CN101223106B - 氧化铝分散体 - Google Patents

氧化铝分散体 Download PDF

Info

Publication number
CN101223106B
CN101223106B CN2006800254533A CN200680025453A CN101223106B CN 101223106 B CN101223106 B CN 101223106B CN 2006800254533 A CN2006800254533 A CN 2006800254533A CN 200680025453 A CN200680025453 A CN 200680025453A CN 101223106 B CN101223106 B CN 101223106B
Authority
CN
China
Prior art keywords
dispersion
aluminium oxid
oxid
aluminium
alkali metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2006800254533A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101223106A (zh
Inventor
W·洛茨
C·巴茨-索恩
G·佩莱
H·拉克
W·威尔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Evonik Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Evonik Degussa GmbH filed Critical Evonik Degussa GmbH
Publication of CN101223106A publication Critical patent/CN101223106A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101223106B publication Critical patent/CN101223106B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00—Compounds of aluminium
    • C01F7/02—Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01F—COMPOUNDS OF THE METALS BERYLLIUM, MAGNESIUM, ALUMINIUM, CALCIUM, STRONTIUM, BARIUM, RADIUM, THORIUM, OR OF THE RARE-EARTH METALS
    • C01F7/00—Compounds of aluminium
    • C01F7/02—Aluminium oxide; Aluminium hydroxide; Aluminates
    • C01F7/021—After-treatment of oxides or hydroxides
    • C01F7/026—Making or stabilising dispersions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Colloid Chemistry (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

一种氧化铝分散体，其在pH值5至9的范围内具有稳定性并且氧化铝含量为至少40重量％，所述氧化铝分散体可通过以下方式获得：将热解法制得的氧化铝颗粒分散在水相中，其中将一种或多种溶于所述分散体的至少为二元的羟基羧酸、以及磷酸氢二碱金属盐和/或磷酸二氢碱金属盐中的至少一种盐以各自彼此独立地为0.3-3×10-6mol/m2氧化铝比表面积的量加入所述水相。

Description

氧化铝分散体
技术领域
本发明涉及一种高填充系数(fill factor)的稳定的氧化铝水性分散体，及其制造方法和用途。
背景技术
从EP-A-1258458可知，以热解法制备的BET表面积为100+/-15m2/g的氧化铝的水性分散体是已知的。该分散体的pH值可通过加酸或加碱而在2至8的间变化，而氧化铝的含量可为约30+/-20重量％。根据WO03/035552可知，以热解法制备的BET表面积大于115m2/g、而Sear数目(Sear number)大于8ml/2g的氧化铝的水性分散体也是已知的。
前述分散体的缺点在于其对抗沉积与再附聚(reagglomeration)的稳定性低。这些分散体在低于30重量％的氧化铝含量下具有最大稳定性，但其中必须有＜5的明显酸性pH值。
在某些用途领域中，例如制造漆(lacquer)的领域，该pH范围一般并非所需要的范围，原因在于配方通常被标准化在中性点附近的pH范围内。然而Al2O3分散体在该中性点附近的pH范围内不再稳定，因为ζ电位(zeta potential)低(等电点在约pH 10)。
此外，分散在水性涂料/漆配方中的其它颗粒常带有负的表面电荷，这种带负电荷的颗粒会立即与仍带正电荷的氧化铝颗粒凝聚，使得分散体无法使用。
不过，在涂料/漆领域的应用上，氧化铝与二氧化硅相比较具有一些令人感兴趣的性质，例如高硬度与高折射率。
在耐刮擦漆领域中特别想要的是分散体的填充系数高，工作性好(即粘度低)。
在抛光领域中，尤其是化学-机械抛光，氧化铝用作研磨材料。在此特别重要的是这些颗粒不会在待抛光的表面上留下刮擦痕，该擦痕可由例如分散体中的一些粗颗粒造成。
因此，存在提供一种在弱酸性至弱碱性pH范围内具有高度稳定性、高固体含量、低粘度形态下有良好工作性、且不含粗颗粒的分散体这一问题；另外，也存在提供一种用于制造该分散体的方法这一问题。
发明内容
本发明的目的是一种氧化铝分散体，其在pH值为5至9的范围内具有稳定性并且氧化铝含量为至少40重量％，该氧化铝分散体可通过将一种或多种比表面积为5至200m2/g的氧化铝粉末分散在水相中而获得，其中将一种或多种溶于分散体的至少为二元的羟基羧酸、以及磷酸氢二碱金属盐和/或磷酸二氢碱金属盐中的至少一种盐，各自彼此独立地以0.3-3x10-6mol/m2氧化铝比表面积的量加入水相中。
本发明中的稳定意指对于沉积与再附聚的稳定性有一个月的期间，一般为至少6个月。
优选地，本发明的氧化铝分散体可含有热解来源的氧化铝粉末。此处的热解意指该氧化铝粉末是使适当的起始物质在火焰中转化而得。热解方法包括火焰氧化与火焰水解。就大规模工业制造氧化铝而言，主要是使用氯化铝在氢/氧火焰中火焰水解的方法。一般而言，以这种方式制备的氧化铝粉末是呈聚集的初级颗粒形式，其中初级颗粒无孔隙并且其表面上带有羟基。在氯化铝转化为氧化铝时，氢氯酸以副产物的形式产生而附着在氧化铝颗粒上。大部分的氢氯酸通常是以蒸汽处理的方式从颗粒上去除。氧化铝粉末的4％水分散体其pH值一般为3至5。合适的氧化铝粉末可为AEROXIDE
Figure GSB00000270913300031
 Alu C、AEROXIDE
Figure GSB00000270913300032
 Alu 65、AEROXIDE
Figure GSB00000270913300033
 Alu 130，其均为DegussaAG制造；SpectrAlTM 100 Fumed Alumina、SpectrAlTM 51 Fumed Alumina、SpectrAlTM 81 Fumed Alumina，其均为Cabot Corp.制造。
此外，如果本发明的分散体中氧化铝颗粒的平均聚集体直径(mean aggregate diameter)小于100nm是有利的。
而且，如果本发明的分散体不含直径大于1μm的颗粒也是有利的。
优选地，氧化铝含量可为40至60重量％。在高固体含量下，该范围内的本发明分散体显现低粘度，同时具有高度稳定性。
此外，本发明分散体的pH值以6至8为优选的。在该范围内，该分散体显现出低粘度，同时具有高度稳定性。
本发明分散体的ζ电位以低于-15mV为优选的，以在-25至-40mV的范围内特别优选的。ζ电位是颗粒表面电荷的指标，表面电荷可被沉积在表面上的物质所改变。ζ电位意指分散体中电化学双层氧化铝颗粒/电解质内部剪切面(shear plane)的电位。与ζ电位有关的一项重要数值是等电点(IEP)，IEP指出ζ电位为零时的pH值。就氧化铝而言，IEP是在pH值约9至10。分散体的pH值与IEP的间的差异越大，则分散体越稳定。ζ电位可通过例如测量分散体的胶体振动电流(CVI)或测量电泳移动率(electrophoretic mobility)的方式来测定。
这种加入水相的溶解于分散体的至少为二元的羟基羧酸以柠檬酸或酒石酸为优选的。
本发明的另一个目的是提供一种用于制造本发明分散体的方法，其中
将一种或多种溶于分散体的至少为二元的羟基羧酸、和磷酸氢二碱金属盐和/或磷酸二氢碱金属盐中的至少一种盐以0.3-3x10-6mol/m2比表面积的量先置于水中；
将相当于分散体中所需量的氧化铝颗粒分批或连续地全部加入；
以大于1000KJ/m3的输入能量加以分散。
合适的分散单元可为：行星式(planet)捏合机、转子-定子机器、搅拌用球磨机或滚筒磨机(cylinder mill)。
现已发现，有一种特别适合的方法：先以低于1000kJ/m3的输入能量进行分散而形成预分散体，将该预分散体分成至少两个部分流，将这些部分流置于压力至少为500巴的高能量磨机内，借助喷嘴释放，并使其在填充气体或液体的反应室中彼此相互撞击，高能量研磨选择性地重复进行一次或数次。
本发明的另一目的是所述分散体用于涂覆玻璃、陶瓷和金属表面，以及用于制造漆的用途。
附图说明
图1显示实施例1的分散体的粘度(mPas)与剪切速率(sec-1)的函数关系。
图2显示实施例1的分散体中氧化铝颗粒的出现与其尺寸(nm)的函数关系。
图3显示实施例2的分散体的ζ电位(mV)与在3.5至7.5范围的pH值的函数关系。
图4显示实施例2的分散体的ζ电位(mV)与在7至10.5的范围的pH值的函数关系。
具体实施方式
实施例
分析步骤：
粘度使用具有CC27测量系统的MCR300仪器(Parr-Physica Co.)测定；使用该仪器，在剪切速率为0.01至1000sec-1和23℃的条件下进行测量。在10sec-1和100sec-1下的粘度值指出。
ζ电位与等电点是用Dispersion Technology Inc.的DT-1200型仪器以CVI步骤来测定，至于滴定则是使用KOH/HNO3进行。
分散体中氧化铝颗粒的平均颗粒尺寸d50是以激光衍射法测定，使用的仪器为Horiba LA-910(日本Horiba，Ltd.)。以来自峰分析的体积加权中间值(volume-weighted median value from the peak analysis)指出。
比表面积是根据DIN 66131来测定。
实施例
实施例1(根据本发明)：
将34.7kg去离子水置于60l不锈钢批式槽中；接着，使用Ystral Conti-TDS 3(定子狭缝：4mm环状与1mm环状，转子/定子间隙约1mm)的吸取管在剪切条件下，将7.0kg AEROXIDE
Figure GSB00000270913300051
 Alu 65(BET65m2/g)(来自Degussa Co.)吸入。再添加13.3kg由1.80kg无水柠檬酸、1.49kg磷酸氢二钠二水合物、以及10kg水所形成的溶液，并再将65.0kg的AEROXIDE
Figure GSB00000270913300052
 Alu 65吸入。在吸取完成后，将吸取连接器闭合，在3000RPM下继续剪切10分钟。研磨后，添加108g的Acticide
Figure GSB00000270913300053
 MV(来自THOR Co.)作为防腐剂。将该预分散体通过在压力2500巴下的高能量磨机Sugino Ultimaizer HJP-25050的两个通道和直径0.3mm的钻石喷嘴，由此进一步地剧烈研磨。
研磨后即刻测得的pH值为6.0，在约48小时后，达到稳定的pH值7.7，分散体的固体含量为60重量％。平均颗粒尺寸d50为84nm；分散体在pH 7.7时的ζ电位为-28mV。该分散体即使在6个月后也没有胶凝的迹象。
实施例2(根据本发明)：
将41.1kg去离子水置于60l不锈钢批式容器中；接着，使用Ystral Conti-TDS 3(定子狭缝：4mm冠状与1mm冠状，转子/定子间隙约1mm)的吸取管在剪切条件下，将5.8kg AEROXIDE
Figure GSB00000270913300061
 Alu C(BET100m2/g)(来自Degussa Co.)吸入。再添加9.80kg由1.70kg无水柠檬酸、1.42kg磷酸氢二钠二水合物、以及6.70kg水所形成的溶液，并进一步将28.2kg的AEROXIDE
Figure GSB00000270913300062
 Alu C吸入。在吸取完成后，将吸取连接器闭合，在3000RPM下继续剪切10分钟。研磨后，添加77g的Acticide
Figure GSB00000270913300063
 MV(来自THOR Co.)作为防腐剂。将该预分散体通过压力为2500巴高能量磨机Sugino Ultimaizer HJP-25050的两个通道和0.3mm的钻石喷嘴，因而作剧烈的进一步研磨。
研磨后即刻测得的pH值为5.8，在约48小时后，达到稳定的pH值7.5，分散体的固体含量为40重量％。分散体中的平均颗粒尺寸为86nm；剪切速率10sec-1下的粘度为约26mPas，剪切速率100sec-1下的粘度为约24mPas。该分散体即使在6个月后也没有胶凝的迹象。
实施例3(比较例)
将61.0kg去离子水置于60l不锈钢批式槽中；接着，使用Ystral Conti-TDS 3(定子狭缝：4mm冠状与1mm冠状，转子/定子间隙约1mm)的吸取管在剪切条件下，将26.6kg AEROXIDE Alu C吸入。再添加0.89kg的50％乙酸水溶液。在吸取完成后，将吸取连接器闭合，在3000RPM下继续剪切10分钟。研磨后，添加79g的Acticide
Figure GSB00000270913300065
 MV(THOR Co.)作为防腐剂。将该预分散体通过压力为2500巴高能量磨机Sugino Ultimaizer HJP-25050的两个通道和直径0.3mm的钻石喷嘴，因而作剧烈的进一步的研磨。
研磨后即刻测得的pH值为4.1，用133g的50％的乙酸水溶液将其调整为4.0。分散体的固体含量为30重量％。ζ电位显示在所述pH范围内系为正值。平均颗粒尺寸d50为86nm；剪切速率10sec-1下的粘度为约7mPas，剪切速率100sec-1下的粘度为约7mPas。该分散体即使在6个月后也没有胶凝的迹象。
实施例4(比较例)：
将52.0kg去离子水和1.19kg的柠檬酸一水合物置于60l不锈钢批式槽中，以25％苛性钠溶液(2.04kg)将pH值调整为5.6。接着，使用Ystral Conti-TDS 3(定子狭缝：4mm冠状与1mm冠状，转子/定子间隙约1mm)的吸取管在剪切条件下，将25.5kg AEROXIDE
Figure GSB00000270913300071
Alu C(Degussa Co.)吸入。吸取完成后，将吸取连接器闭合，在3000RPM下继续剪切10分钟。研磨后，添加85g的Acticide
Figure GSB00000270913300072
 MV(THOR Co.)作为防腐剂。将该预分散体通过压力为2500巴高能量磨机Sugino Ultimaizer HJP-25050的两个通道和直径0.3mm的钻石喷嘴，因而作剧烈进一步的研磨。
使用110g的25％苛性钠溶液将pH值调整到7.5，即使在48小时后，该pH值并无变化。分散体的Al2O3含量为31.5重量％，平均颗粒尺寸d50为89nm，剪切速率10sec-1下的粘度为约1245mPas，剪切速率100sec-1下的粘度为约243mPas。该分散体在数日后胶凝。

