CN101321674B - 掩模盒 - Google Patents

掩模盒 Download PDF

Info

Publication number
CN101321674B
CN101321674B CN2006800441972A CN200680044197A CN101321674B CN 101321674 B CN101321674 B CN 101321674B CN 2006800441972 A CN2006800441972 A CN 2006800441972A CN 200680044197 A CN200680044197 A CN 200680044197A CN 101321674 B CN101321674 B CN 101321674B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
container
base portion
lid
sealing surfaces
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2006800441972A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101321674A (zh
Inventor
史蒂文·P·科尔博
凯文·麦克马伦
安东尼·M·蒂耶本
马修·库斯
克里斯蒂安·安德森
Huaping WANG
迈克尔·奇塞夫斯基
迈克尔·L·约翰逊
大卫·L·哈尔布迈尔
约翰·吕斯塔德
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Entegris Inc
Original Assignee
Entegris Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Entegris Inc filed Critical Entegris Inc
Publication of CN101321674A publication Critical patent/CN101321674A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101321674B publication Critical patent/CN101321674B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D85/00—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials
    • B65D85/30—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure
    • B65D85/48—Containers, packaging elements or packages, specially adapted for particular articles or materials for articles particularly sensitive to damage by shock or pressure for glass sheets
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67353—Closed carriers specially adapted for a single substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67359—Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67383—Closed carriers characterised by substrate supports
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67386—Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
  • Packages (AREA)

Abstract

本发明提供了一种提供支撑结构和环境控制装置的容器，该容器例如与容纳在其内的晶圆或掩模的接触最小，且与晶圆或掩模配合以提供防止颗粒沉降在晶圆或掩模表面上的扩散阻挡层。该容器包括基部，基部具有带突出部的平坦抛光表面，晶圆或掩模放置在突出部上。突出部具有例如球形的几何形状，使得与晶圆或掩模的接触最小，并将晶圆或掩模支撑在该基部上方以在其间提供间隙。该间隙将晶圆或掩模与该基部的平坦抛光表面隔开，但是尺寸设计为防止颗粒进入该间隙中，从而防止晶圆或掩模的敏感表面被污损。扩散过滤器提供压力平衡且没有过滤介质。顶盖上的能够移动的掩模销钉提供对掩模的限制。双重容放盒实施方式提供进一步的隔离和保护。

