JP4249586B2 - マイクロレンズの形成方法 - Google Patents
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Images
Description
2 受光部
3 第1の平坦化膜
4 着色レジスト層
5 第2の平坦化膜
6 感光性レンズ材料層
7 フォトマスク
8 紫外線
9 マイクロレンズ
10 階段状マイクロレンズ
Claims (6)
- マイクロレンズを形成する際の露光波長では解像しない微細なドットパタ−ンの分布状態により、露光する際の透過光量分布を制御するフォトマスクを用いたマイクロレンズの形成方法において、
前記フォトマスクを作製するためのパタ−ンデ−タの作製方法が、フォトマスクのパタ−ン形成平面をX−Y座標とし、その座標値x、yを関数として、所望する透過光量分布をZ座標上のz値として求め、求められたz値に対応してX−Y座標上の位置に前記ドットパタ−ンを配置するパタ−ンデ−タの作製方法であり、順に、
(a)露光量に応じて残膜厚の変化する感光性レンズ材料の現像後のレンズ材料の所望の形状を得るための、フォトマスクのパタ−ンの透過光量分布を得て、フォトマスクのパタ−ン形成平面をX−Y座標とし、その座標値x、yを関数として、目的とするフォトマスクの透過光量分布をZ座標上のz値として表す透過光量分布把握処理と、
(b)露光においてフォトマスク面上は均一照度とし、前記Z座標上のz値に対応して、再現性のある所定のアルゴリズムを用いて、露光波長では解像しない所定サイズのX−Y座標の領域毎に、該領域サイズのドットパタ−ンの配置の有無を決め、パタ−ンの配置が有と決められた所定サイズのX−Y座標の領域には、ドットパタ−ンを生成配置するドットパタ−ン生成処理とを行なうパタ−ンデ−タの作製方法であり、
固体撮像素子が設けられた基板上に第1の平坦化膜、マイクロレンズを形成する際の露光波長における反射率が21%以下の着色レジスト層、第2の平坦化膜、露光量に応じて現像後の残膜厚の変化する感光性レンズ材料層をこの順に設け、前記着色レジスト層はカラーフィルタ層であり、前記フォトマスクを用いて前記感光性レンズ材料層を露光し、現像してレンズを形成したことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。 - 前記透過光量分布把握処理が、露光量に応じて残膜厚の変化する感光性レンズ材料を露光し、現像し、得られた露光量と感光性レンズ材料の残膜厚曲線と所望のレンズ形状から、前記感光性レンズ材料の現像後の所望の形状を得るためのフォトマスクのパタ−ンの透過光量分布を得るパタ−ンデ−タ作製方法であることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズの形成方法。
- 前記透過光量分布把握処理が、ドットパタ−ンの密度により白面積率が異なる領域を複数設けたフォトマスクを用いて感光性レンズ材料を露光し、現像し、得られたフォトマスクの白面積率と感光性レンズ材料の残膜厚と所望のレンズ形状から、前記感光性レンズ材料の現像後の所望の形状を得るためのフォトマスクのパタ−ンの透過光量分布を得るパタ−ンデ−タ作製方法であることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズの形成方法。
- 前記透過光量分布把握処理が、所定のシミュレ−ションにより、露光量に応じて残膜厚の変化する感光性レンズ材料の現像後の所望の形状を得るためのフォトマスクのパタ−ンの透過光量分布を得るものであることを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズの形成方法。
- 前記所定のアルゴリズムが、誤差分散法もしくはオ−ダ−ドディザ法を用いて作製されたパタ−ンデ−タであることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載のマイクロレンズの形成方法。
- 前記露光波長が365nmであり、5倍レチクルである前記フォトマスク上で、前記ドットパタ−ンの一辺の寸法が0.3μm〜0.5μmの範囲にあることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載のマイクロレンズの形成方法。
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