CN101263247B - 用于使用金属涂布基底表面的电镀组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是提供一种在制造集成电路的互连中特别是用于涂布铜扩散阻挡层的电镀组合物。根据本发明，所述组合物在溶剂的溶液中包括：铜离子源，其浓度为0.4～40mM；至少一种铜络合剂，其选自脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、芳香胺、氮杂环和肟；铜/络合剂摩尔比为0.1～2.5，优选0.3～1.3；以及所述组合物的pH小于7，优选3.5～6.5。

Description

用于使用金属涂布基底表面的电镀组合物
本发明总体上涉及一种用于使用铜涂布基底表面的电镀组合物，尤其是由电阻性材料构成的表面，特别是用于涂布铜扩散阻挡层。
本发明尤其适用于微电子领域，用于制造集成电路中的互连。本发明也适用于其他电子领域，用于制造印刷电路(被称作印刷电路板或印刷线路板)中的互连或用于制造无源元件(如感应器)，或适用于集成电路或微系统(被称作微机电系统)中的机电领域。
术语“电镀”在本文中应被理解成一种使用金属涂层或有机金属涂层覆盖基底表面的方法，其中所述基底被施加偏电压并与含有所述金属涂层或有机金属涂层的前体的液体接触，从而形成所述涂层。当基底是电导体时，例如，通过在含有涂料前体源(例如在金属涂层的情况下是金属离子)和任选用于改善形成的涂层的性能(均匀性和沉积物的细度、电阻率等)的各种试剂的浴中，使电流在构成电极的待涂布基底(在金属涂层或有机金属涂层的情况下是阴极)和第二电极(阳极)之间流过，由此进行电镀，任选地存在参比电极。根据国际公约，流过相关基底的电流和施加到其上的电压，即电化学电路的阴极，均为负值。在本文中，当提到正值的这些电流和电压时，意味着该值代表所述电流或所述电压的绝对值。
电镀铜特别用于微电子领域中，用于制造集成电路中的互连。铜的良好导电率和其对电迁移现象的高抵抗性(即在电流密度作用下铜原子的迁移较低，而迁移可能使导体显著变形并且是故障的主要原因)特别使其成为用于制造具有日益更小的蚀刻特征的集成电路的金属互连的材料选择。
通常通过在硅晶片的表面上形成有源半导体器件(尤其是晶体管)来制造集成电路，所述半导体器件通过在介电层中形成的金属互连系统连接到一起，而金属互连系统由也被称作“通孔”的“线”和“触点”构成，它们置于重叠层次中并通过分别填充也被称作“互连孔”的“沟槽”和“凹陷”得到。
由于铜难于蚀刻并在多种材料中具有高扩散能力，因此通常通过以下的顺序步骤制造互连，包括：
-沉积绝缘介电层；
-在所述介电层中蚀刻互连特征；
-沉积用于防止铜迁移的阻挡层(通常例如由钽、氮化钛、氮化钽、氮化钨或碳化钨形成)；
-用铜填充线和互连孔；和
-通过化学机械抛光除去过量的铜。
这一顺序步骤被称作“镶嵌工艺(Damascene process)”，例如已记载在C.Y.Chang和S.M.Sze“ULSI Technology”，McGraw-Hill，New York，(1996)，页444-445中。
阻挡层通常对于将在晶片规模上均匀地电化学沉积的铜具有过高的电阻，本领域技术人员将这种已知的效应称作术语“电阻降”。阻挡层的高电阻是其构成材料(通常是金属氮化物)的高电阻率和其较小的厚度(通常几纳米至几十纳米，这取决于集成电路的产生)的结果，其厚度受到互连特征的较小尺寸的影响。
因此，在电镀铜步骤之前，通常必须使用非电化学方法用被称作种子层的金属铜的薄层覆盖阻挡层。象阻挡层那样，该种子层目前是通过气相沉积技术形成，如PVD(物理气相沉积)或CVD(化学气相沉积)沉积法。
由于目前集成电路的线和互连孔的临界尺寸以及它们趋向于更小尺寸的原因，目前铜种子层的厚度约30nm，并很快将到达10nm或更小。
CVD沉积产生共形的铜层，即精确地匹配待涂布表面的形状的铜层，并且对于很宽范围的纵横比均如此。然而，对通过化学沉积形成的铜层的扩散阻挡层的粘合较差。这在实际应用中限制了此类工艺的优点，因为为确保构成互连的结构的可靠性要求在铜和阻挡层之间有较强的粘合。
此外，使用化学气相沉积的方法相对昂贵，这是因为消耗材料(前体)、实施所需设备的成本高并且效率低的原因。
从工业的观点来看，PVD沉积目前是优选的，因为它允许具有高电阻的表面被涂布，同时铜与阻挡层的粘合比使用CVD法的粘合更佳。
通过PVD沉积的涂层的厚度与从待涂布的表面所观察的立体角成正比。因此，与具有凹角的那些表面部分相比，具有凸角的那些表面部分被更厚的层所覆盖。其结果是，通过物理气相沉积形成的铜种子层不是共形的，因此在基底的表面的各点处不具有均匀厚度。特别地，在沟槽或通孔的利边处观察到阴影或伸出效应，从而阻挡它们的孔，并由此不能填充它们。此外，沟槽和通孔的侧壁可能被不足厚度的种子层覆盖，这会使后续填充不完美，从而遗漏材料或空隙。此外，在各特征侧壁上形成的种子层在性质上表现出与沉积在基底的平表面上(在沟槽和通孔的顶部和底部处)不同的粘合。这会导致较差的可靠性，如对电迁移的抵抗性较差。换句话说，这种非共形的覆盖不仅仅由于缺少连续性而造成厚度差异，并且会造成沟槽和通孔的侧壁上的层的粘合较差。
这些限制使得在沟槽和通孔的尺寸极小(几十纳米的量级)和纵横比极高的近代集成电路中使用PVD技术非常复杂。
就此而言，这里介绍的电镀技术构成对化学气相沉积法或物理气相沉积法以及不能在电阻性基底上实施的更常规金属电镀技术的有益选择。
这是因为常规电镀包括通常将DC电流施加到浸在含有金属离子的浴中的基底上，其仅能适用于充分导电的表面，即通常面电阻小于约几欧姆/平方(ohms/square)的表面，但对于近代技术中形成铜扩散阻挡层的各层情况不是这样，其面电阻通常为几十欧姆/平方至几百欧姆/平方，并且可以是几万欧姆/平方。
面电阻是一种本领域技术人员所使用的用于测量薄膜或层的电阻的量。面电阻用欧姆/平方表示，并等价于二维体系的电阻率，即其中电流在层的平面内流动而不是在垂直于该层的平面内流动的体系。从数学上来讲，通过用层的构成材料的电阻率(以欧姆.m或微欧姆.cm表示)除以该层的厚度(以m或nm表示)求得面电阻的值。
目前，常规电镀铜主要用于在镶嵌工艺中通过将DC电流施加到预先用种子层覆盖并浸渍在含有添加剂的硫酸铜酸性浴中的晶片上而填充沟槽和凹陷。这种使用金属铜填充沟槽和凹陷的工艺例如记载在Rosenberg等人的“Copper metallization for high performance silicontechnology”，Ann.Rev.Mater.Sci.(2000)，30，229-62中。
铜种子层上的电镀铜用于填充沟槽和凹陷的用途也记载在专利US 6893 550中，在此引入该专利作为参考。
文献US 6 893 550中记载的电镀方法其主要特征在于：
-一方面，其特征在于使用电镀浴，所述电镀浴的特定化学组合物包括至少一种酸(优选硫酸)、至少一种卤离子(优选氯离子)和能够加速或抑制形成涂层的化学试剂的组合；以及
-另一方面，其特征在于包括改变以预定顺序施加的电流的密度。
电镀铜例如也已在专利US 6 811 675中被提出，用于填充种子层中的任何空隙或用于修补该层(种子修补或种子增强)。
在该现有文献记载的优选实施方案中，优选通过物理气相沉积法进行第一步骤，其中沉积非均匀的“超薄”(厚度约20am)铜种子层，然后在第二步骤中，使用含有硫酸铜、铜络合剂、优选柠檬酸和任选用于改善涂层亮度的硼酸和/或用于降低涂层电阻率的硫酸铵的碱性电镀溶液(pH大于9)，通过电镀改善层的共形性。在电镀中施加的电流密度为1mA/cm2至5mA/cm2。
上述现有文献表明，这种电镀工艺也可能用于形成铜种子层，但是这种可能性未被任何例子阐明，并且由于该文献中提及的高电流密度的原因似乎不易实现这一点。
在这种情况下，本发明的目的是解决一种新的技术问题，即如何提供一种新的电镀组合物，所述电镀组合物特别是可以形成连续和共形的铜种子层，而所述铜种子层的厚度为10nm或更小并且对达到几兆欧姆/平方的高表面电阻的扩散阻挡层表现出优异的粘合。
本发明解决该技术问题的方案包括一种在制造集成电路的互连中特别是用于涂布铜扩散阻挡层的电镀组合物，其特征在于，所述电镀组合物在溶剂的溶液中包括：
-铜离子源，其浓度为0.4～40mM，优选0.4～18mM，更优选0.4～15mM；
-至少一种铜络合剂，其选自脂肪族伯胺、脂肪族仲胺、脂肪族叔胺、芳香胺、氮杂环和肟；
-铜/络合剂摩尔比为0.1～2.5，优选0.3～1.3；以及
-所述组合物的pH小于7，优选3.5～6.5。
已经发现并且作为构成本发明基础的是，在酸性介质(即pH小于7)中使用的含有至少一个氮原子的多种铜络合剂提供了可用于在扩散阻挡层表面(如在制造集成电路互连中使用的那些)上直接制造连续和共形的铜种子层的特别显著的电镀铜组合物。
就象本领域技术人员已知的那样，这种发现更令人惊讶的是，含有氮原子的化合物，特别是胺，可以在酸性介质中被质子化，从而失去与铜形成络合物的能力。非常令人惊讶的是，已经发现，在酸性介质中铜能更令人满意地沉积在阻挡层上，其中络合的铜的比例比现有技术中提出的碱性介质中的低。
可以在本发明中使用的铜络合剂可以选自：
-脂肪族伯胺，特别是乙胺、环己胺、乙二胺和环己二胺；
-脂肪族仲胺，特别是吡咯烷；
-脂肪族叔胺，特别是羟乙基二乙胺和四亚乙基五胺；
-芳香胺，特别是1，2-二氨基苯和3，5-二甲基苯胺；
-氮杂环，特别是吡啶、2，2’-联吡啶、8-羟基喹啉磺酸酯、1，10-菲咯啉、3，5-二甲基吡啶和2，2’-联嘧啶；以及
-肟，特别是丁二酮肟。
通常，构成可以在本发明中使用的优选一类络合剂的氮杂环可以被定义作单环或多环化合物，不管是否是稠合的，具有1～8个氮原子，每个环是5～6员环，可以是未取代的或可以被选自卤素、羟基和具有1～6个碳原子的烷基的1～8个原子或原子团所取代。
本发明的电镀组合物可以包括一种或多种络合剂。
已经发现，使用能够在金属表面上被吸附、从而生成有序层的络合剂可以获得优异的结果。构成本发明目前优选的铜络合剂的试剂尤其是吡啶、2，2’-联吡啶和其混合物，特别是其中吡啶和2，2′-联吡啶的摩尔比为5∶1～1∶5、优选3∶1～1∶1、更优选约2∶1的混合物。
尽管原则上对溶剂的性质没有限制(只要其可充分地溶解溶液的活性物质并且不会干扰电镀)，但水或水醇溶液是优选的。
通常，本发明的电镀组合物包括铜离子源，特别是铜(Cu2+)离子。
有利的是，所述铜离子源是铜盐，例如特别是硫酸铜、氯化铜、硝酸铜或醋酸铜，优选硫酸铜。
根据一个特定特征，所述铜离子源在电镀组合物中的存在浓度为0.4～40mM，优选0.4～18mM，更优选0.4～15mM。
使用其中所述铜离子源的存在浓度为0.5～4mM的组合物已经获得了优异的结果。
在本发明的电镀组合物中铜离子源/铜络合剂摩尔比为0.1～2.5，优选0.3～1.3。
通常，本发明的电镀组合物其pH小于7，优选3.5～6.5。
可以通过使用缓冲液，在上述pH范围内任选地调节组合物的pH，如在“Handbook of Chemistry and Physics”，第84版，David R.Lide，CRCPress中记载的那些缓冲液中的一种。
本发明的目前优选的电镀组合物在水溶液中包括：
-硫酸铜，其浓度为0.4～40mM，优选0.4～18mM，更优选0.4～15mM；
-作为铜络合剂的吡啶和2，2’-联吡啶的混合物；
-铜/络合剂摩尔比为0.3～1.3；以及
-所述组合物的pH小于7，优选3.5～6.5。
本发明的电镀组合物可以用于标准电镀方法中，包括使基底表面，例如特别是防止铜扩散的阻挡层，与本发明的电镀组合物接触，以及其中在所述基底的表面上形成涂层的步骤，在该步骤中，所述表面被施加持续时间足以形成所述涂层的偏电压。
当需要涂层具有特定的规格时，尤其是对于较薄(厚度小于20nm，优选小于10nm)、有粘性、共形的和均匀的涂层，涉及到更特定的电压或电流方案的实施方案可能是优选的。
令人惊讶的是，已经观察到，通过在电镀工艺中控制待涂布的表面在形成涂层之前与所述电镀组合物(或浴)接触的条件及在形成涂层之后从所述电镀组合物中取出该表面的条件，使用本发明的电镀组合物可以获得优异的结果。
相当意外的是，已经观察到，通过在电镀步骤之前在未施加偏电压下(即相对于反电极或相对于参比电极没有在该表面上施加电流或电压)使待涂布的表面与所述电镀组合物接触，使用所述电镀组合物可以改善通过电镀形成的铜涂层和阻挡层之间的粘合。
当在该接触步骤之后但仍在电镀步骤之前，使待涂布的基底的表面保持与所述电镀组合物接触至少5秒时，已经观察到粘合方面有更为显著的改善。
令人惊讶的是，已经发现，种子层与阻挡层的粘合改善可以改善“种子层/填充层或厚铜或厚层”组件的粘合，即用于形成种子层的组件的“操作”粘合。
通常，难于直接测量单个种子层的粘合，尤其是由于其较小的厚度，但是所得结果表明，根据本发明形成的种子层的粘合显然极高。“种子层/填充层或厚铜或厚层”组件与阻挡层的粘合能可以较容易和较有用地被测定，粘合能是实际上将要被优化的相关操作性质。例如，通过例如使用拉伸测试系统剥离与组件的上表面结合的粘合带，可以测定这种粘合。按此方式测量的粘合或以J/m2表示的界面能全面地表征了种子层与阻挡层的粘合以及厚铜层与种子层的粘合。尽管没有给出关于一个或另一个界面的精确信息，但是这样的确允许量化所需的操作性质，即铜/阻挡层界面的强度。因此，在本说明书中，“种子层的粘合”、“厚铜层与种子层的粘合”和“填充之后铜/阻挡层界面的强度”将可互换地使用。
令人惊讶的是，还已经观察到，在从电镀组合物中取出之后，在偏电压下保持涂布的表面优选1～10秒、优选1～5秒的同时可以得到导电率与常规电镀填充方法相容的种子层。
因此，本发明的电镀组合物优选用于电镀方法中，所述电镀方法包括：
-被称作“冷进入”的步骤，在此步骤中，所述待涂布的表面与电镀浴接触，同时所述表面未被施加偏电压，并优选保持此状态至少5秒，优选10～60秒，更优选约10～30秒；
-形成涂层的步骤，在此步骤中，所述表面被施加持续时间足以形成所述涂层的偏电压；以及
-被称作“热退出”的步骤，在此步骤中，在偏电压下使所述表面与所述电镀浴分离。
在这种方法中，“冷进入”步骤和“热退出”步骤的组合可以更容易和可再现地获得更好的“种子层/铜填充”组件的粘合。
在这种方法中，通过电镀形成涂层的步骤进行足以形成所需涂层的持续时间。本领域技术人员可以容易地测定该持续时间，薄膜的生长是电荷的函数，而电荷等于在电路中流过的电流在沉积时间内的时间积分(法拉第定律)。
在形成涂层的步骤中，待涂布的表面以恒电流模式(固定的电流)或以恒电压模式(固定的电压，任选地相对于参比电极)或以脉冲模式(电流或电压是脉冲的)被施加偏电压。
也可以组合这些模式，例如以恒电压模式进行步骤，然后以恒电流模式进行步骤。
通常，通过以恒电流模式施加偏电压可以获得令人满意的涂层，优选电流为0.1mA/cm2(毫安/平方厘米)～5mA/cm2，更特别是0.1mA/cm2～1mA/cm2。
通过以恒电压模式施加偏电压也可以获得令人满意的涂层，即通过施加电池电压使得到的电池电流处于之前所示的相同电流范围内(0.1mA/cm2～5mA/cm2、更特别是0.1mA/cm2～1mA/cm2)。尽管电池电压特别是取决于电池设计参数，如距反电极的距离或膜的存在，但是本领域技术人员通过测量和调节对于给定的电压和给定的结构所得到的电流可以容易地测定电池电压。
通过以脉冲模式施加偏电压也可以获得令人满意的涂层，优选施加电压脉冲。
通常，可以通过施加相应于最大电流/单位面积为0.1mA/cm2～5mA/cm2、更特别是0.1mA/cm2～1mA/cm2和最小电流/单位面积为0mA/cm2～0.5mA/cm2、更特别是0mA/cm2～0.1mA/cm2的电压脉冲进行该步骤。
更具体而言，最大电压下的施加偏电压时间可以为0.15～5秒，例如对于相应于最大电流/单位面积约0.5mA/cm2的电压约2秒，而最小电压下的施加偏电压时间可以为0.15～7秒，例如对于相应于最小电流/单位面积约0.05mA/cm2的电压约3秒。
在该步骤中将要进行的循环次数取决于所需的涂层厚度。
通常，本领域技术人员可以容易地测定将要进行的循环次数，已知的是，在上述一般条件下，如以下实施例所示，已经观察到，沉积速率约0.1nm/循环。
实施本发明的后一种方法特别用于在高电阻性基底上形成铜种子层，所述基底的面电阻可以达到100000欧姆/平方，或甚至几兆欧姆/平方。
有利的是，以恒电压模式进行上述“热退出”步骤，即保持涂布的基底(晶片)的电压在固定值，相对于电路的反电极或相对于参比电极测量该电压，优选在与涂层沉积步骤(当也以恒电压模式进行该步骤时)相同的电压水平下。
本发明的第二目的是上述电镀组合物在制造集成电路的互连中用于涂布铜扩散阻挡层的用途。
在这一方面中，本发明还包括一种涂布基底表面的方法，例如特别是防止铜扩散的阻挡层，所述方法包括使所述表面与上述电镀组合物接触以及所述表面被施加持续时间足以形成所述涂层的偏电压的步骤。
根据一个特定实施方案，防止铜扩散的阻挡层包括选自氮化钽、钽、钌、钴、钨、氮化钛的至少一种材料，具体的阻挡层表面的例子是由氮化钽/钽双层或钌层构成的那些。
这种涂布方法尤其可用于在上述防止铜扩散的阻挡层上制造具有30nm或更小量级、例如10nm或更小量级的极低厚度的铜种子层。
下面通过非限制性实施例阐明本发明，其中本发明的组合物用于在使用铜扩散阻挡层涂布的硅基底上沉积铜种子层。这些实施例尤其适用于制造集成电路的铜互连结构。
实施例1：使用本发明基于2，2’-联吡啶和吡啶混合物的组合物在 TaN/Ta阻挡层上沉积铜种子层
A.装置和设备
基底：
该实施例中使用的基底由用厚度400nm的氧化硅层覆盖的200mm直径的硅晶片构成，氧化硅层本身用通过反应溅射沉积的厚度15nm的氮化钽(TaN)层和通过溅射沉积的厚度10nm的钽(Ta)层涂布。
在制造集成电路的铜互连中，该TaN/Ta“双层”构成用于“双镶嵌”结构中的铜扩散阻挡层。
电镀溶液：
该实施例中使用的电镀溶液是水溶液，含有：0.3g/l(或1.7mM)2，2’-联吡啶；0.6g/l(或2.4mM)CuSO4·5H2O；和0.3ml/l(或3.3mM)吡啶。溶液的pH为5.8～6.2。
设备：
在该实施例中，使用微电子工业中用的代表性电镀沉积设备，型号EquinoxTM from Semitool
Figure 2006800336529_0
，能够处理200mm晶片。
该设备包括在其中沉积种子层的电镀沉积槽和沉积之后使用的漂洗/干燥台。
该电镀沉积槽包括阳极，阳极可由惰性金属(例如铂涂布的钛)形成或由与构成种子层相同的金属形成，在铜的情况下，用TaN/Ta阻挡层涂布的硅晶片构成该电镀沉积槽的阴极。
该电镀沉积槽还包括用于输送达到30V和4A电力的稳定电源和用于电接触阴极并通过密封条与溶液物理分离的装置。该电接触装置通常呈环形，并允许基底在所述基底周围均匀设置的各接触点处被施加偏电压。
该电镀沉积槽还包括用于支撑待涂布的晶片的装置，其包括用于使所述晶片以预定速度旋转的部件。
B.实验方案
该实施例中使用的电镀方法包括以下各连续步骤。
步骤1：“冷进入”
该步骤被分成两个子步骤：
1.1.将上述基底导入电镀沉积槽中，使得具有TaN/Ta阻挡层的那面与电接触装置接触，电接触装置尚未被供电。
1.2.使由电接触装置和基底形成的组件(下面将称作“阴极组件”)例如通过浸渍与电镀溶液接触。进行该接触步骤，通常持续5秒或更短(例如2秒)，同时该装置仍未被供电。然后，将该阴极组件优选在未被施加 偏电压下在电镀溶液中保持至少5秒(例如约30秒)。
步骤2：形成铜涂层
然后，阴极组件通过施加相应于电流/单位面积通常0.4mA/cm2～0.8mA/cm2(例如0.6mA/cm2)的电池电压以恒电压模式被施加偏电压，同时以20～60转/分钟(例如40转/分钟)的速度旋转。
可以理解，该步骤的持续时间取决于种子层的目标厚度。本领域技术人员可以容易地测定持续时间，薄膜的生长取决于电路中流过的电荷。
在上述条件下，沉积速率为约1nm/库仑电路中流过的电荷。
在该实施例中，为获得厚度10nm的涂层，电镀步骤的持续时间为约50秒，为获得厚度40nm的涂层，持续时间为约200秒。
步骤3：“热退出”
该步骤可以分成两个子步骤：
3.1.在电镀步骤之后，以零转速从电镀溶液中取出铜涂布的阴极组件，同时保持在偏电压下。该阶段的持续时间为约2秒。
然后将转速升至500转/分钟，保持10秒，在最后阶段中切断阴极组件的偏电压。
在电镀沉积槽中使用去离子水进行预漂洗。
3.2.然后将用种子层涂布的基底转移至漂洗/干燥模块中，用去离子水进行漂洗。
然后除去漂洗水，然后在氮气流下进行干燥操作。
然后停止旋转，从而允许取出干燥的涂布基底。
在该实施例中，退出步骤，特别是从电镀溶液中取出阴极组件，在与形成涂层步骤中相同水平的偏电压下进行。
C.所得结果
通过使用上述实验方案，得到厚度为10nm、20nm和40nm并表现出优异的共形性、粘合和电阻特性的铜层。
通过观察扫描电子显微镜截面并将水平面上的种子层厚度与垂直面上的作比较，分析共形性。
使用本领域技术人员公知的“4-点”测量仪测量面电阻。
在种子层上电化学沉积500nm厚铜层(电镀层)之后测量粘合能或界面能。使用一种装置(拉伸测试系统)进行这种测量，经强的粘合带在表面上施加渐增的垂直拉力，直到铜层(种子层和电镀层)与基底分离。该力所作的功(力乘以已经剥离的层的长度)等于为使铜层与其基底分离所必须供给的能量。通过用该能量除以剥离的面积，求得每单位面积的能量。
测量的一些结果列于下表1。
实施例2：使用本发明基于2，2’-联吡啶的组合物在TaN/Ta阻挡层上 沉积铜种子层
A.装置和设备
基底：
该实施例中使用的基底由用厚度400nm的氧化硅层涂布的长度6cm和宽度2cm的硅切片构成，氧化硅层本身用通过反应溅射沉积的厚度15nm的氮化钽(TaN)层和通过溅射沉积的厚度10nm的钽(Ta)层涂布。
在制造集成电路的铜互连中，该TaN/Ta“双层”构成用于“双镶嵌”结构中的铜扩散阻挡层。
电镀溶液：
该实施例中使用的电镀溶液是含有CuSO4·5H2O和2，2’-联吡啶的水溶液。
在该溶液中，铜/络合剂(2，2’-联吡啶)摩尔比为0.1～2.5(例如1.4)，CuSO4(H2O)5浓度例如为0.2g/l(或0.8mM)。溶液的pH为4.5～5。
设备：
该实施例中使用由两部分构成的玻璃电镀槽：用于容纳电镀溶液的槽和用于将各电极保持在操作位置的“盖子”。
该电镀槽具有三个电极：
-惰性金属(铂)阳极；
-用TaN/Ta层涂布的硅切片构成的阴极，和
-Ag/AgClO4参比电极。
连接器用于电接触各电极，并通过电线与供应10V和2A电力的稳压器连接。
B.实验方案
该实施例中使用的电镀方法包括以下各连续步骤。
步骤1：“热进入”
将电镀溶液倒入电镀槽中。
将各电极置于电镀槽的盖子上。
各电极在偏电压下与电镀溶液接触。
步骤2：形成铜涂层
阴极以恒电流模式被施加偏电压，电流为1mA(或0.125mA/cm2)至4mA(或0.5mA/cm2)(例如2mA(或0.25mA/cm2))，或以恒电压模式被施加偏电压，电压为2V～5V(例如2V)，或以循环伏安模式被施加偏电压，电压上升范围为电压从2V到5V(例如2V)，扫描速度为20～500mV/s(例如50mV/s)，循环次数为2～10(例如2)。
使用氩气进行脱气-这样允许在电镀槽内建立一些液压状态。
该步骤的持续时间取决于所用的电化学沉积模式(恒电流或循环伏安模式)。通常，持续时间为2～15分钟。对于相同的沉积模式，持续时间取决于种子层的目标厚度，本领域技术人员可以容易地测定持续时间，薄膜的生长是电路中流过的电荷的函数。
在上述条件下，沉积速率为约31nm/库仑电路中流过的电荷。
在该实施例中，为获得厚度约30nm的涂层，循环伏安模式的电镀步骤的持续时间为约480秒。
步骤3：“冷退出”
停止施加偏电压，电极仍与溶液接触。
然后切断阴极，用18MΩ去离子水彻底漂洗，然后使用氩气枪以约2bar的气体压力进行干燥。
C.所得结果
通过使用上述循环伏安模式的实验方案，得到厚度为20nm、30nm和40nm的连续的、共形的铜层(在扫描电子显微镜下观察)。
通过实施例1所述的方法进行测量，厚度30nm的铜种子层其面电阻为4欧姆/平方。
实施例3：使用本发明基于2，2’-联吡啶和吡啶混合物的组合物在 TaN/Ta阻 挡层上沉积铜种子层
A.装置和设备
基底：
该实施例中使用的基底与实施例2的相同。
溶液：
该实施例中使用的溶液是含有2，2’-联吡啶、吡啶和CuSO4(H2O)5的水溶液。铜/络合剂(2，2’-联吡啶和吡啶)摩尔比为0.1～2.5(例如0.5)，CuSO4(H2O)5浓度例如为0.2g/l(或0.8mM)，两种络合剂的质量浓度为相同数量级。溶液的pH为5.8～6.2。
设备：
该实施例中使用的设备与实施例2的相同。
B.实验方案
该实施例中使用的方案与实施例2的相同。
C.所得结果
通过使用循环伏安模式的实验方案，得到厚度为10nm、20nm和40nm的连续的、共形的铜层(在扫描电子显微镜下观察)。
通过实施例1所述的方法进行测量，厚度20nm和10nm的铜种子层其面电阻分别为8欧姆/平方和18欧姆/平方。
实施例4：使用本发明基于吡啶衍生物的组合物在TaN/Ta阻挡层上 沉积铜种子层
A.装置和设备
基底：
该实施例中使用的基底与实施例2的相同。
溶液：
该实施例中使用的溶液是含有3，5-二甲基吡啶和CuSO4(H2O)5的水溶液。铜/络合剂(3，5-二甲基吡啶)摩尔比为0.1～2.5(实施例1)，CuSO4(H2O)5浓度例如为0.2g/l(或0.8mM)。溶液的pH为4.5～5。
设备：
该实施例中使用的设备与实施例2的相同。
B.实验方案
该实施例中使用的方案与实施例2的相同。
C.所得结果
通过使用恒电流模式的实验方案，得到厚度为25nm和35nm的连续的、共形的铜层(在扫描电子显微镜下观察)。
通过实施例1所述的方法进行测量，厚度25nm和35nm的铜种子层其面电阻分别为5欧姆/平方和4欧姆/平方。
实施例5：使用本发明基于脂肪族多胺的组合物在TaN/Ta阻挡层上 沉积铜种子层
A.装置和设备
基底：
该实施例中使用的基底与实施例2的相同。
溶液：
该实施例中使用的溶液是含有浓度为0.36g/l(或1.9mM)的四乙基五胺和浓度为0.6g/l(或2.4mM)的CuSO4(H2O)5的水溶液。铜/络合剂(四乙基五胺)摩尔比为1.26，但可以为0.1～2.5，CuSO4(H2O)5浓度例如为0.6g/l。溶液的pH为5.1。
设备：
该实施例中使用的设备与实施例2的相同。
B.实验方案
该实施例中使用的电镀方法包括以下各连续步骤。
步骤1：“冷进入”
将电镀溶液倒入电镀槽中。
将各电极置于电镀槽的盖子上。
使电极与电镀溶液接触。在此阶段，形成的组件尚未被施加偏电压(处于开路电压)。
将组件保持在该状态下(即在没有偏电压下)10～60秒(例如30秒)。
步骤2：形成铜涂层
阴极以恒电流模式被施加偏电压，电流为2mA(或0.25mA/cm2)至8mA(或1mA/cm2)(例如6mA(或0.75mA/cm2))。
使用氩气进行脱气-这样允许在电镀槽内建立一些液压状态。
该步骤的持续时间取决于种子层的目标厚度，本领域技术人员可以容易地测定持续时间，薄膜的生长是电路中流过的电荷的函数。
在上述条件下，沉积速率为约33nm/库仑电路中流过的电荷。
在该实施例中，为获得厚度约40nm的涂层，电镀步骤的持续时间为约200秒。
步骤3：“热退出”
然后从溶液中取出阴极，仍施加偏电压。
然后切断阴极，用18MΩ去离子水彻底漂洗，然后使用氩气枪以约2bar的气体压力进行干燥。
C.所得结果
通过使用上述实验方案，得到厚度为30nm和40nm的连续的、共形的铜层(在扫描电子显微镜下观察)。
通过实施例1所述的方法进行测量，厚度40nm的铜种子层其面电阻为8欧姆/平方。
实施例6：使用本发明基于2，2’-联吡啶和吡啶混合物的组合物在Ru 阻挡层上沉积铜种子层
基底：
该实施例中使用的基底由用厚度400nm的氧化硅层涂布的长度6cm和宽度2cm的硅切片构成，氧化硅层本身用通过溅射沉积的厚度30nm的钌(Ru)层涂布。该基底的面电阻为7.5欧姆/平方。
在制造高级集成电路的铜互连中，该Ru层构成用于“双镶嵌”结构中的铜扩散阻挡层。
溶液：
该实施例中使用的溶液与实施例1的相同。
设备：
该实施例中使用的设备与实施例2的相同。
B.实验方案
该实施例中使用的电镀方法与实施例5的相同。
C.所得结果
通过使用上述实验方案，得到厚度为40nm的连续的、共形的铜层(在扫描电子显微镜下观察).
通过实施例1所述的方法进行测量，该铜种子层其面电阻为2.5欧姆/平方。
实施例7：使用本发明基于2，2’-联吡啶和吡啶混合物的组合物在 TaN/Ta阻挡层上沉积铜种子层
A.装置和设备
基底：
该实施例中使用的基底与实施例1使用的相同。
电镀溶液：
该实施例中使用的电镀溶液是在无尘室环境(类别10,000或ISO 7)中制备的水溶液(去离子水18.2MΩ.cm)，含有：0.4g/l(或2.56mM)Oxkem供应的2，2’-联吡啶(纯度99.7％)；0.8g/l(或3.2mM)Alfa Aesar供应的CuSO4.5H2O(纯度99.995％)；和0.367ml/l(或4mM)Aldrich供应的吡啶(纯度99.9％)。
制备后，通过0.2μm过滤器过滤该溶液。
溶液的pH为5.94。
设备：
该实施例中使用的设备与实施例1使用的相同。
B.实验方案
该实施例中使用的电镀方法与实施例1使用的相同。
C.所得结果
通过使用上述实验方案，得到厚度为10nm和20nm并表现出优异的共形性(参见图1A和图1B)、粘合和电阻特性的铜层。
该层的优异的共形性特性示于图1A和图1B中，图1A和图1B表述了后向散射电子模式的截面图，用于增强化学对比。
沟槽上的共形性也可以使用散射测量法大规模地表征(0.01mm2)。这些测量表明沟槽顶部、底部和侧壁的铜层厚度为7nm，它们与通过SEM截面观察到的实际厚度有良好的一致性。
除了散射测量法之外，所有的表征方法均与实施例1中使用的相同。
下表1列出了上面实施例1～7所得的结果。对于处理之前几百欧姆/平方、或几万欧姆/平方或甚至达到几兆欧姆/平方的面电阻也观察到相似的趋势。
                            表1
  根据以下实施例得到的铜种子层：   厚度(nm)   面电阻(欧姆/平方)   粘合(J/m2)
  处理之前   处理之后
  实施例1   20   23   8   11～13
  实施例1   10   23   18   11～13
 实施例2   30   23   4   3～5
 实施例3   20   23   8   5～7
 实施例3   10   23   18   5～7
 实施例4   25   23   4   1～3
 实施例4   35   23   5   1～3
 实施例5   40   23   8   ＜1
 实施例6   40   7.5   2.5   ＞20
 实施例7   20   22   5.3   ＞20
 实施例7   10   21   15   ＞20

Claims (11)

1.一种在制造集成电路的互连中用于涂布铜扩散阻挡层的电镀组合物，其特征在于，所述电镀组合物在溶剂的溶液中包括：
-铜离子源，其浓度为0.4～40mM；
-至少一种铜络合剂，其选自吡啶、2，2’-联吡啶、8-羟基喹啉磺酸酯、1，10-菲咯啉、3，5-二甲基吡啶和2，2’-联嘧啶；
-铜/络合剂摩尔比为0.1～2.5；以及
-所述组合物的pH小于7。
2.如权利要求1所述的电镀组合物，其特征在于，铜/络合剂摩尔比为0.3～1.3。
3.如权利要求1所述的电镀组合物，其特征在于，所述组合物的pH为3.5～6.5。
4.如权利要求1～3任一项所述的电镀组合物，其特征在于，所述溶剂选自水和水醇混合物。
5.如权利要求1～3任一项所述的电镀组合物，其特征在于，所述铜离子源是铜盐。
6.如权利要求1～3任一项所述的电镀组合物，其特征在于，所述铜离子源选自硫酸铜、氯化铜、硝酸铜和醋酸铜。
7.如权利要求1～3任一项所述的电镀组合物，其特征在于，其包括作为铜络合剂的吡啶和2，2’-联吡啶的混合物。
8.如权利要求1所述的电镀组合物，其特征在于，其在水溶液中包括：
-硫酸铜，其浓度为0.4～40mM；
-作为铜络合剂的吡啶和2，2’-联吡啶的混合物；
-铜/络合剂摩尔比为0.1～2.5；以及
-所述组合物的pH小于7。
9.如权利要求8所述的电镀组合物，其特征在于，铜/络合剂摩尔比为0.3～1.3。
10.如权利要求8或9所述的电镀组合物，其特征在于，所述组合物的pH为3.5～6.5。
11.如权利要求1～3任一项所述的电镀组合物在制造集成电路的互连中用于涂布铜扩散阻挡层的用途。
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