JP4941214B2 - 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置 - Google Patents

固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4941214B2
JP4941214B2 JP2007258663A JP2007258663A JP4941214B2 JP 4941214 B2 JP4941214 B2 JP 4941214B2 JP 2007258663 A JP2007258663 A JP 2007258663A JP 2007258663 A JP2007258663 A JP 2007258663A JP 4941214 B2 JP4941214 B2 JP 4941214B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
microlenses
partial
area
microlens
solid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007258663A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2009088382A (ja
Inventor
博之 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2007258663A priority Critical patent/JP4941214B2/ja
Publication of JP2009088382A publication Critical patent/JP2009088382A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4941214B2 publication Critical patent/JP4941214B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

本発明は、固体撮像素子と撮像装置に係り、特に複数の受光部と微小な集光レンズ(マイクロレンズ)を配設した固体撮像素子と、この固体撮像素子を使用した撮像装置に関する。
近年、静止画像、動画像を撮像するデジタルカメラ、ビデオカメラが様々な分野で普及してきている。これらのカメラには、CCD、CMOS等の固体撮像素子が用いられているが、半導体技術の進歩とともに、固体撮像素子の画素の微細化が一段と進み、カメラ自体の小型化も進んできている。このような固体撮像素子には、受光部に入射する光量を増し、感度を向上させるためのマイクロレンズが各画素の受光部に対応して設けられている。
ここで、固体撮像素子には有効撮像領域周辺で感度が低下するシェーディングという現象がある。このシェーディングは、図19に示されるように、カメラレンズから入射する光が、有効撮像領域中心ではほぼ垂直に入射するのに対し、有効撮像領域周辺に向うにつれて入射角度が大きくなり、有効撮像領域周辺での受光部51に対する入射光量の低下が起こることにより生じる現象である。
従来、シェーディングを防止するために、カメラレンズからの主光線入射角度を考慮して、有効撮像領域の中心ではマイクロレンズ52を受光部51の位置に配列し、有効撮像領域の周辺部では、受光部51の位置とずらしてマイクロレンズ52を配列することが行われている(図20参照)。例えば、有効撮像領域の中心から周辺部へ向って微小スケーリングをかけてマイクロレンズを配列することにより、受光部の配列ピッチに対してマイクロレンズの配列ピッチをわずかに小さく設定することが行われている(特許文献1)。これにより、有効撮像領域中心では、受光部とマイクロレンズの位置にズレはないが、周辺に向うにつれて、対応する受光部位置に対しマイクロレンズの位置が徐々に有効撮像領域中心方向へずれたものとなる。また、マイクロレンズの大きさを、有効撮像領域の中心から周辺部へ向って大きくすることによりシェーディングを補正することが提案されている(特許文献2)。ここでは、マイクロレンズの大きさを変化させることは提案されているが、大きさを変化させるための具体的手段の記述はない。
特開平6−140609号公報 特開平11−150254号公報
デジタルカメラ、ビデオカメラ等の小型化が進むに伴い、カメラレンズ光学系も小型化、薄型化が進み、カメラレンズが固体撮像素子に接近して配設されるため、固体撮像素子の有効撮像領域周辺部では、カメラレンズより入射する主光線の入射角度はますます大きくなり、シェーディング補正をよりいっそう緻密に行うことが求められている。
例えば、画素数2592個×1944個(約500万画素)、画素寸法2μmの撮像素子にて、その有効撮像領域の中心と最外周との間に図21に示すような非線形の感度差(最大40%)があるとき、上述のマイクロレンズの大きさを変化させる方法によるシェーディング補正を考える。この場合、マイクロレンズの底面積を連続的に変化させるために、個々の全レンズを設計するのであれば、100万以上のマイクロレンズの設計が必要である。また、2μmの画素サイズに対応して、例えば、40%の感度差をマイクロレンズの平面的大きさ(面積)に置き換えて連続的にマイクロレンズの大きさを個々に変える場合、マイクロレンズ(正方形)の最大寸法(一辺)を2μmとすると、最小寸法(一辺)は1.55μmとなる。このサイズの差0.45μmを1296画素に亘って分配すると、隣接する画素間のマイクロレンズの寸法差は平均0.3472nmとなる。これは5倍体フォトマスク上で1.736nmとなり、フォトマスク描画時のグリッドが5nmの場合、グリッドに適合せず、設計寸法を忠実にフォトマスク上に再現することが困難である。また、最小グリッド1nmでマスク描画データを作成した場合、データ量が膨大となり、マスク描画時間の長時間化、マスク製造コストの増大を来たし好ましくない。
一方、マイクロレンズの底面積を段階的に変化させてシェーディング補正を行うこともできる。この場合、例えば、シェーディング補正のために、図22に示すようにマイクロレンズの底面積を変化させるには、図23に示すように、有効撮像領域を複数に分割した部分領域を設定し、これらの部分領域間で段階的に底面積を変化させることになる。尚、図23の鎖線は、図22で示したマイクロレンズの底面積変化を示す。しかし、部分領域間には、異なる底面積のマイクロレンズが存在する境界線(集光効率が段階的に変化する部位)が必ず発生し、このような境界線上には微妙に感度の異なる受光部の隣接する部分が連続し、これが線状の感度ムラとなり製品品質を大きく損なうという問題がある。
本発明は、上記のような実情に鑑みてなされたものであり、シェーディングを防止した固体撮像素子と、このような固体撮像素子を使用した撮像装置を提供することを目的とする。
このような目的を達成するために、本発明の固体撮像素子は、所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えている固体撮像素子において、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズは、底面積が異なる底面矩形の2種以上のマイクロレンズからなり、底面積が異なるマイクロレンズ間の底面の一辺の寸法差は0.2nm以上であり、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、個々の部分領域内には底面積が同じマイクロレンズが配置され、マイクロレンズの底面積が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の底面積のマイクロレンズが混在している中間帯状部が存在し、前記部分領域毎のマイクロレンズの底面積の平均的大きさが、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなる傾向であり、前記中間帯状部での底面積が異なるマイクロレンズの配置は、混在比率が1:1で均一な配置、あるいは、混在比率が1:0〜0:1の範囲内で連続的に変化するような配置、あるいは、ランダムな配置であるような構成とした。
また、本発明の固体撮像素子は、所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えている固体撮像素子において、マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズは、底面積が異なる底面矩形の2種以上のマイクロレンズからなり、底面積が異なるマイクロレンズ間の底面の一辺の寸法差は0.2nm以上であり、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、該複数の部分領域には、底面積の異なるマイクロレンズが混在しているような部分領域が存在し、前記部分領域毎のマイクロレンズの底面積の平均的大きさが、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなる傾向であり、底面積の異なるマイクロレンズが混在している前記部分領域内での底面積の異なるマイクロレンズの配置は、底面積の異なるマイクロレンズの混在比率が該部分領域内において有効撮像領域の中心から周辺に向う方向に沿って変化し、かつ、底面積の小さいマイクロレンズが底面積の大きいマイクロレンズよりも有効撮像領域の周辺寄りに少なくとも1個存在する配置、あるいは、混在比率が該部分領域内において均一である配置、あるいは、ランダムな配置であるような構成とした。
本発明の他の態様として、同一の部分領域において隣接して配置されるマイクロレンズの底面積の差が10%以下であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記部分領域はモザイク状であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記部分領域は有効撮像領域中心を中心とする同心の環状領域であるような構成とした。
本発明の撮像装置は、上述の固体撮像素子を備えるような構成とした。
このような本発明の固体撮像素子は、カメラレンズの主光線入射角と像高の関係等のレンズ特性に適合した最適なマイクロレンズ配置、例えば、底面積を非線形に変化させたマイクロレンズ配置を行うことができ、緻密なシェーディング補正が可能であり、かつ、底面積の異なる二種以上のマイクロレンズの底面の一辺の寸法差が0.2nm以上であるので、電子線描画による5倍体マスクの作製が可能であり、マイクロレンズのマスク設計段階で全領域のマイクロレンズを個別に設計するという煩雑な操作が不要であり、緻密なシェーディング補正を容易に行えるという効果が奏される。
本発明の撮像装置は、シェーディングが防止され、有効撮像領域内で、斜め入射に起因するケラレ等のロスが少なく、入射光量に対しての効率分布の少ない高品位のものであり、小型化、薄型化が可能である。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
[固体撮像素子]
図1は本発明の固体撮像素子の一例を示す概略構成図である。図1において、固体撮像素子1は、一定の配置ピッチで設けられた複数の受光部3と遮光膜4を備える基板2と、遮光層6を備えたパッシベーション層5を介して基板2と対向するように積層された下平坦化層7、カラーフィルタ8、上平坦化層9、および、マイクロレンズアレイ10を有している。マイクロレンズアレイ10は、個々の受光部3に対応させて複数のマイクロレンズ11が2次元配置されたものである。そして、一定の配置ピッチで設けられた複数の受光部3に対して、マイクロレンズアレイ10を構成するマイクロレンズ11は、矩形の底面積が異なる2種以上のマイクロレンズからなるものである。尚、本発明の固体撮像素子は、図1に示す構成に限定されるものではない。
本発明の固体撮像素子1は、上記の底面積が異なるマイクロレンズ間の底面の一辺の寸法差を0.2nm以上とし、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、個々の部分領域内には底面積が同じマイクロレンズを配置し、マイクロレンズの底面積が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の底面積のマイクロレンズが混在している中間帯状部を設けたものである。
上記の本発明の固体撮像素子を、シェーディング補正のために図22に示すようにマイクロレンズの底面積を変化させる場合を例として説明する。この場合、図2に示すように、有効撮像領域のX軸方向を(1)〜(9)の9個の部分領域に分割し、図2に実線で示されるように、各部分領域内では底面積が同じマイクロレンズが配置されている。そして、部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の底面積のマイクロレンズが混在する中間帯状部を設ける。
尚、部分領域の大きさは適宜設定することができ、例えば、幅を100〜10,000μmの範囲、あるいは、幅方向の画素数を50〜2,000個の範囲となるように設定することができる。以下、部分領域の大きさについて更に説明する。上述の図2では、有効撮像領域のX軸方向を(1)〜(9)の9個の部分領域に分割しており、それぞれの部分領域の幅は約200画素〜400画素に渡っている(有効撮像領域中心を含む部分領域では約700画素)。このような例を含めて、部分領域の幅が約100〜900画素の幅を有するとした場合、画素ピッチを2μmとすれば部分領域の幅は200〜1800μm、画素ピッチを1μmとすれば部分領域の幅は100〜900μm、画素ピッチを6μmとすれば部分領域の幅は600〜5400μmとなる。これらの幅は、使用するカメラレンズにも依存しており、像高変化に対する主光線入射角度変化の値が小さいカメラレンズを用いる場合は、部分領域の幅はより大きくなる。したがって、部分領域の大きさとして、上記の範囲(幅100〜10,000μm、あるいは、幅方向の画素数50〜2,000個)を挙げることができる。
上記の中間帯状部での底面積が異なるマイクロレンズの混在比率は、例えば、1:1とした場合には、図2に実線で示されるように、隣接する部分領域の中間的な底面積をもつマイクロレンズが配設された状態が中間帯状部に出現する。これにより、9個の部分領域における階段状変化は細分化され、部分領域間の境界線上に微妙に感度の異なる受光部が形成されることが防止され、線状の感度ムラ等の欠陥を防止することができる。
また、中間帯状部における底面積が異なるマイクロレンズの混在比率を連続的に、すなわち、1:0〜0:1に変化させた場合には、図2に鎖線で示されるように、マイクロレンズの底面積変化を更にスムースなものとすることができる。
尚、中間帯状部の幅は適宜設定することができ、例えば、部分領域の幅の1〜50%の範囲で、あるいは、20〜5,000μmの範囲で設定することができる。
また、本発明では、固体撮像素子1において、上記の底面積が異なるマイクロレンズ間の底面の一辺の寸法差を0.2nm以上とし、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、これらの複数の部分領域には底面積の異なるマイクロレンズが混在している部分領域を存在させたものとすることができる。
このような本発明の固体撮像素子について、シェーディング補正のために図22に示すようにマイクロレンズの底面積を変化させる場合を例として説明する。この場合、図3に示すように、有効撮像領域のX軸方向を(1)〜(10)の10個の部分領域に分割する。そして、この図3から、部分領域(1)では、部分領域(1)を示す左側鎖線と底面積の補正曲線の交点aでの底面積を97%、右側鎖線と底面積の補正曲線の交点bでの底面積を89%とし、以下、部分領域(2)では、部分領域(2)を示す右側鎖線と底面積の補正曲線の交点cでの底面積を81%とし、部分領域(3)では、部分領域(3)を示す右側鎖線と底面積の補正曲線の交点dでの底面積を74%とし、部分領域(4)では、部分領域(4)を示す右側鎖線と底面積の補正曲線の交点eでの底面積を68%とし、部分領域(5)では一律68%とする。さらに、部分領域(6)では、部分領域(6)を示す左側鎖線と底面積の補正曲線の交点fでの底面積を68%とし、部分領域(7)では、部分領域(7)を示す左側鎖線と底面積の補正曲線の交点gでの底面積を73%とし、部分領域(8)では、部分領域(8)を示す左側鎖線と底面積の補正曲線の交点hでの底面積を79%とし、部分領域(9)では、部分領域(9)を示す左側鎖線と底面積の補正曲線の交点iでの底面積を85%とし、部分領域(10)を示す左側鎖線と底面積の補正曲線の交点jでの底面積を93%、右側鎖線と底面積の補正曲線の交点kでの底面積を101%とする。尚、この例では、有効撮像領域の中心からX軸両方向への部分領域の数が等しくなっていないが、これは、図21の非線形の感度差、図22の底面積補正に対応して部分領域を設定したからである。本発明では、有効撮像領域の中心からX軸両方向、あるいはY軸両方向への部分領域の数は、等しくてもよく、また、異なるものであってもよい。
そして、最大底面積101%を1.8μm×1.8μmの矩形とすると、部分領域(1)では1.764μm×1.764μmと1.690μm×1.690μmの2種の底面積のマイクロレンズを混在させて配置することになる。そして、部分領域(1)の左側鎖線では1.764μm×1.764μmのマイクロレンズの混在比率を100%とし、右側(有効撮像領域の中心方向)へ向って1.690μm×1.690μmのマイクロレンズの混在比率を徐々に高め、部分領域(1)の右側鎖線では1.690μm×1.690μmのマイクロレンズの混在比率を100%とする。以下、部分領域(2)では1.690μm×1.690μmと1.612μm×1.612μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(3)では1.612μm×1.612μmと1.541μm×1.541μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(4)では1.541μm×1.541μmと1.477μm×1.477μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(5)では1.477μm×1.477μmの1種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(6)では1.477μm×1.477μmと1.530μm×1.530μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(7)では1.530μm×1.530μmと1.592μm×1.592μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(8)では1.592μm×1.592μmと1.651μm×1.651μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(9)では1.651μm×1.651μmと1.727μm×1.727μmの2種の底面積のマイクロレンズ、部分領域(10)では1.727μm×1.727μmと1.800μm×1.800μmの2種の底面積のマイクロレンズを、部分領域(1)と同様に混在させて配置する。
これにより、ほぼ連続的に図22の底面積の補正曲線に準じた底面積の変化、すなわち、部分領域毎のマイクロレンズの底面積の平均的大きさが、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなるような変化が、図4の実線で示すように実現可能となる(図4の鎖線は図22の底面積の補正曲線と同じ)。このとき、5倍体マスクの製造時の電子線描画グリッドは1nmであるので、電子線描画が可能であり、かつ、本来マスク描画に乗らない1nm未満の底面積の変化を表現できる。
尚、本発明では、同一の部分領域において隣接して配置されるマイクロレンズの底面積の差が10%以下、好ましくは5%以下とすることがノイズ防止の点から望ましい。
ここで、本発明における平均的大きさとは、ある画素に着目した際の、その画素を含む近傍の連続した画素の集合でのマイクロレンズの底面積の平均値であり、高さ成分は含まない。
次に、本発明の固体撮像素子について実施形態を挙げて説明する。
(第1の実施形態)
図5は、本発明の固体撮像素子の一実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。本実施形態の固体撮像素子は、マイクロレンズの底面積を2種以上で設定し、マイクロレンズの矩形の底面の一辺の寸法差を0.2nm以上とし、さらに、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、個々の部分領域内には底面積が同じマイクロレンズを配置し、マイクロレンズの底面積が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の底面積のマイクロレンズが混在している中間帯状部を設けたものである。すなわち、図5に示されるように、複数のマイクロレンズから構成されるマイクロレンズアレイにおいて、有効撮像領域が中心(0,0)から周辺に向ってX軸方向に3分割、Y軸方向に3分割され、モザイク状に(1)〜(9)までの9種の部分領域に分割されている。そして、隣接する部分領域には鎖線で示すような中間帯状部が設定されている。
上記の(1)〜(9)までの各部分領域におけるマイクロレンズの底面積は、例えば、最外周に位置する部分領域(9)を1.79μm×1.79μmとし、底面の一辺の寸法差を0.035μm(35nm)として、下記の表1のように各部分領域に所望の底面積のマイクロレンズを配置する。
Figure 0004941214
これにより、底面積を約85%から100%までほぼ連続的に変化させてマイクロレンズを配置することができる。
図6は図5において円で囲んだ部分領域(1)、(2)、(4)、(5)の拡大図であり、隣接する部分領域に設定される中間帯状部は鎖線で囲まれた領域であり、斜線を付して示している。この図6のY軸方向では、部分領域(1)と部分領域(4)の境界の中間帯状部に、1.65μm×1.65μmと1.685μm×1.685μmの底面積のマイクロレンズが混在して配置される。このような2種のマイクロレンズの混在比率は、例えば、1.65μm×1.65μmと1.685μm×1.685μmとが交互となるような1:1とすることができる。また、2種のマイクロレンズの混在比率を1:0〜0:1の範囲内で連続的に変化させてもよい。例えば、部分領域(1)側では1.65μm×1.65μmのマイクロレンズが2/3、1.685μm×1.685μmのマイクロレンズが1/3の比率で混在し、部分領域(4)側では1.65μm×1.65μmのマイクロレンズが1/3、1.685μm×1.685μmのマイクロレンズが2/3の比率で混在するように連続的に変化させることにより、部分領域(1)と部分領域(4)の境界部付近でのスムースな底面積の変化が可能となる。さらに、部分領域(1)側では1.65μm×1.65μmのマイクロレンズの比率をほぼ100%とし、部分領域(4)に向うにつれて1.685μm×1.685μmのマイクロレンズの比率を高め、部分領域(4)側では1.685μm×1.685μmのマイクロレンズがほぼ100%となるように混在させることにより、部分領域(1)と部分領域(4)の境界部付近でのマイクロレンズの底面積の変化が更にスムースなものとなる。
また、同様に、Y軸方向の部分領域(2)と部分領域(5)の境界の中間帯状部には、1.685μm×1.685μmと1.72μm×1.72μmの底面積のマイクロレンズが混在して配置される。
一方、図6のX軸方向についても同様に、部分領域(1)と部分領域(2)の境界の中間帯状部には、1.65μm×1.65μmと1.685μm×1.685μmの底面積のマイクロレンズが混在して配置され、また、部分領域(4)と部分領域(5)の境界の中間帯状部には、1.685μm×1.685μmと1.72μm×1.72μmの底面積のマイクロレンズが混在して配置される。このような2種のマイクロレンズの混在比率は、上述のY軸方向の中間帯状部と同様とすることができる。
また、中間帯状部が交差する部分については、例えば、図7(A)に示すように、隣接する中間帯状部の境界を交差中心の向けて斜め方向に設けることもでき、また、図7(B)に示すように、交差する部分(斜線を付した部分)に隣接する4つの部分領域(1)、(2)、(4)、(5)に配置されるマイクロレンズの全て種類を混在して配置してもよい。この場合、混在比率は、交差する部分の左下側から右上側に向って(図7(B)に矢印で示す方向)底面積が連続的に大きくなるように配置してもよく、また、4種の底面積のマイクロレンズをランダムに配置して、交差する部分での混在比率を均等にしてもよい。
(第2の実施形態)
本実施形態の固体撮像素子は、マイクロレンズの底面積を2種以上で設定し、マイクロレンズの矩形の底面の一辺の寸法差を0.2nm以上とし、さらに、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、これらの複数の部分領域には底面積の異なるマイクロレンズが混在している部分領域を存在させたものである。
図8は本実施形態の固体撮像素子のマイクロレンズ配置図である。図8において、(0,0)点は有効撮像領域の中心点を示し、図面が煩雑になるのを避けるために、中心点から右上の1/4の領域の30個×30個の画素のみを示している。図8に示される固体撮像素子では、X軸方向、Y軸方向とも5画素毎に部分領域に分割され、X軸方向では(X1)〜(X6)の6分割、Y軸方向では(Y1)〜(Y6)の6分割とされ、中心点から右上の1/4の領域はモザイク状に36個の部分領域に分割されている。また、マイクロレンズは、正方形の底面の一辺がEのものと、一辺がEよりDだけ小さいFのもの、2種類で構成されている。そして、これらが図8に示すように、1個の部分領域当たり25個の割合で、36個の部分領域に配置されている。尚、図8では、一辺がEである底面形状のマイクロレンズを斜線で表示し、一辺がFである底面形状のマイクロレンズを白で表示している。また、図9は、図8において円で囲んだ箇所の2個のマイクロレンズを示す図である。
まず、X軸方向について説明する。部分領域(X1)内では、5個のマイクロレンズがすべて一辺Fである底面形状のマイクロレンズとされ、部分領域(X2)内では、一辺がEである底面形状のマイクロレンズ1個と、一辺がFである底面形状のマイクロレンズ4個が配置され、部分領域(X3)内では、一辺がEである底面形状のマイクロレンズ2個と、一辺がFである底面形状のマイクロレンズ3個が配置され、部分領域(X4)内では、一辺がEである底面形状のマイクロレンズ3個と、一辺がFである底面形状のマイクロレンズ2個が配置され、部分領域(X5)内では、一辺がEである底面形状のマイクロレンズ4個と、一辺がFである底面形状のマイクロレンズ1個が配置され、部分領域(X6)内では、5個のマイクロレンズがすべて一辺Eである底面形状のマイクロレンズとされている。また、Y軸方向においても、部分領域(Y1)から部分領域(Y6)方向に、上述の部分領域(X1)から部分領域(X6)方向への2種のマイクロレンズの配置と同様の配置がなされる。
これにより、X軸方向に(X1)〜(X6)の6分割、Y軸方向に(Y1)〜(Y6)の6分割して画定された各部分領域での、一辺がEである底面形状のマイクロレンズの数は図10に示すようになる。したがって、一辺がEである底面形状のマイクロレンズと、一辺がFである底面形状のマイクロレンズとで構成された5画素×5画素の各部分領域内のマイクロレンズの底面積の平均的大きさは、30画素×30画素の領域内でほぼ連続的に変化しており、この30画素×30画素の領域を1つの部分領域と見なすこともできる。
上記の例で、E=1.9μm、F=1.8μmであれば、Eを基準としたとき、マイクロレンズの底面積を90%から100%まで2%以下の刻みでほぼ連続的に表現できる。そして、実際に使用されるマイクロレンズは2種類であり、マスク作製時のマスクデータも比較的小さくすることができ、5倍体マスクとして作製するのであれば、電子線描画のグリッドも5nmとすることができる。
ここで、マイクロレンズの形成方法としては特に制限はないが、例えば、マイクロレンズ材料としてポジ型フォトレジストを用い、塗布、露光、現像のフォトリソグラフィー工程の後、フォトレジストをポストベークして溶融し凸レンズ状に成形する方法を挙げることができる。この成形方法で使用するマイクロレンズ用フォトマスクの一画素分を例示すると、図11のようになる。図11において、一画素21は、遮光部22と、その周囲の光透過部23からなっており、寸法Aはマイクロレンズの配置ピッチを示している。図示例での寸法B、Cは同じ値としてもよいが、マスク描画時のグリッド等の制約を受ける場合は異なる値としてもよい。
図8に示した例では、底面積が異なる2種のマイクロレンズ、すなわち、一辺がEである底面形状のマイクロレンズと一辺がFである底面形状のマイクロレンズが、各部分領域にほぼ均一で規則的に配置されているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、一辺の長さがE>E′>F′>Fの関係となるような、一辺がE′である底面形状のマイクロレンズと一辺がF′である底面形状のマイクロレンズとを加えて、底面積が異なる4種のマイクロレンズを使用することにより、30画素×30画素の領域内でのマイクロレンズの底面積の平均的大きさの変化を更にスムースなものとすることができる。また、各部分領域でのマイクロレンズの配置は、ほぼ均一に規則的なものでなく、ランダムな配置としてもよい。
(第3の実施形態)
本実施形態の固体撮像素子は、マイクロレンズの底面積を2種以上で設定し、マイクロレンズの矩形の底面の一辺の寸法差を0.2nm以上とし、さらに、有効撮像領域を中心から周辺に向って複数の部分領域に分割し、これらの複数の部分領域には底面積の異なるマイクロレンズが混在している部分領域を存在させたものである。
図12は本実施形態の固体撮像素子のマイクロレンズ配置図である。図12において、(0,0)点は有効撮像領域の中心点を示し、有効撮像領域はこの中心点を中心とする同心の環状領域に分割されて4つの部分領域(1)〜(4)が画定されている。また、マイクロレンズは、底面積の小さいマイクロレンズL1と底面積の大きいマイクロレンズL2の2種類で構成されている。そして、部分領域(1)には、小さいマイクロレンズL1のみが配置され、部分領域(2)には、小さいマイクロレンズL1が2/3、大きいマイクロレンズL2が1/3の混在比率となるようにランダムに配置され、部分領域(3)には、小さいマイクロレンズL1が1/3、大きいマイクロレンズL2が2/3の混在比率となるようにランダムに配置され、部分領域(4)には、大きいマイクロレンズL2のみが配置されている。
この実施形態においても、底面積の小さいマイクロレンズL1と底面積の大きいマイクロレンズL2は、上述(図11参照)の一辺がFである底面形状のマイクロレンズと一辺がEである底面形状のマイクロレンズと同様に適宜設定することができる。この場合も、図11における寸法Aはマイクロレンズの配置ピッチを示し、図示例での寸法B、Cは同じ値としてもよいが、マスク描画時のグリッド等の制約を受ける場合は異なる値としてもよい。
上述の実施形態では、底面積の小さいマイクロレンズL1と底面積の大きいマイクロレンズL2の2種類を用いているが、この中間となるような大きさのマイクロレンズを用いて種類を増やし、また、部分領域を細分化することにより、更に滑らかな補正を行うことができる。図13は、このような実施形態を示す図である。
図13において、(0,0)点は有効撮像領域の中心点を示し、有効撮像領域はこの中心点を中心とする同心の環状領域に分割されて7つの部分領域(1)〜(7)が画定されている。また、マイクロレンズは、底面積の小さいマイクロレンズL1と、底面積の大きいマイクロレンズL3と、その中間の底面積を有するマイクロレンズL2の3種類で構成されている。そして、部分領域(1)には、マイクロレンズL1のみが配置され、部分領域(2)には、マイクロレンズL1が2/3、マイクロレンズL2が1/3の混在比率となるようにランダムに配置され、部分領域(3)には、マイクロレンズL1が1/3、マイクロレンズL2が2/3の混在比率となるようにランダムに配置され、部分領域(4)には、マイクロレンズL2のみが配置されている。さらに、部分領域(5)には、マイクロレンズL2が2/3、マイクロレンズL3が1/3の混在比率となるようにランダムに配置され、部分領域(6)には、マイクロレンズL2が1/3、マイクロレンズL3が2/3の混在比率となるようにランダムに配置され、部分領域(7)には、マイクロレンズL3のみが配置されている。
また、図13に示される例において、2種のマイクロレンズが混在する部分領域(2)、(3)、(5)、(6)において、周辺方向に向けて底面積の大きなマイクロレンズの混在比率が高くなるように連続的に混在比率を変化させ、かつ、1種のマイクロレンズのみが配置されている部分領域(1)、(4)、(7)の幅を、2種のマイクロレンズが混在する部分領域(2)、(3)、(5)、(6)の幅よりも狭めることにより、更に滑らかな補正を行うことができる。
(第4の実施形態)
本実施形態の固体撮像素子は、マイクロレンズの配置ピッチの変化と、マイクロレンズの底面積の変化を組み合わせたものである。図14に示されるように、(0,0)点は有効撮像領域の中心点を示し、有効撮像領域はこの中心点を中心とする同心の環状領域に分割されて3つの部分領域(1)〜(3)が画定されている。そして、部分領域(1)〜(3)では、例えば、図15に示すようなカメラレンズ特性の線形変化部位に対応するように、有効撮像領域の中心では、マイクロレンズの中心と受光部の中心が一致し、部分領域(1)の周辺に向うにつれて、マイクロレンズの中心を受光部の中心よりも有効撮像領域の中心側にずれるようにマイクロレンズの配置ピッチが調整されている。しかし、このようなマイクロレンズの配置ピッチの変化には、図15に示すカメラレンズ特性の非線形性は加味されていないため、依然として部分領域(2)、(3)では感度低下(例えば、10%とする)が生じることになる。そこで、本発明では、例えば、部分領域(1)に、1.7μm×1.7μmの底面積のマイクロレンズのみを配置し、部分領域(2)には、1.7μm×1.7μmと1.742μm×1.742μmの2種の底面積のマイクロレンズを混在させて配置し、部分領域(3)には、1.742μm×1.742μmと1.783μm×1.783μmの2種の底面積のマイクロレンズを混在させて配置する。そして、部分領域(2)では、部分領域(1)との境界近傍で1.7μm×1.7μmのマイクロレンズの混在比率を高くし、部分領域(3)方向に向って1.742μm×1.742μmのマイクロレンズの混在比率を高くする。また、部分領域(3)では、部分領域(2)との境界近傍で1.742μm×1.742μmのマイクロレンズの混在比率を高くし、最外周部方向に向って1.783μm×1.783μmのマイクロレンズの混在比率を高くする。
これにより、部分領域(2)、(3)において、底面積が最大10%増大するようにほぼ連続的に変化させてマイクロレンズが配置され、図15に示すカメラレンズ特性の非線形変化に対応することができる。
上述の実施形態は例示であり、本発明の固体撮像素子はこれらに限定されるものではない。
[撮像装置]
図16は、本発明の撮像装置の一実施形態を示す概略断面図である。図16において、本発明の撮像装置31は、本発明の固体撮像素子32を備えた基板33と、固体撮像素子32の外側に配した封止用部材34と、この封止用部材34を介して固体撮像素子32と所望の間隙を設けて対向するように配設された保護材35とを備えている。また、固体撮像素子32は配線36、表裏導通ビア37を介して外部端子38に接続されている。このようなセラミックパッケージ型の撮像装置31は、種々のデジタルカメラ、ビデオカメラ等に使用することができ、カメラの高感度化、小型化、薄型化が可能である。
また、図17は、本発明の撮像装置の他の実施形態を示す概略断面図である。図17に示される本発明の撮像装置41は、携帯電話用カメラモジュールの例であり、本発明の固体撮像素子42を備えた基板43と、固体撮像素子42の外側に配した封止用部材44と、固体撮像素子42と所望の間隙を設けて対向するように配設された赤外カットフィルタ45と、赤外カットフィルタ45上に配設された鏡筒46と、この鏡筒46内に装着されたレンズユニット47を備えている。このような撮像装置41は、本発明の固体撮像素子42がシェーディング補正されていて高感度のものであるため、小型化、薄型化が可能である。
本発明の撮像装置は上述の実施形態に限定されるものではなく、固体撮像素子として本発明の固体撮像素子を備えるものであればよく、従来の種々の撮像装置の構成をそのまま採用することができる。
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
[実施例]
まず、画素受光部ピッチ2.0μm、画素数2592個×1944個のCMOSイメージセンサーを形成したウェハを用意した。
次に、上記のウェハ上に、以下のようにして、下平坦化層、カラーフィルタ、上平坦化層、および、マイクロレンズを形成した。
(下平坦化層の形成)
ウェハ表面をスピンスクラパーで洗浄した後、光硬化型アクリル系透明樹脂材料(富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 CT−2020L)をスピン塗布し、次いで、プリベーク、紫外線全面露光、ポストベークを行って下平坦化層(厚み0.3μm)を形成した。
(カラーフィルタの形成)
ネガ型感光性の赤色材料(R用材料)、緑色材料(G用材料)、青色材料(B用材料)として以下の材料を用意した。
R用材料:富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 SR−4000L
G用材料:富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 SG−4000L
B用材料:富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 SB−4000L
G、R、Bの形成順序で、上記材料をスピン塗布し、プリベーク、1/5縮小型のi線ステッパーによる露光、現像、ポストベークを行って、RGBカラーフィルタ(厚み0.8μm)を形成した。尚、現像液として、富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 CD−2000の50%希釈液を使用した。また、カラーフィルタの配置ピッチは2μmとした。
(上平坦化層の形成)
RGBカラーフィルタ上に、光硬化型アクリル系透明樹脂材料(富士マイクロエレクトロニクスマテリアルズ(株)製 CT−2020L)をスピン塗布し、次いで、プリベーク、紫外線全面露光、ポストベークを行って上平坦化層(厚み0.3μm)を形成した。
(マイクロレンズの形成)
上平坦化層上に、マイクロレンズ材料としてJSR(株)製 MFR401Lをスピン塗布し、プリベーク、1/5縮小型のi線ステッパーによる露光、現像、後露光、ポストベークによるメルトフローを行って、マイクロレンズを形成した。尚、現像液として、TMAH(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)の1.19%液を使用した。
上記の露光においては、図11にてA=2μm、B=C=0.1μm、D=0.08μmとし、E=1.8μm、F=1.72μmの2種の開口部を有するマイクロレンズ用フォトマスクを使用し、図12に示されるように、部分領域(1)〜(4)にマイクロレンズを配置した。この場合、部分領域(1)はX軸上の400画素までとし、部分領域(2)はX軸上の401画素から750画素まで、部分領域(3)はX軸上の751画素から1100画素まで、部分領域(4)はX軸上の1101画素から最外周の1296画素までとした。
次に、ボンディングパッド部の窓開けを行った。すなわち、ポジレジスト(住友化学(株)製 i線用ポジレジスト PFI−27)をスピン塗布し、次いで、プリベーク後、ボンディングパッド部およびスクライブ部に対応するパターンを有するフォトマスク用いて露光、現像を行い、ボンディングパッド部およびスクライブ部のレジストを除去し、その後、酸素アッシングを行って、当該箇所上の上平坦化層、下平坦化層をエッチング除去した。次いで、レジスト剥離液を用いてポジレジストを除去した。
次いで、ウェハのダイシングを行い、パッケージ組立を行って、本発明の固体撮像素子を作製した。
[比較例]
E=1.72μmの1種の開口部を有するマイクロレンズ用フォトマスクを使用した他は、実施例と同様にして固体撮像素子を作製した。
[評 価]
上述のように作製した固体撮像素子に関して、下記の条件で感度を測定し、結果を図18に示した。図18に示されるように、本発明の固体撮像素子は、シェーディング補正が有効になされ、その感度分布(図18に実線で示す)は比較例の固体撮像素子の感度分布(図18に鎖線で示す)に比べて約10%改善されていることが確認された。
(感度の測定条件)
作製した固体撮像素子に、カメラレンズとして図15に示す特性のものを用い、
白色光源に対するX軸方向の感度分布を測定した。
小型で高信頼性の固体撮像素子、撮像装置が要求される種々の分野において適用できる。
本発明の固体撮像素子の一例を示す概略構成図である。 本発明の固体撮像素子を説明するための部分領域毎のマイクロレンズの底面積を示す図である。 本発明の固体撮像素子を説明するためのマイクロレンズの底面積の補正曲線を示す図である。 本発明の固体撮像素子を説明するための部分領域毎のマイクロレンズの底面積を示す図である。 本発明の固体撮像素子の一実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。 図5において円で囲んだ部分領域の拡大図である。 図6に示される中間帯状部の交差部分におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。 本発明の固体撮像素子の他の実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。 底面積の異なるマイクロレンズを示す図である。 に示されるマイクロレンズの配置における底面積が大きいマイクロレンズの各部分領域での数を示す図である。 マイクロレンズ用フォトマスクの一画素分を示す図である。 本発明の固体撮像素子の他の実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。 本発明の固体撮像素子の他の実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。 本発明の固体撮像素子の他の実施形態におけるマイクロレンズの配置を説明するための図である。 撮像装置に用いられるレンズの主光線入射角度と像高の関係を示した図である。 本発明の撮像装置の一例を説明するための図である。 本発明の撮像装置の他の例を説明するための図である。 実施例における感度測定の結果を示す図である。 固体撮像素子におけるシェーディング現象を説明するための図である。 固体撮像素子におけるシェーディングの補正を説明するための図である。 有効撮像領域内での感度差を示す図である。 シェーディング補正のためのマイクロレンズの底面積の補正曲線を示す図である。 固体撮像素子におけるシェーディングの補正をする際のマイクロレンズの底面積の変化を説明するための図である。
符号の説明
1…固体撮像素子
2…基板
3…受光部
4…遮光膜
5…パッシベーション層
6…遮光層
7…下平坦化層
8…カラーフィルタ
9…上平坦化層
10…マイクロレンズアレイ
11…マイクロレンズ
31,41…撮像装置
32,42…固体撮像素子

Claims (6)

  1. 所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えている固体撮像素子において、
    マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズは、底面積が異なる底面矩形の2種以上のマイクロレンズからなり、底面積が異なるマイクロレンズ間の底面の一辺の寸法差は0.2nm以上であり、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、個々の部分領域内には底面積が同じマイクロレンズが配置され、マイクロレンズの底面積が異なる部分領域が隣接する境界部には、隣接する部分領域における各々の底面積のマイクロレンズが混在している中間帯状部が存在し、
    前記部分領域毎のマイクロレンズの底面積の平均的大きさが、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなる傾向であり、
    前記中間帯状部での底面積が異なるマイクロレンズの配置は、混在比率が1:1で均一な配置、あるいは、混在比率が1:0〜0:1の範囲内で連続的に変化するような配置、あるいは、ランダムな配置であることを特徴とする固体撮像素子。
  2. 所定のピッチで2次元配置された複数の受光部と、個々の前記受光部に対応させて複数のマイクロレンズが2次元配置されてなるマイクロレンズアレイとを少なくとも備えている固体撮像素子において、
    マイクロレンズアレイを構成するマイクロレンズは、底面積が異なる底面矩形の2種以上のマイクロレンズからなり、底面積が異なるマイクロレンズ間の底面の一辺の寸法差は0.2nm以上であり、有効撮像領域は中心から周辺に向って複数の部分領域に分割され、該複数の部分領域には、底面積の異なるマイクロレンズが混在しているような部分領域が存在し、
    前記部分領域毎のマイクロレンズの底面積の平均的大きさが、有効撮像領域の中心から周辺に向って大きくなる傾向であり、
    底面積の異なるマイクロレンズが混在している前記部分領域内での底面積の異なるマイクロレンズの配置は、底面積の異なるマイクロレンズの混在比率が該部分領域内において有効撮像領域の中心から周辺に向う方向に沿って変化し、かつ、底面積の小さいマイクロレンズが底面積の大きいマイクロレンズよりも有効撮像領域の周辺寄りに少なくとも1個存在する配置、あるいは、混在比率が該部分領域内において均一である配置、あるいは、ランダムな配置であることを特徴とする固体撮像素子。
  3. 同一の部分領域において隣接して配置されるマイクロレンズの底面積の差が10%以下であることを特徴とする請求項2に記載の固体撮像素子。
  4. 前記部分領域はモザイク状であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の固体撮像素子。
  5. 前記部分領域は有効撮像領域中心を中心とする同心の環状領域であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の固体撮像素子。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の固体撮像素子を備えることを特徴とする撮像装置。
JP2007258663A 2007-10-02 2007-10-02 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置 Expired - Fee Related JP4941214B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007258663A JP4941214B2 (ja) 2007-10-02 2007-10-02 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007258663A JP4941214B2 (ja) 2007-10-02 2007-10-02 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009088382A JP2009088382A (ja) 2009-04-23
JP4941214B2 true JP4941214B2 (ja) 2012-05-30

Family

ID=40661382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007258663A Expired - Fee Related JP4941214B2 (ja) 2007-10-02 2007-10-02 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4941214B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5402249B2 (ja) * 2009-05-27 2014-01-29 ソニー株式会社 固体撮像素子及び撮像装置
JP5476832B2 (ja) * 2009-07-23 2014-04-23 ソニー株式会社 固体撮像装置及びカメラ
JP5966395B2 (ja) * 2012-02-02 2016-08-10 凸版印刷株式会社 マイクロレンズ用フォトマスクおよびそれを用いるカラー固体撮像素子の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3554458B2 (ja) * 1997-02-18 2004-08-18 シャープ株式会社 固体撮像装置とその製造方法
JP3462736B2 (ja) * 1997-11-17 2003-11-05 ペンタックス株式会社 固体撮像素子
JP2004200334A (ja) * 2002-12-18 2004-07-15 Sony Corp 固体撮像装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009088382A (ja) 2009-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9261769B2 (en) Imaging apparatus and imaging system
US7656453B2 (en) Solid-state imaging device having characteristic color unit depending on color, manufacturing method thereof and camera
US20120043634A1 (en) Method of manufacturing microlens array, method of manufacturing solid-state image sensor, and solid-state image sensor
US20140145285A1 (en) Solid-state imaging device and method for manufacturing the same
WO2010013432A1 (ja) 固体撮像装置およびその製造方法
US20090242735A1 (en) Solid-state image pickup device and mask manufacturing method
CN111668246B (zh) 摄像装置
US20210231840A1 (en) Method for forming micro-lens array and photomask therefor
JP2009027684A (ja) カラーフィルタアレイとそれを用いたイメージセンサ
JP4941233B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
US12072624B2 (en) Method for forming color filter array and method for manufacturing electronic device
JP4941214B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
US8283110B2 (en) Method for fabricating an image sensor device
JP2009194186A (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
JP4957564B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
JP4877215B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
JP6638347B2 (ja) 固体撮像素子および電子機器
JP6911353B2 (ja) 固体撮像素子の製造方法
JP4941221B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
JP4844513B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
JP5408216B2 (ja) 固体撮像素子の製造方法
JP2010074218A (ja) 固体撮像素子とその製造方法および固体撮像素子を用いた撮像装置
JP4998227B2 (ja) 固体撮像素子とその製造方法およびこの固体撮像素子を用いた撮像装置
JP5326390B2 (ja) 固体撮像素子およびそれを用いた撮像装置
JP4935682B2 (ja) カラーフィルタ製造用のフォトマスク

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111006

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111025

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111214

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120131

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120213

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4941214

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150309

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees