KR101987741B1 - 포토마스크 보관 박스 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 포토마스크 보관 박스에 관한 것으로서, 상세하게는 내부에 포토마스크가 안치되도록 지지부와 구비되는 하부케이스와, 하부케이스와 체결되는 상부케이스 및 하부 케이스의 내측 테두리에 설치되어 하부케이스의 지지부에 안착된 포토마스크를 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, 고정부는 몸체에서 볼트부재를 이용하여 회전 캡부재를 전후로 이동시키되, 회전 캡부재에 압입된 가압 고정부재가 미회전되면서 전진되도록 하여 포토마스크의 파티클이 발생되는 것을 방지하고, 가압 고정부재의 전면에 곡면부를 형성하여 가압 고정부재의 표면에 의해 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지하도록 하는 포토마스크 보관 박스에 관한 것이다.

Description

포토마스크 보관 박스{PHOTO MASK KEEPING BOX}
본 발명은 포토마스크 보관 박스에 관한 것으로서, 상세하게는 내부에 포토마스크가 안치되도록 지지부와 구비되는 하부케이스와, 하부케이스와 체결되는 상부케이스 및 하부 케이스의 내측 테두리에 설치되어 하부케이스의 지지부에 안착된 포토마스크를 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, 고정부는 몸체에서 볼트부재를 이용하여 회전 캡부재를 전후로 이동시키되, 회전 캡부재에 압입된 가압 고정부재가 미회전되면서 전진되도록 하여 포토마스크의 파티클이 발생되는 것을 방지하고, 가압 고정부재의 전면에 곡면부를 형성하여 가압 고정부재의 표면에 의해 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지하도록 하는 포토마스크 보관 박스에 관한 것이다.
LCD모니터의 제조에 사용되는 포토마스크는 일반적으로 유리재질이기 때문에 이송 및 보관시에 쉽게 파손될 우려가 있다. 취성이 강하고 강도가 약한 포토마스크를 이송하거나 보관할 때에는 포토마스크의 크기에 부합하는 케이스를 사용한다. 즉, 포토마스크 보관 박스는 일반적으로 상부케이스와 하부케이스로 구성되며, 상기 상부 및 하부케이스는 적절한 체결기구로써 고정된다.
일반적인 포토마스크 보관 박스의 구조를 설명하면 다음과 같다.
일면이 개방된 직육면체로서, 외측둘레를 따라 복수의 걸쇠가 단속적으로 형성되어 있고, 상기 걸쇠를 제외한 나머지 외측둘레에는 강도를 보강하기 위한 제1보강부가 형성되어 있으며, 내부의 모서리 및 구석에는 포토마스크를 안치시키기 위한 복수의 지지대가 설치된 하부케이스와; 일면이 개방된 직육면체로서, 외측둘레를 따라 상기 하부케이스의 걸쇠에 대응하는 걸림편이 형성되어 있고, 상기 걸림편을 제외한 나머지 외측둘레에는 상기 하부케이스의 제1보강부와 맞닿도록 형성된 제2보강부가 형성되며, 하면에는 상기 보관 박스를 지면을 통해 이송할 수 있도록 구성된 이송부를 포함하는 상부케이스;를 포함하되, 상기 하부 및 상부케이스 사이에 개재되는 씰링부재를 더 포함하고, 상기 제1보강부 및/또는 제2보강부의 일부에는 파지부가 형성된 포토마스크 보관 박스가 사용되고 있다.
위와 같은 포토마스크 보관 박스는 상기 하부케이스와 상기 상부케이스 사이에서 형성되는 공간부에 포토마스크를 안치시키고, 상기 상하부 케이스 사이에 상기 씰링부재를 개재시킨 후, 상기 케이스의 외측에 형성된 상기 걸쇠 및 걸림편을 결합시킨 다음 이송하거나 보관하게 된다.
그러나, 종래의 포토마스크 보관 박스는 하부케이스의 내부에 형성되는 지지대가 포토마스크를 안전하게 지지하지 못하고 포토마스크가 유동하게 됨으로써 포토마스크에 외형적인 결함을 발생시키는 문제가 발생했으며, 특히, 매우 민감하고 취성이 강한 포토마스크는 유리재질이기 때문에 응력이 집중되는 모서리 또는 모퉁이부분에 파손이 자주 일어났다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여, 대한민국 등록특허 제10-1121176호인 포토마스크 케이스의 구조와, 일본 공개특허공보 제2010-72420호인 포토마스크 케이스 등이 개시되어 있다.
상기 포토마스크 케이스의 구조는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 각각의 외측면에 걸쇠(본체와 고리로 구성됨)(11)가 단속적으로 2개씩 형성되어 있고, 위 걸쇠(11)가 형성되지 아니한 나머지 외측면에는 케이스의 강도를 보강하기 위한 제1보강부들(12)이 형성되어 있으며, 외부의 테두리면으로부터 연장되어 돌출된 가이드부(13)가 형성된 하부케이스(1)와; 상기 하부케이스(1)의 걸쇠(11)가 걸리도록 각각의 외측면에 2개씩 장착된 걸림편(21)과, 상기 하부케이스(1)의 제1보강부들(12)과 맞닿도록 형성되어 케이스의 강도를 보강하기 위한 제2보강부들(22)이 형성된 상부케이스(2)와; 상기 하부케이스(1)의 상기 가이드부(13)에 장착되어 상기 하부케이스(1)와 상기 상부케이스(2) 사이에 개재되는 씰링부재(3); 및 각각의 상기 하부케이스(1)와 상기 상부케이스(2)의 하면에 형성된 바퀴로 된 이송부(4)로 구성되고, 하부케이스(1)의 저면에는 케이스의 강도를 보강하기 위한 프레임(F)이 격벽부재로서 형성되며, 하부케이스(1) 내부의 2개의 윗 모퉁이부분과, 2개의 양측면에는 볼트로 된 조임부재(111a)가 설치된 제1 및 제2지지부(111)가 있고, 하부케이스(1) 내부의 윗면과 아랫면에는 각각 3개와 4개의 제3 및 제4 지지부(112)가 형성되고, 상기 제1 및 제2 지지부(111)는, 포토마스크를 안치할 경우에 있어서, 포토마스크의 윗면 및 옆면을 확실히 지지하기 위해 상하 또는 좌우로 이동할 수 있도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
그러나, 이러한 종래의 포토마스크 케이스의 구조는 슬라이딩 방식으로 포토마스크를 압입고정하기 때문에 국지적으로 압력이 발생하여 포토마스크를 파손할 수 있는 위험이 있다.
또한, 상기 포토마스크 케이스는 도 3에 도시된 바와 같이 포토마스크를 지지하기 위한 포토마스크 케이스에 있어서 포토마스크의 주위를 덮는 외장 용기(2)와 상기 외장 용기에 마련된 지지봉 삽입 구멍과 상기 지지봉 삽입 구멍에 삽입되어 상기 포토마스크(1)의 측면부를 지지하는 지지봉(3)을 구비하고, 지지봉의 포토마스크의 측면부와 접하는 측의 선단부에 탄성을 가지는 지지체(4)를 마련한 것을 특징으로 한다.
그러나, 종래의 포토마스크 케이스는 지지봉의 고정력이 상대적으로 떨어지고, 탄성력의 조절이 어려워 포토마스크를 파손할 수 있는 위험이 있다.
대한민국 등록특허 제10-1121176호 일본 공개특허공보 제2010-72420호
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 내부에 포토마스크가 안치되도록 지지부와 구비되는 하부케이스와, 하부케이스와 체결되는 상부케이스 및 하부 케이스의 내측 테두리에 설치되어 하부케이스의 지지부에 안착된 포토마스크를 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, 고정부는 몸체에서 볼트부재를 이용하여 회전 캡부재를 전후로 이동시키되, 회전 캡부재에 압입된 가압 고정부재가 미회전되면서 전진되도록 하여 포토마스크의 파티클이 발생되는 것을 방지하고, 가압 고정부재의 전면에 곡면부를 형성하여 가압 고정부재의 표면에 의해 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지하도록 하는 포토마스크 보관 박스를 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 고정부의 몸체에 공간부를 형성하고, 내부에 오일이 함침된 스폰지를 수납한 상태에서, 공간부 입구에 탄성 재질의 실리콘 커버를 결합하여 금속 재질의 볼트부재와 몸체 내에 삽입된 금속재질의 너트부재의 마찰시 발생하는 미세칩이 스폰지와 실리콘 커버에 의해 내부 외부로 유출되는 것을 차단하도록 하는 포토마스크 보관 박스를 제공하는데 다른 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은,
내부에 포토마스크가 안치되도록 지지부와 구비되는 하부케이스와, 하부케이스와 체결되는 상부케이스 및 하부 케이스의 내측 테두리에 설치되어 하부케이스의 지지부에 안착된 포토마스크를 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 포토마스크 보관 박스에 있어서, 상기 고정부는 합성수지 재질로 직육면체 형태로 형성되고, 상단에 볼트 이동 공간부가 구비되고, 상기 볼트 이동 공간부 상단에 볼트 가이드홀이 형성되는 몸체와; 중앙부에 노브가 결합되고, 후방에 상기 노브를 고정시키는 너트가 결합되며, 전방에 볼트용 부시가 결합되어 상기 볼트 가이드홀에 수평하게 체결되어서 상기 몸체의 볼트 이동 공간부에서 상기 노브가 회전되면서 전후진되는 볼트부재와; 상기 볼트부재의 전면에 볼트 결합되어 상기 노브의 회전시 상기 볼트부재와 함께 회전되면서 전후진되는 회전 캡부재; 및 테프론 재질로 원통형으로 형성되고, 상기 회전 캡부재에 압입 결합되어 상기 회전 캡부재의 회전시 미회전되면서 상기 포토마스크에 압력을 가하여 고정시키는 가압 고정부재로 이루어지는 것을 특징으로 한다.
여기에서, 상기 몸체는 상기 볼트부재를 결합하도록 전면에 상기 볼트 가이드홀과 대응되는 위치에 상기 볼트부재의 볼트용 부시가 관통되는 부시 관통홀이 구비된 판 형상의 몸체 커버가 분해 결합된다.
여기에서 또한, 상기 몸체 커버는 상기 부시 관통홀에 합성수지 재질의 커버용 부시가 결합된다.
여기에서 또, 상기 몸체는 상기 볼트 가이드홀 내부에 상기 볼트부재가 체결되도록 코일 인서트가 구비된다.
여기에서 또, 상기 몸체는 상기 코일 인서트와 상기 볼트부재의 마찰시 발생하는 미세칩을 상기 스폰지와 실리콘 커버에 의해 외부로 유출되는 것을 차단하도록 상기 볼트 가이드홀 전후에 칩저장 공간부를 형성하고, 상기 칩저장 공간부의 입출구측에 걸림턱을 형성하여 탄성재질이면서 볼트 관통홀이 형성된 실리콘 커버를 상기 걸림턱에 결합하고, 상기 칩저장 공간부에 오일이 함침된 스폰지를 수납한다.
여기에서 또, 상기 회전 캡부재는 상기 가압 고정부재가 압입 결합되도록 테두리 외측에 절개부가 형성되고, 테두리 내측에 걸림턱이 형성된다.
여기에서 또, 상기 가압 고정부재는 외측면에 상기 걸림턱에 결합되도록 단턱이 형성된다.
여기에서 또, 상기 가압 고정부재는 상기 포토마스크와 점접촉하여 상기 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지하도록 전면에 곡면부가 형성된다.
상기와 같이 구성되는 본 발명인 포토마스크 보관 박스에 따르면, 내부에 포토마스크가 안치되도록 지지부와 구비되는 하부케이스와, 하부케이스와 체결되는 상부케이스 및 하부 케이스의 내측 테두리에 설치되어 하부케이스의 지지부에 안착된 포토마스크를 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 포토마스크 케이스의 구조에 있어서, 고정부는 몸체에서 볼트부재를 이용하여 회전 캡부재를 전후로 이동시키되, 회전 캡부재에 압입된 가압 고정부재가 미회전되면서 전진되도록 하여 포토마스크의 파티클이 발생되는 것을 방지하고, 가압 고정부재의 전면에 곡면부를 형성하여 가압 고정부재의 표면에 의해 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 고정부의 몸체에 공간부를 형성하고, 내부에 오일이 함침된 스폰지를 수납한 상태에서, 공간부 입구에 탄성 재질의 실리콘 커버를 결합하여 금속 재질의 볼트부재와 몸체 내에 삽입된 금속재질의 너트부재의 마찰시 발생하는 미세칩이 스폰지와 실리콘 커버에 의해 내부 외부로 유출되는 것을 차단하여 포토마스크에 이물질이 부착되는 것을 방지할 수 있다.
도 1 내지 도 3은 종래의 포토마스크 케이스를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스의 구성을 나타낸 사시도이다.
도 5는 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스중 하부 케이스의 구성을 나타낸 평면도이다.
도 6은 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스중 고정부의 구성을 나타낸 사시도이다.
도 7은 도 6의 분해 사시도이다.
도 8은 도 6의 측단면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스중 지지부의 동작을 설명하기 위한 동작 설명도이다.
이하, 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스의 구성을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
하기에서 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스의 구성을 나타낸 사시도이고, 도 5는 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스중 하부 케이스의 구성을 나타낸 평면도이며, 도 6은 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스중 고정부의 구성을 나타낸 사시도이고, 도 7은 도 6의 분해 사시도이며, 도 8은 도 6의 측단면도이다.
도 4 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스(200)는 하부케이스(210)와, 상부케이스(220)와, 고정부(300)로 구성된다.
먼저, 하부케이스(210)는 통상의 구조로서, 포토마스크(미도시)가 안치되도록 지지부(211)가 구비된다. 이때, 지지부(211)는 포토마스크의 크기에 따라 전후로 슬라이딩되어 간격을 조절할 수도 있다.
그리고, 상부케이스(220)는 통상의 구조로서 하부케이스(210)와 체결된다.
또한, 고정부(300)는 도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이 몸체(310)와, 볼트부재(320)와, 회전 캡부재(330) 및 가압 고정부재(340)로 구성된다.
몸체(310)는 합성수지 재질로 직육면체 형태로 형성되고, 상단에 볼트 이동 공간부(S1)가 구비되고, 볼트 이동 공간부(S1) 상단에 볼트 가이드홀(311)이 형성된다. 이때, 몸체(310)는 저면이나 배면이 하부케이스(210)에 볼트 결합되어 고정되는 것이 바람직하다.
그리고, 몸체(310)는 볼트부재(320)를 결합하도록 전면에 볼트 가이드홀(311)과 대응되는 위치에 볼트부재(320)의 볼트용 부시(325)가 관통되는 부시 관통홀(312a)이 구비된 판 형상의 몸체 커버(312)가 분해 결합된다. 이때, 몸체 커버(312)는 부시 관통홀(312a)에 합성수지 재질의 커버용 부시(313)가 결합된다.
