JP4515012B2 - パターンデータの作製方法およびフォトマスク - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、パターンデータの作製方法に関し、特に、CCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイ)を作製するためのフォトマスクを形成するためのパターンデータの作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、CCDやCMOS等のイメージセンサーにおいては、受光部の集光効率を高めるため、各受光部に微小集光レンズを形成している。
このような微小集光レンズは、従来、集光部上側に形成された樹脂部を熱フローにてレンズ状に形成していた。
この方法の1例を、図13に基づいて、以下、簡単に説明しておく。
尚、図13中、301はデバイス基板(イメージセンサ基板)、302はシリコンウエハ、303は受光部、304はカラーフィルタ、304aは平坦化層、305は平坦化層、306はレジスト層、307はフォトマスク、308は露光光、309はレジストパターン(現像後のレジスト像)、310は凸レンズ(熱フロー後のレジスト像)である。
本例は、シリコンウエハ302の一面に形成された受光部303上側に、カラーフィルタ304を配設したデバイス基板301(図13(a)に対し、その各受光部303に対応して微小集光レンズを設ける場合である。
先ず、ディバイス基板301のカラーフィルタ304を覆う平坦化層305を設け、更に平坦化層305上にレンズを形成するための感光性の樹脂であるレジスト層306を塗布する。(図13(b))
次いで、フォトマスク307をレジスト層306に近接した状態で、レジスト層306を選択露光し(図13(c))、現像処理して、各受光部303に対応する領域に受光部303を覆う略四角状のレジストパターン309を形成する。(図13(d))
この後、熱処理してレジストパターン309を熱フローさせ、各受光部303に対応した凸レンズ310を形成する。(図13(e))
この方法の場合、レジストパターン309を熱フローにより凸レンズ形状とするため、所望の焦点距離を有する集光効率の良いレンズの形成することが難しかった。
特に、受光部までの距離が長いCMOSイメージセンサにおいては、熱処理による自然フローでは、焦点距離の長い設計通りのレンズ形状を形成することができなかった。
【0003】
また、別に、特開平5−142752号公報には、より微細なドットパターンの分布を用いて透過率を変化させることで,微小集光レンズを作成する方法が開示されている。
しかし、この方法の場合、エッチバックによりマイクロレンズを形成しており、且つ、マスクのパターン作成において、乱数によるパターンの配置を行う方法が採られているため、正確な所望の透過光量プロフファイルを得るのは困難であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、CCDやCMOS等のイメージセンサーにおいては、受光部の集光効率を高めるため、フォトマスクを用いたパターン形成により、各受光部に微小集光レンズを形成しているが、目的とする微小集光レンズの形状に合った現像後のレジストの形状を再現性良く、正確に形成することが難しく、問題となっていた。
本発明は、これに対応するもので、CCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイ)を作製するためのフォトマスクを形成するためのパターンデータの作製方法で、目的とする現像後のレジストの形状を再現性良く、正確に形成することができるフォトマスクを作製できるパターンデータの作製方法を提供しようとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明のパターンデータの作製方法は、露光波長では解像しない微細なドットパターンの分布状態により、露光する際の透過光量(露光量とも言う)分布を制御するフォトマスクを作製するためのパターンデータの作製方法であって、フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、所望の露光する際の透過光量分布をZ座標上のz値として求め、求められたz値に対応して、X−Y座標上の位置に、前記ドットパターンを配置するパターンデータの作製方法であり、順に、(a)露光量に応じて残膜厚の変化するレジスト(感光性レジスト材料とも言う)の現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得て、フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、目的とするフォトマスクの透過光量分布を、Z座標上のz値として表す、透過光量分布把握処理と、(b)前記フォトマスクのパターン形成平面を露光波長では解像しないドットパターンの所定サイズに分割し、露光においてフォトマスク面上は均一照度とし、前記Z座標上のz値に対応して、再現性のある所定のアルゴリズムを用いて、分割された露光波長では解像しない所定サイズのX−Y座標の領域毎に、該領域サイズのドットパターンの配置の有無を決め、パターンの配置が有と決められた、所定サイズのX−Y座標の領域には、ドットパターンを生成配置する、ドットパターンの生成処理とを行なうもので、前記所定のアルゴリズムとして、オーダードディザ法、誤差分散法のいずれかを用いていることを特徴とするものである。
そして、上記のパターンデータの作製方法であって、透過光量分布把握処理は、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストを露光し、現像して、得られた、露光量とレジストの残膜厚の関係のデータと、所望の被加工物の形状のプロファイルとから、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得るものであることを特徴とするものである。
あるいは、上記のパターンデータの作製方法であって、透過光量分布把握処理は、所定のシミュレーションにより、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得るものであることを特徴とするものである。
【0006】
また、上記いずれかのパターンデータの作製方法であって、レジストがレンズ形成用材料であり、現像後のレジストの所望のプロファイルが、レンズ形状のプロファイルであることを特徴とするものであり、レンズがCCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイとも言う)であることを特徴とするものである。
【0007】
本発明のフォトマスクは、上記本発明のパターンデータの作製方法により作製されたパターンデータを用いて作製されたことを特徴とするものである。
尚、フォトマスク作製としては、一般に、フォトマスク作製用の基板の遮光層上に配設されたレジスト上に、上記本発明のパターンデータの作製方法により作製されたパターンデータを用い、電子線描画装置やレーザ光を用いたフォト描画装置にて、露光描画を行ない、現像し、残ったレジストを耐エッチング層として、遮光層をエッチングして、遮光層をパターニングする方法が採られるが、これに限定はされない。
【0008】
尚、オーダードディザ法は、主に新聞や雑誌などの印刷におけるハーフトーン処理に用いられる方法と知られれており、元の画像の濃度値とデイザマトリクスとよばれる数字の並びとを比較して、その画素を白にするか黒にするかを決める方法で、イラストのように、元の画像とディザマトリクスを比較して、もし元画像の数字のほうが大きければ、その点を黒とし、小さければ白とする操作を、ずらしながら、画像全体に行う。
こうすることで、中間レベルの濃度値の画素が、適当な割合で白と黒に変換されて、ハーフトーン処理の場合と同じように、少し離れて見ると白と黒の画素が適当に混ざり合って、中間の階調を表現できる。
また,後に述べるが、誤差拡散法は、まず画素の濃度値が中間の濃度値(例えば、256階調なら128)より大きいか小さいかで白か黒かに分類し、次に、元の画像の濃度値と変換後の濃度値との誤差を適当な割合で間りの画素に分散させる方法であり、元の画像では灰色だったものが黒に変換された場合、周りの画素のうち黒くなっている画素を適当な割合で白の画素に変えるものである。
このようにすれば、画像全体で擬似的に階調が表現できる。
上記、オーダードディザ法、誤差拡散法は、いずれも、再現性のある手法である。
【0009】
【作用】
本発明のパターンデータの作製方法は、このような構成にすることにより、CCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイとも言う)を作製するためのフォトマスクを形成するためのパターンデータの作製方法で、目的とする現像後のレジストの形状を再現性良く、正確に得ることができるフォトマスクを作製できるパターンデータの作製方法の提供を可能としている。
具体的には、露光波長では解像しない微細なドットパターンの分布状態により、露光する際の透過光量分布を制御するフォトマスクを作製するためのパターンデータの作製方法であって、フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、所望の露光する際の透過光量分布をZ座標上のz値として求め、求められたz値に対応して、X−Y座標上の位置に、前記ドットパターンを配置するパターンデータの作製方法であり、順に、(a)露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得て、フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、目的とするフォトマスクの透過光量分布を、Z座標上のz値として表す、透過光量分布把握処理と、(b)前記フォトマスクのパターン形成平面を露光波長では解像しないドットパターンの所定サイズに分割し、露光においてフォトマスク面上は均一照度とし、前記Z座標上のz値に対応して、再現性のある所定のアルゴリズムを用いて、分割された露光波長では解像しない所定サイズのX−Y座標の領域毎に、該領域サイズのドットパターンの配置の有無を決め、パターンの配置が有と決められた、所定サイズのX−Y座標の領域には、ドットパターンを生成配置する、ドットパターンの生成処理とを行なうもので、前記所定のアルゴリズムとして、オーダードディザ法、誤差分散法のいずれかを用いていることにより、これを達成している。
透過光量分布把握処理が、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストを露光し、現像して、得られた、露光量とレジストの残膜厚の関係のデータと、所望の被加工物の形状のプロファイルとから、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得るものである場合、実際に使用するレジストを用い、正確に所望のプロファイルを得るための露光量分布を得ることができる。
また、透過光量分布把握処理が、所定のシミュレーションにより、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得るものである場合には、プロセス処理を行なう必要はなく、効率的に、所望のプロファイルを得るための露光量分布を得ることができる。
【0010】
レジスト(感光性レジスト材料)がレンズ形成用材料であり、現像後のレジストの所望のプロファイルが、レンズ形状のプロファイルである場合、特に、レンズがCCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイ)である場合には、有効である。
所定のアルゴリズムとしては、誤差分散法あるいはオーダードディザ法である場合、再現性があるパターンデータの作製を可能にしている。
本発明のパターンデータの作製方法においては、上記のアルゴリズムを用いて、露光波長では解像しない微細なドットパターンの分布状態により、露光する際の透過光量(露光量)分布を制御するものである。
微細なドットパターンとしては、フォトマスクの透過光量(露光量)分布の面からは、露光波長では解像しないサイズで小さいものほど好ましいが、例えば、露光波長365nm(i線)の、1/5縮小投影レチクルマスクを対象とした場合には、光学的に解像性という面からは、NAが0. 63、σが0. 6で、シミュレーション計算からは900nm以下であることが必要である。
また、レジスト(感光性レジスト材料)がレンズ形成用材料であり、現像後のレジストの所望のプロファイルが、レンズ形状のプロファイルである場合(特に、CCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイ)用のレンズのものである場合)、作製するレンズの曲面を表現するには、4μm角で、20×20ドットが必要とされているため、これを確保するには、1ドットのサイズは1000nm以下であることが求められる。
しかし、フォトマスク作製の際に用いる描画用の露光機の性能上の制約もあり、現状では、1ドットサイズは300nm以上に制限されてしまう。
結局、微細なドットパターンのサイズは、光学的解像性の他、現像後のレジストの所望のプロファイル表現、フォトマスク作製の際に用いる描画用の露光機の性能上の制約を考慮して決める。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明のパターンデータの作製方法の実施の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。
図1は本発明のパターンデータの作製方法の実施の形態の第1の例、第2の例の工程および本発明のフォトマスクの作製工程例を示したフロー図で、図2(a)はフォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、所望の露光する際の透過光量(露光量)分布をZ座標上の値zとして表した図で、図2(b)はフォトマスクパターン表した図で、図3(a)は現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を表した図で、図3(b)は図3(a)に示す露光量分布における所定のX−Y座標位置でのZ座標上の値zの一覧を示した図で、図4はオーダードディザ法を説明するための図で、図5は最大値を1としたディザ行列を示した図で、図6は誤差分散法を説明するための図で、図7は図3に示す所定のX−Y座標位置でのZ座標上の値zの一覧に基づき誤差分散法を実施した結果を示した図で、図8は誤差分散行列を用いた誤差分散法を数式により説明するための図で、図9は各種のディザ行列の例を表した図で、図10(a)は誤差分散法の各種走査方向を示した図で、図10(b)は各種誤差分散行列の例を示した図で、図11は現像後レジストの残膜厚と透過光量の関係を示した図で、図12はマスクと現像後の感光性のレンズ材料(レジスト)の残膜プロファイルとの関係を示した図である。
尚、図1において、S11〜S24は処理ステップを示す。
図12中、210はフォトマスク、211は透明基板、212は遮光膜、220は露光光、230は感光性レンズ材料(レジストのこと)、235は現像後のレジスト(レンズ)、240は被加工基板(イメージセンサ基板)である。
【0012】
はじめに、本発明のパターンデータの作製方法の実施の形態の第1の例を、図1に基づいて説明する。
予め、所望の現像後のプロファイルを得る感光性レジスト材料(単にレジストとも言う)と、この感光性レジスト材料を露光する露光波長を決めておく。(S11、S12)
先ず、決められた感光性レジスト材料を、所定の膜厚に前記現像後のプロファイルを形成する基板と同等の基板上に塗布し、各種露光量にて所定サイズの領域を露光し、現像して(S13)、露光量とレジストの残膜厚の関係データを求める。(S14)
数式化した露光量とレジストの残膜厚の関係データとしても良い。
感光性レジスト材料としてポジレジストを用いる場合、透過光量(露光量のこと)と残膜厚の関係は、通常、図11のようになる。
尚、図11においては、透過光量(露光量)、残膜厚とも正規化して示してある。
作製する現像後のレジスト像によっては、絵柄の形状や粗密によって、露光量と残膜厚の関係データが異なるため、絵柄状態に対応し、数種のデータ採り込みを行なう必要がある。
尚、必要な種類の、所望の現像後のプロファイルを得るための感光性レジスト材料の、露光量に対する残膜厚特性が分かっていれば、その都度、露光量と残膜厚の関係データを求めることは必ずしも必要ではない。
この露光量とレジストの残膜厚の関係データを用い、被加工物の所望のプロファイル(S15)にあったフォトマスクのパターンの露光量分布を求める。(S17)
上記S13〜S15を経てS17に至る、あるいは、S16を経てS17に至る一連の処理が透過光量(露光量)分布把握処理である。
尚、通常は、得たいプロファイルの関数について、レジスト・露光系などに対して最適化した補正式をかける。
フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として露光量分布をZ座標上のz値として表す。
ここでは、z=F(x、y)と表し、図2(a)に示すように求められるとする。
一方、フォトマスクの、決められた露光波長では解像しないパターン領域のサイズを所定サイズに決定しておく。(S18)
ここでは、X方向幅a、Y方向幅aとする。
先にも述べた通り、露光波長による光学的解像性の他、現像後のレジストの所望のプロファイル表現、フォトマスク作製の際に用いる描画用の露光機の性能上の制約を考慮して決める。
次いで、求められた、z=F(x、y)の関係データと、決められた露光波長では解像しないパターン領域のサイズとから、再現性のある所定のアルゴリズム(S19)を用いて、露光波長では解像しない所定サイズのドットパターンを、X−Y座標上、該サイズに分割された各領域毎に、配置の有無を決定する。(S20)
所定のアルゴリズムとしては、誤差分散法やオーダードディザ法が挙げられる。
そして、この決定に基づき、CADツールにより、X−Y座標上、所定の位置にドットパターンを配置してパターンデータを作製する。(S21)
上記の、S19〜S21に至る一連の処理がドットパターンの生成処理である。
このようにして、パターンデータを作製することができるが、図2(a)に示す露光量分布、z=F(x、y)に対応するパターンデータは、図2(b)のようになる。
【0013】
ここで、所望の現像後のプロファイルを得る露光量分布が、図3(a)に示す露光量分布、z=F1(x、y)であり、各位置(x、y)のz値が図3(b)の表のようになる場合について、オーダードディザ法を適用する場合を、図4に基づいて、その手順のみを簡単に説明しておく。
図3(b)に示す表は図4(a)の表と同じであるが、図4(a)の表のように、各位置におけるz値は配列される。
一方、例えば、図4(a)に示す表の配列に合せ、図5に示す最大値を1とした4行×4列のディザ行列を、図4(b)のように配列させておく。
ここで、図4(a)の表の配列と、図4(b)の表の配列について、対応する位置毎に、その大小を比較し、図4(b)の表側が図4(a)側よりも小の場合1、そうでない場合を0として、図4(c)に示すように、同様の配列を求める。
ここでは、1の領域の場合はドットパターンを配置しない領域とし、0の領域の場合はドットパターンを配置する領域とする。
ドットパターンのX方向、Y方向サイズと図4(a)に示す各位置間距離とを同じとするほうが精度面で好ましいが、計算量が大きくなる。
尚、ドットパターンのX方向、Y方向サイズと図4(a)に示す各位置間距離を必ずしも同じとする必要はない。
また、ディザ行列には、図9に示すような様々なパターンが考えられ、得たい露光分布に合わせて適宜選択して使用する。
【0014】
次に、誤差分散法を適用する場合について説明する。
先ず、図6に基づいて、誤差分散法の手順を簡単に説明しておく。
例えば、表の横方向を、縦方向をX方向、Y方向とし、それぞれ、所定ピッチでセル(画素とも言い、ピッチに対応するサイズである)を設け、各セルに図6(a)のように、値が配列されている場合について、表の左上から右下方向にかけて以下の処理を順次行なう。
先ず、左上セルP0について、中間値(0. 5)を閾値とし、2値化を行なう。(図6(b)
左上セルP0の値0. 1は2値化により0となる。
次いで、このセルP0に隣接するセルに重み付け加算(あるいは減算)して、図6(c)のようになる。
図6(b)中、▲1▼、▲2▼、▲3▼は、セルP0に対し、重み付け加算(あるいは減算)する隣接セルとその値を示している。
次に、隣のセルP1にに移り、2値化、重み付け加算(あるいは減算)して図6(d)を得る。
更に、その隣のセルP2に移り、同様に、値化、重み付け加算(あるいは減算)して図6(e)を得る。
以降、図6(e)の矢印の方向に順次、各セルに対し、同様の処理を行ない、得られた結果が求めるものである。
【0015】
図3(b)に示す表の場合、図7のようになる。
即ち、図3(a)に示す露光量分布、Z=F1(x、y)の場合、図7に示す1の領域の場合はドットパターンを配置しない領域とし、図7に示す0の領域の場合はドットパターンを配置する領域とする。
上記は、図10(a)のように、表の左上から右下方向にかけて処理を順次行なったが、これに限定はされない。
図10(b)、図10(c)の方向で処理を行なっても良い。
【0016】
上記操作を、図10(b)(イ)、図10(b)(ロ)に示すような誤差分散行列を用いて、座標(0、0)からはじめて、順次全セルに対して繰り返す誤差分散方法もある。
f(x、y)を元データ、fnew(x、y)を誤差分散を行った後のデータ、g(x、y)を閾値0. 5で2値化したデータ、Exyを2値化により生じた誤差とした場合、それぞれの関係は、図8の(1)式〜(5)式のように表される。
これらの関係式に基づいて、上記と同様にして、図7に相当する配列を求めることもできる。
【0017】
本発明のパターンデータの作製方法実施の形態の第2の例を挙げる。
上記のように、作製する現像後のレジスト像の絵柄に合せ、その露光量と残膜厚の関係を求めておくことは有効であるが、求める種類が多い場合は、現実的でなくなる。
本例は、シュミレーション(S16)を用いて、作製する現像後のレジスト像の絵柄に対応するものである。
これ以外は、第1の例と同じで説明を省略する。
例えば、所望の現像後のプロファイルを得るための感光性レジスト材料の、基本となる露光量に対する残膜厚特性データが分かった状態で、他の絵柄(配置、分布)について、基本となるデータに補正を施し、露光量に対する残膜厚特性を算出してしまうものが挙げられる。
【0018】
次いで、上記のようにして作製された、ドットパターンを配置したパターンデータを用いて、電子線描画露光装置にて、フォトマスク用基板の遮光層上のレジストを露光描画し(S21)、所定の現像、エッチング等のプロセス処理を経て、本発明のフォトマスク(S22)を作製する。
このようにして作製されたフォトマスクを用い、露光して、例えば、被加工基板(イメージセンサ基板)上に感光性レジスト材料でレンズを形成する場合、図12(a)に示すように、フォトマスク210のパターンを被加工基板(イメージセンサ基板)上のレジスト230に、縮小投影にて露光し、現像して、図12(b)のように、被加工基板(イメージセンサ基板)240上に直接レンズを得ることができる。
【0019】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、CCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズ(マイクロレンズアレイ)を作製するためのフォトマスクを形成するためのパターンデータの作製方法で、目的とする現像後のレジストの形状を再現性良く、正確に形成することができるフォトマスクを作製できるパターンデータの作製方法の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のパターンデータの作製方法の実施の形態の第1の例、第2の例の工程および本発明のフォトマスクの作製工程例を示したフロー図である。
【図2】 図2(a)はフォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、所望の露光する際の透過光量(露光量)分布をZ座標上の値zとして表した図で、図2(b)はフォトマスクパターン表した図である。
【図3】 図3(a)は現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を表した図で、図3(b)は図3(a)に示す露光量分布における所定のX−Y座標位置でのZ座標上の値zの一覧を示した図である。
【図4】 オーダードディザ法を説明するための図である。
【図5】 最大値を1としたディザ行列を示した図である。
【図6】 誤差分散法を説明するための図である。
【図7】 図3に示す所定のX−Y座標位置でのZ座標上の値zの一覧に基づき誤差分散法を実施した結果を示した図である。
【図8】 誤差分散行列を用いた誤差分散法を数式により説明するための図である。
【図9】 各種のディザ行列の例を表した図である。
【図10】 図10(a)は誤差分散法の各種走査方向を示した図で、図10(b)は各種誤差分散行列の例を示した図である。
【図11】 現像後レジストの残膜厚と透過光量の関係を示した図である。
【図12】 マスクと現像後の感光性のレンズ材料(レジスト)の残膜プロファイルとの関係を示した図である。
【図13】 従来の微小な集光レンズの形成方法の工程を示した工程断面図である。
【符号の説明】
210 フォトマスク
211 透明基板
212 遮光膜
220 露光光
230 感光性レンズ材料(レジストのこと)
235 現像後のレジスト(レンズ)
240 被加工基板(イメージセンサ基板)
Claims (6)
- 露光波長では解像しない微細なドットパターンの分布状態により、露光する際の透過光量分布を制御するフォトマスクを作製するためのパターンデータの作製方法であって、フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、所望の露光する際の透過光量分布をZ座標上のz値として求め、求められたz値に対応して、X−Y座標上の位置に、前記ドットパターンを配置するパターンデータの作製方法であり、順に、(a)露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得て、フォトマスクのパターン形成平面をX−Y座標として、その座標値x、yの関数として、目的とするフォトマスクの透過光量分布を、Z座標上のz値として表す、透過光量分布把握処理と、(b)前記フォトマスクのパターン形成平面を露光波長では解像しないドットパターンの所定サイズに分割し、露光においてフォトマスク面上は均一照度とし、前記Z座標上のz値に対応して、再現性のある所定のアルゴリズムを用いて、分割された露光波長では解像しない所定サイズのX−Y座標の領域毎に、該領域サイズのドットパターンの配置の有無を決め、パターンの配置が有と決められた、所定サイズのX−Y座標の領域には、ドットパターンを生成配置する、ドットパターンの生成処理とを行なうもので、前記所定のアルゴリズムとして、オーダードディザ法、誤差分散法のいずれかを用いていることを特徴とするパターンデータの作製方法。
- 請求項1に記載のパターンデータの作製方法であって、透過光量分布把握処理は、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストを露光し、現像して、得られた、露光量とレジストの残膜厚の関係のデータと、所望の被加工物の形状のプロファイルとから、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得るものであることを特徴とするパターンデータの作製方法。
- 請求項1に記載のパターンデータの作製方法であって、透過光量分布把握処理は、所定のシミュレーションにより、露光量に応じて残膜厚の変化するレジストの現像後のレジストの所望のプロファイルを得るための、フォトマスクのパターンの露光量分布を得るものであることを特徴とするパターンデータの作製方法。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載のパターンデータの作製方法であって、レジストがレンズ形成用材料であり、現像後のレジストの所望のプロファイルが、レンズ形状のプロファイルであることを特徴とするパターンデータの作製方法。
- 請求項4に記載のパターンデータの作製方法であって、レンズがCCDやCMOS等のイメージセンサの受光部上側への微小な集光レンズであることを特徴とするパターンデータの作製方法。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載のパターンデータの作製方法により作製されたパターンデータを用いて作製されたことを特徴とするフォトマスク。
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