CN101995588A - 光学物品制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能形成带电防止性良好的层的光学物品制造方法。提供一种光学物品制造方法，该光学物品制造方法具有以下步骤：在光学基材上直接或者隔着其他层形成透光性的第一层；以及离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此降低第一层的表层的至少一部分的电阻。虽然是钛-铌系，但是能降低表面的电阻而不使用高温处理，此外，能降低表面的电阻而不使用昂贵的铟。

Description

光学物品制造方法
技术领域
本发明涉及眼镜镜片等镜片、其他光学材料或者制品中使用的光学物品的制造方法。
背景技术
眼镜镜片等光学物品在用于发挥各种功能的基材(光学基材)的表面，形成有具有各种功能的层(膜)以进一步强化或保护该基材的功能。例如，公知有用于确保镜片基材的耐久性的硬涂层、用于防止重影和闪光的反射防止层等。反射防止层的典型例子是所谓的多层反射防止层，其是在层积有硬涂层的镜片基材的表面交替地层积具有不同折射率的氧化膜而成的。
在专利文献1中记载有如下内容：提供一种新型的适于低耐热性基材的具有带电防止功能的光学元件。记载有一种眼镜镜片等光学元件，其在塑料制的光学基材上具有多层结构的反射防止膜，其中，反射防止膜包含透明导电层，该透明导电层通过离子辅助真空蒸镀形成，其他反射防止层的构成层通过电子束真空蒸镀等形成。记载有作为导电层可列举以铟、锡、锌等中的任意一种或两种以上作为成分的无机氧化物，尤其希望是ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟和氧化锡的混合物)。
【专利文献1】日本特开2004-341052号公报
【专利文献2】国际公开第2006/016608号册子
【专利文献3】日本特开2004-300580号公报
在眼镜镜片等光学物品的领域，为了防止带电和屏蔽电磁等，寻求取代使用昂贵的铟的ITO而形成能提供导电性的层的方法。这种方法之一是称为TNO的钛铌氧化物(Ti1-XNbXO2)。在专利文献2中记载有关于透明且具有导电性的透明电极用基材以及透明导电性薄膜，提供能稳定供给且由耐化学性等优异的材料构成的透明金属材料和透明电极。此外，记载有如下内容：通过在基板上形成由锐钛(anatase)型晶体结构构成的金属氧化物层，利用TiO2构成金属氧化物层，由此在维持内部透射率的同时实现低电阻率，即，制造利用其他原子(Nb、Ta、Mo、As、Sb、W等)置换锐钛型TiO2中的Ti格点而得到的TiO2，由此可维持透明度并显著提高电传导率。
但是，需要将蒸镀该透明金属时的基板温度维持在550℃这样的高温下。该高温处理用于得到锐钛型的晶体结构，为了生成TNO膜需要保持在300℃以上的处理。另一方面，塑料镜片的耐热温度最高也就100℃。因此，不能采用伴随高温处理的TNO来替代ITO作为塑料镜片的导电层。
例如，在专利文献3中记载有如下内容：提供下述蒸镀组合物的制造方法、具有蒸镀组合物和反射防止膜的光学部件的制造方法，即使在低温条件下蒸镀也能形成高折射率层，可得到耐磨性、耐化学性及耐热性良好且随着时间的经过耐热性降低的程度较小的反射防止膜。此外，还记载有蒸镀组合物的制造方法、蒸镀组合物以及具有反射防止膜的光学物品的制造方法，蒸镀组合物的制造方法的特征在于，烧结对含有二氧化钛和五氧化铌的蒸镀原料进行混合而得到的蒸镀原料混合物；蒸镀组合物的特征在于，该蒸镀组合物含有二氧化钛和五氧化铌；具有反射防止膜的光学物品的制造方法的特征在于，产生该蒸镀组合物的蒸汽，使产生的蒸发物在基板上析出，形成反射防止膜的高折射率层。含有在低温条件下蒸镀而成的二氧化钛和五氧化铌的蒸镀组合物虽然有高折射率，但不着眼于电阻，在专利文献3中没有找到关于电阻的内容。
发明内容
本发明的一个方式是光学物品(光学元件)的制造方法，具有以下步骤。(a)在光学基材上直接或者隔着其他层形成透光性的第一层(形成第一层的步骤)。
(b)离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此降低第一层的表层的至少一部分的电阻(降低电阻的步骤)。
本发明人发现，通过离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此即使不使用高温处理也能降低第一层(膜)的表层的至少一部分的电阻。即，即使不使用高温处理也能利用钛-铌系对第一层赋予导电性。因此，在以塑料镜片等耐热性不那么高的材料作为基材的光学物品中，通过用于反射防止膜的高折射率层等的第一层(功能层)的成分，能提供带电防止功能和/或电磁波屏蔽功能，能以低成本提供具有上述功能的光学物品。
此外，在该制造方法中，不仅可以不使用高温处理，而且通过离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分来改变第一层的表面(表层)，由此能赋予导电性。因此，如ITO那样可降低现有层(第一层)的表面的电阻，无需形成厚度达到某种程度的导电层。例如，还能降低反射防止层包含的一个层(第一层)的电阻值(电阻率)，无需较大程度地改变由多层构成的反射防止层的光学设计。
降低电阻的步骤(上述(b)步骤)可认为是在第一层的表层的至少一部分上通过离子辅助蒸镀混合钛、铌以及氧。此外，降低电阻的步骤(上述(b)步骤)可认为是使第一层的表层的至少一部分成为钛铌氧化物而不使用高温处理。
在说明书中，成为钛铌氧化物(钛铌氧化物化、TNO化)表示在钛氧化物中掺杂或混合铌原子或铌氧化物，或者，在铌氧化物中掺杂或混合钛原子或钛氧化物，观察到钛-铌氧化物系的电阻降低。TNO化至少在短周期的范围内形成锐钛型的Ti1-XNbXO2(TNO)的晶体或与其接近的结构，结果观察到钛-铌氧化物系的电阻降低。在本发明中公开有如下内容：通过离子辅助蒸镀来实现表层的有限区域的TNO化，不使用将基材保持在几百度的过程(高温处理)，将电阻降低到足够对使用镜片等耐热性不那么高的基材的光学物品赋予防止带电等功能的程度。
TNO化的另一优点是外延生长的TNO膜为透明性或接近透明。第一层的表层状态由于离子辅助蒸镀而发生变化，光的吸收损耗可能增加。但是，有可能通过离子辅助蒸镀形成的一种成分(晶体成分)为透光性，因此，通过对第一层的表面进行离子辅助蒸镀，有可能能够抑制透光性降低。并且，通过离子辅助蒸镀改善的部分大致仅限于第一层的表层。因此，能进一步抑制因降低电阻造成的第一层的透光性降低。
在第一层是包含钛氧化物的层的情况下，降低电阻的步骤(上述(b)的步骤)包含离子辅助蒸镀铌或其氧化物的步骤。此外，在第一层是包含铌氧化物的层的情况下，降低电阻的步骤(上述(b)的步骤)包含离子辅助蒸镀钛或其氧化物的步骤。并且，第一层如包含锆氧化物的层等那样，是不含钛或铌的氧化物(不含钛和铌的氧化物层)的情况下，降低电阻的步骤(上述(b)的步骤)包含离子辅助蒸镀钛或钛氧化物之后，离子辅助蒸镀铌或铌氧化物的步骤。此外，在第一层是不含钛或铌的氧化物(不含钛和铌的氧化物层)的情况下，降低电阻的步骤(上述(b)的步骤)包含离子辅助蒸镀铌或铌氧化物之后，离子辅助蒸镀钛或钛氧化物的步骤。
第一层的典型例子是在光学基材上隔着硬涂层或者隔着打底层和硬涂层而层积的无机系或有机系的反射防止层。在无机系的反射防止层的情况下，第一层典型的是包含金属氧化物的层。第一层可以是多层结构的反射防止层的任意一层，也可以是多个层。在哪种情况下都可以通过应用上述方法来降低反射防止层的电阻值(电阻率)。
这样，第一层可以是多层结构的反射防止层包含的一个层。在该情况下，该方法还可以进一步具有(c)在第一层上直接或者隔着其他层形成防污层的步骤(形成防污层的步骤)。防污层具有防水性能，因此具有防污层的光学物品的表面不能保持空气中的水分。结果，容易带电。通过应用上述方法，即使是具有防污层的光学物品，也能良好地防止带电。
具有防污层的光学物品的典型例如是眼睛镜片。在眼睛镜片中，往往使用塑料镜片基材作为光学基材。上述方法适用于使用塑料镜片基材作为光学基材的情况，或者光学物品是眼睛镜片的情况。
光学物品的典型例子除了眼睛镜片之外，还可列举出投影用透镜、成像用透镜、分色棱镜、玻璃罩、DVD等信息存储装置、表现出良好外观的内置有介质的装饰品等。上述方法还适用于这些物品的制造。