Description

掩模盒
相关申请
本申请要求下列美国临时申请的优先权：2005年9月27日提交的美国申请60/720,762、2005年9月27日提交的美国申请60/720,777、2005年9月27日提交的美国申请60/720,778、2006年2月18日提交的美国申请60/774,391以及2006年2月18日提交的美国申请60/774,537。前述所有申请通过援引而结合在本申请中。
技术领域
本发明涉及用于例如光掩模、掩模以及晶圆等易碎装置的存储、运输、运送以及处理的容器；具体地，本发明涉及保护装置、特别是颗粒控制装置，该颗粒控制装置包括用于定位并固定掩模的支撑结构，并且具有使得掩模的环境保持清洁的装置。
背景技术
在集成电路和其它半导体器件的制造中通常涉及到的其中一个处理步骤是光刻。广义地讲，光刻包括将专门制备的晶圆表面选择性地暴露于辐射源，通过使用图案模板来形成蚀刻的表面层。通常，图案模板是掩模，其是非常平坦的玻璃板，该玻璃板带有将要再现到该晶圆上的图案。例如，晶圆表面可以通过如下步骤制备：首先在其上沉积氮化硅，随后涂上液态光敏聚合物或光致抗蚀剂。接下来，透过掩模或掩模的表面照射紫外(UV)光，或者从掩模或掩模的表面反射紫外(UV)光，以将所需图案投射到覆盖有光致抗蚀剂的晶圆上。暴露于紫外光的那一部分光致抗蚀剂发生化学变化，并且在随后利用化学介质对晶圆进行处理以除去未暴露于紫外光的光致抗蚀剂时，暴露于紫外光的该部分光致抗蚀剂保持不受影响，从而在该晶圆上留下形状与掩模上的图案精确一致的、发生了化学变化的光致抗蚀剂。该晶圆随后接受蚀刻处理，去除暴露的那一部分氮化物层，从而在该晶圆上留下与掩模的精确设计一致的氮化物图案。该蚀刻层——单独的一层或者与其它类似形成的层结合——呈现在所述器件上，并且在所述器件之间提供互连，以体现特定集成电路或半导体芯片的“电路”。
芯片产业的行业趋势是生产的芯片越来越小以及/或者在更大的晶圆上需要甚至更小的线宽的更高逻辑密度。很显然，掩模表面所形成图案的精细程度以及该图案能够以何种程度忠实地复制在晶圆表面上是影响最终半导体产品的质量的因素。图案能够再现于晶圆表面上的分辨率取决于用于将图案投射到涂覆光致抗蚀剂的晶圆的表面上的紫外光的波长。本领域现有的光刻工具使用波长为193nm的深紫外光，这允许100nm量级的最小特征尺寸。目前所使用的工具使用157nm的极紫外光(EUV)以允许小于70nm的特征分辨率。
典型的掩模基底材料是光学意义上洁净的石英。因为现代集成电路的重要元件的尺寸微小，所以避免掩模的操作表面(即带图案的表面)上存在污染物是非常关键的，污染物可能会损坏表面或者在处理期间使得投射在光致抗蚀剂层上的图像扭曲从而使得最终产品的质量不可接受。通常，在光刻法中使用EUV时，不带图案和带图案的表面的临界颗粒尺寸分别是0.1微米和0.03微米。
通常，掩模带图案的表面涂以薄的透光膜(通常由硝化纤维制成)，该透光膜附连到支架并由该支架支撑，并附连到该掩模。其目的是隔开污染物并减小可能由图像平面中的这些污染物所造成的印刷缺陷。然而，使用EUV时则与利用通过掩模的透射为特征的深紫外光光刻不同，其利用的是从带图案表面的反射。此时，现有技术并不设置能透过EUV的薄膜材料。因此，与传统光刻中所使用的掩模相比，在EUV光刻中所采用的反射式光掩模(掩模)更容易被污损并且损坏程度可能会更大。这种状况对于被设计用来存储、运输和运送EUV光刻用掩模的容器或盒提出了更高的功能性需求。一般地，掩模在SMIF容器或盒内形成的微小无尘室环境内存储和/或运输。这种容器通常包括门和与该门配合从而形成用于保持掩模的密闭环境的盖。门通常被设计并设置有专门的特征和机构，以允许与自动或手动地打开门的处理工具对接，并且允许随后在不将掩模暴露于周围环境中的情况下将掩模传送到该处理工具的环境。
考虑到颗粒对半导体制造的严重影响，并且由于掩模的带图案的表面上的精细特征很容易由于滑动摩擦和磨损而受损，所以非常不希望在制造、处理、运送、搬运、运输或储存期间掩模和其它表面之间发生不需要以及无意中的接触。其次，掩模表面上的任何颗粒污染物都能够危害掩模，且危害程度足以严重影响在处理期间通过使用这种掩模而得到的任何终端产品。颗粒可能会在处理、运输和运送期间在包含掩模的受控环境内产生。掩模和容器之间的摩擦以及因此而产生的磨损是污染物颗粒的其中一个来源。当试图将掩模在容器内定位或者由于掩模和容器在运输或运送期间相对运动时，可能会出现这种情形。例如，在运输期间掩模能够从其在掩模容器内的位置滑动从而产生颗粒。容器壁的变形足以能够导致掩模在容器内的位置发生变化。这种定位不当的掩模在被从容器中自动取出并定位到处理装备中时，将有可能不能对准，从而导致最终产品质量不可预知。容器的冲击和振动可能传递到掩模和保持掩模的部件，造成相对运动并产生相关的颗粒。在这种情况下，掩模或薄膜可能会被刮擦或裂开。当然，颗粒的来源可以是沉降在掩模上的空气中的颗粒。通常，通过使用气密式的SMIF容器以形成并维持该掩模周围的受控环境来减轻该问题。
这个讨论同样适用于被设计用来运输和/或存储半导体晶圆衬底的容器和被设计用来运输和/或存储用于与EUV不相关的半导体制造的掩模的容器。例如，FOUPS(前开式晶圆传送盒的缩写)和FOSBS(前开式晶圆传输盒的缩写)以及SMIF(标准机械接口的缩写)。
认识到对于晶圆周围的受控环境的需求，特别是在存储、处理和运输期间对于晶圆周围的受控环境的需求，现有技术中已经提出了在存储、运送和运输掩模的操作期间将掩模牢靠地保持在掩模容器内的固定位置的方法。最普通的方法包括在盒的下表面或门上提供支撑件，所述支撑件接触掩模带图案的表面并相对于容器平面以大致平坦的构造保持该掩模。保持支撑件通常由一个或多个压力构件扩张，压力构件从盒的盖或壳延伸，并在与带图案的表面相反的表面上与掩模相接触。尽管此种设置可用于限制掩模垂直于带图案的表面的运动，但是它在防止掩模在带图案的表面的平面内的平移运动方面起不到效果。在这点上，现有技术公开了沿着掩模外周设置的限制结构，其有效地限定了掩模的横向移动。试图将掩模牢靠地保持容器中的现有技术还扩展到提供闩锁以与所有上述结构构件相结合。该闩锁设计为稳固地保持盖压紧门或基部，从而使得挤紧构件稳固地支承掩模。挤紧构件可以由弹性材料制成，或者安装在从盖延伸的悬臂的末端，从而当盖与门接合时，挤紧构件能够接触并逐渐压紧掩模表面。悬臂装置意在允许掩模支撑件向掩模施加柔和且受控的力。这种柔和且受控的力据称可将掩模稳固地固定在容器内，不会在掩模上有过大的力或者使得掩模变形，即使在容器略有变形的情况下也是如此。对于本领域技术人员将会变得很明显的是，这些结构不能防止掩模和支撑构件、限定结构以及挤压结构之间的相对滑动。在容器可能会受到冲击或振动载荷时更加如此。滑动造成掩模表面磨损，并产生颗粒。
认识到这个问题后，已有的容器包括安装到容器门的柱，用于支撑掩模的四个相应的拐角。每个拐角的柱包括倾斜的凹部，倾斜的凹部具有彼此之间成直角的倾斜表面。当掩模降低到掩模支撑件中时，掩模的边缘将在单个水平表面内与倾斜的凹部的每个倾斜表面相接触。由于掩模的重力以及掩模边缘和倾斜的凹部的表面之间的低摩擦，掩模将会快速、方便并且可重复地定位在这个“唯一的”位置中。每个倾斜的凹部的倾斜表面与掩模下边缘附近的倒角相接合，使得掩模在其四个拐角处被稳固地支撑，其中掩模支撑件不会与掩模的上下表面或掩模的竖直边缘接触。挤紧构件可包括与掩模支撑件上的倾斜的凹部反对称的倾斜的凹部，从而一旦掩模定位在掩模支撑件中，则容器盖与容器门的耦联将会使得每个倾斜的凹部的倾斜表面接合掩模上边缘附近的倒角，使得掩模在其四个拐角处被夹在掩模支撑件和挤紧构件之间，从而在容器运输期间和/或容器振动时，掩模被牢固地固定在其位置。
一些SMIF容器包括安装到容器的门或基部上的柱，用于支撑掩模的四个相应的拐角。每个拐角的柱包括倾斜的凹部，倾斜的凹部具有彼此之间成直角的倾斜表面。当掩模降低到掩模支撑件中时，掩模的边缘将在单个水平表面内与倾斜的凹部的每个倾斜表面相接触。由于掩模的重力以及掩模边缘和倾斜的凹部的表面之间的低摩擦，掩模将会快速、方便并且可重复地定位在这个“唯一的”位置中。每个倾斜的凹部的倾斜表面与掩模下边缘附近的倒角相接合，使得掩模在其四个拐角处被稳固地支撑，其中掩模支撑件不与掩模的上下表面或掩模的竖直边缘接触。挤紧构件可包括与掩模支撑件上的倾斜的凹部反对称的倾斜的凹部，从而一旦掩模定位在该掩模支撑件中，则容器盖与容器门的耦联将会使得每个倾斜的凹部的倾斜表面接合掩模上边缘附近的倒角，使得掩模在其四个拐角处被夹在掩模支撑件和挤紧构件之间，从而在容器运输期间和/或容器振动时，掩模被牢固地固定在其位置。
已有的SMIF容器都没有使得整体上与掩模的接触最小。实际上，在掩模进入到容器中的位置之前，支撑装置允许在掩模支撑结构和掩模之间出现实质性的滑动接触。所有这些接触均可能产生颗粒和/或影响掩模中蚀刻的图案。此外，现有技术试图将掩模稳固地支撑在容器内的固定位置，这造成与掩模的过分接触，这样，当掩模放入或从容器取出从而掩模与限制件接合或脱离时，这些接触有可能给掩模带来额外的刮擦或磨损。
当使用容器来运送掩模时，在微环境内产生颗粒的问题将进一步加剧。这种容器将面临多种多样的操作状况。其中一个操作危险是容器将承受容易使掩模从其在容器内的固定位置移动的冲击和振动载荷。容器还可能在撞击下变形，从而使得附连到掩模的内部结构移动，从而使得掩模在容器内不再对准。在这点上，与使掩模与容器隔开不同，使容器与振动隔离是一个重要的考虑。
颗粒沉降是另一个需要考虑的问题。希望所产生或者引入到受控环境中的颗粒不容易沉降到掩模上。在这点上，优选的是不仅其中放置掩模的环境(其要进行控制以避免颗粒污染物)具有最小的体积，而且还希望受控环境内的空气保持相对静止。突然的压力变化或者较大的压力变化都可能使得空气突然从受控环境内排出或注入到受控环境中，从而发生扰动。容器的过滤表面或壁随着大且突然的压差而挠曲，可能在受控环境内产生压力波，从而导致颗粒的移动。
需要克服的另一挑战是：即使具有受控环境，由于受控环境内的空气的压力变化，或者由于容器的快速运动或扰动所述空气容积而造成空气的扰动，受控环境内仍可能出现颗粒的移动。例如，薄壁SMIF盒可能由于与海拔相关的压力变化而发生的壁运动，从而促使受控环境内的所述空气移动。温度变化可能在容器内建立对流。容器及其部件的尺寸变化可能有损支撑件和保持机构的功能，造成晶圆不重合或容器内承载的衬底翘曲。由于压力波动造成的容器壁的尺寸变化可能危及容器盖和门之间的密封从而可能导致颗粒进入到容器内。现有方法设计了位于外部环境和内部受控空气环境之间的一种换气装置。该换气装置提供了空气流动的路径。设置该路径中的过滤器用来对从外部环境进入到容器受控环境中的颗粒提供障碍。然而，如上所述，在EUV光刻法中用到的掩模具有非常精细和精密的特征，于是对于掩模的不带图案的表面以及带图案的表面而言，临界颗粒尺寸分别仅为0.1微米和0.03微米的量级。在如此小的颗粒尺寸下，过滤器将需要非常小的孔尺寸，造成流经该过滤器的流体流动阻力相当大，从而需要更大的过滤器表面面积。代替变大的过滤器表面面积的方法是减缓对于例如运送容器时遇到的突然的压力变化的响应。这两种方法都不是优选的可选方法，因为掩模SMIF盒设计的其中一个目的是保持受控环境最小，从而能够有效地密封而防止颗粒进入。使得其中设置有掩模的受控环境最小和同时设置更大的过滤器面积以实现受控环境内压力平衡是相矛盾的目标。
已有的受控环境通常通过在门和盖之间设置密封件而形成。然而，更经常的是密封件由弹性体材料制成，其自身就是颗粒或污染物的来源。而且，现有技术试图通过使用弹性密封件来制造密封件，这需要例如沟槽以及升起的凸片等结构，这可能会为颗粒进入内部受控环境提供通道。虽然它们应用广泛，但是这种结构具有间隙，在对盒进行清洁时，这些间隙不容易清洗，从而有可能存有化学物质和颗粒。
现在需要的是一种掩模容纳系统，其通过提供稳定和可靠的支撑以及受控环境从而最大程度地保护掩模免受颗粒和污染物影响。这种容纳系统应该包括掩模压力平衡系统，该掩模压力平衡系统有效地平衡容器的内部受控环境与容器外部的空气之间的压力，而不会使空气进入受控环境或从受控环境排出，并且对于已经存在于受控环境内的空气的扰动最小。同样还需要的是一种不利用任意形式的产生颗粒的材料的密封系统。
发明内容
这里公开一种掩模盒，其具有基部或门，基部或门与盖配合从而形成用于容纳掩模的密封空间。所述盒具有掩模保护装置，该掩模保护装置包括掩模定位和支撑装置以及环境控制装置。该掩模定位和支撑装置形成该环境控制装置的一部分。
在一个实施方式中，所述掩模大体上是矩形的，可具有带图案的表面，并且通过使用多个定位球形球而定位在安装到该盒的基部或门上的支撑结构上，或限定掩模在基部或门上的位置。该掩模能够由球形球或斜面定位到安放位置，该球形球或斜面设置为靠近该盒基部或门的拐角并配置为通过与靠近掩模拐角的掩模边缘相切地接触而定位该掩模。以最小接触面积定位掩模减少了内部颗粒的产生。本发明的实施方式还可包括安装到该盖上的掩模保持器。该保持器可以是与掩模表面点接触的球形球。在其它实施方式中，拐角处的切点接触可以通过球形球以外的结构来实现。
根据本发明的实施方式，通过将掩模固定在两组突出部之间而将掩模设定并固定在SMIF掩模盒容器内，这两组突出部在掩模上提供球形的点接触。在一个实施方式中，所述突出部可包括球形球。第一组球形球突出部设置在基部上并接触掩模的一个表面——通常是带图案的表面。第二组球形球突出部安装到该盒的盖上并且大体上接触掩模的不带图案的表面或夹紧表面。以此种方式支撑并保持掩模使得掩模和盒之间的接触最少，同时还允许接触材料具有灵活性。安装在门上并且掩模搁置在其上的球形球的尺寸设计为在掩模带图案的表面和门的表面之间提供薄薄的间隙。球体的优选材料是聚酰胺-酰亚胺。这些部件的制造公差设定为防止掩模和门的内表面之间接触，同时还提供足够小以作为扩散阻挡层的间隙，该扩散阻挡层防止颗粒进入该间隙中并到达掩模的关键区域上。该盒形成为使得内部空间最小，以减小在压力平衡期间需要传送的空气量。
在本发明的另一实施方式中，双重容放盒包括第一盒或内部盒——也被称为“盒”，其容纳在第二盒或外部盒或包装中——也被称为“掩模SMIF盒”。内部盒的基部和盖可在配合的平坦表面处结合在一起以提供密封。这种表面可以是抛光或超平的金属表面。基部可主要或全部由金属形成，盖具有附连在其中的环形金属插入件以提供两个密封表面。优选地，基部的抛光的金属表面延伸到掩模安放位置的下方并与掩模隔开，以在掩模和基部的抛光或超平的中央金属表面之间提供0.003到0.007英寸、优选地0.004到0.005英寸的间隙。从而，基部的外部密封表面可与掩模和基部之间的扩散阻挡层同时形成，使得制造成本最低，同时还使得内部盒的覆盖区域最小。外部盒可包括盖部分和密封并闩锁到该盖部分的门。
扩散过滤器仅使用一对相对的平坦表面——例如板，这对平坦表面可以设置在盖上以在任一个盒上提供压力平衡。这种过滤器可包括通过相对表面、具有千分之几英寸的间隙的通道。该通道将从盒内部蜿蜒曲折地延伸到盒外部。该过滤器可以通过将盖板激光焊接在基部件上而制成，其具有形成于其中的千分之几英寸厚的沟槽。这两个部件设置为彼此接触，其中一个优选地是透明的或者半透明的，另一个不透明的或者足够不透明以吸收激光能量。激光束穿过透明部件传递到另一部件，在该处激光束被吸收从而在该点处加热两个部件的连接以将二者焊接到一起。这种过滤器不会使用例如纺织材料、织物、以及烧结材料等过滤介质，因而消除了与这种介质相关的产生颗粒的危险。
另一实施方式还可包括一组闩锁，这些闩锁将盒的基部或门锁到盖上，并绕盒的外周提供均匀的夹紧力。安装在基部或门上并在其上搁置有掩模的球形球的尺寸设计为允许掩模带图案的表面以及门的表面之间具有特定的距离。这一层用作扩散阻挡层，以防止颗粒进入到掩模的关键区域。本发明的另一构造可包括分别靠近盖和门的外周的连续且互补的“平坦”表面。在盖与门结合时，这两个平坦的表面彼此抵靠以形成密封，防止颗粒从盒外部的环境进入到盒内部去，从而消除对传统的弹性体密封件的需求。
在本发明的另一实施方式中，第一盒或内部盒——也被称为“盒”——容纳在第二盒或外部盒或包装中。外部盒可以是现有技术中已知的标准机械接口(SMIF)盒。内部盒具有盖，该盖与基部配合从而形成封闭空间，用于保护性地容纳掩模或掩模。内部盒的盖设置有至少一个适于容纳定位销的孔，该定位销一端上具有例如截锥形或圆锥形的锥形表面。定位销配置并定位成用于锥形表面以及设置在内部盒的封闭空间内的掩模的边缘之间形成可缩回的接合。在一种构造中，盖安装有多个这种定位销，外部包装设计成在组装外部包装时与销接合。当外部包装与内部盒的盖接合时，这些定位销同时接合并且被推压入到内部盒中，使得销的锥形表面接触掩模的上边缘，将掩模压入到封闭空间内的合适的侧向位置。可以使用附连到外部盒的盖部分的弹性体衬垫来与销接合并向内按压销。其它弹性体衬垫可接触内部盒的盖的上表面。
在另一实施方式中，一对弹簧滚柱在盒的相对的拐角处安装在门或基部上。这些弹簧滚柱提供磨损最少的掩模水平对齐部。
在另一实施方式中，在盖上安装弹簧夹，用于保持掩模与球形突出部相接合。在示例性实施方式中，每个弹簧夹在第一端安装到盖上，并在相对端设置有球形的保持突出部。在另一实施方式中，球形的保持突出部可以是球形球，其中弹簧夹保持该球形球靠住掩模。弹簧的刚度选择为使得弹簧在水平方向——即当掩模被支撑在容器中时沿着掩模的表面方向——上变形最小。允许的变形主要在竖直方向上并且垂直于掩模的带图案的表面，从而为掩模提供保持力，以将掩模保持在球形突出部内，且与带图案的表面对面的掩模表面形成点接触。在一个实施方式中，本发明的特征在于互补的“平坦”表面，每个平坦的表面分别位于门和盖的外周上。在盖与门结合时，两个表面彼此抵靠，形成密封以防止颗粒从盒外部的环境进入到盒内部去，从而消除对传统的弹性体密封件的需求。
本发明某些实施方式的优点是提供最小的内部空间，以减小在压力平衡过程中传送的空气的量。而且，某些实施方式提供了最小的内部盒覆盖区域。
本发明某些实施方式的优点是使得该掩模在掩模底部上与球形球的接触面积以及在掩模顶部上的边缘接触的接触面积最小。
本发明某些实施方式的另一优点是提供一种将盖和基部密封的表面，消除了传统的弹性体密封件并且消除了与此相伴的颗粒的产生。盖中的过滤器消除了对于传统的过滤器介质的需求。
本发明某些实施方式的另一优点是形成保护或防止颗粒进入到掩模的关键表面上的扩散阻挡层。
本发明各实施方式的优点是限制了掩模在掩模的带图案的表面的平面内以及垂直于该平面的平面内的运动，同时使得掩模和容器之间的接触最小。
本发明某些实施方式的另一优点是使得该掩模在掩模底部上的球形接触的接触面积以及在掩模顶部上的边缘或边缘拐角上的线接触的接触面积最小。
本发明还有另一优点是使得掩模在运送期间在内部盒内的运动最小。在此方面，本发明提供一种将掩模恰当地定位在掩模或掩模容器内的装置，该装置同时限制掩模和盖之间在带图案的表面以及垂直于该表面的平面内的相对运动，使得在运输和运送期间由于掩模的运动引起的冲击和振动对掩模造成的表面损害最小。而且，根据本发明，例如将掩模手动定位在掩模容器或掩模支撑件内并不需要多么精确，因为掩模由使掩模定位的结构精确地对中。
下面的说明将解释本发明的其它优点和新特征中的一部分，而其余部分对于本领域技术人员而言通过下面的解释或者本发明的实践将变得非常清楚。本发明的目的和优点能够通过所附带的权利要求中指出的设备及其组合所实现或获得。
本发明可以从几个不同实施方式来描述如下。
一种用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、侧面、四个周向拐角、上边和底边，所述容器包括：基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多个向上延伸的接触元件，所述接触元件具有球形的上表面以用于在所述掩模的下表面上与所述掩模接合，所述基部还具有多个柱，所述多个柱的位置设定成用于限制所述掩模的外周，所述接触元件的上表面和所述多个柱限定掩模安放位置，所述面向上的水平上表面还具有在所述基部的外周处、或靠近所述基部的外周绕着所述基部延伸的密封表面；盖，其用于沿着所述基部的外周与所述基部的上表面接合从而限定用于保持所述掩模的内部空间，所述盖具有面向下的水平的平坦密封表面，所述面向下的水平的平坦密封表面用于与所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，从而当相应的所述密封表面相接触时在所述密封表面之间形生密封。
如上所述的容器，其中所述基部至少大部分由金属形成，且所述基部的上表面是连续平坦的并且从所述基部的密封表面到位于所述掩模的掩模安放位置下方的表面都是一体的。
如上所述的容器，其中所述面向下的水平的平坦密封表面由金属形成，从而在所述基部和所述盖之间的密封是金属与金属的密封。
如上所述的容器，其中所述柱由金属形成并且具有顶部，所述顶部带有朝向所述掩模安放位置倾斜的倾斜部。
如上所述的容器，其中所述柱具有竖直部，且当所述掩模安放在所述掩模安放位置时，所述竖直部在横向上与所述掩模的侧面相邻。
如上所述的容器，其中所述多个柱中的每一个柱的倾斜部限定所述掩模安放位置，从而所述掩模安放在所述倾斜部上。
如上所述的容器，其中所述多个接触元件中的每一个接触元件均包括球体。
如上所述的容器，其中所述球体被向下压入配合到从所述面向上的水平上表面向下延伸的凹部或孔中。
如上所述的容器，其中所述基部具有从所述基部的下侧形成的多个孔，所述孔用于容纳所述球体，每个球体通过定位螺丝保持在所述孔内。
如上所述的容器，还包括外盖以及能够容纳在所述外盖内以限定内部空间的外基部，所述外盖和外基部的尺寸设计为用于容纳如上所述的容器。
如上所述的容器，其中所述盖包括以可滑动的方式定位在所述盖中的多个能够竖直移动的定位销，所述定位销的位置设定为与所述掩模的上边接合。
如上所述的容器，其中每个能够移动的定位销弹性地定位在所述盖中。
如上所述的容器，其中每个能够移动的定位销具有倾斜部，所述倾斜部用于与所述掩模的上边接合，以对掩模施压并将掩模限定在所述掩模安放位置。
如上所述的容器，其还包括多个附连到所述容器并能够横向移动的构件，每个构件被向内偏压以将所述掩模限制在其位置。
如上所述的容器，其还包括用于压力平衡的过滤器，所述过滤器不具有过滤介质，而是具有成对的相对平坦表面，所述成对的相对平坦表面由间隙隔开以提供扩散阻挡层，所述过滤器提供从容器内部到容器外部的通道。
如上所述的容器，其中所述间隙为0.001到0.007英寸。
如上所述的容器，其中所述通道蜿蜒曲折，具有多个拐角以及通道段。
如上所述的容器，其中所述成对的相对平坦表面相对于彼此固定并设定在盖的上表面上。
如上所述的容器，其中所述成对的相对平坦表面中的其中一个表面是所述盖的一部分，而另一个表面是所述基部的一部分，并且所述过滤器仅在所述盖安放在所述基部上时才起作用。
如上所述的容器，其还包括另外的容器，所述另外的容器包括另外的容器顶部和能够容纳在所述顶部中、并能够锁到所述顶部上的另外的容器基部，所述另外的容器的尺寸设计为用于容纳如权利要求15所述的容器，从而如权利要求15所述的容器成为内部容器。
如上所述的容器，其中所述另外的容器顶部包括在所述顶部的内表面上向下延伸的多个弹性构件，并且所述弹性构件与所述内部容器的盖接合。
如上所述的容器，其中所述内部容器的所述盖包括多个能够竖直移动的定位销，所述定位销以可滑动的方式定位在所述盖中，且所述定位销定位成与所述掩模的上边接合，并且所述弹性构件与所述能够竖直移动的定位销接合。
本发明还提供了一种用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、侧面、四个周向拐角、上边和底边，所述容器包括：基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述面向上的水平上表面具有多个设置在所述基部中的球体，每个球体定位成大部分位于所述面向上的水平上表面之下，所述球体限定掩模安放位置，所述基部在所述基部的外周处或靠近所述基部的外周具有面向上的密封表面；盖，其用于沿着所述基部的外周与所述基部的上表面接合从而限定用于保持掩模的内部空间，所述盖具有面向下的密封表面，所述面向下的密封表面用于与所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，从而当相应的所述密封表面相接触时在所述密封表面之间产生密封。
如上所述的容器，其中所述基部的所述密封表面和所述盖的所述密封表面都由金属形成，其中当相应的密封表面接合时形成金属与金属的密封。
如上所述的容器，其中所述盖大部分由聚合体形成，并且所述盖的密封表面是固定到所述聚合体的金属圈的一部分。
如上所述的容器，其中所述基部具有多个柱，所述柱固定到所述基部中并与所述掩模安放位置相邻。
本发明还提供了一种用于保持掩模的容器与掩模的组合，所述掩模具有外周、上表面、下表面、侧面、四个周向拐角、上边和底边，所述容器包括：基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述面向上的水平上表面具有多个设置在所述基部中的球体，每个球体定位成大部分位于所述面向上的水平上表面的下方并且延伸超过所述面向上的水平上表面0.002到0.007英寸的距离，所述球体限定掩模安放位置，所述基部在所述基部的外周处或靠近所述基部的外周具有面向上的密封表面；盖，其用于沿着所述基部的外周与所述基部的上表面接合，从而限定用于保持掩模的内部空间，所述盖具有面向下的密封表面，所述面向下的密封表面用于与所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，从而当相应的所述密封表面相接触时在所述密封表面之间形成密封。
如上所述的组合，其中所述基部的所述密封表面和所述盖的所述密封表面都是非弹性的。
本发明还提供了一种用于掩模的双重容放盒，包括内部盒和外部盒，所述内部盒包括基部和与所述基部配合的盖，所述内部盒在其内具有掩模安放位置，所述外部盒包括容器部分和与所述容器部分配合的基部，所述外部盒的尺寸设计为用于容纳所述内部盒，其中所述掩模定位成与所述内部盒的基部的上表面足够靠近，以提供扩散阻挡层，从而防止颗粒到达面向所述基部的上表面的掩模表面。
如上所述的双重容放盒，其还包括不具有过滤介质的压力平衡装置。
如上所述的双重容放盒，其中所述压力平衡装置包括带有蜿蜒曲折通道的扩散过滤器。
如上所述的双重容放盒，其中所述内部盒的基部包括多个球体，所述掩模安放于所述球体上，每个球体大部分位于所述基部的上表面的下方。
如上所述的双重容放盒，其中所述球体由聚酰胺-酰亚胺制成。
如上所述的双重容放盒，其中所述球体以可转动的方式安装在所述内部盒的基部中。
如上所述的双重容放盒，其中所述内部盒的盖包括多个能竖直移动的定位销，所述定位销以可滑动的方式设置所述盖中，且所述定位销定位成与所述掩模的上边接合。
如上所述的双重容放盒，其中所述外部盒的顶部包括多个构件，所述构件定位成当所述内部盒安放在所述外部盒中且所述外部盒的顶部接合所述外部盒的基部时，所述构件与所述能够竖直移动的定位销接合。
如上所述的双重容放盒，其中所述能够竖直移动的定位销弹性地安装到所述盖上，且当所述定位销从其通常位置移动时，所述定位销向掩模偏移。
本发明还提供了一种掩模容器，其包括基部和盖，所述基部具有用于支撑所述掩模的多个掩模接合构件，所述掩模接合构件由聚酰胺-酰亚胺构成，其中每个掩模接合构件构造成球体，所述球体定位在所述基部中，且所述球体的一部分位于所述基部的上表面的下方。
附图说明
图1是示出根据本发明实施方式的设置有掩模支撑机构的容器的分解立体图；
图2是示出图1的掩模定位球体和掩模保持球体的部分截面侧视图；
图3是示出一对图1的掩模定位球体的部分俯视图；
图4是示出根据本发明示例性实施方式的闩锁和加载杆的部分侧视图；
图5是示出根据本发明示例性实施方式的闩锁和加载杆的部分侧视图；
图6是本发明实施方式中球形突出部的示意图；
图7是本发明实施方式中一对相邻的球形突出部的俯视图；
图8是一对相邻的球形突出部形成为根据本发明实施方式的单体结构的俯视图；
图9是示出根据本发明示例性实施方式的球形球嵌在基部中的前视截面图；
图10是示出掩模搁置在一对相邻的球形突出部上的截面图；
图11是示出辅助的凸形突出部为自定位在球形突出部上的掩模提供抵靠表面的侧面剖视图；
图12是示出根据本发明示例性实施方式的辅助凸形突出部的俯视图；
图13是示出掩模的边缘和球形突出部之间相切地接触的示意图；
图14是示出根据本发明示例性实施方式的、掩模支撑在基部上的辅助凸形突出部上并与门上的掩模保持球体相接触的部分侧面剖视图；
图15是本发明实施方式中容器的组件的立体图；
图15A以截面形式示出图15的保持机构的细节；
图16是图15的容器的分解立体图；
图17是图15的容器的分解立体图；
图18是根据本发明实施方式的掩模承载器的内部盒的侧视图；
图19是图18的掩模承载器的内部盒的分解立体图；
图20是示出根据本发明实施方式的定位销的侧面剖视图；
图21是根据本发明实施方式的内部盒在外部盒中的剖视立体图；
图22是根据本发明实施方式的掩模承载器的内部盒的盖的立体图；
图23是图18的内部盒的门或基部的立体图；
图24是图23的基部或门的立体图，其中掩模设置到位；
图25是图24的基部的部分俯视图；
图26是沿图25中26-26剖开的截面图；
图27是根据本发明的球形突出部的实施方式；
图28是根据本发明的掩模定位销的实施方式；
图29是根据本发明实施方式具有减小覆盖区域的刚性密封圈的立体图；
图30是引导柱与图29的刚性密封圈相配合的截面图；
图31是图29的定位销的细节的截面图；
图32是根据本发明的双重容放盒的分解立体图；
图33是图32的双重容放盒的分解立体图，示出这些部件的下侧；
图34是根据本发明的掩模盒的顶盖的分解图；
图35是形成根据本发明的扩散过滤器的一部分的板的立体图；
图36是形成根据本发明的、其上带有蜿蜒曲折路径的扩散过滤器的一部分的板的立体图；
图37是顶盖的俯视图，示出根据本发明的扩散过滤器；
图38是本发明实施方式的立体图；
图39是根据本发明的掩模盒的其中一个密封表面上的蜿蜒曲折路径扩散过滤器的俯视图；
图40是沿图39中的线40-40剖开的截面图；
图41是适于本应用并根据本发明的蜿蜒曲折路径扩散过滤器的示意图。
具体实施方式
所提及的相对术语例如上下、前后、左右等是为了说明方便，而不是用来将本发明或者其部件限制于任何一个位置上的或特定的指向。“连接”和“接合”和“附连”以及这些词语的不同形式在这里使用时不要求元件和元件直接接触，除非从上下文推断出或要求直接接触；可以使用中间连接部件，并且这也落入这些词语的本来含义中。附图中所表示的所有尺寸可以随本发明的特定实施方式的可能的设计和期望应用而变化，这均不偏离本发明的范围。
这里所公开的每个附图和方法可以单独使用，或者与其它特征和方法结合使用，以提供改进的容器和制造或使用该容器的方法。从而，从最广义上讲，这里所公开的特征和方法的组合可能并非实施本发明所必须的，公开这些只是用来具体描述本发明具有代表性的实施方式。
参照图1，用于存储和运输掩模110的容器100总体上包括基部120，该基部120能够与盖130接合以形成适合容纳掩模110的密闭的封闭空间124(图4)。图1中示出的具体的掩模形状大致为矩形，具有四个拐角(例如拐角290)。容器100还包括以可转动方式耦联到门120的闩锁140。闩锁140适于以可移开的方式保持门120和盖130之间的接合，以对抗在运送和运输期间容器100承受的外部载荷。掩模110由安装到门120上的掩模定位构件180定位并且在每个拐角290附近支撑于所述掩模定位构件180上。从盖130延伸的掩模保持器200在盖130接合门120时与掩模110接触，如图2所示。这样，掩模110被固定在掩模定位构件180和掩模保持器200之间。
掩模110可具有第一带图案的表面210以及与该第一带图案的表面210相对的第二夹紧表面220，两表面由侧面230隔开。第一带图案的表面210与侧面230分别在第一对平行下边240和第二对平行下边260处相交。第二夹紧表面220与侧面230分别在第一对平行上边270和第二对平行上边280处相交。通常，第一对下边240和第二对下边260平行于相应的第一对上边270和第二对上边280，各表面的每对相应的平行边在拐角290处与另一对相应的平行边汇合，拐角290可以倒圆。带图案的表面210可以蚀刻有电路图案(未示出)。夹紧表面220可以在掩模的制造和处理期间用作参考表面。例如，表面220可以保持在静电吸附夹具中。尽管参照矩形的掩模来描述本发明，但对本领域技术人员而言显见的是，所有形状的掩模都落入本发明的范围内。掩模可以是——但不限于——多边形或方形掩模。
参照图2和3，同时在图1中也有图示，掩模定位构件180在门120的内表面340上从基部120延伸。内表面340形成封闭空间124的边界，该封闭空间124在盖130与门120接合时形成。在一个实施方式中，掩模定位构件180包括多个大致相同的突出部330(例如多个球体或半球)，每个突出部具有球面335，这些突出部在基部120的内表面340上呈规则图案排列。突出部330定位为并且尺寸设计成在拐角290附近沿着第一对下边240和第二对下边260的一部分支撑掩模110，使得第一对下边240和第二对下边260与球面335相切并且点接触。尽管容器100可以具有各种形状，但图1所示的这一个实施方式中的容器100的形状与掩模110的形状大体一致，其中：该容器在盖130上包括与掩模110的拐角290相应的拐角360。在此实施方式中，成对的球形突出部330靠近基部120的每个拐角360定位，掩模110设置在封闭空间124内以接触球面335使得拐角290设置为与盖130上的拐角360大体上对齐，如图1和3所示。
而且，如图2、3、6-10和13中所示，每对球形突出部330定位成并且/或者安装为使得在容器100基部120上的两条对角线332(图1中的虚线)中任一条的两侧上的各球形突出部330彼此相邻地定位，其中对角线332在成对的拐角290之间延伸。这些突出部可以由嵌入在基部120中的球形球330形成，例如如图9所示，并且具有球面335；或者这些突出部可以由图6、7、8和10中示出的凸面336形成。这些凸面可以与容器形成一体。在此构造中，每对相邻的球形球330形成互补的球面部分337，该部分337总体上朝向封闭空间124内部并且朝向内表面340倾斜。
总之，互补部分337构成掩模设置和定位结构，其中掩模110定位在球形突出部330上，且带图案的表面210朝向内表面340。通过将拐角290与容器100的盖130上的拐角360大致对齐，将掩模110放置到掩模定位构件180上使得掩模110自对准并且被保持在这些掩模定位构件180中。从而，第一对下(上)边240(270)和第二对下(上)边260(280)大致平坦地设置并且平行于内表面340。在此构造中，第一对下(上)边240(270)和第二对下(上)边260(280)中的每一边沿着互补的球面部分337处的切线338呈点接触设置，如图13清楚示出的那样。对球形球330的半径(R)390进行选择，以将掩模110保持在内表面340上方的预定高度处，如图2所示。从而，表面340和掩模110在掩模和门之间限定扩散阻挡层400。扩散阻挡层400的尺寸设计成阻止颗粒扩散流动到扩散阻挡层400，或者说为颗粒向扩散阻挡层400的扩散流动设置障碍，从而使得颗粒沿着改变的路径远离掩模的带图案的表面。
可以使用三维几何形状来代替球形突出部330以实现同样的定位功能并且同时仅与掩模110点接触。例如，锥形或截锥形的几何形状将接合成对的下边240和260，并且仅提供点接触。其它几何形状对于本领域技术人员也是显然的。
掩模保持器200安装在盖130上或者从盖130延伸，如图1和2所示。如图2中容器100的侧面剖视图可见，每个掩模保持器200包括带有球形支承面420的球形保持突出部410，该球形保持突出部可以是球体。在盖130接合门120时，球形支承面420的一部分与夹紧表面220在夹紧表面220上的点430处强制接触，如图14清楚示出的那样。在一个实施方式中，每个点430设定为使得由夹紧表面420在点430处施加的力的作用线穿过容器100的其中一条对角线332，从而防止掩模承受不对称的载荷，这种不对称的载荷可能会导致掩模从掩模定位构件180向上倾斜。从而，当盖130与门120接合时，掩模110被刚性地保持在掩模定位构件180和掩模保持器200之间。
球形突出部330和球形保持突出部410可以由不容易产生颗粒的材料制成并且被压入配合到门120和盖130上的相应位置。在本发明的示例性实施方式中，球形突出部330和保持球140可以是例如球轴承的滚道中的那种球形滚珠。在另一实施方式中，球形突出部330和保持突出部410可以构造成绕着穿过球体中心的一条或多条轴线转动，从而使得球体在与掩模的任何部分接触时转动。这种设置可减少由于掩模定位构件180或掩模保持构件200与掩模110之间的滑动摩擦引起磨损所产生的颗粒。在此设置中，另外的下表面接合突出部333(图12中的虚线)可以适当地接合掩模的边缘而不是掩模的接合侧表面。
图1中示出本发明的另一方面。多个竖直柱440安装到门120上或者从门120上突出。盖130与竖直柱440配合以将盖130对准到门120，使得球形支承面420和夹紧表面220之间在点430处能够可重复地并且无滑动地接触。
一旦盖130与门120接合，则将闩锁140致动以维持门120和盖130之间的接合。再次参见图1、4和5，示出了使用两个U型弹性加载杆460的实施方式的立体图和侧视图，这两个加载杆以可转动方式耦联到门120并且彼此隔开。每个U型加载杆460上可设置滚柱470、480和可手握的凸片490。所述弹性加载杆460可以运动学意义上地耦联(未示出)以允许同步转动，由此加载杆460可沿相反方向一同转动。
操作时，盖130接合门120，并且通过使用凸片490，一个或两个加载杆460转动，直到滚柱470、480定位在盖130的上方并与其接触，如图4所示。加载杆460和滚柱470、480的形状和尺寸设计为使滚柱470、480定位为沿着穿过球形支承面420和夹紧表面220之间接触点430的直线或轴线431在盖130上施加压紧力。由此构造，加载杆460提供均匀的闭合力并且使夹紧力位于球形保持球410的正上方。在其它实施方式中，其它闩锁机构可以在所述盖的、与掩模及保持突出部410的接合区域相对应的区域提供夹紧力。
在图11、12和14中示出的另一替换实施方式中，基部设置有至少一个辅助突出部331，这些辅助突出部设置为靠近球形突出部330。凸形突出部331具有末端334，在掩模110由掩模定位构件180平衡后，该末端334提供与带图案的表面210的抵靠，从而将掩模110限制在由这些凸形突出部331的末端334所限定的平面341(图14)内，该平面341大体上平行于门120的内表面340。
参见图15、15A、16和17，示出了根据本发明的掩模保持器500的另一实施方式。门或基部502与盖504配合从而形成封闭空间506。多个掩模定位构件508安装在门502的表面510上。掩模定位构件508可包括多个基本相同的球形球512，这些球形球在表面510上以规则图案(未示出)排列，并且尺寸设计为通过在容器500的拐角516附近与表面510的周向非功能性部分相接触而将掩模514支撑为基本平行于表面510。
如图15A所示，每个掩模保持器518包括球形保持球520，该球形保持球通过弹簧夹或弹簧垫522附连到盖504。在盖504与门502接合时，球形保持球520与夹紧表面524接触，使得弹簧夹522沿着竖直方向变形。弹簧夹522配置成使得其在竖直方向上的变形比在水平方向上的变形多。一旦盖配合到门并且闩锁接合，则弹簧夹522防止表面之间相对滑动——即使容器承受冲击和振动载荷时也是如此。掩模514从而牢靠地保持在掩模定位构件508和掩模保持器518之间，且在掩模514和掩模保持器518之间只有点接触。球形球512和球形保持球520可以由不容易产生颗粒的材料制成并且被压入配合到门502和盖504上的相应位置中。
在各个实施方式中示出的球形球和突出部(例如330、331、410、512和520)可以由不容易产生颗粒的材料制成。在示例性的实施方式中，不容易产生颗粒的材料是聚酰胺-酰亚胺(PAI)——偏苯三酸酐和芳香族二胺的反应产物。PAI被称为“酰胺-酰亚胺”是因为其聚合链包括与酰亚胺键交替的酰胺键。
一种在售的PAI其商标为TORLON，该商标是Solvay AdvancedPolymers的注册商标。TORLON是高性能的非晶体(非晶性的)工程热塑性塑料。芳基和酰亚胺键的化合物使得聚合物具有优异的热稳定性。酰胺基赋予柔性和拉伸性，这导致工程塑料具有优异的韧性。TORLON是熔融处理性能最佳的塑料。其超级耐高温，能够在高达500华氏度(260摄氏度)的持续温度以及危险应力的条件下操作。由TORLON原料制成的零件能够提供比大多数先进工程塑料更大的耐压强度和更高的抗冲击性能。其相对低的线性热延展系数以及相当高的抗蠕变性能在广泛的应用范围内提供尺寸稳定性。
TORLON是具有玻璃转化温度(Tg)(537华氏度(280摄氏度))的非晶体材料。由美国得克萨斯州的Boedeker Plastics Inc.提供的TORLON4301(轴承等级)可以有利地用于本发明的示例性实施方式中。由PAI挤出形成的TORLON 4301主要用于磨损和摩擦零件。其具有非常低的延展率、非常低的摩擦系数并且在使用时很少有或者没有滑动粘附现象。TORLON 4301的弯曲模量是1,000,000psi，高于许多先进的工程塑料。这种级别在使用磨损严重的应用场合——例如在无润滑轴承、密封圈、轴承罩和往复式空气压缩机零件中——表现优异。
可以使用结构上与PAI类似的其它等级和成分的聚合物，这并不偏离本发明的范围。具体地，TORLON具有相对而言不容易产生颗粒的特性，这确保了EUV盒100内的环境132保持基本上没有颗粒。这种设置基本上消除了由于掩模定位/保持构件与掩模之间的滑动摩擦引起的磨损所产生的几乎所有颗粒。
TORLON能够进行注塑模制，不过其是绝缘的。在需要静电消散的实施方式中，可以有利地使用例如SEMITRON(例如SEMITRON ESd520HR)的静电消散增强聚酰胺-酰亚胺材料。SEMITRON是QuadrantEngineering Plastics Products的商标。本领域技术人员将会认识到也能够有利地使用结构和/或特性与TROLON类似的其它工程聚合物。
在本发明的另一示例性实施方式中，球形球512和保持球520可由例如不锈钢的金属制成。待选材料例如是适于用作球轴承组件的座圈的材料，因为其具有相当高的抗磨能力。在另一实施方式中，球形球512和/或保持球520可安装到门和/或盖上，并能够绕着经过所述球体中心的一条或多条轴线转动，从而使得球体在与掩模的任何部分接触时转动。这种设置减轻了掩模定位/保持构件508、518与掩模514之间的滑动摩擦。
参照图18-26，示出了解释本发明其它方面的实施方式。以虚线示出的容器1099是外部包装或盒，其构造成例如在美国专利号6,513,654、6,216,873和6,824,916中示出的掩模SMIF盒容器。所述专利由本申请的受让人所有，并且其全文通过援引并入本文。该组件此时并非保持掩模而是保持内部盒或盒子1100，而该内部盒或盒子1100适于存储和运送掩模(或掩模)1110，例如EUV掩模，并且一般包括门1120(也可被称为盒的基部)，该门能够与盖1130接合以形成适于容纳掩模1110的密闭的封闭空间1132。在图19-21中，盖1130通过与基部1120的密封表面1135接合的刚性密封圈1133密封到基部1120。刚性密封圈可通过例如帽螺钉的螺纹紧固件1136固定到盖，这些帽螺钉与盖1130的外边缘1139相邻地沿周向设置。
图18中的实施方式的分解图在图19中示出。掩模1110示出为形状大致为矩形，并且具有第一表面1210以及与第一表面1210相对的第二表面1220，第一表面1210与第二表面1220由侧面1230隔开。第一表面1210与侧面1230分别在第一对平行下边1240和第二对平行下边1260处相交。第二表面1220与侧面1230分别在第一对平行上边1270和第二对平行上边1280处相交。在典型的矩形形状的掩模中，第一对下边1240和第二对下边1260平行于相应的第一对上边1270和第二对上边1280，各表面的每对相应的平行边在倒圆的拐角1290处与另一对相应的平行边汇合。在另一实施方式中，第一表面1210可以蚀刻有所需的电路图案(未示出)，第二表面1220在掩模的制造和处理期间可以用作参考表面。例如，表面1220可以保持在静电吸附夹具中。掩模1110可以在其每个拐角附近定位并支撑在安装到门1120上的掩模接触构件1350上。掩模接触构件1350可以以现有技术中已知的方式安装到门1120上。尽管参照矩形掩模来描述本发明，但对于本领域技术人员而言显见的是，例如矩形、多边形或圆形掩模的其它形状的掩模都可使用，其均未偏离本发明的范围。图19示出的实施方式示出了形状基本上与掩模1110的形状一致的容器1100，其包括与掩模1110的倒圆的拐角1290相对应的拐角1160。然而，本领域技术人员应该很容易理解的是，容器1100可具有例如矩形、多边形或圆形等其它形状，其均未偏离本发明的范围。
在图19和23中，示出了根据本发明实施方式的内部盒的门或基部1120。基部1120的形状基本上与掩模的形状一致并包括基板1300，基板1300具有相对的第一和第二主平行表面1305和1306以及倒圆的拐角1345。掩模1110的带图案的表面1210可以设置为面向主表面1305。基板1300在第一主表面1305的外周附近包括连续接触密封表面1135。一般地，整个第一主表面1305可以设置有一致的表面抛光部分。可替代地，密封表面1135设置有第一表面抛光部分1320，而第一主表面1305的其余部分——当盖1130与基部1120接合时所述其余部分暴露于所形成的封闭空间1132的内部——具有第二表面抛光部分1325。
如图19和24-26所示，掩模引导件1330在第一主表面1305上安装到内部盒的门或基部1120上。掩模引导件1330包括多个基本上相同的柱1310，这些柱在基板1300上固定地附连到门1120，并且从第一主表面1305向外延伸而在柱端部1335终止。在某些实施方式中，柱端部1335形成为具有锥形表面1340，该锥形表面倾斜为具有基本上为截头圆锥形的形状，且顶点靠近柱端部1335。带有锥形表面1340的柱1310以规则图案在表面1305上排列，并且尺寸设计成靠近掩模1110的拐角1290、沿着第一对下边1240和第二对下边1260的一部分限制该掩模1110，使得第一对下边1240和第二对下边1260可以设置为与锥形表面1340相切并且呈点接触，从而使得掩模1110的倒圆的拐角1290设置为与基板1300的倒圆的拐角1345基本上对齐，如图19和23所示。
对于本领域技术人员而言显见的是，可以使用其它构造的具有锥形表面1340的掩模引导件1330来替代柱1310。具体地，可以有利地使用例如带有球面的球形球诸如球形滚珠，该球面设置为以柱1310的锥形表面1340的方式接触掩模1110，如图1-4所示，这并不偏离本发明的范围。柱1310可以由例如钢或铝的金属制成，或者可以由包括聚合体的其它刚性材料制成。
如图19和23所示，柱1310安装为使得在容器1100的两条对角线1302和1304中任一条的两侧的各柱1310彼此相邻接地设置，其中对角线1302和1304在成对的拐角1360之间延伸。在此构造中，每对相邻的柱1310形成互补的锥形表面部分，该互补的锥形表面部分大体上朝向封闭空间1132内部倾斜并且朝向基板1300的表面1305倾斜。
总之，互补的锥形表面部分构成掩模设置和定位结构，如图24-26所示。掩模1110定位在柱1310上，其带图案的表面1210朝向表面1305，倒圆的拐角1290基本上与容器1100的拐角1345对齐。掩模将自对准，从而被保持在这些柱1310之间，且第一对下(上)边1240(1270)和第二对下(上)边1260(1280)大致平坦地设置并且平行于表面1305。在此构造中，第一对下(上)边1240(1270)和第二对下(上)边1260(1280)中的每一边设置为与互补的锥形表面部分相切地接合并且与其形成点接触。
在图18-26的实施方式中，多个掩模接触件1350呈球形球或突出部1355的形式，每对柱1310之间一个。图19和23示出了突出部1355位于对角线1302和1304上，且与掩模引导件1330等距。然而，突出部1355的定位可以变化，以避免与带图案的表面1210的敏感部分接触。
再次参照图26，每个掩模接触件1350的半径1390选定为将掩模1110的带图案的表面1210悬置在基板1300的主表面1305上方预定高度1400的位置处从而形成间隙1402。所有掩模接触件1350可延伸到内表面1305上方的几乎同样的高度1400处，从而限定基本上平行于内表面1305的平面1341。间隙1402的尺寸可设计为限定掩模和门之间的扩散层或扩散阻挡层。扩散阻挡层阻止颗粒进入间隙1402中，使得颗粒沿着改变的路径远离掩模的带图案的表面。间隙1402的代表性和非限制性的高度1400位于0.001-0.010英寸的范围。
在图18-26的实施方式中，多个掩模接触件1350呈球形球或突出部1355的形式，每对柱1310之间一个。图19和23示出了球形突出部1355位于对角线1302和1304上，且与掩模引导件1330等距。然而，球形突出部1355的定位可以设置成避免与带图案的表面1210的敏感部分接触。例如，球形突出部1355可以设置为靠近成对的边1240和1260的中点连线(midspan)。也可采用三点接触，以稳固地安装掩模1110并足以限定平面1341。
参照图27，示出了球形球和突出部1355从基板1300的后侧(表面1306)安装的实施方式。形成腔体1404，该腔体1404具有从基板1300的后侧1306的主通路，并且限定了穿透主表面1305的球形顶点部1408。对这种“穿透”进行控制，从而形成孔1410，孔1410具有小于球形球1355的预定直径。球形球1355就位于孔1410中，使得其一部分从主表面1305突出从而形成间隙1402的高度1400。球形球1355由定位螺丝保持在其位置，并且球体延伸到主表面上方的高度可以通过转动该定位螺丝而细微地调节。
本发明的另一方面通过参照图19-21清楚地描述。盖1130包括与内表面1420相对的外表面1410，内表面1420与外表面1410隔开一个厚度1425。只要盖1130与盒的门或基部1120相接合，则内表面1420即与密闭的封闭空间1132连通。盖1130可以配置为具有一个或多个孔1430，每个孔都穿过盖1130的厚度1425。孔1430在盖上设置为彼此以精确的位置1440隔开，并且在螺纹紧固件1136的内侧，且远离盖1130的外边1139。
图20和21的视图示出了定位销1450，该定位销的尺寸设计为间隙配合在孔1430内，并且该定位销沿着大致垂直于外表面1410的致动轴线1432延伸。定位销1450包括具有第一端1460的轴杆部1452以及具有相对的第二端1465的锥形部分1462。轴杆部分1452的特征在于在其长度方向上具有基本上一致的截面，并且穿过孔1430而延伸，使得第一端1460留在封闭空间1132的外部并且靠近外表面1410。锥形部分1462设置在密闭的封闭空间1132内，并且其特征在于倾斜表面1475，倾斜表面1475在与掩模1110相邻的第二端1465处变细成为倒圆的顶点部1480。锥形部分1462可采取多种三维形状的其中一种，例如锥体、截锥体或金字塔形。而且锥形部分不需要是轴对称的，而是可仅在面向掩模1110的表面上提供锥度。
在一个实施方式中，锥形定位销1450在第一端1460处附连到弹性构件1478，该弹性构件1478保持在外表面1410上。弹性构件1478配置为使得锥形定位销1450在正常缩回的位置和伸展位置中偏移，在正常缩回的位置，第二端1465在密闭的封闭空间中靠近内表面1420定位；在伸展位置，第二端1465在密闭的封闭空间中远离内表面1420定位。在示例性实施方式中，弹性构件1478是碟形弹性体，其在锥形定位销1450和孔1430之间的间隙与外表面1410之间形成密封，以防止颗粒进入到密闭的封闭空间1132中。
掩模柱1310、掩模接触件1350以及定位销1450的锥形部分1475可由不容易产生颗粒的材料例如不锈钢或TORLON(如上所述)制成。掩模柱1310和掩模接触件1350可以被压入配合到基板1300上其相应的位置中。
图21的实施方式进一步示出了与盖1130的外表面1410抵靠的外部包装1500。外部盒1500具有盖1507和门或基部1509。这是“双重盒”的概念，其中内部包装保持掩模，而外部包装保持并固定内部包装。外部包装用于运送，而内部盒将取出并在用于掩模的无尘室内使用。外部包装1500设置有这样的结构：该结构包括在掩模安放位置的每一侧居中定位的多个衬垫1503以及定位成与内部盒的盖1130的上表面接合的多个衬垫1504。多个衬垫1504适于接触弹性构件1478，并在锥形定位销1450的第一端1460上施加向下的力，以使这些定位销向下移动，直到每个定位销1450的倾斜表面1475在接触位置1525处与掩模1110的第一对上边1270和第二对上边1280的至少其中一对相接触。在每个接触位置1525处(图21)，锥形表面1475施加水平的偏压力1580以及竖直的偏压力1585，该水平的偏压力1580位于第二表面1220内并指向掩模，该竖直的偏压力1585指向第一表面1210。定位销1450的数目以及孔1430的位置优选地选择为使得成对的锥形表面1475仅在正对的位置处接触各对相应的上边1270和1280，以提供准确和牢靠的水平定位，如图19中弹性构件1478的位置所清楚示出的那样。
操作时，定位销1450的锥形部分1462的截面与上边1270和1280(图19)的其中一对上边相切地接触，在掩模1110和定位销1450之间提供最小的接触。所产生的竖直偏压力1585用来限制掩模相对于门的运动。本领域技术人员将很容易认识到可以有利地采用例如方形、三角形或多边形的其它截面形状并结合具有匹配截面的孔，这并不偏离本发明的范围。
图28、32和33的实施方式采用了定位销1450和位于掩模1110的覆盖区域外侧并与外侧紧挨的掩模柱1310。
从功能上讲，掩模柱1310仅用于将掩模1110引导到球形突出部1355上。致动定位销1450将使得掩模1110在基板1300上对中。如果掩模1110与一个或多个掩模柱1310接触，则对中操作将使得掩模1110移动而远离掩模柱1310，在掩模1110和掩模柱1310之间留下间隙1312。在此构造中，锥形表面1340应该设定为高于掩模1110的带图案的表面1210。
再次参照图18-21，盖1130设置有密封圈1133，该密封圈设置在表面1420上，并靠近盖1130的外边1605。密封圈1133具有密封接触表面1610，该密封接触表面具有与密封表面1135的表面抛光部分大致相同的表面抛光部分。而且，表面1420设定为当盖1130配合到门1120上时，密封接触表面1610接合刚性密封表面1135从而形成密封。两个表面通过粘附机制保持接触，该粘附机制包括毛细管、静电吸附和范德华吸力以及氢键结合力的其中一种或多种。在本发明的一般实施方式中，整个第一主表面1305可以设置有一致的表面抛光。可替代地，密封表面1135设置有第一表面抛光部分1320，而第一主表面1305的其余部分可以设置第二表面抛光部分1325。密封接触表面1610和密封表面1135可以是例如抛光的、电镀有少量镍的铝。一般地，平均表面粗糙度(RA)达到0.50微英寸的表面抛光是可接受的，且优选范围为RA 0.20-0.40。表面抛光可通过研磨或抛光或本领域中公知的其它方法获得。密封圈1133可以是钢带，其通过激光焊接或者其他方式粘附或附连到盖的内表面。
用于组装门1120的方法包括将主表面1305研磨或抛光成前述平整度和抛光规格，随后在主表面1305上形成柱腔，该柱腔的尺寸形成为与柱1310形成过盈配合，并在基板1300的后侧1306上形成用于容纳掩模接触件1350的腔体。对于图28的实施方式，使用球形球1355来用作掩模接触件1350。相应地，用于容纳掩模接触件1350的腔体形成为穿透表面1305并形成预定直径的孔1410，该孔允许球形球1335只有一部分延伸到表面1305上方并且延伸到预定的高度1400。此后，柱1310压入配合到基板1300中，球形球1355通过定位螺丝1412固定在其位置中。
参照图29-36，示出了本发明的、覆盖区域减小的刚性密封圈1650的实施方式。如前所述，刚性密封圈1650可安装到盖1652上。如前所述，盖1652可包括定位销1450。刚性密封圈1650包括安装面1654、密封面1656、内周面1658和多个安装面凹部1660以及密封面凹部1662。安装面凹部1660形成于安装面1654以及内周面1658上，并且尺寸设计为无接触地容纳定位销1450。密封面凹部1662形成于密封面1656以及内周面1658上，并且尺寸设计为无接触地容纳掩模柱1310。
从功能上讲，定位销1450在安装面凹部1660内操作，并且当盖1652放置在基部1664上时，掩模柱1310容纳在凹部1662中。部件1450和1310与凹部1660和1662的配合使得刚性密封圈1650具有减小的尺寸1666，同时保持刚性密封装置的完整性。盖1652以及基部1664的整体平面尺寸还可减小，使得整体设计更为紧凑。
参照图34、35、36和37，示出了具体实施方式的另一特征。盖1130的外表面2410可配置有蛇形肋，并且板1705激光焊接在外表面2410上以形成沟槽或微通道1700，如图37中示意性地示出。微通道1700通过连通到盒内部的入口1725和出口1730将外部环境与容器内的内部封闭空间1132连通。沟槽优选地约0.002到0.004英寸深，图案重复的沟槽段1710、1715、1717和1718互相连接且对于经过沟槽的颗粒扩散流而言形成急弯。每个通道一般约0.25到0.75英寸宽、几英寸长。微通道提供了扩散阻挡层以防止颗粒从外部环境进入内部封闭空间中，但是允许容器内部和外部之间的压力平衡。微通道1700还可通过在板1705上形成合适尺寸的通道并将该板附连到顶盖1130的上壳部分1131的上表面而形成，从而其形成微通道1700以形成扩散过滤器或小间隙过滤器。这种过滤机制是基于如下的概念，即：颗粒在进入容器之前将被吸附到通道壁，因而将不会进入内部封闭空间。该通道还在EUV盒或容器100的内部和外部环境之间提供压力平衡。可以利用空气通过例如符合ASTM D737标准的阻挡过滤器的Frazier透气率(或Frazier数)(cfm/ft2@0.5in.H20delta-P)来测量该过滤器的效率。容器100(即EUV盒)大部分时间将停留在真空环境中。然而，如果掩模需要清洁或替换，则该容器可以移动到存在空气的无尘室环境中。在此情形下期望缓慢作用的过滤器——即具有较低Frazier数的过滤器，使得通过其的空气速度非常低。通常，Frazier数小于或等于0.28立方英尺每分钟@0.5英寸H20每平方英尺的过滤介质。
参照图38-41，示出了蜿蜒曲折的扩散过滤器的替代实施方式。掩模容器1800具有基部或门1802和盖1804，二者配合以形成封闭空间1806。在门1802的上表面上并靠近门1802的外周设置有大体上平坦并且连续的凸缘或外周部分1808。盖1804同样具有平坦和连续的凸缘或外周部分1810。相应的外周部分1808和1810的尺寸设计为当盖1804与门1802配合并且接合门闩锁1812时，外周部分1808密封地抵靠外周部分1810。
蜿蜒曲折的通道1816可形成于任一外周部分1808或1810的表面上。蜿蜒曲折路径1816可具有狭窄的、蛇形通道的形式；当门和盖接合时，该蜿蜒曲折路径将容器的外部环境与容器内部连通。在图39的实施方式中，蜿蜒曲折通道1816包括图案重复的段1818、1820、1822和1824，这些段依次连接。每个段的深度可以是深入外周部分1808或1810的表面下方约0.002-0.004英寸，并且最短的段(即段1820)可具有约0.25英寸的长度。段的总数可设置为使得在1826处进入通道的颗粒在进入容器之前(于1828处)必须穿越至少6英寸的路径。前述尺寸仅作为例子，而不应该理解为限制的目的。
进入蜿蜒曲折通道1816中的颗粒容易撞击到蜿蜒曲折通道1816的壁并且聚集在通道内部，而不是穿过通道扩散到封闭空间1806中。因此，蜿蜒曲折通道1816表现为扩散阻挡层或扩散过滤器，防止颗粒进入，同时提供一种使得封闭空间1806内部的压力与封闭空间外部的压力平衡的装置。
参照图41，示出了蜿蜒曲折路径概念的另一实施方式。蜿蜒曲折通路1830的特征在于图案重复的主要长度段1832和1834由次要长度段1836和1838连接，并且彼此基本上呈直角互连，从而对于流经的颗粒扩散流而言表现为急弯。每个段1832、1834、1836和1838延伸越过与相应的下游段的连接部，从而形成多个颗粒捕获段1840。
每个颗粒捕获段1840均是“死胡同”，使得流进去的任何颗粒都从颗粒扩散流中分离出来并掉入段1840中，而不是通过该弯折部进入相邻的段。
本领域技术人员将会容易认识到，可以使用其它材料、表面处理和接触表面来获得表面贴附效果，从而在不使用产生颗粒的弹性体密封件的情况下提供密封。例如，通过使聚合体、玻璃、陶瓷和金属配合而形成本发明的密封圈，也能获得相似的密封。还应该理解的是，这里具体示出的掩模盒的特征还有利于且可用于晶圆容器和其它衬底容器。例如，扩散过滤器将适用于晶圆容器，聚酰胺-酰亚胺将非常适用于晶圆的接触区域以及例如FOUPS和FOSBS(分别是前开式晶圆传送盒和前开式晶圆运送盒的缩写)等晶圆容器的机器接口。
这里所述的容器实施方式或其部分可以由能消散静电的材料制成，从而防止损坏其中存储和运输的掩模。
因为本领域技术人员可以在不偏离本发明的精神的情况下做出本发明的各种修改形式、替代形式和变化形式，所以本发明不限制于这里所解释和所描述的实施方式。恰恰相反，本发明的范围由所附的权利要求及其等同形式所确定。

Claims (38)

1.一种用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、侧面、四个周向拐角、上边和底边，所述容器包括：
基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述水平上表面具有多个向上延伸的接触元件，所述接触元件具有球形的上表面以用于接合所述掩模的下表面，所述基部还具有多个柱，所述多个柱定位成用于限制所述掩模的外周，所述接触元件的上表面和所述多个柱限定掩模安放位置，所述面向上的水平上表面还具有在所述基部的外周处、或靠近所述基部的外周绕着所述基部延伸的密封表面；
盖，其用于沿着所述基部的外周与所述基部的上表面接合从而限定用于保持所述掩模的内部空间，所述盖具有面向下的水平的平坦密封表面，所述面向下的水平的平坦密封表面用于与所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，从而当相应的所述密封表面相接触时在所述密封表面之间形成密封。
2.如权利要求1所述的容器，其中所述基部至少大部分由金属形成，且所述基部的上表面是连续平坦的并且从所述基部的密封表面到位于所述掩模的掩模安放位置下方的表面都是一体的。
3.如权利要求2所述的容器，其中所述面向下的水平的平坦密封表面由金属形成，从而在所述基部和所述盖之间的密封是金属与金属的密封。
4.如权利要求1所述的容器，其中所述柱由金属形成并且具有顶部，所述顶部带有朝向所述掩模安放位置倾斜的倾斜部。
5.如权利要求1所述的容器，其中所述柱具有竖直部，且当所述掩模安放在所述掩模安放位置时，所述竖直部在横向上与所述掩模的侧面相邻。
6.如权利要求1所述的容器，其中所述多个柱中的每一个柱的倾斜部限定所述掩模安放位置，从而所述掩模安放在所述倾斜部上。
7.如权利要求1所述的容器，其中所述多个接触元件中的每一个接触元件均包括球体。
8.如权利要求7所述的容器，其中所述球体被向下压入配合到从所述面向上的水平上表面向下延伸的凹部或孔中。
9.如权利要求7所述的容器，其中所述基部具有从所述基部的下侧形成的多个孔，所述孔用于容纳所述球体，每个球体通过定位螺丝保持在所述孔内。
10.一种容器系统，包括如权利要求1所述的容器，还包括外盖以及能够容纳在所述外盖内以限定内部空间的外基部，所述外盖和外基部的尺寸设计为用于容纳如权利要求1所述的容器。
11.如权利要求1所述的容器，其中所述盖包括以可滑动的方式定位在所述盖中的多个能够竖直移动的定位销，所述定位销的位置设定为与所述掩模的上边接合。
12.如权利要求11所述的容器，其中每个能够移动的定位销弹性地定位在所述盖中。
13.如权利要求12所述的容器，其中每个能够移动的定位销具有倾斜部，所述倾斜部用于与所述掩模的上边接合，以对掩模施压并将掩模限定在所述掩模安放位置。
14.如权利要求1所述的容器，其还包括多个附连到所述容器并能够横向移动的构件，每个构件被向内偏压以将所述掩模限制在其位置。
15.如权利要求1所述的容器，其还包括用于压力平衡的过滤器，所述过滤器不具有过滤介质，而是具有成对的相对平坦表面，所述成对的相对平坦表面由间隙隔开以提供扩散阻挡层，所述过滤器提供从容器内部到容器外部的通道。
16.如权利要求15所述的容器，其中所述间隙为0.001到0.007英寸宽。
17.如权利要求15所述的容器，其中所述通道蜿蜒曲折，具有多个拐角以及通道段。
18.如权利要求15所述的容器，其中所述成对的相对平坦表面相对于彼此固定并设定在所述盖的上表面上。
19.如权利要求15所述的容器，其中所述成对的相对平坦表面中的其中一个表面是所述盖的一部分，而另一个表面是所述基部的一部分，并且所述过滤器仅在所述盖安放在所述基部上时才起作用。
20.如权利要求15所述的容器，其还包括另外的容器，所述另外的容器包括另外的容器顶部和能够容纳在所述顶部中、并能够锁到所述顶部上的另外的容器基部，所述另外的容器的尺寸设计为用于容纳如权利要求15所述的容器，从而如权利要求15所述的容器成为内部容器。
21.如权利要求20所述的容器，其中所述另外的容器顶部包括在所述顶部的内表面上向下延伸的多个弹性构件，并且所述弹性构件与所述内部容器的盖接合。
22.如权利要求21所述的容器，其中所述内部容器的所述盖包括多个能够竖直移动的定位销，所述定位销以可滑动的方式定位在所述盖中，且所述定位销定位成与所述掩模的上边接合，并且所述弹性构件与所述能够竖直移动的定位销接合。
23.一种用于保持掩模的容器，所述掩模具有外周、上表面、下表面、侧面、四个周向拐角、上边和底边，所述容器包括：
基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述面向上的水平上表面具有多个设置在所述基部中的球体，每个球体定位成大部分位于所述面向上的水平上表面之下，所述球体限定掩模安放位置，所述基部在所述基部的外周处或靠近所述基部的外周具有面向上的密封表面；
盖，其用于沿着所述基部的外周与所述基部的上表面接合从而限定用于保持掩模的内部空间，所述盖具有面向下的密封表面，所述面向下的密封表面用于与所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，从而当相应的所述密封表面相接触时在所述密封表面之间形成密封。
24.如权利要求23所述的容器，其中所述基部的所述密封表面和所述盖的所述密封表面都由金属形成，其中当相应的密封表面接合时形成金属与金属的密封。
25.如权利要求24所述的容器，其中所述盖大部分由聚合体形成，并且所述盖的密封表面是固定到所述聚合体的金属圈的一部分。
26.如权利要求23所述的容器，其中所述基部具有多个柱，所述柱固定到所述基部中并与所述掩模安放位置相邻。
27.一种用于保持掩模的容器与掩模的组合，所述掩模具有外周、上表面、下表面、侧面、四个周向拐角、上边和底边，所述容器包括：
基部，其具有外周以及面向上的水平上表面，所述面向上的水平上表面具有多个设置在所述基部中的球体，每个球体定位成大部分位于所述面向上的水平上表面的下方并且延伸超过所述面向上的水平上表面0.002到0.007英寸的距离，所述球体限定掩模安放位置，所述基部在所述基部的外周处或靠近所述基部的外周具有面向上的密封表面；
盖，其用于沿着所述基部的外周与所述基部的上表面接合，从而限定用于保持掩模的内部空间，所述盖具有面向下的密封表面，所述面向下的密封表面用于与所述基部的面向上的水平上表面的密封表面相配合，从而当相应的所述密封表面相接触时在所述密封表面之间形成密封。
28.如权利要求27所述的组合，其中所述基部的所述密封表面和所述盖的所述密封表面都是非弹性的。
29.一种用于掩模的双重容放盒，包括内部盒和外部盒，所述内部盒包括基部和与所述基部配合的盖，所述内部盒在其内具有掩模安放位置，所述外部盒包括容器部分和与所述容器部分配合的基部，所述外部盒的尺寸设计为用于容纳所述内部盒，其中所述掩模定位成与所述内部盒的基部的上表面足够靠近，以提供扩散阻挡层，从而防止颗粒到达面向所述基部的上表面的掩模表面。
30.如权利要求29所述的双重容放盒，其还包括不具有过滤介质的压力平衡装置。
31.如权利要求30所述的双重容放盒，其中所述压力平衡装置包括带有蜿蜒曲折通道的扩散过滤器。
32.如权利要求29所述的双重容放盒，其中所述内部盒的基部包括多个球体，所述掩模安放于所述球体上，每个球体大部分位于所述基部的上表面的下方。
33.如权利要求32所述的双重容放盒，其中所述球体由聚酰胺-酰亚胺制成。
34.如权利要求32所述的双重容放盒，其中所述球体以可转动的方式安装在所述内部盒的基部中。
35.如权利要求29所述的双重容放盒，其中所述内部盒的盖包括多个能竖直移动的定位销，所述定位销以可滑动的方式设置所述盖中，且所述定位销定位成与所述掩模的上边接合。
36.如权利要求35所述的双重容放盒，其中所述外部盒的顶部包括多个构件，所述构件定位成当所述内部盒安放在所述外部盒中且所述外部盒的顶部接合所述外部盒的基部时，所述构件与所述能够竖直移动的定位销接合。
37.如权利要求35所述的双重容放盒，其中所述能够竖直移动的定位销弹性地安装到所述盖上，且当所述定位销从其通常位置移动时，所述定位销向掩模偏移。
38.一种掩模容器，其包括基部和盖，所述基部具有用于支撑所述掩模的多个掩模接合构件，所述掩模接合构件由聚酰胺-酰亚胺构成，其中每个掩模接合构件构造成球体，所述球体定位在所述基部中，且所述球体的一部分位于所述基部的上表面的下方。
CN2006800441972A 2005-09-27 2006-09-27 掩模盒 Active CN101321674B (zh)

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US72076205P 2005-09-27 2005-09-27
US72077805P 2005-09-27 2005-09-27
US72077705P 2005-09-27 2005-09-27
US60/720,777 2005-09-27
US60/720,778 2005-09-27
US60/720,762 2005-09-27
US77439106P 2006-02-18 2006-02-18
US77453706P 2006-02-18 2006-02-18
US60/774,391 2006-02-18
US60/774,537 2006-02-18
PCT/US2006/037465 WO2007038504A2 (en) 2005-09-27 2006-09-27 Reticle pod

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101321674A CN101321674A (zh) 2008-12-10
CN101321674B true CN101321674B (zh) 2010-10-13

Family

ID=37900391

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006800441972A Active CN101321674B (zh) 2005-09-27 2006-09-27 掩模盒

Country Status (9)

Country Link
US (3) US8231005B2 (zh)
EP (1) EP1928764B1 (zh)
JP (2) JP5054012B2 (zh)
KR (3) KR101532893B1 (zh)
CN (1) CN101321674B (zh)
MY (1) MY154896A (zh)
SG (2) SG10201400835QA (zh)
TW (1) TWI391304B (zh)
WO (1) WO2007038504A2 (zh)

Families Citing this family (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101321674B (zh) * 2005-09-27 2010-10-13 诚实公司 掩模盒
TWI411563B (zh) * 2009-09-25 2013-10-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd 光罩盒
TWI378887B (en) * 2009-12-29 2012-12-11 Gudeng Prec Industral Co Ltd Reticle pod and supporting components therebetween
TWI450324B (zh) * 2010-01-25 2014-08-21 Gudeng Prec Ind Co Ltd 微影設備之光罩清潔方法及微影設備之光罩清潔系統
TWI414464B (zh) * 2011-01-11 2013-11-11 Gudeng Prec Ind Co Ltd 具有固定結構之極紫外光光罩儲存傳送盒
CN102789132B (zh) * 2011-01-28 2014-07-16 家登精密工业股份有限公司 具有固定结构的极紫外光光罩储存传送盒
KR101321873B1 (ko) * 2011-03-31 2013-10-25 이티알 주식회사 마찰 시트 부착형 압축기의 사판 및 이의 제조 방법
US8888086B2 (en) * 2011-05-11 2014-11-18 Sematech, Inc. Apparatus with surface protector to inhibit contamination
US9859089B2 (en) 2011-05-20 2018-01-02 Hermes Microvision Inc. Method and system for inspecting and grounding an EUV mask
US9485846B2 (en) 2011-05-20 2016-11-01 Hermes Microvision Inc. Method and system for inspecting an EUV mask
US8575573B2 (en) * 2011-05-20 2013-11-05 Hermes Microvision, Inc. Structure for discharging extreme ultraviolet mask
WO2013013849A1 (en) 2011-07-22 2013-01-31 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI501910B (zh) * 2011-11-17 2015-10-01 Gudeng Prec Ind Co Ltd 具有排水結構之極紫外光光罩儲存傳送盒
US9851643B2 (en) * 2012-03-27 2017-12-26 Kla-Tencor Corporation Apparatus and methods for reticle handling in an EUV reticle inspection tool
US8777007B2 (en) * 2012-04-13 2014-07-15 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Packaging box for liquid crystal glass
JP6322638B2 (ja) * 2012-10-19 2018-05-09 インテグリス・インコーポレーテッド ベース板にカバーの位置を合わせる機構を備えたレチクルポッド
US8939289B2 (en) * 2012-12-14 2015-01-27 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Packing box for liquid crystal display panel and waterproof structure thereof
KR102219534B1 (ko) * 2013-04-26 2021-02-24 엔테그리스, 아이엔씨. 큰 지름의 웨이퍼용 래칭 메카니즘을 가지는 웨이퍼 용기
JP5888287B2 (ja) * 2013-06-26 2016-03-16 株式会社ダイフク 処理設備
KR20150044714A (ko) * 2013-10-17 2015-04-27 삼성전기주식회사 기판 수납 장치
TWI548107B (zh) * 2014-08-25 2016-09-01 財團法人工業技術研究院 氣密組件、具有其之裝置及其測漏方法
JP6308676B2 (ja) * 2014-12-18 2018-04-11 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル容器。
KR101634797B1 (ko) * 2015-03-24 2016-07-01 주식회사 네오세미텍 포토마스크 트랜스퍼 시스템
CN104698740B (zh) * 2015-03-31 2019-10-25 上海华力微电子有限公司 一种掩膜版装载盒
TWI690468B (zh) 2015-07-13 2020-04-11 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 具有強化圍阻的基板容器
KR101725263B1 (ko) * 2015-10-16 2017-04-10 (주)상아프론테크 서포트 바 및 이를 구비한 기판 적재용 카세트
WO2017139490A1 (en) * 2016-02-09 2017-08-17 Entegris, Inc. Substrate shipper
KR102164153B1 (ko) * 2016-04-06 2020-10-12 엔테그리스, 아이엔씨. 윈도우 보유 스프링을 구비한 기판 용기
JP6493339B2 (ja) * 2016-08-26 2019-04-03 村田機械株式会社 搬送容器、及び収容物の移載方法
CN109690401B (zh) * 2016-08-27 2022-08-02 恩特格里斯公司 具有侧光罩遏制的光罩舱
KR20240063164A (ko) * 2016-09-29 2024-05-09 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크 곤포체 및 증착 마스크 곤포 방법
KR102127783B1 (ko) * 2017-01-25 2020-06-30 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 Euv 레티클 포드
TWI634383B (zh) * 2017-01-26 2018-09-01 家登精密工業股份有限公司 光罩盒
KR102134639B1 (ko) 2017-08-14 2020-07-17 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 기밀성 측정 방법과 시스템 및 이로 측정되는 용기
US11237477B2 (en) * 2017-09-29 2022-02-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Reticle container
TWI690771B (zh) * 2018-01-11 2020-04-11 家登精密工業股份有限公司 光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器
US20190333797A1 (en) * 2018-04-30 2019-10-31 Stek Co., Ltd Apparatus and method for opening snap-shot cases
CN109031893B (zh) * 2018-07-24 2020-02-14 武汉华星光电技术有限公司 掩膜板存放区定位装置
CN109292280B (zh) * 2018-09-11 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 用于装载薄膜的盒和装载薄膜的方法
TWI680086B (zh) * 2019-02-25 2019-12-21 家登精密工業股份有限公司 光罩盒及其固持件
CN109665185B (zh) * 2018-12-17 2020-06-16 惠州市华星光电技术有限公司 显示面板的包装箱
TWI707197B (zh) * 2018-12-27 2020-10-11 美商微相科技股份有限公司 具吸濕之光罩保護膜組件及其表面處理方法
KR101987741B1 (ko) * 2019-01-17 2019-06-12 피엠씨글로벌 주식회사 포토마스크 보관 박스
US10775694B1 (en) * 2019-04-30 2020-09-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Apparatus for mounting a pellicle to a photomask and method for mounting a pellicle to a photomask
TWI705522B (zh) * 2019-07-30 2020-09-21 家登精密工業股份有限公司 基板容納裝置及其製造方法
TWD209928S (zh) * 2019-08-02 2021-02-21 家登精密工業股份有限公司 光罩傳送盒之底座
TWD209927S (zh) * 2019-08-02 2021-02-21 家登精密工業股份有限公司 光罩傳送盒之上蓋
TWD209117S (zh) * 2019-08-02 2021-01-01 家登精密工業股份有限公司 光罩傳送盒之上蓋
TWD209426S (zh) * 2019-08-02 2021-01-21 家登精密工業股份有限公司 光罩傳送盒之底座
US11104496B2 (en) * 2019-08-16 2021-08-31 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Non-sealed reticle storage device
EP3705943A1 (en) * 2019-08-23 2020-09-09 ASML Netherlands B.V. Pod for housing patterning device
TWI728722B (zh) * 2019-10-16 2021-05-21 家登精密工業股份有限公司 光罩固持系統
JP7503139B2 (ja) 2019-12-24 2024-06-19 インテグリス・インコーポレーテッド ベースプレートを介した保持力を有するレチクルポッド
KR20220122711A (ko) * 2019-12-31 2022-09-02 엔테그리스, 아이엔씨. 레티클 격실 벽을 통한 보유부를 가지는 레티클 포드
TWI760062B (zh) * 2020-05-14 2022-04-01 家登精密工業股份有限公司 提供有保持銷組件之光罩盒及固持光罩的方法
TWI779505B (zh) * 2020-05-14 2022-10-01 台灣積體電路製造股份有限公司 光罩盒及防止光罩污染之方法
US20210358787A1 (en) * 2020-05-14 2021-11-18 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Reticle pod provided with holding pins and method for holding reticle
TWI767515B (zh) * 2020-05-14 2022-06-11 家登精密工業股份有限公司 提供有效密封之用於容納基板的容器
US11703754B2 (en) 2020-05-14 2023-07-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Particle prevention method in reticle pod
RU2745297C1 (ru) * 2020-08-05 2021-03-23 Обществом с ограниченной ответственностью "Маппер" Устройство для ручного выравнивания кремниевых пластин перед их временным сращиванием
US20220100106A1 (en) * 2020-09-30 2022-03-31 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Workpiece container system
US11874596B2 (en) * 2020-09-30 2024-01-16 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Workpiece container system
US20220102177A1 (en) * 2020-09-30 2022-03-31 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Reticle pod with antistatic capability
DE102020213422A1 (de) 2020-10-23 2021-10-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Lagerelement für ein retikel für die mikrolithographie
CN116635792A (zh) * 2020-11-18 2023-08-22 布鲁克斯自动化(德国) 有限公司 Euv掩膜版储存器以及其操作方法
CN112830071B (zh) * 2021-01-13 2023-09-05 湖南康润药业股份有限公司 一种易于运输的药品试剂储存箱
US20220357650A1 (en) * 2021-05-07 2022-11-10 Entegris, Inc. Metal plating with lubricant
CN113173316A (zh) * 2021-05-08 2021-07-27 安徽荣智联仪表有限公司 一种易于固定的小型仪器仪表存放装置
KR20240021950A (ko) * 2021-06-18 2024-02-19 엔테그리스, 아이엔씨. 극자외선 플레이트 상의 본딩된 층
US20230066653A1 (en) * 2021-08-30 2023-03-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Reticle enclosure for lithography systems
KR20240096805A (ko) 2021-11-09 2024-06-26 엔테그리스, 아이엔씨. 동작 제한 피처를 포함하는 레티클 포드 및 그 조립 방법
CN114334757B (zh) * 2022-03-15 2022-05-24 广东高景太阳能科技有限公司 一种硅片的载片治具及运载装置
EP4258330A1 (en) * 2022-04-08 2023-10-11 Brooks Automation (Germany) GmbH Stocker pod, method and stocker for storing a semiconductor fabrication article
WO2023204991A1 (en) * 2022-04-19 2023-10-26 Entegris, Inc. Reticle container having rotating connector with spring force latching
TW202416049A (zh) * 2022-10-14 2024-04-16 家登精密工業股份有限公司 非矩形光罩之容器

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6247599B1 (en) * 2000-01-14 2001-06-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Electrostatic discharge-free container equipped with metal shield
US6315124B1 (en) * 1998-04-13 2001-11-13 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Container for transporting precision substrates
US6682295B2 (en) * 2001-06-21 2004-01-27 Novellus Systems, Inc. Flatted object passive aligner
CN2626922Y (zh) * 2003-05-16 2004-07-21 朱寿会 硅材料晶圆片储存盒
US6900878B2 (en) * 2002-08-05 2005-05-31 Nikon Corporation Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3615006A (en) * 1969-06-26 1971-10-26 Ibm Storage container
JPS5895812A (ja) * 1981-12-01 1983-06-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 基板の収納容器及び収納容器の装着装置
US4776462A (en) * 1985-09-27 1988-10-11 Canon Kabushiki Kaisha Container for a sheet-like article
JPS63178958A (ja) * 1986-12-27 1988-07-23 キヤノン株式会社 防塵容器
US4842136A (en) * 1987-02-13 1989-06-27 Canon Kabushiki Kaisha Dust-proof container having improved construction for holding a reticle therein
US5024329A (en) * 1988-04-22 1991-06-18 Siemens Aktiengesellschaft Lockable container for transporting and for storing semiconductor wafers
JP3089590B2 (ja) * 1991-07-12 2000-09-18 キヤノン株式会社 板状物収納容器およびその蓋開口装置
US5296893A (en) * 1992-07-31 1994-03-22 Vlsi Technology, Inc. Box for an optical stepper reticle
JP3200776B2 (ja) * 1992-08-06 2001-08-20 大日本印刷株式会社 基板保持用ケース
US5320225A (en) * 1993-04-23 1994-06-14 Hrc Products Apparatus and method for securely carrying a substrate
JPH0758192A (ja) * 1993-08-12 1995-03-03 Nikon Corp 基板収納ケース
US5695068A (en) * 1994-09-09 1997-12-09 Digital Equipment Corporation Probe card shipping and handling system
US5474177A (en) 1994-10-14 1995-12-12 Capitol Vial, Inc. Container for a wafer chip
US5593040A (en) * 1995-12-04 1997-01-14 Delco Electronics Corporation Rotary clip for solder pallet
JP3556480B2 (ja) 1998-08-17 2004-08-18 信越ポリマー株式会社 精密基板収納容器
US6216873B1 (en) * 1999-03-19 2001-04-17 Asyst Technologies, Inc. SMIF container including a reticle support structure
US6196391B1 (en) * 2000-01-20 2001-03-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Electrostatic discharge-free container for insulating articles
US6421113B1 (en) 2000-02-14 2002-07-16 Advanced Micro Devices, Inc. Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection
JP2003004577A (ja) * 2001-06-19 2003-01-08 Nsk Ltd 回転体の不釣合い修正方法及び回転体
JP2003045773A (ja) * 2001-07-27 2003-02-14 Canon Inc 基板の保管容器およびその保管容器を備えるｘ線露光装置
TWI319123B (en) * 2002-02-22 2010-01-01 Asml Holding Nv System and method for using a two part cover for protecting a reticle
US6825916B2 (en) 2002-07-05 2004-11-30 Entegris, Inc. Reticle carrier with positioning cover
US6948619B2 (en) * 2002-07-05 2005-09-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Reticle pod and reticle with cut areas
US7258520B2 (en) * 2002-08-31 2007-08-21 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing
JP2004356478A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Tdk Corp 物品収容容器、および当該容器における蓋落下防止機構
TWI224719B (en) * 2003-05-28 2004-12-01 Gudeng Prec Ind Co Ltd Reinforced structure device of mask frame
US6915906B2 (en) 2003-07-14 2005-07-12 Peak Plastic & Metal Products (International) Limited Wafer storage container with wafer positioning posts
US6862817B1 (en) 2003-11-12 2005-03-08 Asml Holding N.V. Method and apparatus for kinematic registration of a reticle
US7477358B2 (en) 2004-09-28 2009-01-13 Nikon Corporation EUV reticle handling system and method
US7309460B2 (en) * 2004-11-24 2007-12-18 Entegris, Inc. Photomask container
US7607543B2 (en) * 2005-02-27 2009-10-27 Entegris, Inc. Reticle pod with isolation system
US7400383B2 (en) * 2005-04-04 2008-07-15 Entegris, Inc. Environmental control in a reticle SMIF pod
CN101321674B (zh) * 2005-09-27 2010-10-13 诚实公司 掩模盒
US7581372B2 (en) * 2006-08-17 2009-09-01 Microtome Precision, Inc. High cleanliness article transport system
TWI308550B (en) * 2006-12-29 2009-04-11 Ind Tech Res Inst A clean container with elastic fixing structure
JP5674314B2 (ja) * 2007-02-28 2015-02-25 インテグリス・インコーポレーテッド レチクルｓｍｉｆポッド又は基板コンテナ及びそのパージ方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6315124B1 (en) * 1998-04-13 2001-11-13 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Container for transporting precision substrates
US6247599B1 (en) * 2000-01-14 2001-06-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Electrostatic discharge-free container equipped with metal shield
US6682295B2 (en) * 2001-06-21 2004-01-27 Novellus Systems, Inc. Flatted object passive aligner
US6900878B2 (en) * 2002-08-05 2005-05-31 Nikon Corporation Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same
CN2626922Y (zh) * 2003-05-16 2004-07-21 朱寿会 硅材料晶圆片储存盒

Also Published As

Publication number Publication date
US8613359B2 (en) 2013-12-24
KR20130108676A (ko) 2013-10-04
WO2007038504A3 (en) 2007-06-28
JP2009510525A (ja) 2009-03-12
US20140183076A1 (en) 2014-07-03
US20090301917A1 (en) 2009-12-10
TWI391304B (zh) 2013-04-01
EP1928764A2 (en) 2008-06-11
SG165407A1 (en) 2010-10-28
MY154896A (en) 2015-08-14
KR101442451B1 (ko) 2014-09-22
KR101532893B1 (ko) 2015-07-02
EP1928764B1 (en) 2011-11-02
US9745119B2 (en) 2017-08-29
JP2012177930A (ja) 2012-09-13
KR101442264B1 (ko) 2014-09-22
US8231005B2 (en) 2012-07-31
TW200726706A (en) 2007-07-16
US20130020220A1 (en) 2013-01-24
WO2007038504A2 (en) 2007-04-05
CN101321674A (zh) 2008-12-10
SG10201400835QA (en) 2014-07-30
JP5608702B2 (ja) 2014-10-15
EP1928764A4 (en) 2010-08-04
KR20080069969A (ko) 2008-07-29
KR20140069364A (ko) 2014-06-09
JP5054012B2 (ja) 2012-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101321674B (zh) 掩模盒
CN101166681B (zh) 带隔离系统的光罩盒
US8220630B1 (en) EUV pod with fastening structure
US9022216B2 (en) Reticle pod with drain structure
US5422704A (en) Pellicle frame
EP2909110B1 (en) Reticle pod with cover to baseplate alignment system
CN101663423B (zh) 基片容器的清洗系统
US7065894B2 (en) Apparatus for kinematic registration of a reticle
US6921613B2 (en) Electrostatic pellicle system for a mask
US6338409B1 (en) Reticle SMIF pod in situ orientation
CN102789132B (zh) 具有固定结构的极紫外光光罩储存传送盒
CN101166682A (zh) 带均压的衬底容器
JPH08141479A (ja) 回転式基板処理装置
JP2002329749A (ja) スライダ支持機構及び倣い装置
KR20230150110A (ko) 웨이퍼 지지장치
JPS63257715A (ja) 動圧スピンドルモ−タ

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant