JP2002287325A - マスク、マスクの製造方法、微細構造体の製造方法、及び液晶ディスプレイの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 曲面加工を含む複数の内容から成る微細加工
を、１回の露光工程で可能とする。 【解決手段】 第一の加工内容及び第二の加工内容に相
当するマスクデータを個別に作成した後、多層マスクの
各層、あるいは多値マスクの別々の透過率範囲、あるい
は２値マスクの別々の面積範囲にそれぞれを記録する。
加工内容が３次元形状の場合は、各データを露光系の最
小分解能より小さいドットのオン・オフで記録してもよ
い。これにより１枚のマスクで複雑な３次元形状が容易
に加工可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネル、半導
体基板、マイクロ・エレクトロニクス・ミラー・デバイ
ス（ＭＥＭＳ）基板などに形成され微細な立体構造体を
製造するのに適した製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶パネルは、軽量で小型（薄型）およ
び低消費電力という優れた点を生かし、携帯電話機の表
示パネル、ノートパソコンまたはＰＤＡ（パーソナルデ
ータ機器）などのディスプレイとして、急速に需要が高
まっている。特に、反射型の表示パネル（液晶パネル）
は、液晶層を透過した光を反射型の電極を用いて再び液
晶層の方向に反射させ、所望の画像を表示するものであ
り、自然光または照明光などの周囲光を光源とすること
ができる点で、携帯電話機の１つの大きな課題である電
池による長時間駆動を可能とする重要なファクタとなっ
ている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】反射型の液晶パネル
は、表示のカラー化が進む中で、さらに明るいものが要
求されている。したがって、反射型の表示パネルに用い
られ、反射体としての機能を果たす、反射型の電極など
の反射効率を向上し、光の利用効率を良くすることが重
要である。そのために、反射体（反射面）の形状は、単
純な凹凸状でなく、例えば、曲面、あるいは多階段状の
反射面にすることで、配光性を高めることが検討されて
いる。さらに、半球状などの単純な曲面ではなく、反射
方向を瞳の方向にして光の利用効率を高められるよう
に、最適な反射面の形状が求められている。尚、前記反
射面の形状は、フォトリソグラフィー技術により実現す
ることができる。

【０００４】ところで、反射面が構造の内部にある、所
謂内面反射構造の液晶パネルにおいては、前記反射面は
前記液晶層（セル）を駆動する電極を兼ねるか、電極と
隣接した層となっている。また、前記反射面の背面には
駆動回路がさらに積層されている。前記電極と前記駆動
回路は画素ごとに電気的に接続されなければならない。
一般にこの接続は、コンタクトホールと呼ばれる、反射
体を貫通する穴で導通をとることによって行われる。よ
って、内面反射構造の液晶パネルにおいては、前記コン
タクトホールを形成する加工が不可欠となる。そして、
前記コンタクトホールもまた、フォトリソグラフィー技
術により形成される。さて、液晶パネルのコストは、工
程数によるところが大きいのはいうまでもない。よっ
て、液晶パネルの製造において、工程数の削減は常に強
く求められている。そして、前記反射面の形成、及び前
記コンタクトホールの形成の工程は著しく類似してい
る。にもかかわらず、従来の液晶パネルの製造工程にお
いて、それらは別々の工程となっていた。これら２つの
工程が必要とされることは、液晶パネルのコストダウン
に大きな足かせとなっていた。

【０００５】そこで、本発明は、前記反射面と前記コン
タクトホールを形成するパターンを併せて１枚のマスク
に記録し、１回のフォトリソグラフィー工程で一度に製
造することを可能にするマスク、前記マスクの製造方
法、前記反射面及び前記コンタクトホール等の微細構造
体の製造方法を提供することを目的としている。即ち、
液晶パネルの工程数を大幅に少なくし、明るい液晶パネ
ルを低コストで製造する方法を提供することを目的とし
ている。言い換えれば、曲面、任意の角度を備えた面、
多段階な構造などの複数の要素から成る微細形状を持つ
微細構造体を量産する際に、工数を増やさずに製造可能
にすることを目的としている。あるいはさらに、液晶パ
ネル以外の一般の微細加工に応用すれば、精度の高い製
品を歩留り良く、短時間で製造できる微細構造体の製造
方法を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】（１） 本発明の３値マ
スクは、加工装置にセットされ、被加工体に対する加工
効果が蓄積される加工媒体の透過量を制御可能なマスク
において、第一の透過率を有する第一の層と第二の透過
率を有する第二の層より構成され、前記第一の層及び第
二の層のパターンの組み合わせにより３段階に前記加工
媒体の透過量を制御可能な３値マスクであって、前記第
一の層及び第二の層には、前記加工装置、前記被加工体
および前記加工媒体の少なくとも何れかによって定まる
最小分解能より小さい面積単位のドットのオン・オフの
面積比率で前記加工媒体の透過量を制御するような異な
るパターンが形成されていることを特徴とする。

【０００７】（２）本発明の多値マスクは、加工装置に
セットされ、被加工体に対する加工効果が蓄積される加
工媒体の透過量を制御可能なマスクにおいて、第一の透
過率を有する第一の層から、同様に第ｎの透過率を有す
る第ｎの層までの複数の層より構成され、前記第一の層
から第ｎの層のパターンの組み合わせによりｎ以上の段
階に前記加工媒体の透過量を制御可能なであって、前記
第一から第ｎまでの各層には、前記加工装置、前記被加
工体および前記加工媒体の少なくとも何れかによって定
まる最小分解能より小さい面積単位のドットのオン・オ
フの面積比率で前記加工媒体の透過量を制御するような
異なるパターンが形成されていることを特徴とする。

【０００８】（３）本発明の多値マスクは、加工装置に
セットされ、被加工体に対する加工効果が蓄積される加
工媒体の透過量を制御可能なマスクにおいて、離散的な
複数の段階をもって、あるいは段階なく連続して前記加
工媒体の透過量を微小な領域ごとに制御可能な多値マス
クであって、前記加工媒体の透過量をある値Ａからある
値Ｂまでの第一の範囲で制御する第一の領域と、ある値
Ｃからある値Ｄまでの第二の範囲で制御する第二の領域
とより構成されることを特徴とする。

【０００９】（４） 本発明の２値マスクは、加工装置
にセットされ、被加工体に対する加工効果が蓄積される
加工媒体の透過量を２段階に制御可能な２値マスクであ
って、前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体
の少なくとも何れかによって定まる最小分解能より小さ
い面積単位のドットのオン・オフの面積比率で前記加工
媒体の透過量を制御するようなパターンである第一の領
域と、前記加工媒体を一様に透過または遮蔽するような
パターンである第二の領域より構成されることを特徴と
する。

【００１０】（５）本発明の２値または３値または多値
マスクは、第１項または第２項または第４項において、
前記ドットのオン・オフはディザパターン法または誤差
拡散法により決定されていることを特徴とする。

【００１１】（６）本発明の２値または３値または多値
マスクは、第１項または第２項または第４項において、
前記ドットの面積比率は、該ドットの面積を変化させる
ことで決定されていることを特徴とする。

【００１２】（７）本発明の２値または３値または多値
マスクは、第１項または第２項または第３項または第４
項において、前記被加工体は光感応性部材であり、前記
加工媒体は光であり、前記加工装置は露光装置であるこ
とを特徴とする。

【００１３】（８）本発明の２値または３値または多値
マスクは、第７項において 請求項７において、前記露
光装置の光源の波長λ、前記露光装置の結像系のレンズ
の開口ＮＡとすると、前記ドットのピッチＰは、次の式
を満足することを特徴とする。 Ｐ＜λ／ＮＡ

【００１４】（９）本発明の３値マスクの製造方法は、
加工装置にセットされ、被加工体に対する加工効果が蓄
積される加工媒体の透過量を３段階に制御可能な３値マ
スクの製造方法であって、所望の第一の加工を行う前記
加工媒体の透過量を、前記加工装置、前記被加工体およ
び前記加工媒体の少なくとも何れかによって定まる最小
分解能より小さい面積単位のドットのオン・オフの面積
比率に変換し、それらのドットを当該３値マスクの第一
の層に形成する工程と、所望の第二の加工を行う前記加
工媒体の透過量を、前記加工装置、前記被加工体および
前記加工媒体の少なくとも何れかによって定まる最小分
解能より小さい面積単位のドットのオン・オフの面積比
率に変換し、それらのドットを当該３値マスクの第二の
層に形成する工程とを有することを特徴とする。

【００１５】（１０）本発明の多値マスクの製造方法
は、加工装置にセットされ、被加工体に対する加工効果
が蓄積される加工媒体の透過量をｎ以上の離散的な段階
をもって多段階に制御可能な多値マスクの製造方法であ
って、所望の第ｎの微細加工を行う前記加工媒体の透過
量を、前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体
の少なくとも何れかによって定まる最小分解能より小さ
い面積単位のドットのオン・オフの面積比率に変換し、
それらのドットを当該多値マスクの第ｎの層に形成する
工程を有することを特徴とする。

【００１６】（１１）本発明の多値マスクの製造方法
は、加工装置にセットされ、被加工体に対する加工効果
が蓄積される加工媒体の透過量を多段階あるいは段階な
く連続して前記加工媒体の透過量を微小な領域ごとに制
御可能な多値マスクの製造方法であって、所望の第一の
微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、 前記加工媒
体の透過量をある値Ａからある値Ｂまでの第一の範囲の
値に変換し、当該多値マスクに形成する工程と、所望の
第二の微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、 前記
加工媒体の透過量をある値Ｃからある値Ｄまでの第二の
範囲の値に変換し、当該多値マスクに形成する工程に形
成する工程とを有することを特徴とする。

【００１７】（１２）本発明の２値マスクの製造方法
は、加工装置にセットされ、被加工体に対する加工効果
が蓄積される加工媒体の透過量を２段階に制御可能な２
値マスクの製造方法でであって、所望の第一の微細加工
を行う前記加工媒体の透過量を、前記加工装置、前記被
加工体および前記加工媒体の少なくとも何れかによって
定まる最小分解能より小さい面積単位のドットのオン・
オフの面積比率に変換し、それらのドットを当該２値マ
スクの第一の領域に形成する工程と、所望の第二の微細
加工を行う前記加工媒体の透過量を、 前記加工媒体を
一様に透過または遮蔽するようなパターンに変換し、そ
れらのパターンを当該２値マスクの第二の領域に形成す
る工程とを有することを特徴とする。

【００１８】（１３）本発明の２値、３値あるいは多値
マスクの製造方法は、第９項または第１０項または第１
２項において、前記ドットの面積比率はディザパターン
法または誤差拡散法により決定することを特徴とする。

【００１９】（１４）本発明の２値、３値あるいは多値
マスクの製造方法は、第９項または第１０項または第１
２項において、前記ドットの面積比率は該ドットの面積
を変化させることにより決定することを特徴とする。

【００２０】（１５）本発明の２値、３値あるいは多値
マスクの製造方法は、第９項または第１０項または第１
１項または第１２項において、請求項９または請求項１
０または請求項１１または請求項１２において、前記被
加工体は光感応性部材であり、前記加工媒体は光であ
り、前記加工装置は露光装置であることを特徴とする。

【００２１】（１６）本発明の２値、３値あるいは多値
マスクの製造方法は、第１５項において、露光装置の光
源の波長λ、前記露光装置の結像系のレンズの開口ＮＡ
とすると、前記ドットのピッチＰは、次の式を満足する
ことを特徴とする。 Ｐ＜λ／ＮＡ

【００２２】（１７） 本発明の微細構造体の製造方法
は、第１項または第２項または第３項または第４項にお
いて、前記マスクを前記加工装置にセットして前記被加
工体を加工する工程を有することを特徴とする。

【００２３】（１８） 本発明の微細構造体の製造方法
は、第１７項において、前記加工された前記光感応性部
材が該微細構造体であることを特徴とする。

【００２４】（１９）本発明の微細構造体の製造方法
は、第１７項において、前記加工された前記光感応性部
材を用いて該微細構造体を形成する工程を有することを
特徴とする。

【００２５】（２０）本発明の微細構造体の製造方法
は、第１８項において、前記加工された前記光感応性部
材に反射性の部材を塗布して反射体を形成することを特
徴とする。

【００２６】（２１）本発明の微細構造体の製造方法
は、第１９項において、前記加工された前記微細構造体
に反射性の部材を塗布して反射体を形成することを特徴
とする。

【００２７】（２２）本発明の微細構造体の製造方法
は、第１９項または第２０項において、反射体は、液晶
用の反射板であることを特徴とする。

【００２８】（２３）本発明の液晶ディスプレイの製造
方法は、偏光板、前記偏光板と協同して光をオン・オフ
する液晶層、前記液晶層を駆動する電極、前記電極に電
圧を印加して前記液晶層を駆動する駆動回路、外部から
の入射光を反射し、該反射光をもって液晶層を内面から
照明する反射層、前記反射層を貫通して前記電極と前記
駆動回路を接続するコンタクトホールを有する反射型液
晶ディスプレイにおいて、請求項１または請求項２また
は請求項３または請求項４の前記マスクを前記加工装置
にセットして前記反射層及びコンタクトホールを形成す
ることを特徴とする。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下に図面を参照しながら本発明
の実施の形態を説明する。図１に、反射型の液晶パネル
が搭載された端末機器として携帯電話機を示してある。
本例の携帯電話機１は、データの表示パネルとして反射
型の液晶パネル１０が採用されており、明るい場所で
は、上方からの自然光または明光７０を光源として画像
を表示できる。したがって、液晶パネルのバックライト
を省略あるいはバックライトを必要とする時間を減らす
ことができるので薄型で省電力タイプの携帯電話機とな
っている。

【００３０】このため、本例の液晶パネル１０は、液晶
層（セル）１２と反射電極となる層（反射体）２０が積
層された構成になっている。本例の反射層（反射体）２
０は、図２に示すように、アルミニウム製で、断面でみ
ると曲面で構成された微細な凹凸が複数配置された反射
面２１を備えている。この反射面２１に、液晶セル１２
を透過した外部からの光７１が入ると、この反射面２１
で反射し、再び液晶セル１２の方向に出射光７２を出力
する。その結果、本例の液晶パネル１０では、外光によ
り、液晶セル１２に表示された所望の画像をユーザ９０
は見ることができる。液晶パネルとしては、明るく、色
再現性が良い表示性能が高いものが常に要求されている
が、本例の液晶パネル１０においては、反射面２１の反
射方向を適切に制御することにより、入射した光７１の
利用効率を向上し、バックライトを用いずに低消費電力
でありながら表示性能が高く、明るい液晶パネルを提供
可能にしている。

【００３１】上記に述べたような、反射する光７２の配
光を高める所望の反射面２１を得るために、反射体２０
の形状は、種々の条件を満たすように最適化されてい
る。このため、反射体２０の面２１の側は、単純な半球
状の凹凸でなく、ミクロン単位あるいはサブミクロン単
位で所望の微細形状が形成されている。たとえば、上方
からの光７１を前方に効率良く反射するように、下方を
向いた面に対して上方を向いた面の傾斜が緩やかになっ
ており、ユーザの眼９０の方向に光を反射する面積を多
く確保している。また、図示していないが、反射面２１
の横方向の断面は側方から入射した光が側方に反射され
ず、ユーザの眼９０の方向に反射するような双曲面ある
いは放物面になっている。そして、効率良く反射するの
に適した凹凸を備えた反射面２１を形成するために、ま
ず、所定の反射特性に優れた基本形状を決定し、その基
本形状に類似する相似の形状を幾つか発生させて、それ
らの相似形状を反射体２０の反射面２１のランダムな位
置に形成するプロセスが採用される。前記反射面２１に
は、以上のような加工が施されるが、これを仮に、第一
の加工内容と呼ぶことにする。尚、前記加工はフォトリ
ソグラフィー工程により行われるため、その内容はマス
ク上に記録される。

【００３２】さて、反射型の液晶パネルには、タイプに
より所謂外側反射板構造と内面反射構造の２種類の構造
がある。前記外側反射板構造の液晶パネルとは、透過型
の液晶パネルの外側に反射板を貼り、反射型の液晶パネ
ルとしたものである。この場合、液晶層は光透過性の基
板で挟まれた構造となっている。一方、前記内面反射構
造の液晶パネルとは、液晶層が光透過性の基板と、液晶
層を駆動する電極を表面に形成した反射層とで挟まれた
構造を有しているものである。即ち、液晶層と反射層が
接している構造となっている。このような内面反射構造
の液晶パネルにおいては、前記反射層（反射体）２０の
表面に前記液晶層（セル）１２を駆動する電極を形成し
なければならない。ここで、前記電極と反射面２１の形
態は多数考えられる。例えば図２においては、前記反射
面２１は画素ごとに区切られていて、前記液晶層（セ
ル）１２を駆動する電極も兼ねている。他の形態とし
て、前記反射面２１と前記電極は別体で積層されていて
もよい。例えば、前記反射面２１を形成して後、その上
にＩＴＯ等の透明電極を積層して形成してもよい。ある
いは、先にアルミ等の導電性材料で電極層を形成し、そ
の上に絶縁性の材料で前記反射面２１を積層してもよ
い。

【００３３】ところで、前記反射層（反射体）２０の背
面にはさらに、前記液晶層（セル）１２を駆動する駆動
回路２５が積層されている。前記駆動回路２５は、画面
全体を制御する回路の他、１つ１つの画素に対応したス
イッチング回路が、画素と同じピッチで２次元的に配置
されたものである。そのため、前記電極と前記駆動回路
２５は画素ごとに電気的に接続されなければならない。
そこで、この接続に前記反射層（反射体）２０を貫通す
る穴であるコンタクトホール２４を用いる。

【００３４】さてここで、先に挙げた前記電極と反射面
２１の形態において共通しているのは、前記電極はそれ
ぞれコンタクトホール２４を介して前記駆動回路２５と
接続されていなければならない点である。即ち、内面反
射構造の液晶パネルにおいては、前記反射層（反射体）
２０に前記コンタクトホール２４を形成する加工が不可
欠となる。これを仮に、第二の加工内容と呼んでもよ
い。

【００３５】以上のように、前記反射層（反射体）２０
の加工工程は、反射方向を適切に制御するための凹凸を
形成する第一の加工内容と、前記コンタクトホール２４
を形成する第二の加工内容とから成っている。これらの
２つの加工工程は、それぞれ独立した加工要素とみるこ
とができる。本発明においては、上記２つの加工工程を
１回のフォトリソグラフィー工程に集約する。以下に、
その際用いるマスク及びマスクの製造方法について述べ
る。

【００３６】図３に、前記マスクを製造するプロセスを
フローチャートで示してある。先ず、前記第二の加工内
容である前記コンタクトホール２４の加工内容を表現す
るマスクデータを生成する。前記コンタクトホール２４
を形成するには、前記コンタクトホール２４の大きさに
相当する領域内の露光量を全透過（プロセスの論理によ
っては全遮蔽）の２値で制御すればよい。即ち、前記コ
ンタクトホール２４の形状と同じ白または黒のパターン
のデータを作成すればよい。これで、前記コンタクトホ
ール２４の加工内容、即ち第二の加工内容を表現するデ
ータが生成される。

【００３７】次に、前記反射面２１の加工内容、即ち第
一の加工内容を表現するマスクデータを生成する。図３
のステップ９１で、所望の反射特性を備えた基本形状を
決定し、その相似形状をランダムに配置した反射体の表
面（反射面）の形状を数値計算などによって決定する。
次に、ステップ９２で、図４（ｂ）に示すように、微細
形状２８を加工するために必要な露光量を適当な単位面
積Ａごとに決定する。尚ここで、露光量を求める単位面
積Ａは微細形状２８をできるだけ連続した曲面に近い形
状で合成するのであれば、小さいことが望ましい。一
方、多段階のデジタル的な面の集合でも所望の性能が確
保できるのであれば、露光量を求める単位面積Ａは大き
な方が計算量は少なくて済む。

【００３８】図８に、マスクを用いた加工装置として一
般的な露光装置１００を示してある。この露光装置１０
０は、光源１０１と、この光源１０１から照射される波
長λを備えた光９９を平行光束にするコンデンサーレン
ズ１０２と、マスク６０を保持する保持台１０３と、マ
スク６０を透過した光９９をステージ１０６の上の被加
工体８２に結像する投影レンズ１０４を備えている。し
たがって、ステージ１０６に、フォトレジストが塗布さ
れた基板８１が設置されていれば、フォトレジストが被
加工体８２としてマスク６０を透過した光９９によって
露光され、微細加工される。

【００３９】このような露光装置１００においては、投
影レンズ１０４の瞳面１０５の開口をＮＡ、光９９の波
長をλとすると、解像度（最小分解能）Ｄはλ／ＮＡで
表される。したがって、ステップ９２で露光量を求める
面積単位Ａが最小分解能Ｄより小さく、その単位で露光
量を調整できるマスク６０を用いると、フォトレジスト
８２にはその面積単位Ａでは結像することができない。
したがって、フォトレジスト８２に照射される光９９の
透過量を連続的に変化させることが可能であり、図４
（ａ）に示したような曲面に近い微細形状をフォトレジ
スト８２に露光することが可能となる。一方、露光量を
求める面積単位Ａを最小分解能Ｄよりも大きくすると、
フォトレジスト８２に照射される光９９の透過量を面積
単位Ａでデジタル的に制御することができる。したがっ
て、図４（ｂ）に示したような多段階の微細形状をフォ
トレジスト８２に露光することができる。

【００４０】図３に戻って、所望の面積単位Ａで露光量
が求められると、ステップ９３で、露光装置１００にセ
ットするマスク（本例においては２値マスク）６０にお
いて、面積単位Ａ毎に露光量に相当するオン・オフの面
積比率を決定する。そして、本例のマスク６０において
は、図４（ｃ）に示すように、そのオン・オフの面積比
率を露光装置１００の最小分解能Ｄより小さいサイズお
よびピッチＰのドット６１により表現する。

【００４１】ドット６１のオン・オフにより露光量を多
値制御する方法は２つの方法がある。１つは図４（ｃ）
に示すように、サイズの同じドット６１の密度を変える
方法であり、ディザパターン法、あるいは誤差拡散法な
どの方法が知られている。これらの方法は、画像処理に
おいてはグレー表示する技術として公知なものであり、
詳しい説明は省略する。他の１つは、図４（ｄ）に示す
ように、ドットの密度は変えずに、ドット６１のサイズ
を変えるものであり、ドット階調などの名称で呼ばれる
ものである。

【００４２】上述したように、投影レンズ１０４を備え
た結像系を有する露光装置１００の最小分解能Ｄはλ／
ＮＡとなる。したがって、最小分解能Ｄより小さなピッ
チＰで形成されたドット６１は、そのままの形状では被
加工体８２に投影されない。このため、ドット６１のピ
ッチPが、下記の式（１）を満たすように設定されてい
れば、マスク６０のドット６１は被加工体８２であるフ
ォトレジストにはそのままの形では投影されず、濃淡の
みがドット６１の密度あるいは大きさ、すなわち、オン
・オフの面積比率で制御される。

【００４３】Ｐ＜λ／ＮＡ ・・・（１） この現象は、図９に模式的に示すように、２値マスク６
０による回折光の内、０次光９９aのみが結像レンズ１
０５で集光され、高次の光９９ｂは集光されず、高次の
光９９ｂはノイズ成分として除外されることで説明する
ことができる。すなわち、０次光以外がレンズに飲み込
まれないようにすることを考えると、１次光９９ｂの回
折角θｄは、媒体の屈折率をｎとすると式（２）で表さ
れる。

【００４４】Ｐ・ｓｉｎθｄ＝λ／ｎ ・・・（２） さらに、結像レンズの像側の開口角の半分の角度をθｃ
とすると、レンズに回折光が入らない条件は、下記の式
（３）で表される。ただし、０＜θｄ＜π／２，０＜θ
ｃ＜π／２の範囲とする。

【００４５】θｄ＞θｃ ・・・（３） したがって、式（３）に式（２）の条件を入れると、以
下のように、式（１）が得られる。

【００４６】 P＜λ／ｎ・ｓｉｎθｃ （＝λ／ＮＡ） ・・・（１） このように、２値マスク６０のドット６１のピッチP
を、露光装置１００の最小分解能Ｄ以下にすることによ
り、ドット６１の形状自身はフォトレジスト８２には投
影されず、０次光９９ａで主に決定される強度の分布だ
けがフォトレジスト８２に反映される。すなわち、ドッ
ト９１の形状を規定するエッジ成分は１次光以上の高次
の成分として周波数空間に変調されるが、レンズ系の解
像度（開口）によって高次の成分をカットすることが可
能であり、ドット６１の形状を除去して濃淡だけを抽出
してフォトレジスト８２に照射することができる。

【００４７】図１０に、フォトレジスト面での強度分布
の乱れをドット間隔Ｐに対して示してある。本図から分
かるように、ドット間隔Ｐがλ／ＮＡより小さい領域で
は強度分布の乱れはほとんどなく、濃淡の変化だけが現
れていることが分かる。これに対し、ドット間隔Ｐがλ
／ＮＡより大きくなると、ドットの形状自体がノイズと
して投影されることになり、フォトレジスト面における
強度分布の乱れとして表れている。

【００４８】このように、透過量が０％と１００％に対
応するとは限らないが、オンとなる透過量と、オフとな
る透過量の２値に制御可能な２値マスク６０であって
も、ドット６１のピッチＰを露光装置１００の最小分解
能Ｄ以下にすることにより、ドット６１がそのままフォ
トレジスト８２に投影されるのではなく、ドット６１の
面積比率で制御された強度分布で露光用の光９０がフォ
トレジスト８２に照射される。したがって、フォトレジ
スト８２はドット６１の形状ではなく、ドット６１によ
るオン・オフの面積比率で制御された透過量（露光量）
の光を加工媒体として加工され、露光量を求めた面積単
位Ａが最小分解能Ｄ以下であれば、ほぼ曲面あるいは連
続して厚みが代わる面を備えた微細形状が加工される。
また、露光量を求めた単位面積Ａが最小分解能Ｄ以上で
あれば、多段階の形状が１枚のマスク６０により製造す
ることができる。

【００４９】さて前記の多段階の形状の加工において、
最小分解能Ｄは、露光装置１００の解像度（λ／ＮＡ）
だけでは決定しない場合もある。例えば、フォトレジス
ト８２の分解能によって、露光系の解像度が変化する場
合もある。そのような場合は、適当な分解能のフォトレ
ジストを選ぶことによっても、最小分解能をコントロー
ルすることができる。いずれの場合も、マスク６０に形
成されたパターンがそのまま被加工体であるフォトレジ
スト８２に露光および形成されるのではない点で、従来
の２値マスクあるいはグレーレベルマスクを用いた加工
方法あるいは製造方法と大きく異なっている。

【００５０】そして、結果的に２値マスク６０により、
多値な形状、曲面などの形状をフォトレジスト８２に露
光することができ、それを現像することによりフォトレ
ジスト８２に多種多様な微細形状を極めて容易に形成す
ることができる。すなわち、ステップ９１および図４
（ａ）でデザインした曲面状の微細形状２８が２値マス
ク６０により得られる。本例では、たとえば、２値マス
ク６０の最小ドットの大きさが０．２μｍ角となるよう
に製作されたもの、最小分解能が１μｍの露光装置にセ
ットし被加工体（フォトレジスト材）８２を露光する
と、露光された被加工体には、０．２μｍ単位の像は再
現しないが、１μｍ単位の露光エネルギー密度は、予め
計算した最適露光量（図４（ｂ）参照）にしたがって制
御することが可能である。したがって、少なくとも１μ
ｍ程度で厚み（深さ）が異なる多値な形状や、それ以下
のレンジで厚みや深さが連続的に変化する曲面や斜面を
備えた微細構造を形成することができる。 また、本例
の２値マスク６０では、クロムメッキなどによって反射
性となった表面６２に透明なドット６１を形成して透過
量を制御しても良いし、反射性のドット６１を形成して
透過量を制御しても良い。いずれに場合も、光源１０１
から出力される露光用の光９９の大部分をマスク６０で
は反射または透過することにより制御できるので、マス
ク６０の内部で光９９が熱に変換されることは少なく、
熱膨張などの少ない安定した精度の高いマスクでフォト
レジスト８２にグレースケールの形状を露光することが
できる。このようにして、加工形状に対応した遮光領域
のパターンが算出され、第一の加工内容のマスクデータ
が生成される。

【００５１】再び図３に戻って、さらに本発明において
は、前記第一の加工内容と前記第二の加工内容のデータ
が合成される。合成の方法はプロセスにより異なるが、
一例として２つのデータの論理和をとる方法がある。場
合によっては、他の演算により合成する場合もありう
る。これにより、合成されたデータは、１枚のマスクに
記録される。

【００５２】合成された前記データにより実現される形
状は、断面で示すと図４（ａ）に示すように、曲面を備
えた微細形状２８に、画素ごとの所定の位置において前
記反射層（反射体）２０を貫通する穴である前記コンタ
クトホール２４が形成されたような形状となる。

【００５３】上記の工程では、液晶パネルの製造工程に
おいて、前記第一の加工内容及び前記第二の加工内容を
合成して１枚のマスクに記録した。本発明によれば、こ
のように複数の加工内容を、独立な情報としてマスクに
記録することができる。本発明は、複数の加工内容につ
いて、それぞれを表現する独立した別々のデータを生成
し、それらを合成した加工パターンを記録したマスク、
前記マスクの製造方法、前記マスクを用いた微細構造体
の製造方法より成る。これにより、工程数を大幅に削減
し、微細加工におけるコストを大幅に低減させることが
できる。

【００５４】複数の加工内容を、１枚のマスクに記録す
る方法は複数考えられる。以下にそれぞれについて詳し
く説明する。

【００５５】まず、使用されるマスクが３値マスクであ
る場合を考える。これは、透過率と加工方法に対する感
受性が異なる２つの遮光層を有するもので、ハーフトー
ンマスク等の名称で呼ばれている。例えば、第１回目の
露光後、ドライエッチングすると、透過率がほぼ０％の
第１層と透過率がほぼ５０％の第２層が一度に除去され
る。次に、第２回目の露光後、ウエットエッチングする
と、透過率がほぼ０％の第１層のみが除去される。これ
により、３段階の形状を加工できるのが、ハーフトーン
マスクである。この様子を図５を用いて説明する。

【００５６】反射面２１おいては、多段階の凹凸曲面形
状に加工する第一の加工内容と、前記コンタクトホール
２４の有無によって２段階に加工する第二の加工内容が
求められている。そこで、前記第一の加工内容を前記ハ
ーフトーンマスクの第１層６５に、前記第二の加工内容
を前記ハーフトーンマスクの第２層６６に記録すること
ができる。前記第１層６５においては、前記反射面２１
の凹凸加工形状が微小ドットのオン・オフで記録されて
いる。また前記第２層６６においては、前記コンタクト
ホール２４の加工形状が透過・遮蔽の２値で記録されて
いる。これにより、２つの加工内容を１つのマスクにま
とめることができる。また、前記第一の加工内容の最大
深さは、あらかじめ決まっている前記第２層６６の透過
率で決定され確定するので、前記反射層の厚さは確保さ
れる。よって、前記反射層２０の凹凸の度合いのばらつ
きにより、誤って前記コンタクトホール２４以外の場所
に貫通穴が形成される等の心配がない。このようにして
本マスクを用いれば、１回の露光で前記反射面２１と前
記コンタクトホール２４を形成することができる。一般
に、前記ハーフトーンマスクの層数に対応した数の独立
な加工内容を、１枚のマスクに集約することができる。

【００５７】尚、ここでは多値のマスクの例として３値
マスクを用いて説明したが、さらに多値のＮ値のマスク
を用いて、同様の考え方で第一の加工内容、第二の加工
内容、第Ｎの加工内容を１枚のマスクにまとめて記録す
ることも可能である。透過率の組み合わせによって、Ｎ
値のマスクにＮ以上の数の加工内容を記録することも可
能である。

【００５８】また、本例では液晶パネルを例にとったた
め前記第二の加工内容は前記コンタクトホール２４であ
り、その形状を表す領域にわたって一様に透過あるいは
遮蔽するものとして説明したが、一般には前記第二の加
工内容においても前記第一の加工内容と同様に、凹凸加
工形状が微小ドットのオン・オフで記録されていてもよ
い。これにより、前記第一の加工内容及び前記第二の加
工内容をいずれも凹凸曲面加工とし、それぞれの設計上
の独立性を保ちながら１枚のマスクに加工情報をまとめ
ることができる。

【００５９】一方、使用されるマスクがグレーマスクで
あっても、本発明の方法を適用することが可能である。
これを図６を用いて説明する。前記グレーマスクは、微
小な領域ごとに、連続的、あるいは離散的に多値の透過
率を持たせることが可能なマスクである。そこで、前記
透過率のうち、第一の透過率領域を用いて前記第一の加
工内容を記録し、第二の透過率領域を用いて前記第二の
加工内容を記録してもよい。より具体的に、反射型液晶
パネルの例においては、前記第一の加工内容を前記グレ
ーマスクの透過率のうち０から５０％の領域を用いて記
録し、さらに前記第二の加工内容を前記グレーマスクの
透過率のうち０と１００％の２値を用いて同一のマスク
に記録する。これにより、やはり２つの加工内容を１つ
のマスクにまとめることができる。あるいは、前記第一
の加工内容を前記グレーマスクの透過率のうち０と５０
％の２値を用いて微小ドットのオン・オフで記録し、さ
らに前記第二の加工内容を前記グレーマスクの透過率の
うち０と１００％の２値を用いて同一のマスクに記録し
てもよい。この場合、単に前記グレーマスクを用いて加
工するより、マスクデータを小さくすることができる。
もちろん、加工形状によってはさらに多くの透過率範囲
を、それぞれ微小ドットのオン・オフで記録してもよ
い。よって本マスクを用いれば、１回の露光で前記反射
面２１と前記コンタクトホール２４を形成することがで
きる。

【００６０】また、使用されるマスクが一般の２値マス
クであっても、前に述べた通り、ドットのオン・オフに
より透過率を制御することが可能である。これを図７を
用いて説明する。グレーマスクの場合と同様に、前記第
一の加工内容を透過率のうち０から５０％の領域を用い
て、さらに前記第二の加工内容を透過率のうち０と１０
０％の２値を用いて同一のマスクに記録すれば、やはり
２つの加工内容を１つのマスクにまとめることができ
る。より具体的には、反射型液晶パネルの例において
は、前記第一の加工内容である前記反射面２１の凹凸加
工をマスクの全面に、前記第二の加工内容である前記コ
ンタクトホール２４の加工をマスクの前記コンタクトホ
ール２４が形成されるべき部分に記録されることにな
る。これにより、やはり２つの加工内容を１つのマスク
にまとめることができる。よって本マスクを用いれば、
やはり１回の露光で前記反射面２１と前記コンタクトホ
ール２４を形成することができる。

【００６１】図１１および図１２に、本例の製造方法に
より反射体を製造する過程の概要を示してある。図１１
（ａ）に示すように、本例の２値マスク６０を介して、
上方から光を照射し、アルミニウム基板８６の上に塗布
されたフォトレジスト８２を露光する。前記２値マスク
の第一の加工内容を記録した領域、あるいは３値マスク
における第１層では、基板８６の上のフォトレジスト８
２には、２値マスク６０に形成されたドット６１のオン
・オフの面積比率、すなわち、開口率で制御されたグレ
ーレベルの形状が露光される。また、前記グレーマスク
においても、第一の加工内容を記録した透過率領域では
同様である。一方、第二の加工内容を記録した領域につ
いては、前記のいずれのマスクでも共通して最大限の露
光がなされる。そして、図１１（ｂ）に示すように、現
像すると露光された形状が現れる。ネガ型のレジストで
あれば、光が当たらなかった部分が現像液に溶けるの
で、現像すると、その光が当たらなかった部分が洗い流
され、断面が曲面の凹凸を備えた反射形状８２ａに加工
されたフォトレジスト層８２が得られる。

【００６２】さらに、アルミニウム基板８６をフォトレ
ジスト層８２を介して適当なエッチャントによりドライ
エッチングする。これにより、フォトレジスト層８２の
形状がアルミニウム基板８６に転写され、図１１（ｃ）
に示すように、アルミニウム基板８６の表面が所望の凹
凸に形成され、反射面２１となった反射体２０を得るこ
とができる。

【００６３】また、反射性の基板でない場合は、図１２
に示すように、適当な素材の基板８１にフォトレジスト
層８２を塗布し、図１１と同様に露光して現像し、さら
に、エッチングすると図１２（ｂ）に示すように、表面
が所望の凹凸形状に加工された基板８１を得ることがで
きる。したがって、この表面をアルミニウムなどの反射
性の膜８３をコーディングすることにより、図１２
（ｃ）に示すように、所望の形状の反射面２１を備えた
反射体２０を得ることができる。

【００６４】さらに、マスク６０により所望の形状に現
像されたフォトレジスト層にアルミニウムなどの反射性
の金属を塗布あるいはコーディングした後に、フォトレ
ジスト層を除去することによっても所望の形状の反射膜
を得ることができる。このように、本例の製造方法にお
いては、フォトレジスト層を多値あるいはグレースケー
ルの形状に加工することにより、種々の方法により複雑
な微細形状を備えた反射体２０を製造することができる
とともに、第一の加工内容、第二の加工内容等を別個に
設計し、１枚のマスクにまとめることができる。よっ
て、マスク６０によって微細形状を加工する工程では、
１枚のマスク６０で複雑な微細形状を露光することが可
能であり、多数枚のマスクを用いなくて良いので、加工
工程は短くて良く、また、製品精度が高く歩留まりも高
い。また、反射性の２値を用いる場合、マスクの熱吸収
が少なく、熱膨張による誤差も小さく、アライメントマ
ークが従来の２値マスクと同じになるので、従来と同じ
方法でマスク６０を露光装置１００にセットすることが
可能である。このため、本例の製造方法により、微細で
複雑な立体構造を備えた反射層（反射体）２０を、設計
どおりに簡単に低コストで歩留まり良く製造できる。し
たがって、反射効率の高い反射層２０およびそれを備え
た液晶パネル１０をさらに低コストで量産することが可
能となる。

【００６５】なお、以上では、本発明の製造方法を、反
射体を製造するプロセスを例に説明しているが、本発明
の製造方法により製造可能な微細構造体は反射体に限定
されるものではない。光スイッチング素子などの光学素
子あるいは光学デバイス、その他のスイッチングデバイ
スなど、高精度の微細構造が要求される多くの構造体を
本発明の製造方法により製造することが可能である。

【００６６】さらに、上記では、マスクにより加工され
た被加工体自体を製品としたり、その被加工体でエッチ
ングを制御する例を示してあるが、マスクにより加工さ
れた被加工体を用いた他の製造方法に微細構造体を製造
する場合にも適用できる。たとえば、マイクロレプリカ
（転写型）技術と称される製造方法にも適用可能であ
り、この場合は、被加工体あるいは、その被加工体を原
型として製造された転写型を用いて微細構造を備えた製
品を成形することができる。

【００６７】また、本発明は、光を加工媒体とした露光
装置を用いた製造方法に限らず、加工媒体の量を２次元
的に変化させる全ての製造方法に適用することができ
る。

【００６８】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明では、被
加工体に供給される加工媒体の透過量に基づいた加工効
果が蓄積されるマスクに、加工装置、被加工体および加
工媒体の少なくとも何れかによって決まる最小分解能よ
りも小さなパターン、特に、最小分解能よりも小さなピ
ッチのドットのオン・オフを形成し、多値あるいはグレ
ーレベルの構造を２値の透過率により製造できるように
している。さらに複数の加工内容を、それぞれを多値マ
スクの各層、あるいは多値マスクの各透過率領域、また
あるいは２値マスクの各２次元的領域に分配して記録
し、１枚のマスクにまとめるようにしている。したがっ
て、本発明の製造方法によって、１枚あるいは少量のマ
スクを用いて、斜面、曲面または多段階状など微細形状
を備えた構造体を製造することが可能となる。このた
め、多値形状を少ない回数で被加工体を形成できるの
で、加工媒体を照射する工数を大幅に削減することが可
能であり、工数を減らして歩留まりを向上することがで
きる。それと共に、複数の加工要素から成る微細構造体
の設計においては前記の複数の加工内容を独立して扱う
ことができるので、設計を容易に進めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る反射層（反射体）を用いた反射型
の液晶パネルを備えた携帯電話機の概要を示す図であ
る。

【図２】図１に示した本発明に係る反射体の概要を示す
斜視図である。

【図３】本発明に係る反射体の製造プロセスを示すフロ
ーチャートである。

【図４】図３に示した製造プロセスで用いるマスクの製
作を説明する図であり、図４（ａ）に被加工体に施す多
値微細形状のデザインの例を示し、図４（ｂ）に、微細
形状の各部分の最適な露光量が決定された様子を示し、
図４（ｃ）に、ディザパターン法により２値化したパタ
ーニングの例を示してある。また、図４（ｄ）に、ドッ
ト階調法により２値化したパターニングの例を示してあ
る。

【図５】図３に示した製造プロセスで用いるマスクの製
作を説明する図であり、ハーフトーンマスクを用いた場
合の例を示してある。

【図６】図３に示した製造プロセスで用いるマスクの製
作を説明する図であり、グレーマスクを用いた場合の例
を示してある。

【図７】図３に示した製造プロセスで用いるマスクの製
作を説明する図であり、２値マスクを用いた場合のマス
クパターンと露光量の関係を示してある。

【図８】図３に示した製造プロセスで用いる露光装置の
概要を示す図である。

【図９】図３に示した製造プロセスで用いるマスクと、
露光装置の最小分解能の関係を説明する図である。

【図１０】図１０に示したマスクのドットＰと、露光強
度の関係を示すグラフである。

【図１１】図３に示した製造プロセスにおいて、マスク
を介して露光し微細構造体に加工する例を示す図であ
る。

【図１２】図３に示した製造プロセスにおいて、マスク
を介して露光し微細構造体に加工する、異なる例を示す
図である。

【符号の説明】

１ 携帯電話機 １０ 液晶パネル １２ 液晶セル ２０ 反射体（反射層） ２１ 反射面 ２４ コンタクトホール ２５ 駆動回路 ２６ 微細形状 ６０ ２値マスク ６１ 開口（オン） ６２ 遮蔽部（オフ） ６５ 第１層 ６６ 第２層 ６７ ガラス基板 ６８ 第一の透過率領域 ６９ 第二の透過率領域 ７０ 光源 ７１ 入射光（照明光） ７２ 出射光（反射光） ８１ 基板 ８２ レジスト層 ９０ ユーザ ９９ 露光用の光 １００ 露光装置（加工装置）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｐ

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 加工装置にセットされ、被加工体に対す
   る加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を制御可能な
   マスクにおいて、第一の透過率を有する第一の層と第二
   の透過率を有する第二の層より構成され、前記第一の層
   及び第二の層のパターンの組み合わせにより３段階に前
   記加工媒体の透過量を制御可能な３値マスクであって、
   前記第一の層及び第二の層には、前記加工装置、前記被
   加工体および前記加工媒体の少なくとも何れかによって
   定まる最小分解能より小さい面積単位のドットのオン・
   オフの面積比率で前記加工媒体の透過量を制御するよう
   な異なるパターンが形成されていることを特徴とする３
   値マスク。
2. 【請求項２】 加工装置にセットされ、被加工体に対す
   る加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を制御可能な
   マスクにおいて、第一の透過率を有する第一の層から、
   同様に第ｎの透過率を有する第ｎの層までの複数の層よ
   り構成され、前記第一の層から第ｎの層のパターンの組
   み合わせによりｎ以上の段階に前記加工媒体の透過量を
   制御可能な多値マスクであって、前記第一から第ｎまで
   の各層には、前記加工装置、前記被加工体および前記加
   工媒体の少なくとも何れかによって定まる最小分解能よ
   り小さい面積単位のドットのオン・オフの面積比率で前
   記加工媒体の透過量を制御するような異なるパターンが
   形成されていることを特徴とする多値マスク。
3. 【請求項３】 加工装置にセットされ、被加工体に対す
   る加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を制御可能な
   マスクにおいて、離散的な複数の段階をもって、あるい
   は段階なく連続して前記加工媒体の透過量を微小な領域
   ごとに制御可能な多値マスクであって、前記加工媒体の
   透過量をある値Ａからある値Ｂまでの第一の範囲で制御
   する第一の領域と、ある値Ｃからある値Ｄまでの第二の
   範囲で制御する第二の領域とより構成される多値マス
   ク。
4. 【請求項４】 加工装置にセットされ、被加工体に対す
   る加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を２段階に制
   御可能な２値マスクであって、 前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少な
   くとも何れかによって定まる最小分解能より小さい面積
   単位のドットのオン・オフの面積比率で前記加工媒体の
   透過量を制御するようなパターンである第一の領域と、 前記加工媒体を一様に透過または遮蔽するようなパター
   ンである第二の領域より構成される２値マスク。
5. 【請求項５】 請求項１または請求項２または請求項４
   において、前記ドットのオン・オフはディザパターン法
   または誤差拡散法により決定されている２値または３値
   または多値マスク。
6. 【請求項６】 請求項１または請求項２または請求項４
   において、前記ドットの面積比率は、該ドットの面積を
   変化させることで決定されている２値または３値または
   多値マスク。
7. 【請求項７】 請求項１または請求項２または請求項３
   または請求項４において、前記被加工体は光感応性部材
   であり、前記加工媒体は光であり、前記加工装置は露光
   装置である２値または３値または多値マスク。
8. 【請求項８】 請求項７において、前記露光装置の光源
   の波長λ、前記露光装置の結像系のレンズの開口ＮＡと
   すると、前記ドットのピッチＰは、次の式を満足する２
   値または３値または多値マスク。 Ｐ＜λ／ＮＡ
9. 【請求項９】 加工装置にセットされ、被加工体に対す
   る加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を３段階に制
   御可能な３値マスクの製造方法であって、 所望の第一の加工を行う前記加工媒体の透過量を、前記
   加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少なくと
   も何れかによって定まる最小分解能より小さい面積単位
   のドットのオン・オフの面積比率に変換し、それらのド
   ットを当該３値マスクの第一の層に形成する工程と、 所望の第二の加工を行う前記加工媒体の透過量を、前記
   加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少なくと
   も何れかによって定まる最小分解能より小さい面積単位
   のドットのオン・オフの面積比率に変換し、それらのド
   ットを当該３値マスクの第二の層に形成する工程とを有
   する３値マスクの製造方法。
10. 【請求項１０】 加工装置にセットされ、被加工体に対
    する加工効果が蓄積される加工媒体の透過量をｎ以上の
    離散的な段階をもって多段階に制御可能な多値マスクの
    製造方法であって、 所望の第ｎの微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、
    前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少な
    くとも何れかによって定まる最小分解能より小さい面積
    単位のドットのオン・オフの面積比率に変換し、それら
    のドットを当該多値マスクの第ｎの層に形成する工程を
    有する多値マスクの製造方法。
11. 【請求項１１】 加工装置にセットされ、被加工体に対
    する加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を多段階あ
    るいは段階なく連続して前記加工媒体の透過量を微小な
    領域ごとに制御可能な多値マスクの製造方法であって、 所望の第一の微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、
    前記加工媒体の透過量をある値Ａからある値Ｂまでの
    第一の範囲の値に変換し、当該多値マスクに形成する工
    程と、 所望の第二の微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、
    前記加工媒体の透過量をある値Ｃからある値Ｄまでの
    第二の範囲の値に変換し、当該多値マスクに形成する工
    程に形成する工程とを有する多値マスクの製造方法。
12. 【請求項１２】 加工装置にセットされ、被加工体に対
    する加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を２段階に
    制御可能な２値マスクの製造方法でであって、 所望の第一の微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、
    前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少な
    くとも何れかによって定まる最小分解能より小さい面積
    単位のドットのオン・オフの面積比率に変換し、それら
    のドットを当該２値マスクの第一の領域に形成する工程
    と、 所望の第二の微細加工を行う前記加工媒体の透過量を、
    前記加工媒体を一様に透過または遮蔽するようなパタ
    ーンに変換し、それらのパターンを当該２値マスクの第
    二の領域に形成する工程とを有する２値マスクの製造方
    法。
13. 【請求項１３】 請求項９または請求項１０または請求
    項１２において、前記ドットの面積比率はディザパター
    ン法または誤差拡散法により決定する２値、３値あるい
    は多値マスクの製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項９または請求項１０または請求
    項１２において、ドットの面積比率は該ドットの面積を
    変化させることにより決定する２値、３値あるいは多値
    マスクの製造方法。
15. 【請求項１５】 請求項９または請求項１０または請求
    項１１または請求項１２において、前記被加工体は光感
    応性部材であり、前記加工媒体は光であり、前記加工装
    置は露光装置である２値、３値あるいは多値マスクの製
    造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１５において、露光装置の光源
    の波長λ、前記露光装置の結像系のレンズの開口ＮＡと
    すると、前記ドットのピッチＰは、次の式を満足する２
    値、３値あるいは多値マスクの製造方法。 Ｐ＜λ／ＮＡ
17. 【請求項１７】 請求項１または請求項２または請求
    項３または請求項４の前記マスクを前記加工装置にセッ
    トして前記被加工体を加工する工程を有する微細構造体
    の製造方法。
18. 【請求項１８】 請求項１７において、前記加工された
    前記光感応性部材が該微細構造体である微細構造体の製
    造方法。
19. 【請求項１９】 請求項１７において、前記加工された
    前記光感応性部材を用いて該微細構造体を形成する工程
    を有する微細構造体の製造方法。
20. 【請求項２０】 請求項１８において、前記加工された
    前記光感応性部材に反射性の部材を塗布して反射体を形
    成する微細構造体の製造方法。
21. 【請求項２１】 請求項１９において、前記加工された
    前記微細構造体に反射性の部材を塗布して反射体を形成
    する微細構造体の製造方法。
22. 【請求項２２】 請求項２０または２１において、前記
    反射体は、液晶用の反射板である微細構造体の製造方
    法。
23. 【請求項２３】 偏光板、前記偏光板と協同して光をオ
    ン・オフする液晶層、前記液晶層を駆動する電極、前記
    電極に電圧を印加して前記液晶層を駆動する駆動回路、
    外部からの入射光を反射し、該反射光をもって液晶層を
    内面から照明する反射層、前記反射層を貫通して前記電
    極と前記駆動回路を接続するコンタクトホールを有する
    反射型液晶ディスプレイにおいて、請求項１または請求
    項２または請求項３または請求項４の前記マスクを前記
    加工装置にセットして前記反射層及びコンタクトホール
    を形成することを特徴とする液晶ディスプレイの製造方
    法。