JP5083518B2 - 濃度分布マスク - Google Patents
濃度分布マスク Download PDFInfo
- Publication number
- JP5083518B2 JP5083518B2 JP2007170130A JP2007170130A JP5083518B2 JP 5083518 B2 JP5083518 B2 JP 5083518B2 JP 2007170130 A JP2007170130 A JP 2007170130A JP 2007170130 A JP2007170130 A JP 2007170130A JP 5083518 B2 JP5083518 B2 JP 5083518B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- density distribution
- lens
- mask
- distribution mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Description
(1)前記のような3次元構造を製作するために、その3次元構造を基に露光時の光透過光量の全体的な光強度分布を計算し、基板上での各ポイントの感光性材料の除去量をシミュレーションで計算し、除去量に見合った光を透過する遮光膜パターンを設計する計算シミュレーション工程。
(2)透明基板上に遮光膜が形成され、さらにその上にマスク用感光性材料層をもつマスクブランクスに電子線またはレーザー光線によって前記の設計された遮光膜パターンに基づいて露光し、現像してマスク用感光性材料パターンを形成するパターン化工程。
(3)形成されたマスク用感光性材料パターンをマスクとして前記遮光膜をドライエッチング又はウエットエッチングし、遮光膜パターンを形成する工程。
(4)次いで必要により、工程(3)で形成された遮光膜パターンを工程(1)で設計された遮光膜パターンと比較し、両者が一致するように前記形成された遮光膜マスクパターンを修正する工程。
まず、円形パターンというものは、電子ビーム露光装置では描きにくく、描けないことはないが、描画するのに多量のデータ量が必要になる。さらに言えば、円形の遮光膜パターンを各々の単位セルの中央に描画する必要があるが、その位置すなわちアドレスを指定するデータ量も膨大なものになる。
ターンをベタパターンと同等とし、このようなマスクにより隣接レンズ同士を完全に分離するように形成することができる。このようにすることによって混色を完全になくすることができる。具体的には、図2で正方形の辺の長さCをグリッドの間隔aの倍以上の値にすることで、ベタパターンとすることができる。
(1)レンズアレイを製作するために、そのレンズアレイの3次元構造を基に露光時の光透過光量の全体的な光強度分布を計算し、基板上での各ポイントの感光性材料の除去量をシミュレーションで計算し、除去量に見合った光を透過する遮光膜パターンを設計する。(2)透明基板上に遮光膜を形成し、さらにその上にマスク用感光性材料層をもつマスクブランクスに電子線またはレーザー光線によって前記の設計された遮光膜パターンに基づいて露光し、現像してマスク用感光性材料パターンを形成する。
(3)形成されたマスク用感光性材料パターンをマスクとして前記遮光膜をドライエッチング又はウエットエッチングし、遮光膜パターンを形成する。
(4)工程(3)で形成された遮光膜パターンを工程(1)で設計された遮光膜パターンと比較し、両者が一致するように前記形成された遮光膜マスクパターンを修正する。
Claims (3)
- 基板上にフォトリソ工程により単位のレンズをアレイ状に複数配置したレンズアレイを形成するための濃度分布マスクにおいて、単位のレンズを構成する各パターンの中心が等間隔の縦横のグリッドの交点上になるように配置され、グリッドの交点上に正方形状のパターンの中心を正方形状のパターンが互い違いになるように配置して濃度分布が形成され、単位のレンズの大きさをグリッドの間隔の偶数倍とし、単位のレンズをアレイ状に形成し、正方形状パターンの辺の長さを、ゼロからグリッドの間隔の2倍の範囲で逐次変えて配置することにより、濃度分布が形成されたことを特徴とする濃度分布マスク。
- 隣接する単位のレンズ同士の境界近傍部では、レンズパターンの内部に比較し急激にパターン濃度を変化させてパターン形成され、単位のレンズの外周部は内部に比し曲率の大きな形状のレンズアレイを形成されたことを特徴とする請求項1に記載の濃度分布マスク。
- 濃度分布マスクを構成するパターンは、ベクター型電子ビーム描画機にて描画していることを特徴とする請求項1または2に記載の濃度分布マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007170130A JP5083518B2 (ja) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | 濃度分布マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007170130A JP5083518B2 (ja) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | 濃度分布マスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009008885A JP2009008885A (ja) | 2009-01-15 |
JP5083518B2 true JP5083518B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=40324026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007170130A Active JP5083518B2 (ja) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | 濃度分布マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5083518B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5629964B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2014-11-26 | 凸版印刷株式会社 | 濃度分布マスクとその製造方法及びマイクロレンズアレイの製造方法 |
