JP4760198B2 - 露光用マスク、露光用マスクの設計方法および露光用マスクの設計プログラム - Google Patents
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Description
先ず、X−Y外形が所望の長方形、楕円形のレンズ等の2次元レンズに対し、縦方向のレンズ径における開口のピッチ、横方向のレンズ径における開口のピッチより、パターン配置領域の縦横ピッチを求める。ここで、パターン配置領域とは、1つの2次元レンズに対応したマスク領域内を縦横マトリクス状に分割してなる1つの分割領域であり、縦方向および横方向で各々同一ピッチとなっているものである。次に、縦方向の開口ピッチの較正データから開口の縦方向の寸法を決定し、横方向の開口ピッチの較正データから開口の横の寸法を決定することで、マスク上の各パターン配置領域に所定の長方形の開口を設計する。
先ず、X−Y外形が所望の長方形、楕円形のレンズ等の2次元レンズに対し、縦方向のレンズ径における開口のピッチ、横方向のレンズ径における開口のピッチより、パターン配置領域の縦横ピッチを求める。次に、設定されたパターン配置領域の縦方向のピッチと横方向のピッチとの比率を算出し、両方のピッチにおける較正データを合成して得られる膜減り量と実露光量の関係を求める。ここで、実露光量は較正パターンの開口サイズと開口ピッチ、および露光時のDose量から求めることができる。次に、形成目標形状を得るための膜減り量分布から各パターン配置領域における実露光量を求め、目標透過率を計算する。この透過率より各パターン配置領域において、正方形の単位開口のサイズを算出し、求めた単位開口サイズに前述の縦方向ピッチの比率をかけることで開口の縦サイズを求め、単位開口サイズに前述の横方向ピッチの比率をかけることで開口の横サイズを求める。または、各パターン配置領域の透過率と縦の開口ピッチより開口の縦寸法を求め、横の開口ピッチより開口の横寸法を求めてもよい。手法2ではピッチの縦横比と開口の縦横比が同じ、つまりパターン配置領域と開口とが相似形になるようにマスクを設計する。ここで、単位パターン配置領域とは図7のようにパターン配置領域を隙間無く埋めることのできる最大サイズの正方形であり、同様に単位開口も目標となる開口を隙間無く埋めることのできる最大サイズの正方形とする。
図1(a)に示す長方形レンズL1について、まずパターン配置領域のX方向のピッチを決定する。すなわち、レンズ径がX方向50.4μmであるので、パターンピッチは露光装置の解像限界ピッチ0.7μm以下であり、且つ50.4μmの1/整数でもある必要があるため、パターン配置領域のX方向のピッチは0.6μmとする(図3Px)。
第1実施形態と同様に、先ずパターン配置領域のXY各方向のピッチを決定する。ここでは、第1実施形態の場合とレンズターゲット形状と露光装置は同様のものとするので、パターン配置領域のX方向のピッチは0.6μm、Y方向のピッチは0.5μmとなる。
Claims (9)
- 縦横両方向に各々異なる径を持つ2次元レンズを形成するため、1つの2次元レンズに対応したマスク領域に複数のパターン配置領域を、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて、縦方向および横方向で各々同一ピッチの長方形としてマトリクス状に配置し、
各パターン配置領域に設けられる開口の形状が、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて長方形であり、前記開口のサイズによって0次光の透過率を設定することにより各領域と対応する前記2次元レンズの各地点における所望のレンズ高さを得る
露光用マスク。 - 前記複数のパターン配置領域における縦方向および横方向の各々のピッチは、転写に用いる露光装置の解像限界以下であり、かつ、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて、縦横独立にそれぞれの径の1/整数になるように決定されている
請求項1記載の露光用マスク。 - 前記開口の縦横寸法は、縦方向に沿った前記0次光の透過率の設定と、横方向に沿った前記0次光の透過率の設定とを各々独立して求めて得た値となっている
請求項1記載の露光用マスク。 - 前記開口の縦横寸法は、縦横の比率が2次元レンズの外形形状と露光装置の解像限界から導き出される縦方向の開口ピッチと横方向の開口ピッチとの比率と同じであり、前記0次光において所望の透過率を得ることのできる面積となっている
請求項1記載の露光用マスク。 - 縦横両方向に各々異なる径を持つ2次元レンズを形成するための露光用マスクを設計する方法であって、
1つの2次元レンズに対応したマスク領域に、1つの開口を配置する単位領域であるパターン配置領域を、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて縦方向および横方向で各々同一ピッチの長方形とし、該長方形の複数個のパターン配置領域をマトリクス状に設定する工程と、
前記マトリクス状に設定された複数の前記パターン配置領域の各々に、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて、各領域と対応する前記2次元レンズの各地点における所望のレンズ高さを得るための0次光の透過率を得る長方形の開口を設定する工程と
を有する
露光用マスクの設計方法。 - 前記開口の縦横サイズは、縦方向に沿った前記0次光の透過率の設定と、横方向に沿った前記0次光の透過率の設定とを各々独立して求めて得た値になっている
請求項5記載の露光用マスクの設計方法。 - 縦方向および横方向の両方のピッチにおけるデータを合成して得られる膜減り量と実露光量の関係を求め、前記2次元レンズの形成目標形状を得るための膜減り量分布から各前記パターン配置領域における実露光量を求め、前記実露光量から目標透過率を計算する工程と、
前記目標透過率に前記各パターン配置領域の縦方向ピッチの比率をかけ、前記目標透過率に前記各パターン配置領域の横方向ピッチの比率をかけて前記開口の縦横サイズを定めることにより、前記マトリクス状に設定された複数の前記パターン配置領域の各々に、各領域と対応する前記2次元レンズの各地点における所望のレンズ高さを得るための0次光の透過率を得る長方形の開口を設定する工程と
を有する
請求項5記載の露光用マスクの設計方法。 - 前記開口の縦横サイズは、縦横の比率が2次元レンズの外形形状と露光装置の解像限界から導き出される縦方向の開口ピッチと横方向の開口ピッチとの比と同じで前記0次光において所望の透過率を得ることのできる面積となる値になっている
請求項5記載の露光用マスクの設計方法。 - 縦横両方向に各々異なる径を持つ2次元レンズを形成するための露光用マスクを設計する処理をコンピュータによって実行する露光用のマスク設計プログラムにおいて、
1つの2次元レンズに対応したマスク領域に、1つの開口を配置する単位領域であるパターン配置領域を、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて、縦方向および横方向で各々同一ピッチの長方形とし、該長方形の複数個のパターン配置領域をマトリクス状に設定する工程と、
前記マトリクス状に設定された複数のパターン配置領域の各々に、前記1つの2次元レンズ外形の縦横各々の径に合わせて、各領域と対応する前記2次元レンズの各地点における所望のレンズ高さを得るための0次光の透過率を得る長方形の開口を設定する工程と
をコンピュータによって実行する
露光用マスクの設計プログラム。
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