또한, 몸체(310)는 볼트 가이드홀(311) 내부에 볼트부재(320)가 체결되도록 코일 인서트(314)가 구비되고, 코일 인서트(314)와 볼트부재(320)의 마찰시 발생하는 미세칩이 외부로 유출되는 것을 차단하도록 볼트 가이드홀(311) 전후에 칩저장 공간부(S2)를 형성하고, 칩저장 공간부(S2)의 입출구측에 걸림턱(315)을 형성하여 탄성재질이면서 볼트 관통홀(316a)이 형성된 실리콘 커버(316)를 걸림턱(315)에 결합하고, 칩저장 공간부(S2)에 오일이 함침된 스폰지(317)를 수납한다.
이어서, 볼트부재(320)는 금속재질로 중앙부에 노브(321)가 결합되고, 후방에 노브(321)를 고정시키는 너트(323)가 결합되며, 전방에 볼트용 부시(325)가 결합되어 볼트 가이드홀(311)에 구비된 코일 인서트(314)와 수평하게 체결되어서 몸체(310)의 볼트 이동 공간부(S1)에서 노브(321)가 회전되면서 전후진된다.
계속해서, 회전 캡부재(330)는 합성수지 재질로 형성되고, 볼트부재(320)의 전면에 볼트 결합되어 노브(321)의 회전시 볼트부재(320)와 함께 회전되면서 전후진된다. 이때, 회전 캡부재(330)는 가압 고정부재(340)가 압입 결합되도록 테두리 외측에 절개부(331)가 형성되고, 테두리 내측에 걸림턱(333)이 형성된다.
한편, 가압 고정부재(340)는 테프론 재질로 원통형으로 형성되고, 회전 캡부재(330)에 압입 결합되어 회전 캡부재(330)의 회전시 미회전되면서 포토마스크에 압력을 가하여 고정시킨다. 이때, 가압 고정부재(340)는 외측면에 걸림턱(333)에 결합되도록 단턱(341)이 형성된다.
또한, 가압 고정부재(340)는 포토마스크와 점접촉하여 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지하도록 전면에 곡면부(R)가 형성된다.
이하, 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스의 동작을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 9는 본 발명에 따른 포토마스크 보관 박스중 지지부의 동작을 설명하기 위한 동작 설명도이다.
먼저, 고정부(300)의 볼트부재(320)의 노브(321)를 일방향으로 돌려 볼트부재(320)를 후진시켜 가압 고정부재(340)가 하부케이스(210)의 지지부(211)와 간섭이 없는 위치로 후퇴시킨다.
이러한 상태에서 포토마스크(P)를 하부케이스(210)의 지지부(211)에 안착시킨다.
그리고, 고정부(300)의 볼트부재(320)에 구비된 노브(321)를 타방향으로 회전시키면, 볼트부재(320)가 몸체(310)의 볼트 가이드홀(311)에 구비된 코일 인서트(314)에서 회전되면서 전진하게 된다.
이로 인해, 볼트부재(320)의 전면에 결합된 회전 캡부재(330)가 전진하게 된다.
회전 캡부재(330)의 전진으로 인해 가압 고정부재(340)가 함께 전진하다가 가압 고정부재(340)의 전면에 형성된 곡면부(R)가 포토마스크(P)와 점접촉하게 된다.
그러면, 가압 고정부재(340)는 회전 캡부재(330)에서 미구속된 상태를 유지하기 때문에 볼트부재(320)와 회전 캡부재(330)가 전진되면서 회전을 하여도 가압 고정부재(340)는 포토마스크(P)와 접촉한 상태에서 미회전되면서 전진되면서 포토마스크(P)를 가압하게 된다.
이로 인하여 가압 고정부재(340)가 포토마스크(P)와 점접촉한 상태에서 미회전되면서 전진되기 때문에 포토마스크(P)와 마찰되지 않기 때문에 파티클 발생이 차단된다.
또한, 볼트부재(320)의 회전시 몸체(310)에 금속재질의 코일 인서트(314)가 삽입되어 있기 때문에 합성수지와 금속재간의 마찰로 인해 합성수지가 마모되는 것이 방지되고, 볼트부재(320)와 코일 인서트(314)간에 마찰로 발생되는 금속 미세칩의 경우 볼트 가이드홀(311) 전후에 형성된 칩저장 공간부(S2)와, 칩저장 공간부(S2)의 입출구측에 구비된 걸림턱(315)과 결합된 실리콘 커버(316) 및 칩저장 공간부(S2)에 오일이 함침된 스폰지(317)에 의해 미세칩이 하부케이스(210) 내부로 배출되어 포토마스크(P)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명은 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있으며 상기 발명의 상세한 설명에서는 그에 따른 특별한 실시 예에 대해서만 기술하였다. 하지만 본 발명은 상세한 설명에서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 오히려 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
210 : 하부케이스 220 : 상부케이스
300 : 고정부 310 : 몸체
320 : 볼트부재 330 : 회전 캡부재
340 : 가압 고정부재 R : 곡면부

Claims (8)

  1. 내부에 포토마스크가 안치되도록 지지부와 구비되는 하부케이스와, 하부케이스와 체결되는 상부케이스 및 하부 케이스의 내측 테두리에 설치되어 하부케이스의 지지부에 안착된 포토마스크를 고정시키기 위한 고정부를 포함하는 포토마스크 보관 박스에 있어서,
    상기 고정부는,
    합성수지 재질로 직육면체 형태로 형성되고, 상단에 볼트 이동 공간부가 구비되고, 상기 볼트 이동 공간부 상단에 볼트 가이드홀이 형성되는 몸체와;
    중앙부에 노브가 결합되고, 후방에 상기 노브를 고정시키는 너트가 결합되며, 전방에 볼트용 부시가 결합되어 상기 볼트 가이드홀에 수평하게 체결되어서 상기 몸체의 볼트 이동 공간부에서 상기 노브가 회전되면서 전후진되는 볼트부재와;
    합성수지 재질로 형성되고, 상기 볼트부재의 전면에 볼트 결합되어 상기 노브의 회전시 상기 볼트부재와 함께 회전되면서 전후진되는 회전 캡부재; 및
    테프론 재질로 원통형으로 형성되고, 상기 회전 캡부재에 압입 결합되어 상기 회전 캡부재의 회전시 미회전되면서 상기 포토마스크에 압력을 가하여 고정시키는 가압 고정부재로 이루어지되,
    상기 몸체는,
    상기 볼트부재를 결합하도록 전면에 상기 볼트 가이드홀과 대응되는 위치에 상기 볼트부재의 볼트용 부시가 관통되는 부시 관통홀이 구비된 판 형상의 몸체 커버가 분해 결합되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸체 커버는,
    상기 부시 관통홀에 합성수지 재질의 커버용 부시가 결합되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 몸체는,
    상기 볼트 가이드홀 내부에 상기 볼트부재가 체결되도록 코일 인서트가 구비되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 몸체는,
    상기 코일 인서트와 상기 볼트부재의 마찰시 발생하는 미세칩을 상기 스폰지와 실리콘 커버에 의해 외부로 유출되는 것을 차단하도록 상기 볼트 가이드홀 전후에 칩저장 공간부를 형성하고, 상기 칩저장 공간부의 입출구측에 걸림턱을 형성하여 탄성재질이면서 볼트 관통홀이 형성된 실리콘 커버를 상기 걸림턱에 결합하고, 상기 칩저장 공간부에 오일이 함침된 스폰지를 수납하는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전 캡부재는,
    상기 가압 고정부재가 압입 결합되도록 테두리 외측에 절개부가 형성되고, 테두리 내측에 걸림턱이 형성되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 가압 고정부재는,
    외측면에 상기 걸림턱에 결합되도록 단턱이 형성되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 가압 고정부재는,
    상기 포토마스크와 점접촉하여 상기 포토마스크에 파티클이 발생하는 것을 방지하도록 전면에 곡면부가 형성되는 것을 특징으로 하는 포토마스크 보관 박스.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020149466A1 (ko) * 2019-01-17 2020-07-23 피엠씨글로벌 주식회사 포토마스크 보관 박스
CN113002957A (zh) * 2021-04-16 2021-06-22 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 一种玻璃基板包装运输装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09204039A (ja) * 1996-01-25 1997-08-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル枠保持具
KR20060102264A (ko) * 2005-03-22 2006-09-27 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 수납용기
KR20090113393A (ko) * 2008-04-23 2009-11-02 김지숙 포토마스크 케이스의 구조
JP2010072420A (ja) 2008-09-19 2010-04-02 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクケース
KR20130047563A (ko) * 2011-10-28 2013-05-08 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 수용 용기

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001033943A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Mitsubishi Electric Corp マスク装置
JP2004247718A (ja) * 2003-01-23 2004-09-02 Yamaha Corp ホトマスクホルダーおよびホトマスク固定方法
EP1531363A1 (en) * 2003-10-27 2005-05-18 ASML Netherlands B.V. Reticle holder
JP4581681B2 (ja) * 2004-12-27 2010-11-17 株式会社ニコン レチクル保護装置および露光装置
EP1928764B1 (en) * 2005-09-27 2011-11-02 Entegris, Inc. Reticle pod
JP2007233335A (ja) * 2006-01-31 2007-09-13 Hoya Corp マスク収容ユニット、フォトマスク基板の搬送方法、フォトマスク製品の製造方法及びフォトマスクの露光・転写方法。
TWI303618B (en) * 2006-08-10 2008-12-01 Gudeng Prec Industral Co Ltd Metal photomask box
JP5052106B2 (ja) * 2006-11-22 2012-10-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクルの収納方法
KR101511599B1 (ko) * 2007-12-20 2015-04-14 주식회사 에스앤에스텍 마스크 컨테이너
US7931146B2 (en) * 2009-05-19 2011-04-26 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Photomask case structure
KR101569796B1 (ko) * 2009-06-23 2015-11-20 주성엔지니어링(주) 기판 정렬 장치, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 정렬 방법
US8681310B2 (en) * 2010-12-02 2014-03-25 Globalfoundries Inc. Mechanical fixture of pellicle to lithographic photomask
JP2012186391A (ja) * 2011-03-07 2012-09-27 Canon Inc レチクル収容容器、露光装置及びデバイス製造方法
JP2013107686A (ja) * 2011-11-22 2013-06-06 Asahi Glass Co Ltd ガラス板梱包体のガラス板押え装置
JP6930734B2 (ja) * 2018-01-25 2021-09-01 株式会社ブイ・テクノロジー 基板保持装置及び基板検査装置
KR101987741B1 (ko) * 2019-01-17 2019-06-12 피엠씨글로벌 주식회사 포토마스크 보관 박스

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09204039A (ja) * 1996-01-25 1997-08-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクル枠保持具
KR20060102264A (ko) * 2005-03-22 2006-09-27 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 수납용기
KR20090113393A (ko) * 2008-04-23 2009-11-02 김지숙 포토마스크 케이스의 구조
KR101121176B1 (ko) 2008-04-23 2012-03-23 피엠씨글로벌 주식회사 포토마스크 케이스의 구조
JP2010072420A (ja) 2008-09-19 2010-04-02 Toppan Printing Co Ltd フォトマスクケース
KR20130047563A (ko) * 2011-10-28 2013-05-08 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 펠리클 수용 용기

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020149466A1 (ko) * 2019-01-17 2020-07-23 피엠씨글로벌 주식회사 포토마스크 보관 박스
CN113002957A (zh) * 2021-04-16 2021-06-22 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 一种玻璃基板包装运输装置
CN113002957B (zh) * 2021-04-16 2022-08-30 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 一种玻璃基板包装运输装置

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