附图说明
图1是示出包含类型A和类型C的层结构的反射防止层的镜片的结构的剖视图。
图2是示意性示出用于制造反射防止层的离子辅助蒸镀装置的图。
图3是汇总示出与类型A关联的反射防止层的各层的层材料和层厚的图。
图4是示出包含类型B的层结构的反射防止层的镜片的结构的剖视图。
图5是汇总示出与类型B关联的反射防止层的各层的层材料和层厚的图。
图6是汇总示出与类型C关联的反射防止层的各层的层材料和层厚的图。
图7是汇总示出实施例1～9以及比较例1的表面电阻和光的吸收损耗的测定结果的图。
图8(A)是示出测定表面电阻的状态的剖视图，图8(B)是示出测定表面电阻的状态的俯视图。
标号说明
1镜片基材(光学基材)；2硬涂层；3反射防止层；4防污层；10镜片(光学物品)
具体实施方式
说明本发明的几个实施方式。以下，例示作为光学物品的眼镜用镜片来进行说明，但可适用本发明的光学物品不限于此。
图1通过剖视图示出典型眼镜用镜片的一例的结构。镜片10包含：镜片基材1；形成在镜片基材1的表面的硬涂层2；形成在硬涂层2上的透光性的反射防止层3；形成在反射防止层3上的防污层4。在本例子中，使用塑料制的镜片基材(塑料镜片基材)作为镜片基材1。作为镜片基材1，还可以使用玻璃制的镜片基材(玻璃镜片基材)。
1.镜片概要
1.1镜片基材
镜片基材1没有特殊限定，例如可以例示(甲基)丙烯树脂以及苯乙烯树脂、聚碳酸酯树脂、烯丙基树脂、二甘醇双烯丙基碳酸酯(例如PPGインダストリ一ズオバイオ公司的CR-39(注册商标))等烯丙基碳酸酯树脂、乙烯树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、使异氰酸酯化合物与二甘醇等羟基化合物之间发生反应而得到的尿烷树脂、使异氰酸酯化合物与多硫醇化合物之间发生反应而得到的硫代氨基甲酸乙酯(チオウレタン)树脂、以及对在分子内具有一个以上的二硫键的含有(硫代)环氧化合物的聚合性化合物等进行固化而得到的透明树脂。镜片基材1的折射率例如在1.60～1.75左右。在该实施方式中，折射率可以在上述范围内，也可以在允许范围内相对于上述范围上下偏离。
1.2硬涂层(打底层)
形成在镜片基材1上的硬涂层2主要以提高耐磨擦性为目的。作为硬涂层2使用的材料，可以列举丙烯酸系树脂、三聚氰胺系树脂、尿烷系树脂、环氧系树脂、聚乙烯醇缩醛系树脂、氨基系树脂、聚酯树脂、聚酰胺系树脂、乙烯醇系树脂、苯乙烯树脂、硅系树脂以及它们的混合物或者共聚合物等。硬涂层2的一例是硅系树脂，是涂覆包含金属氧化物粒子、硅烷化合物的涂层组合物(用于形成硬涂层的表面涂层组合物)并使之固化后的产物。在该涂层组合物中可以包含(混合)胶态二氧化硅以及多官能性环氧化合物等成分。
涂层组合物(用于形成硬涂层的涂层组合物)所包含的金属氧化物粒子的具体例子是由SiO2、Al2O3、SnO2、Sb2O5、Ta2O5、CeO2、La2O3、Fe2O3、ZnO、WO3、ZrO2、In2O3、TiO2等金属氧化物构成的粒子，或者由两种以上的金属的金属氧化物构成的复合粒子。也可以在涂层组合物中包含(混合)使这些粒子呈胶体状分散在分散剂(例如水、醇系或其它有机溶剂)中得到的分散物。
硬涂层2还可以兼发挥打底层的功能，为了确保镜片基材1与硬涂层2之间的密接性，还可以在镜片基材1与硬涂层2之间另行设置打底层。打底层还可有效改善作为高折射率镜片基材的缺点的耐撞击性。作为用于形成打底层的树脂，可列举丙烯酸系树脂、三聚氰胺系树脂、尿烷系树脂、环氧系树脂、聚乙烯醇缩醛系树脂、氨基系树脂、聚酯树脂、聚酰胺系树脂、乙烯醇系树脂、苯乙烯树脂、硅系树脂以及它们的混合物或者共聚物等。作为用于保持密接性的打底层，优选尿烷系树脂和聚酯系树脂。
硬涂层2和打底层的制造方法的典型例子是通过浸渍法、旋转法、喷射法以及流动法涂覆涂层组合物，之后于40～100℃的温度加热干燥数小时的方法。
1.3反射防止层
形成在硬涂层2上的反射防止层3的典型例子是无机系反射防止层或有机系反射防止层。无机系反射防止层典型的是由多层膜构成，例如，可以由折射率为1.3～1.6的低折射率层和折射率为1.8～2.6的高折射率层交替层积而形成。这种反射防止层的层数例如可以是5层或7层左右。作为构成这种反射防止层的各层所使用的无机物的例子，可列举SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、TaO2、Ta2O5、NdO2、NbO、Nb2O3、NbO2、Nb2O5、CeO2、MgO、SnO2、MgF2、WO3、HfO2、Y2O3等。这些无机物可以单独使用，或者混合两种以上使用。作为形成反射防止层的方法，可列举干式法，例如真空蒸镀法、离子镀法、溅射法等。
有机系反射防止层的制造方法之一是湿式法。例如可以通过利用与硬涂层和打底层同样的方法，涂覆涂层组合物(用于形成反射防止层的涂层组合物)，由此形成有机系的反射防止层，其中，该涂层组合物包含具有内部空洞的二氧化硅系粒子(以下还称为“中空二氧化硅系粒子”)和有机硅化合物。在涂层组合物(用于形成反射防止层的涂层组合物)中包含中空二氧化硅系粒子是因为，由于在内部空洞内包含折射率比二氧化硅低的气体或溶剂，因此与没有空洞的二氧化硅系粒子相比，折射率降低，从而能得到优异的反射防止效果。中空二氧化硅系粒子可以利用日本特开2001-233611号公报中记载的方法等来制造，但典型的是可使用平均粒径在1～150nm范围内且折射率在1.16～1.39范围内的中空二氧化硅系粒子。有机系反射防止层的层厚优选50～150nm的范围。如果与该范围相比过厚或者过薄，则可能得不到足够的反射防止效果。
在本实施方式的镜片10中，反射防止层3包含的至少一种层具有降低了电阻的表层。通过离子辅助蒸镀(使用离子束辅助法进行蒸镀)从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此降低至少一层(第一层)的表层的电阻。
1.4防污层
往往在反射防止层3上形成防水膜或亲水性的防雾膜(统称为防污膜)4。作为防污层4的一例，是以提高镜片10的表面的防水防油性能为目的，形成在反射防止层3上的由含氟的有机硅化合物构成的层。作为含氟的有机硅化合物，优选使用例如日本特开2005-301208号公报和日本特开2006-126782号公报中记载的含氟硅烷化合物。
含氟硅烷化合物优选用作溶解在有机溶剂中调整成规定浓度的防水处理液(用于形成防污层的涂层组合物)。例如，可以通过在反射防止层3上涂覆该防水处理液来形成防污层4。作为涂覆方法，可使用浸渍法、旋涂法等。另外，还可以在金属颗粒(pellet)中填充防水处理液后使用真空蒸镀法等干式法来形成防污层4。
包含含氟硅烷化合物的防污层4的层厚虽无特别限定，但优选的是0.001～0.5μm。更优选的是0.001～0.03μm。如果防污层4的层厚太薄则防水防油效果不够，如果太厚则表面发粘，因此不优选。此外，如果防污层4的厚度超过0.03μm，则可能降低反射防止效果。
2.样品制造
2.1实施例1(层结构：类型A)
2.1.1镜片基材的选择和硬涂层的形成
作为镜片基材1，使用折射率1.67的眼睛用塑料镜片基材(商品名：セイコ一ス一パ一ソブリン(SSV)(精工爱普生(株式会社)制造))。
按照以下方式来调制用于形成硬涂层2的涂敷液(用于形成硬涂层的涂层液)。在20重量份的环氧树脂-二氧化硅混合物(商品名：コンプセランE102(荒川化学工业(株式会社)制造)中混合4.46重量份的酸酐系固化剂(商品名：固化剂液(C2)(荒川化学工业(株式会社)制造))进行搅拌，得到涂敷液。使用旋转涂布机在镜片基材1上涂覆该涂敷液至规定厚度，由此形成硬涂层2。以125℃对涂敷后的镜片基材1(形成了硬涂层2后的镜片基材1)焙烧2小时。由此，在镜片基材1上形成层厚约为2μm的硬涂层2。以下，将在镜片基材1上形成有层厚约为2μm的硬涂层2的产物称为镜片样品10a。
2.1.2反射防止层的形成
2.1.2.1蒸镀装置
接下来，利用图2所示的蒸镀装置100在镜片样品10a上形成无机系的反射防止层3。图2例示的蒸镀装置100是电子束蒸镀装置，具有真空容器110、排气装置120和气体供给装置130。真空容器110具有：样品支撑台114，其放置形成有硬涂层2的镜片样品10a；基材加热用加热器115，其用于对放在样品支撑台114上的镜片样品10a进行加热；以及灯丝116，其产生热电子。该蒸镀装置100利用电子枪(未图示)对放在蒸发源(坩埚)112和113上的蒸镀材料照射热电子使其蒸发，使蒸镀材料蒸镀到镜片样品10a。
并且，该蒸镀装置100为了能离子辅助蒸镀而具备离子枪117，该离子枪117使导入到离子源内部的气体离子化并加速，照射到镜片样品10a。在以下的例子中，使用氩气对氩离子加速后用于离子辅助，作为导入的气体，不限于氩(Ar)，可使用氧气(O2)、氮气(N2)、氦(He)、氖(Ne)、氙(Xe)等。
通过排气装置120包含的涡轮分子泵或低温泵121以及压力调整阀122，真空容器110的内部保持在高真空例如1×10-4Pa下。另一方面，真空容器110的内部还可通过气体供给装置130处于规定气体气氛。例如，在气体容器131中准备氩(Ar)、氮气(N2)、氧气(O2)等。可由流量控制装置132来控制气体的流量，可由压力计135来控制真空容器110的内压。此外，在真空容器110中还可以设置用于除去残留的水分的冷阱、以及用于管理要形成的层的层厚的装置等。作为管理要形成的层的层厚的装置，例如有反射型的光学膜厚计和石英振子膜厚计等。基材加热用加热器115例如是红外灯，通过加热镜片样品10a放出气体或溅起水分，确保形成在镜片样品10a表面的层的密接性。
该蒸镀装置100的主要的蒸镀条件是蒸镀材料、电子枪的加速电压、电流值、有无离子辅助。通过离子种类(真空容器110的气氛)、离子枪117的电压值和电流值来提供利用离子辅助时的条件。在下文中，除非有特别记载，否则电子枪的加速电压在5～10kV的范围，电流值在50～500mA的范围中，根据层形成速度(成膜速度)来选择。此外，在利用离子辅助的情况下，电子枪117的电压值在200V～1kV的范围，电流值在100～500mA的范围，根据层形成速度(成膜速度)等来选择。
2.1.2.2低折射率层和高折射率层的成膜
首先，利用丙酮对形成有硬涂层2的镜片样品10a进行清洗，在真空容器110的内部进行约70℃的加热处理，使附着在镜片样品10a上的水分蒸发。接着，对镜片样品10a的表面实施离子清洗。具体而言，使用离子枪117以几百电子伏特的能量对镜片样品10a的表面照射氧离子束，除去附着在镜片样品10a表面的有机物。通过该方法，可以强化形成在镜片样品10a表面的层的附着力。另外，也可以使用惰性气体例如氩气(Ar)、氙气(Xe)、氮气(N2)等来取代氧离子进行同样的处理，或者也可以照射氧自由基或氧等离子体。
在真空容器110的内部充分真空排气后，通过电子束真空蒸镀法交替地层积作为低折射率层31的二氧化硅(SiO2)层、作为高折射率层32的氧化钛(TiO2)层，形成反射防止层3。
本例(类型A)的反射防止层3的层结构是7层结构(参照图1)，第1层、第3层、第5层和第7层是低折射率层31，第2层、第4层、第6层是高折射率层32。低折射率层31是SiO2层，通过真空蒸镀二氧化硅(SiO2)而不进行离子辅助来形成(成膜)。成膜速度为2.0nm/sec、电子枪的加速电压为7kV、电流为100mA。
高折射率层32是TiO2层。通过一边导入氧气一边离子辅助蒸镀氧化钛(TiO2)来形成(成膜)。成膜速度为0.4nm/sec，电子枪的加速电压为7kV，电流为360mA。第1层～第7层的层厚分别管理为28nm、6.6nm、204nm、23nm、36nm、28nm、100nm。以下，将该TiO2/SiO2系的7层结构称为类型A。在图3中汇总示出了类型A的各层的层材料和层厚(nm)。另外，在该镜片样品10a中，硬涂层2的折射率为1.65，SiO2层31的折射率为1.462，TiO2层32的折射率为2.43。
2.1.2.3降低电阻
在该实施例1中，从第1层层积到第6层后，按照以下的方式对第6层的表层33进行改变(降低电阻)。另外，在降低了第6层的表层的电阻后，形成(成膜)第7层。
在形成了作为第6层的TiO2层32后，使用使氩气电离放电的离子辅助(离子束辅助)法，在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件如下所述。
蒸镀源：氧化铌(Nb2O5)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：1000V、加速电流：200mA
2.1.3防污层的形成
在形成反射防止层3后，接着形成防污层4。在反射防止层3的第7层的表面实施氧等离子体处理，在蒸镀装置100内将颗粒材料作为蒸镀源来形成(成膜)防污层4，该颗粒材料包含含有分子量较大的含氟有机硅化合物的“KY-130”(商品名、信越化学工业(株式会社)制造)。此时，以大约500℃加热，使KY-130蒸发。蒸镀时间为大约3分钟左右。由于通过实施氧等离子体处理，在最终层(第7层)的SiO2层31的表面形成硅烷醇基，因此提高了反射防止层3与防污层4之间的化学密接性(化学键)。
在结束了蒸镀后，从真空蒸镀装置100取出在一个面上形成有反射防止层3和防污层4的镜片样品10a，反转后再次投入，以相同的顺序反复上述步骤(反射防止层3和防污层4的形成)。由此，在另一个面也形成反射防止层3和防污层4，制造出满意的镜片10。从真空蒸镀装置100取出制造出的镜片10。
实施例1的镜片10在塑料镜片基材1的两面上具有硬涂层2、包含至少降低了表层的一部分的电阻的层(第1层)(具体而言，降低了第6层的表层的电阻)的反射防止层3和防污层4。
2.2实施例2(层结构：类型B)
在图4中通过剖视图示出实施例2的眼镜用镜片的结构。本例(类型B)的镜片10具有5层结构的反射防止层3，第1层、第3层和第5层是低折射率层31，第2层和第4层是高折射率层32。
本例的镜片10的制造方法相对于实施例1，不同点在于上述的2.1.2.2(低折射率层和高折射率层的成膜)以及上述的2.1.2.3(降低电阻)。其它步骤与实施例1相同。
低折射率层31是SiO2层，与实施例1的低折射率层31相同，是通过真空蒸镀二氧化硅(SiO2)而不进行离子辅助形成(成膜)的。高折射率层32是Nb2O5层，与实施例1的高折射率层32相同，是通过一边导入氧气一边离子辅助蒸镀氧化铌(Nb2O5)形成(成膜)的。第1层～第5层的层厚分别管理成36nm、37nm、15.8nm、65.3nm、91nm。以下，将该Nb2O5/SiO2系的5层结构称为类型B。在图5中汇总示出了类型B的各层的层材料和层厚(nm)。
在该实施例2中，从第1层层积到第4层之后，以如下方式对第4层的表层33进行改变(降低电阻)。另外，第5层是在降低了第4层的表层的电阻之后形成(成膜)的。
在形成了作为第4层的Nb2O5层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiOX(X＝1.7))堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。接下来，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助条件分别如下。
蒸镀源：氧化钛(TiOX(X＝1.7))、氧化铌(Nb2O5)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：1000V、加速电流：200mA
2.3实施例3(层结构：类型A)
本例的镜片10具有如图1和图3所示的7层结构的反射防止层3，第1层、第3层、第5层和第7层是低折射率层31，第2层、第4层和第6层是高折射率层32。本例的镜片10的制造方法相对于实施例1，上述2.1.2.3(降低电阻)不同，其它步骤与实施例1相同。
在该实施例3中，从第1层层积到第6层之后，以如下方式对第6层的表层33进行改变(降低电阻)。另外，第7层是在降低了第6层的表层的电阻之后形成(成膜)的。
在形成了作为第6层的TiO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件如下。
蒸镀源：氧化铌(Nb2O5)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：1000V、加速电流：200mA
2.4实施例4(层结构：类型A)
本例的镜片10与实施例3相同，具有类型A的层结构(TiO2/SiO2系的7层结构)的反射防止层3。本例的镜片10的制造方法相对于实施例3，不同点在于上述的2.1.2.3(降低电阻)。
本例中以如下方式来降低电阻。在形成了作为第6层的TiO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。接着，使用离子蒸镀(离子束辅助)法在使氧化钛(TiOX(X＝1.7))堆积大约1mm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件分别如下。
蒸镀源：氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiOX(X＝1.7))
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：1000V、加速电流：200mA
2.5实施例5(层结构：类型C)
本例的镜片10具有图1所示的7层结构的反射防止层3。第1层、第3层、第5层和第7层是低折射率层31，第2层、第4层和第6层是高折射率层32。其中，低折射率层31是SiO2，高折射率层32是ZrO2层(折射率2.1)。
本例的镜片10的制造方法相对于实施例1，不同点在于上述的2.1.2.2(低折射率层和高折射率层的成膜)以及上述的2.1.2.3(降低电阻)。其它步骤与实施例1相同。
低折射率层31是SiO2层，与实施例1的低折射率层31相同，是通过真空蒸镀二氧化硅(SiO2)而不进行离子辅助形成(成膜)的。高折射率层32是ZrO2层，是通过使用ZrO烧结体一边导入氧气一边离子辅助蒸镀氧化锆(ZrO2)形成(成膜)的。成膜速度为0.8nm/sec，电子枪的加速电压为7kV，电流为280mA。第1层～第7层的层厚分别管理成24nm、8.5nm、191nm、39nm、15nm、56nm、91nm。以下，将该ZrO2/SiO2系的7层结构称为类型C。在图6中汇总示出了类型C的各层的层材料和层厚(nm)。
此外，在该实施例5中，从第1层层积到第6层之后，以如下方式对第6层的表层33进行改变(降低电阻)。另外，第7层是降低了第6层的表层的电阻之后形成(成膜)的。
(降低电阻)
在形成了作为第6层的ZrO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiO2)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。接下来，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。并且，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiO2)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。并且，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件分别如下。
蒸镀源：氧化钛(TiO2)、氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)、
氧化铌(Nb2O5)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：800V、加速电流：200mA
2.6实施例6(层结构：类型C)
利用上述的2.1.2.3(降低电阻)与实施例5不同而其它步骤与实施例5相同的方法，制造具有与实施例5相同的类型C的层结构的镜片10。
上述的2.1.2.3(降低电阻)以如下方式进行。在形成了作为第6层的ZrO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。接着，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiOX(X＝1.7))堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。并且，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件分别如下。
蒸镀源：氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiOx(X＝1.7))、氧化铌(Nb2O5)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：800V、加速电流：200mA
2.7实施例7(层结构：类型C)
利用上述的2.1.2.3(降低电阻)与实施例5不同而其它步骤与实施例5相同的方法，制造具有与实施例5相同的类型C的层结构的镜片10。
上述的2.1.2.3(降低电阻)以如下方式来进行。在形成了作为第6层的ZrO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiO2)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。接着，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化铌(Nb2O5)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。并且，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiO2)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件分别如下。
蒸镀源：氧化钛(TiO2)、氧化铌(Nb2O5)、氧化钛(TiO2)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：800V、加速电流：200mA
2.8实施例8(层结构：类型C)
利用上述的2.1.2.3(降低电阻)与实施例5不同而其它步骤与实施例5相同的方法，制造具有与实施例5相同的类型C的层结构的镜片10。
上述的2.1.2.3(降低电阻)以如下方式来进行。在形成了作为第6层的ZrO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使金属铌(Nb)堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。接着，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiOX(X＝1.7))堆积大约3nm的条件下进行蒸镀。并且，使用离子辅助(离子束辅助)法在使金属铌(Nb)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件分别如下。
蒸镀源：金属铌(Nb)、氧化钛(TiOX(X＝1.7))、金属铌(Nb)
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：1000V、加速电流：200mA
2.9实施例9(层结构：类型C)
利用上述的2.1.2.3(降低电阻)与实施例5不同而其它步骤与实施例5相同的方法，制造具有与实施例5相同的类型C的层结构的镜片10。
上述的2.1.2.3(降低电阻)以如下方式来进行。在形成了作为第6层的ZrO2层32之后，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiOX(X＝1.7))堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。接着，使用离子辅助(离子束辅助)法在使金属铌(Nb)堆积大约1nm的条件下进行蒸镀。并且，使用离子辅助(离子束辅助)法在使氧化钛(TiOX(X＝1.7))堆积大约2nm的条件下进行蒸镀。离子束辅助的条件分别如下。
蒸镀源：氧化钛(TiOX(X＝1.7))、金属铌(Nb)、氧化钛(TiOX(X＝1.7))
辅助气体：氩(Ar)
加速电压：1000V、加速电流：200mA
2.10比较例1
作为比较例1，利用省略降低电阻的步骤，其它步骤与实施例5相同的方法，制造具有与实施例5相同的类型C的层结构的镜片10。
3.通过实施例1～9以及比较例1制造出的镜片样品的评价
针对通过上述实施例1～9以及比较例1制造出的镜片样品，测定电阻和光的吸收损耗。这些测定结果(评价结果)在图7中汇总示出。
3.1电阻
3.1.1测定装置和测定方法
在图8(A)和(B)中示出了测定各样品的表面的电阻(表面电阻)的状况。在该例子中，使环形探针61接触测定对象即镜片样品10的表面10F，测定镜片样品10的表面10F的电阻值。测定装置60使用三菱化学(株式会社)制造的高抵抗抵抗率計ハイレスタUP MCP-HT450型。使用的环形探针61是URS型，具有两个电极。外侧环形电极61a的外径为18mm，内径为10mm，内侧圆形电极61b的直径为7mm。在这些电极之间施加1000V～10V的电压，计测各样品的表面电阻值。
3.1.2评价结果
如图7所示，在利用比较例1的方法形成的镜片样品中，表面电阻的测定值为1×1013Ω。为了降低电阻而利用实施例1～9记载的方法形成的镜片样品中，表面电阻的测定值降低到2×108Ω～8×109Ω。即，可知与现有的样品比较，利用实施例1～9记载的方法降低了电阻的镜片样品的电阻值减小4位～5位(104～105)左右。电阻值可以是1/104～1/105。因此，可知在形成反射防止层的一个层的表层上，离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此可以降低表面电阻。
在这些实施例1～9中，通过离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此在表层33上混合混入钛(Ti)原子、铌(Nb)原子、氧(O)原子。例如，在实施例1和2中，在作为第一层的第6层或第4层的钛氧化物层的表层33上离子辅助蒸镀铌氧化物或金属铌、乃至钛氧化物，由此，可认为是在钛氧化物层的表层(表层部)33中掺杂铌，可认为是在表层33的至少一部分上形成Ti-Nb-O层或区域。而且，由于在上述评价结果中表面的电阻得以降低，因此，在通过离子辅助蒸镀形成的Ti-Nb-O层或区域中钛的至少一部分成为锐钛型晶体或接近锐钛型晶体的状态，可认为是被TNO化。因此，无需以300度以上的高温保持基材，即可在第6层或第4层的钛氧化物层的表层33、或表层33的一部分上，通过离子辅助蒸镀形成Ti-Nb-O层或区域，由此，可认为是在短周期的范围内至少形成了TNO或者与其接近的晶体状态。因此，在不适合高温处理的基材，例如在本例子的塑料镜片基材中，也可在层表面的边界区域导入TNO，能通过TNO实现降低电阻。
此外，该Ti-Nb-O层或区域是通过在表层33上离子辅助蒸镀金属钛、钛氧化物、金属铌或者铌氧化物这样的方法而形成的，不同于通过蒸镀来层积钛-铌混合物而成的钛-铌系的高折射率层。即，在蒸镀钛-铌混合物的情况下，只要不蒸镀在高温基板而外延生长，就不能降低电阻。因此，对于钛-铌系的现有的高折射率层，并没有降低电阻的报告。在上述的实施例1和2中，不是蒸镀钛-铌的混合物，而是对钛或铌的一方相对于另一方的氧化物进行离子辅助蒸镀，由此表层33或其一部分的钛成为锐钛型，可认为是形成了导电性的TNO。
同样，在实施例3和4中，在作为第一层的第6层的铌氧化物层的表层33上，离子辅助蒸镀钛氧化物或金属钛、乃至铌氧化物，由此，可认为是在铌氧化物层的表层(表层部)33中掺杂了钛，可认为是在表层33的至少一部分上形成了Ti-Nb-O层或区域。如实施例5～9所示，在作为第一层的第6层的锆氧化物层的表层33上，离子辅助蒸镀钛氧化物或金属钛、铌氧化物或金属铌，由此，可认为是在锆氧化物层的表层(表层部)33的至少一部分上形成了Ti-Nb-O层或区域。而且，在这些实施例中电阻也得以降低，可认为是不使用高温处理即可使表层33的至少一部分TNO化。
通过降低镜片、玻璃罩等光学物品的表面电阻，可得到几个效果。典型的效果是防止带电和屏蔽电磁。在眼镜用镜片中，有无带电防止性的标准可认为是电阻值在1×1011Ω以下。在考虑到使用上的安全性等时，更优选的是电阻值在1×1010Ω以下。通过实施例1～实施例9记载的方法制造出的镜片样品中，任意一个镜片样品都具有电阻值为1×1010Ω以下的优异的带电防止性。在这些实施例中，仅处理多层结构的反射防止膜的一个层的表层，就已测定出足够的电阻降低，可几乎不增加工时地降低电阻。当然，也可以处理多层结构的反射防止膜的多个层的表层。
此外，在表层离子辅助蒸镀钛、钛氧化物、铌、铌氧化物的处理，与为了形成反射防止膜的高折射率层而蒸镀钛氧化物和铌氧化物的处理相比，共同之处较多，因此，几乎可直接适用形成反射防止膜的处理。在这一点上，在表层离子辅助蒸镀钛、钛氧化物、铌、铌氧化物的处理是可容易地用作降低眼镜镜片等光学物品的表面电阻的处理。
3.2吸收损耗
3.2.1测定装置和测定方法
接下来，测定各镜片样品的光的吸收损耗。但是，如果表面弯曲，则光的吸收损耗很难测定。因此，使用玻璃制造的基材(玻璃基材)1，利用与镜片样品同样的步骤来制造各实施例的用于测定光吸收损耗的样品(玻璃样品)，使用玻璃样品来测定吸收损耗。
光的吸收损耗使用分光光度计来测定反射率和透射率，利用(A)式来计算吸收率。在测定中使用日立制造的分光光度计U-4100。
吸收率(吸收损耗)＝100％-透射率-反射率    (A)
图7中示出了各玻璃样品的波长400～700nm的平均光吸收率的测定结果。
3.2.2评价结果
可以看到，相对于比较例1的玻璃样品，通过实施例1～实施例9制造出的玻璃样品的吸收损耗多少有些增加。但是，最大也在2％以下，透光性充分高，光吸收损耗的增加不会达到对反射防止层3的透光性带来较大影响的程度。因此，可判断为通过实施例1～实施例9记载的方法而形成的镜片样品作为眼镜用镜片具有足够的透光性。
在形成反射防止层的一个层的表层33上，离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此表层33的光学状态被打乱，光吸收损耗增大。另一方面，在本例子中，可认为是在表层33的一部分上形成TNO，TNO本身是透明的导电性的层。因此，可知光的吸收损耗不怎么增加，可以降低表面的电阻而几乎不会对光学物品的光学性质带来影响。
3.3综合评价
通过以上的各评价可知，通过实施例1～实施例9记载的方法而形成的镜片样品，是表面电阻降低到就防止带电和屏蔽电磁波等目的而言足够的程度的光学物品，且光学性能几乎没有降低。这些镜片样品由于钛和铌的成本较低而较少存在资源枯竭等的问题，并且可以使用毒性较低的材料来实现降低电阻，相对于使用ITO(其包含昂贵且可以说资源不丰富的铟)的镜片样品，在产业上优点较多。
并且，在本发明提供的制造方法中，在降低电阻方面基本上不需要提高基材的温度，无需制造钛-铌系透明电极那样300度以上的高温处理。因此，本发明适用于塑料镜片等包括高温耐久性较低的基材的光学物品。
另外，如上所述降低第一层的表层的电阻，但不限于该层，即使在该层上重叠数层，也能降低表面的电阻值或电阻率。因此，降低电阻的层不限于5层结构的第4层或7层结构的第6层，可以是任意一层，进而也可以降低多个层的表层的电阻。
此外，上述实施例所示的反射防止层的层结构只不过是几个例子，本发明不限于这些层结构。例如，也可适用于3层以下或者9层以上的反射防止层，该情况下，降低电阻的层不限于一层。此外，高折射率层和低折射率层的组合不限于TiO2/SiO2、Nb2O5/SiO2、ZrO2/SiO2，也可以是Ta2O5/SiO2、NdO2/SiO2、HfO2/SiO2、AL2O3/SiO2等。即使是这些体系，通过如上所述降低任意一层的表层的电阻，由此，也可以降低反射防止层3的电阻值，提高导电性。
本发明的光学物品的制造方法不限于眼镜用镜片，还可适用于投影用透镜、成像用透镜、分色棱镜、玻璃罩、DVD等信息存储装置、表现出良好外观的内置有介质的装饰品等，可以提供具有带电防止功能的光学物品。此外，上述所示的实施方式只不过是例示，本领域技术人员能利用本发明得到的光学物品的制造方法也包含在本发明中。

Claims (10)

1.一种光学物品制造方法，其中，该光学物品制造方法具有以下步骤：
在光学基材上直接或者隔着其他层形成透光性的第一层；以及
离子辅助蒸镀从由钛、铌、钛氧化物以及铌氧化物构成的组中选出的至少一种成分，由此降低所述第一层的表层的至少一部分的电阻。
2.根据权利要求1所述的光学物品制造方法，其中，
所述降低电阻的步骤包含在所述第一层的表层的至少一部分上混合钛、铌以及氧的步骤。
3.根据权利要求1或2所述的光学物品制造方法，其中，
所述降低电阻的步骤包含使所述第一层的表层的至少一部分成为钛铌氧化物的步骤。
4.根据权利要求1或2所述的光学物品制造方法，其中，
所述第一层是包含钛氧化物的层，
所述降低电阻的步骤包含离子辅助蒸镀铌或铌氧化物的步骤。
5.根据权利要求1或2所述的光学物品制造方法，其中，
所述第一层是包含铌氧化物的层，
所述降低电阻的步骤包含离子辅助蒸镀钛或钛氧化物的步骤。
6.根据权利要求1或2所述的光学物品制造方法，其中，
所述第一层是不含钛和铌的氧化物层，
所述降低电阻的步骤包含：离子辅助蒸镀钛或钛氧化物之后，离子辅助蒸镀铌或铌氧化物的步骤；或者离子辅助蒸镀铌或铌氧化物之后，离子辅助蒸镀钛或钛氧化物的步骤。
7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的光学物品制造方法，其中，
所述第一层是多层结构的反射防止层所包含的一个层。
8.根据权利要求7所述的光学物品制造方法，其中，
该光学物品制造方法还具有在所述第一层上直接或者隔着其他层形成防污层的步骤。
9.根据权利要求1～8中的任意一项所述的光学物品制造方法，其中，
所述光学基材是塑料镜片基材。
10.根据权利要求9所述的光学物品制造方法，其中，
该光学物品是眼镜镜片。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102831962A (zh) * 2011-06-17 2012-12-19 比亚迪股份有限公司 一种介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜
CN106977113A (zh) * 2016-01-19 2017-07-25 精工爱普生株式会社 透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法
CN107407746A (zh) * 2015-03-09 2017-11-28 视觉缓解公司 抗静电抗反射的涂层
CN108398824A (zh) * 2018-03-01 2018-08-14 厦门天马微电子有限公司 显示装置
CN110029310A (zh) * 2018-01-12 2019-07-19 北京优美科巨玻薄膜产品有限公司 一种蒸发镀膜材料NbO2及其制备方法
CN113817986A (zh) * 2020-06-19 2021-12-21 比亚迪股份有限公司 一种镀膜材料及其制备方法

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011013654A (ja) * 2008-10-23 2011-01-20 Seiko Epson Corp 多層反射防止層およびその製造方法、プラスチックレンズ
JP2010231171A (ja) * 2009-03-04 2010-10-14 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP5523066B2 (ja) * 2009-11-17 2014-06-18 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 光学物品の製造方法
JP2012032690A (ja) 2010-08-02 2012-02-16 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
US10203088B2 (en) * 2011-06-27 2019-02-12 Cree, Inc. Direct and back view LED lighting system
EP2548991B1 (en) * 2011-07-18 2014-03-05 ESSILOR INTERNATIONAL (Compagnie Générale d'Optique) Machine for coating an optical article with an anti-soiling coating composition and method for using the machine
JP5840448B2 (ja) * 2011-10-12 2016-01-06 株式会社タムロン 反射防止膜及び反射防止膜の製造方法
JP2013156523A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Topcon Corp 基板
JP5770940B2 (ja) * 2012-07-26 2015-08-26 キヤノンオプトロン株式会社 光学部品
JP2014194530A (ja) * 2013-02-28 2014-10-09 Asahi Glass Co Ltd 光学素子
JP2014199327A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 Hoya株式会社 眼鏡レンズ
US9110230B2 (en) 2013-05-07 2015-08-18 Corning Incorporated Scratch-resistant articles with retained optical properties
US9366784B2 (en) 2013-05-07 2016-06-14 Corning Incorporated Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film
JP6253009B2 (ja) * 2013-08-28 2017-12-27 東海光学株式会社 光学製品及び眼鏡レンズ
JP6451057B2 (ja) * 2014-02-04 2019-01-16 東海光学株式会社 可視域反射防止近赤外域透過抑制光学製品並びに眼鏡レンズ及び眼鏡
US11267973B2 (en) 2014-05-12 2022-03-08 Corning Incorporated Durable anti-reflective articles
US9335444B2 (en) * 2014-05-12 2016-05-10 Corning Incorporated Durable and scratch-resistant anti-reflective articles
US9790593B2 (en) 2014-08-01 2017-10-17 Corning Incorporated Scratch-resistant materials and articles including the same
WO2017001902A1 (en) * 2015-06-29 2017-01-05 Universidade De Trás-Os-Montes E Alto Douro Anti-scratch and photochromic coating, respective method of application and use
JP6544853B2 (ja) * 2015-07-02 2019-07-17 東海光学株式会社 光学製品並びにプラスチックレンズ及び眼鏡
EP3770649A1 (en) 2015-09-14 2021-01-27 Corning Incorporated High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles
JP6780416B2 (ja) * 2016-01-19 2020-11-04 セイコーエプソン株式会社 透光性部材、時計、および透光性部材の製造方法
JP2020024238A (ja) * 2016-12-14 2020-02-13 コニカミノルタ株式会社 光学素子
JP2020024237A (ja) * 2016-12-14 2020-02-13 コニカミノルタ株式会社 光学製品
JP6931538B2 (ja) * 2017-02-23 2021-09-08 アルバック成膜株式会社 マスクブランクス及びフォトマスク
JP7117081B2 (ja) * 2017-05-12 2022-08-12 Hoya株式会社 防塵レンズ及びその製造方法
JP2018077477A (ja) * 2017-11-16 2018-05-17 Hoya株式会社 眼鏡レンズ
WO2020037042A1 (en) 2018-08-17 2020-02-20 Corning Incorporated Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures
JP7237489B2 (ja) * 2018-08-20 2023-03-13 株式会社タムロン 反射防止膜、光学素子及び反射防止膜の成膜方法
JP7349798B2 (ja) * 2019-03-06 2023-09-25 株式会社タムロン 反射防止膜、光学素子及び反射防止膜の成膜方法
US11133206B2 (en) 2019-04-15 2021-09-28 Tokyo Electron Limited Method for die-level unique authentication and serialization of semiconductor devices using electrical and optical marking
JP2021113936A (ja) * 2020-01-21 2021-08-05 デクセリアルズ株式会社 偏光板、光学機器及び偏光板の製造方法
CN111381299B (zh) * 2020-04-23 2024-02-13 江苏万新光学有限公司 一种低反射色中性低应力树脂镜片及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5719705A (en) * 1995-06-07 1998-02-17 Sola International, Inc. Anti-static anti-reflection coating
US6768581B1 (en) * 1998-11-30 2004-07-27 Sola International Holdings Ltd. Coated lens exhibiting substantially balanced reflectance
US20090141357A1 (en) * 2007-11-27 2009-06-04 Hoya Corporation Plastic lens comprising multilayer antireflective film and method for manufacturing same

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1696111A1 (de) * 1968-01-27 1972-01-13 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Mit antistatischer Schicht versehene Kunststoffgegenstaende
US4609267A (en) * 1980-12-22 1986-09-02 Seiko Epson Corporation Synthetic resin lens and antireflection coating
JPH05502310A (ja) * 1990-08-30 1993-04-22 バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド 酸化ニオブを含むｄｃ反応性スパッタリングされた光学被覆
GB9600210D0 (en) * 1996-01-05 1996-03-06 Vanderstraeten E Bvba Improved sputtering targets and method for the preparation thereof
JP2000294980A (ja) * 1999-04-06 2000-10-20 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透光性電磁波フィルタおよびその製造方法
AU781979B2 (en) * 2000-01-26 2005-06-23 Carl Zeiss Vision Australia Holdings Ltd Anti-static, anti-reflection coating
JP4046921B2 (ja) 2000-02-24 2008-02-13 触媒化成工業株式会社 シリカ系微粒子、該微粒子分散液の製造方法、および被膜付基材
US7261957B2 (en) * 2000-03-31 2007-08-28 Carl Zeiss Smt Ag Multilayer system with protecting layer system and production method
JP3708429B2 (ja) * 2000-11-30 2005-10-19 Ｈｏｙａ株式会社 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法
TWI281748B (en) * 2001-12-18 2007-05-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Non-volatile memory
JP2004030058A (ja) 2002-06-24 2004-01-29 Toshiba Corp マルチエージェントシステム
JP2004341052A (ja) 2003-05-13 2004-12-02 Ito Kogaku Kogyo Kk 光学要素
JP2005301208A (ja) 2004-03-17 2005-10-27 Seiko Epson Corp 防汚性光学物品の製造方法
US7304719B2 (en) * 2004-03-31 2007-12-04 Asml Holding N.V. Patterned grid element polarizer
FR2868770B1 (fr) * 2004-04-09 2006-06-02 Saint Gobain Substrat, notamment substrat verrier, portant une couche a propriete photocatalytique modifiee pour pouvoir absorber des photons du visible
JP2004300580A (ja) 2004-05-20 2004-10-28 Hoya Corp 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法
JP2005338366A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Olympus Corp 反射防止膜及び光学部品
CN101036200B (zh) * 2004-08-13 2010-12-29 财团法人神奈川科学技术研究院 透明导体、透明电极、太阳电池、发光元件及显示板
JP2006091694A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Nidec Copal Corp Ｎｄフィルタ及びその製造方法と光量絞り装置
JP2006126782A (ja) 2004-10-01 2006-05-18 Seiko Epson Corp 光学物品の防汚層処理方法
JP2006221142A (ja) * 2005-01-14 2006-08-24 Sony Corp 光学素子、レンズ鏡筒、撮像装置及び電子機器
CN101111783B (zh) * 2005-01-31 2010-12-08 旭硝子株式会社 带防反射膜的基体
JP2006276123A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Seiko Epson Corp プラスチック製眼鏡レンズ及びその製造方法
US7488538B2 (en) * 2005-08-08 2009-02-10 Guardian Industries Corp. Coated article including soda-lime-silica glass substrate with lithium and/or potassium to reduce sodium migration and/or improve surface stability and method of making same
WO2007030679A2 (en) * 2005-09-07 2007-03-15 The Regents Of The University Of California Materials for the formation of polymer junction diodes
US7948675B2 (en) * 2005-10-11 2011-05-24 Nikon Corporation Surface-corrected multilayer-film mirrors with protected reflective surfaces, exposure systems comprising same, and associated methods
JP4207083B2 (ja) * 2006-04-04 2009-01-14 セイコーエプソン株式会社 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置
TWI447442B (zh) * 2008-06-26 2014-08-01 Eternal Chemical Co Ltd 具有非球形粒子之光學薄膜
FR2903197B1 (fr) * 2006-06-28 2009-01-16 Essilor Int Article d'optique revetu d'une sous-couche et d'un revetement anti-reflets multicouches resistant a la temperature, et procede de fabrication
JP5217887B2 (ja) * 2008-01-28 2013-06-19 セイコーエプソン株式会社 光学物品
JP5326407B2 (ja) * 2008-07-31 2013-10-30 セイコーエプソン株式会社 時計用カバーガラス、および時計
JP2010103500A (ja) * 2008-09-26 2010-05-06 Toppan Printing Co Ltd 有機電界発光素子及びその製造方法、画像表示装置、照明装置
JP2011013654A (ja) * 2008-10-23 2011-01-20 Seiko Epson Corp 多層反射防止層およびその製造方法、プラスチックレンズ
JP2010102157A (ja) * 2008-10-24 2010-05-06 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP5489604B2 (ja) * 2009-01-14 2014-05-14 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 光学物品の製造方法
JP2010231171A (ja) * 2009-03-04 2010-10-14 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
US8128255B2 (en) * 2009-06-16 2012-03-06 Day Sun Industrial Corp. Structure for securing conductive strip of flashlight
JP5523066B2 (ja) * 2009-11-17 2014-06-18 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク 光学物品の製造方法
JP5622468B2 (ja) * 2010-07-26 2014-11-12 ホーヤ レンズ マニュファクチャリング フィリピン インク レンズの製造方法及びレンズ
JP2012032690A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法
JP2012128135A (ja) * 2010-12-15 2012-07-05 Seiko Epson Corp 光学物品およびその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5719705A (en) * 1995-06-07 1998-02-17 Sola International, Inc. Anti-static anti-reflection coating
US6768581B1 (en) * 1998-11-30 2004-07-27 Sola International Holdings Ltd. Coated lens exhibiting substantially balanced reflectance
US20090141357A1 (en) * 2007-11-27 2009-06-04 Hoya Corporation Plastic lens comprising multilayer antireflective film and method for manufacturing same

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NGOC LAM HUONG HOANG ET AL: "Low-temperature Fabrication of Transparent Conducting Anatase Nb-doped TiO2 Films by Sputtering", 《APPLIED PHYSICS EXPRESS》, vol. 47, 24 October 2008 (2008-10-24) *
YASUSHI SATO ET AL: "Transparent conductive Nb-doped TiO2 films deposited by direct-current magnetron sputtering using a TiO2−x target", 《THIN SOLID FILMS》, vol. 516, 13 October 2007 (2007-10-13) *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102831962A (zh) * 2011-06-17 2012-12-19 比亚迪股份有限公司 一种介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜
CN102831962B (zh) * 2011-06-17 2016-09-07 比亚迪股份有限公司 一种介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜
CN107407746A (zh) * 2015-03-09 2017-11-28 视觉缓解公司 抗静电抗反射的涂层
CN106977113A (zh) * 2016-01-19 2017-07-25 精工爱普生株式会社 透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法
CN110029310A (zh) * 2018-01-12 2019-07-19 北京优美科巨玻薄膜产品有限公司 一种蒸发镀膜材料NbO2及其制备方法
CN108398824A (zh) * 2018-03-01 2018-08-14 厦门天马微电子有限公司 显示装置
CN113817986A (zh) * 2020-06-19 2021-12-21 比亚迪股份有限公司 一种镀膜材料及其制备方法

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