JP5737608B2 (ja) * | 2011-01-31 | 2015-06-17 | 大日本印刷株式会社 | 光変調素子および光変調素子の製造方法 |
JP5764948B2 (ja) * | 2011-02-02 | 2015-08-19 | 株式会社ニコン | グレースケールマスク |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000275405A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-06 | Canon Inc | マイクロ構造体アレイの作製方法、マイクロレンズアレイ用金型の作製方法、及びこれを用いたマイクロレンズアレイの作製方法 |
JP2002365784A (ja) * | 2001-06-05 | 2002-12-18 | Sony Corp | 多階調マスク、レジストパターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 |
JP2005265963A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Hoya Corp | フォトマスク、及び、フォトマスクのセット |
JP4760198B2 (ja) * | 2005-08-01 | 2011-08-31 | ソニー株式会社 | 露光用マスク、露光用マスクの設計方法および露光用マスクの設計プログラム |
JP4572821B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2010-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | グレイスケールマスク、マイクロレンズの製造方法 |
-
2007
- 2007-06-28 JP JP2007170130A patent/JP5083518B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009008885A (ja) | 2009-01-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101799860B1 (ko) | 위상 시프터 패턴이 형성된 공간 필터를 구비하는 마스크리스 노광장치 및 노광방법 | |
JP5233404B2 (ja) | 濃度分布マスクの製造方法及びマイクロレンズアレイの製造方法 | |
JP5239417B2 (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法及び濃度分布マスク及びその設計方法 | |
US9349771B2 (en) | Microlens forming method and solid-state image sensor manufacturing method | |
JP5402316B2 (ja) | フォトマスク、及び光学素子の製造方法 | |
JP5083518B2 (ja) | 濃度分布マスク | |
JP5677076B2 (ja) | フォトマスクデータの生成方法、その作製方法、そのためのプログラム、固体撮像装置の製造方法、および、マイクロレンズアレイの製造方法 | |
JP4817907B2 (ja) | レジストパターン形成用のフォトマスク及びその製造方法、並びにこのフォトマスクを用いたレジストパターンの形成方法 | |
JP5391701B2 (ja) | 濃度分布マスクとその設計装置及び微小立体形状配列の製造方法 | |
JP4515012B2 (ja) | パターンデータの作製方法およびフォトマスク | |
JP2007041094A (ja) | 露光用マスク、露光用マスクの設計方法および露光用マスクの設計プログラム | |
KR102471802B1 (ko) | 포토마스크, 포토마스크 제조 방법, 및 포토마스크를 사용한 컬러 필터의 제조 방법 | |
KR20130044385A (ko) | 레티클 형성용 노광 장치 및 이를 이용한 레티클 제조 방법 | |
JP5136288B2 (ja) | 濃度分布マスク及びその製造方法 | |
JP2016012122A (ja) | フォトマスク、光学素子アレイの製造方法、光学素子アレイ | |
JP2006030510A (ja) | 濃度分布マスク | |
JP5159859B2 (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
JP5629964B2 (ja) | 濃度分布マスクとその製造方法及びマイクロレンズアレイの製造方法 | |
JP5286821B2 (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法及び濃度分布マスク | |
JP2012109541A (ja) | 固体撮像装置の製造方法 | |
US8742546B2 (en) | Semiconductor device with a plurality of dot patterns and a line pattern having a projection part | |
JP2005265963A (ja) | フォトマスク、及び、フォトマスクのセット | |
JP5311326B2 (ja) | フォトマスク、パターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 | |
JP2009031400A (ja) | 濃度分布マスク | |
JP4437366B2 (ja) | パワー変調方式による濃度分布マスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120510 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120522 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120808 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120821 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5083518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |