使用能够根据曝光量来控制在显影工艺之后留下的抗蚀剂的膜厚度(残留膜厚度)的材料。这使得能够形成具有与曝光量分布对应的膜厚度分布的抗蚀剂图案。显影工艺之后的退火(烘焙工艺)使得能够获得具有不同形状的蓝色、绿色和红色像素微透镜。
将参照图2A来描述第一实施例的固态图像传感器及其制造方法。本实施例将例示CMOS固态图像传感器。在步骤S20中，在其中形成有多个光接收部分(光电换能器)1的半导体基板SB上形成多层布线结构2。绝缘膜3被形成为覆盖多层布线结构2。在步骤S20中，在绝缘膜3上形成第一平坦化层4。在平坦化层4上形成滤色器层5。在滤色器层5上形成第二平坦化层6。注意，多层布线结构2可包含例如第一布线层、第一层间电介质层、第二布线层、第二层间电介质层、以及第三布线层。在图2A中，为了便于示例，滤色器层5包含单个层。但是，滤色器层5可包含与蓝色、绿色和红色像素对应的多个滤色器并具有诸如拜耳(Bayer)布置的布置。这使得能够形成包含多个光接收部分1的结构。
然后，在步骤S22中，向在步骤S20中制备的结构的第二平坦化层6施加能够根据图7所示的曝光量来控制在显影工艺之后留下的抗蚀剂的膜厚度(残留膜厚度)的抗蚀剂材料。所述抗蚀剂材料被烘焙以形成抗蚀剂膜7。在步骤S24中，使用参照图1描述的光掩模PM来将抗蚀剂膜7曝光，由此在抗蚀剂膜7中形成潜像图案8。在步骤S26中，潜像图案8被显影和退火，以形成包含微透镜9-A、9-B和9-C的微透镜阵列。在这种情况下，微透镜9-A、9-B和9-C分别例示蓝色、绿色和红色微透镜。注意，如图2A所示，虽然为了便于示例，蓝色、绿色和红色像素微透镜是沿直线对准的，但是实际上可以根据拜耳布置等来布置它们。
图2B是示出通过图2A所示的制造方法制备的固态图像传感器的结构的断面图。分别对于具有蓝色像素滤色器5-A、绿色像素滤色器5-B和红色像素滤色器5-C的像素布置微透镜9-A、9-B和9-C。附图标记10-A、10-B和10-C分别表示蓝色、绿色和红色光线。参照图2B，光聚焦于光接收部分1的表面(光接收表面)。但是，根据需要，微透镜可被配置为在与光接收表面不同的位置处聚焦光。
如上所述，根据第一实施例，可通过一个曝光工艺形成蓝色、绿色和红色像素微透镜。这可有助于工艺的简化和微透镜之间的对准误差的减少。另外，根据第一实施例，在微透镜的重复的形成工艺中先形成的微透镜的形状将不因剩余微透镜的形成工艺而发生改变。
在第一实施例中，相同颜色的所有微透镜的形状不限于一种。通过调整光掩模PM的各透镜图案的光透射率分布，相同颜色的微透镜的形状可相互不同。
将参照图3A～3C来描述本发明的第二实施例。除了用于形成微透镜的光掩模以外，第二实施例的制造固态图像传感器的方法与第一实施例的相同。图3C是示出根据第二实施例的固态图像传感器的结构的断面图。除了用于获得图像信号的正常像素NP(第二像素)以外，根据第二实施例的固态图像传感器还包含具有焦点检测功能的像素FP(第一像素)(以下要被称为AF像素)。AF像素FP包含形状与正常像素NP的光接收部分(第二光接收部分)1相同或不同的光接收部分(第一光接收部分)11、微透镜(第一微透镜)9-E、以及被布置在光接收部分11和微透镜9-E之间的遮光膜SF。使用多个AF像素FP的成对的信号允许检测相位差。
AF像素FP包含光接收部分11上的遮光膜SF。遮光膜SF具有开口AP。开口AP的中心从光接收部分11的中心偏移。由于来自AF像素FP的输出值根据焦点状态(散焦量)而改变，因此可基于输出值来检测焦点状态。AF像素FP的微透镜9-E的焦距与正常像素NP的微透镜(第二微透镜)9-D的焦距不同。在合焦状态中，AF像素FP的微透镜9-E在遮光膜SF的开口AP中具有焦点。在合焦状态中，正常像素NP的微透镜9-D可具有例如处于光接收部分1的表面上的焦点，但也可以是从光接收表面偏移的焦点。注意，合焦状态表示照相机的拍摄透镜在固态图像传感器的图像感测表面上聚焦被摄体图像的状态。
在第二实施例中，曝光工艺使用在用于形成AF像素FP的微透镜9-E的透镜图案和用于形成正常像素NP的微透镜9-D的透镜图案之间具有不同的曝光光透射率分布的光掩模。这使得能够使AF像素FP的微透镜9-E的焦距与正常像素NP的微透镜9-D的焦距不同。例如，AF像素FP的微透镜9-E和正常像素NP的微透镜9-D可具有不同的高度和不同的曲率。参照图3C，附图标记10-G和10-H表示入射光轨迹和焦点。图3A和图3B例示用于形成正常像素NP和AF像素FP的微透镜的透镜图案的曝光光透射率。在图3A和图3B的例子中，用于形成正常像素NP和AF像素FP的微透镜的透镜图案的中心位置处的曝光光透射率分别为30％和10％。在第二实施例中，可使得如第一实施例那样使正常像素NP的蓝色、绿色和红色像素的焦点位置相互不同。
第二实施例可通过一个曝光工艺形成具有不同焦点位置的正常像素和AF像素的微透镜。这可有助于工艺的简化和微透镜之间的对准误差的减小。另外，根据第二实施例，在微透镜的重复形成工艺中先形成的微透镜的形状将不因剩余微透镜的形成工艺而发生改变。
将参照图4和图5A～5C来描述本发明的第三实施例。如图4所示，第三实施例的固态图像传感器具有有效像素区域15和无效像素区域12。OB区域(光学黑色区域)12是多层布线结构2的最上面的层的布线层图案延伸的区域。OB区域12至少如有效像素区域15那样包含具有光接收部分1的OB区域(光学黑色区域)，或者包含其中布置有驱动电路的电路区域。有效像素区域15可包含例如中心区域14和布置在其周围的外部区域13。图5C是示出第三实施例的固态图像传感器的中心区域14、外部区域13和无效像素区域12的结构的断面图。当对图5C中的中心区域14、外部区域13和无效像素区域12进行相互比较时，中心区域14中的第一平坦化层4的厚度与外部区域13中的不同。分别使4-14和4-13为中心区域14中的第一平坦化层4和外部区域13中的第一平坦化层4的厚度，关系(4-14)＜(4-13)成立。这是由于无效像素区域12中的多层布线结构2中的最上面的层的布线层的图案密度比中心区域14中的高。
当在这种状态下在包含中心区域14和外部区域13的有效像素区域15中形成同样的微透镜时，中心区域14中的微透镜的焦点位置和光接收表面的位置关系变得与外部区域13中的不同。出于这种原因，中心区域14的像素的微透镜9-G和外部区域13的微透镜9-F的形状(例如，高度和曲率)被调整，以使得中心区域14中的微透镜的焦点位置和光接收表面的位置关系与外部区域13中的匹配。附图标记10-I和10-J分别表示进入微透镜9-F和9-G的光线。即使中心区域14中的第一平坦化层4的厚度与外部区域13中的不同，入射光的焦点位置和光接收表面的关系也明显地相互匹配。
外部区域13中的第一平坦化层4的厚度在更接近无效像素区域12的位置处增加，并且，在远离无效像素区域12的位置处减小，并且，变得逐渐接近中心区域14的厚度。第一平坦化层4的厚度改变的区域落入从与无效像素区域12的边界起的几十到几百μm的范围内。该范围依赖于所用的平坦化层和最上面的层的布线层的图案密度。外部区域13的像素的微透镜9-F的形状可根据该变化而改变。图5A和图5B例示形成外部区域13和中心区域14中布置的像素的微透镜的图案的曝光光透射率。在图5A和图5B所示的例子中，用于形成外部区域13和中心区域14的像素的微透镜的图案的中心位置处的曝光光透射率分别为30％和20％。
在第三实施例中，可使得蓝色、绿色和红色像素微透镜的焦点位置如第一实施例那样相互不同，或者，可如第二实施例那样包含AF像素。
在第三实施例中，可根据像素位置(例如，外部区域13或中心区域14中的位置)通过一个曝光工艺来形成具有不同形状的多个微透镜。这可有助于工艺的简化和微透镜之间的对准误差的减小。另外，根据第三实施例，在微透镜的重复的形成工艺中先形成的微透镜的形状将不因剩余微透镜的形成工艺而发生改变。
第一到第三实施例是分别针对包含用于通过使用光掩模将抗蚀剂膜曝光的工艺的固态图像传感器制造方法的实际例子，其中在所述光掩模中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案。所述多个透镜图案包含具有不同的曝光光透射率分布的至少两个透镜图案。这两个透镜图案可根据像素的颜色、和/或像素的功能(正常像素或AF像素)、和/或位置(或所属的区域)而具有光透射率分布。
在第一到第三实施例中的每一个中获得的微透镜可进一步被用作微透镜形成掩模。在这种情况下，必须在第一到第三实施例中的每一个中获得的微透镜形成掩模下面布置微透镜材料，并且，通过包含微透镜形成掩模来蚀刻微透镜材料，由此形成微透镜。
将参照图8A～8D和图9A～9C来描述本发明的第四实施例。图8D是示出在本发明的第四实施例中使用的光掩模的一部分的平面图。附图标记B、G和R分别表示用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案。图8A、图8B和图8C分别例示用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案的曝光光透射率。
在第一实施例中，当微透镜如图8D所示的那样比虚线所示的在像素区域中内切(inscribed)的圆大时，在微透镜彼此相邻的边界处失去光掩模透射率的连续性，如图8A、图8B或图8C所示的那样。特别地，由于与绿色像素微透镜相邻的蓝色和红色像素微透镜的形状相互不同，因此沿X方向的断面处的绿色像素微透镜的形状与沿Y方向的不同。另外，由于在图8D所示的绿色像素微透镜G-1和G-2具有在X方向和Y方向上相邻的不同颜色的滤色器，因此，这些微透镜可具有不同的形状。
本发明的第四实施例对于解决以上问题是有用的。图9A、图9B和图9C分别例示用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案的曝光光透射率。在第四实施例中，微透镜彼此相邻的边界具有相同的透射率。在被布置在具有不同颜色的滤色器上的微透镜彼此相邻的边界处，保持光掩模透射率的连续性。当通过如第一实施例那样使用该光掩模来形成微透镜时，沿X方向的断面处的绿色像素微透镜的形状与沿Y方向的相同。另外，图8D所示的绿色像素微透镜G-1和G-2具有相同的形状。即使在第四实施例中，也可获得具有不同形状的蓝色、绿色和红色微透镜。
将参照图10A～10C和图11来描述本发明的第五实施例。第五实施例对于解决第一实施例的问题也是有用的。图10A、图10B和图10C分别例示用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案的曝光光透射率。用于形成蓝色、绿色和红色像素微透镜的透镜图案与第四实施例中的(如图8D所示)相同。图11表示在与相邻像素的边界对应的位置(即，透镜图案之间的边界位置)处具有狭缝的光掩模图案。
通过形成上述狭缝，相邻像素的边界处的透射率变为100％。在这种情况下，期望各狭缝的宽度为曝光波长或更小，例如，可被设为0.06μm。
如上所述，由于光掩模透射率在被布置在具有不同颜色的滤色器上的相邻微透镜的边界上变得均匀，因此，透射率的连续性被维持。当如第一实施例那样使用该光掩模形成微透镜时，沿X方向的断面处的绿色像素微透镜的形状与Y方向上的相同。图8D所示的绿色像素微透镜G-1和G-2具有相同形状。即使在第五实施例中，也可获得具有不同形状的蓝色、绿色和红色像素微透镜。
将参照图12A～12C以及图13A和图13B来描述本发明的第六实施例。图12C是示出在本发明的第六实施例中使用的光掩模的一部分的平面图。附图标记9-D和9-E分别表示用于形成针对正常像素NP和AF像素FP的微透镜的透镜图案。图12A和图12B例示用于形成针对正常像素NP和AF像素FP的微透镜的透镜图案的曝光光透射率。
第六实施例使用在用于形成针对AF像素FP的微透镜9-E的透镜图案和用于形成针对正常像素NP的微透镜9-D的透镜图案之间具有不同的曝光光透射率分布的光掩模。假定用于AF像素FP的微透镜9-E和用于正常像素NP的微透镜9-D具有不同的高度和不同的曲率。还假定微透镜9-E通过微透镜9-D而相互间隔一个或更多个像素。即，微透镜9-D中的至少一个被布置在微透镜9-E中的一个和微透镜9-E中的另一个之间。
当微透镜如图12C所示的那样比虚线所示的在像素区域中内切的圆大时，在微透镜彼此相邻的边界处，失去光掩模透射率的连续性，如图12A或12B所示。与用于AF像素FP的微透镜9-E相邻的用于正常像素NP的微透镜9-D-2的形状与和该用于正常像素NP的微透镜9-D-2相邻的微透镜9-D-1的形状不同。
本发明的第六实施例对于解决以上问题是有用的。图13A和图13B分别例示用于形成针对AF像素FP和正常像素NP的微透镜的透镜图案的曝光光透射率。在第六实施例中，微透镜彼此相邻的边界具有相同的透射率。在用于AF像素FP和正常像素NP的微透镜彼此相邻的边界处，保持光掩模透射率的连续性。当如第二实施例那样使用该光掩模形成微透镜时，图12C所示的与用于AF像素FP的微透镜9-E相邻的用于正常像素NP的微透镜9-D-2的形状与和该用于正常像素NP的微透镜9-D-2相邻的微透镜9-D-1的形状相同。即使在第六实施例中，也可以获得具有不同形状的用于AF像素FP和正常像素NP的微透镜。
将参照图14A和图14B来描述本发明的第七实施例。第七实施例对于解决第二实施例的问题也是有用的。图14A和图14B分别例示用于形成针对AF像素FP和正常像素NP的微透镜的透镜图案的曝光光透射率。第七实施例还在与相邻像素的边界对应的位置(即，透镜图案之间的边界位置)处包含狭缝。相邻像素的边界处的透射率被设为100％。
期望各狭缝的宽度为曝光波长或更小，例如，可被设为0.06μm。如上所述，由于光掩模透射率在被布置在具有不同颜色的滤色器上的相邻微透镜的边界上变得均匀，因此，透射率的连续性被维持。如第二实施例那样使用该光掩模形成微透镜。图12C所示的与用于AF像素FP的微透镜9-E相邻的用于正常像素NP的微透镜9-D-2的形状与和用于正常像素NP的微透镜9-D-2相邻的微透镜9-D-1的形状相同。即使在第七实施例中，也可获得具有不同形状的用于AF像素FP和正常像素NP的微透镜。
可以适当地组合上述各实施例。
作为根据上述实施例中的每一个的固态图像传感器的应用例子，将例示含有固态图像传感器的照相机。照相机的概念不仅包含以拍摄功能作为主要目的的设备，而且包含以拍摄功能作为辅助目的的设备(例如，个人计算机和便携式终端)。照相机包含作为上面描述的每个实施例被例示的根据本发明的固态图像传感器和用于处理从该固态图像传感器输出的信号的处理单元。处理单元可包含例如A/D转换器和用于处理从A/D转换器输出的数字数据的处理器。
虽然已参照示例性实施例说明了本发明，但应理解，本发明不限于所公开的示例性实施例。所附权利要求的范围应被赋予最宽的解释以包含所有这样的变更方式以及等同的结构和功能。

Claims (7)

1.一种制造微透镜阵列的方法，所述方法包括：
在包含多个光接收部分的结构上形成抗蚀剂膜；
使用光掩模将所述抗蚀剂膜曝光，其中，在所述光掩模中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案；
通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案；以及
通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述多个微透镜，
其中，所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案；
其中，具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案包含具有焦点检测功能的像素的透镜图案和不具有焦点检测功能的正常像素的透镜图案。
2.根据权利要求1的方法，其中，具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案中的每一个包含根据包含光接收部分的像素的颜色而确定的透镜图案。
3.根据权利要求1的方法，其中，具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案中的每一个包含根据包含光接收部分的像素的位置而确定的透镜图案。
4.根据权利要求1的方法，其中，光透射率在所述多个透镜图案之中的相邻微透镜的边界处是连续的。
5.一种制造固态图像传感器的方法，所述方法包括：
形成包含具有焦点检测功能的第一像素的第一光接收部分(11)和不具有焦点检测功能的用于获得图像信号的第二像素的第二光接收部分(1)的结构；
在所述结构上形成抗蚀剂膜；
使用光掩模将所述抗蚀剂膜曝光，其中，在所述光掩模中布置有用于形成第一和第二微透镜的第一和第二透镜图案；
通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案；以及
通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述第一和第二微透镜，
其中，第一微透镜被包含于第一像素中，并且第二微透镜被包含于第二像素中；
其中，所述第一和第二透镜图案具有相互不同的曝光光透射率分布，使得第一微透镜的焦距不同于第二微透镜的焦距。
6.根据权利要求5的方法，
其中，光透射率在多个透镜图案之中的相邻微透镜的边界处是连续的。
7.一种固态图像传感器，所述固态图像传感器包含具有焦点检测功能的第一像素和不具有焦点检测功能的用于获得图像信号的第二像素，
所述第一像素包含第一光接收部分、第一微透镜、以及被布置在第一光接收部分和第一微透镜之间的具有开口的遮光膜，以及
第二像素包含第二光接收部分和第二微透镜，
其中，第一微透镜和第二微透镜具有相互不同的焦距，并且，第一微透镜在合焦状态中焦点位于所述开口中。
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