Claims (11)

1.一种氧化铝分散体，其在pH值5至9的范围内具有稳定性，并且氧化铝含量为至少40重量％，所述氧化铝分散体通过将一种或多种比表面积为5至200m2/g的氧化铝粉末分散在水相中而获得，其中将一种或多种在所述分散体中溶解的至少为二元的羟基羧酸、和选自磷酸氢二碱金属盐和/或磷酸二氢碱金属盐中的至少一种盐，各自彼此独立地以0.3-3x10-6mol/m2氧化铝比表面积的量加入到所述水相，所述稳定性是指对于沉积与再附聚的稳定性有至少6个月的期间。
2.如权利要求1的氧化铝分散体，其特征在于所述氧化铝粉末为热解来源的氧化铝粉末。
3.如权利要求1或2的氧化铝分散体，其特征在于所述氧化铝粉末的4％分散体的pH值为3至5。
4.如权利要求1或2的氧化铝分散体，其特征在于所述氧化铝颗粒的平均聚集体直径d50小于100nm。
5.如权利要求1或2的氧化铝分散体，其特征在于所述氧化铝分散体中没有直径大于1μm的颗粒。
6.如权利要求1或2的氧化铝分散体，其特征在于所述氧化铝的含量为40至60重量％。
7.如权利要求1或2的氧化铝分散体，其特征在于ζ电位小于-15mV。
8.如权利要求1或2的氧化铝分散体，其特征在于所述在分散体中溶解的至少为二元的羟基羧酸为柠檬酸或酒石酸。
9.一种制造如权利要求1-8任一项所述的氧化铝分散体的方法，其特征在于：
将一种或多种在所述分散体中溶解的至少为二元的羟基羧酸、和选自磷酸氢二碱金属盐和/或磷酸二氢碱金属盐中的至少一种盐以0.3-3x10-6mol/m2比表面积的量先置于水中；
将相当于所述分散体中所需量的所述氧化铝颗粒分批或连续地全部加入；
和以大于1000KJ/m3的输入能量加以分散。
10.如权利要求9的方法，其特征在于先以低于1000KJ/m3的输入能量进行分散而形成预分散体，将该预分散体分成至少两个部分流，将这些部分流置于压力至少为500巴的高能量磨机内，通过喷嘴释放，并使其在填充气体或液体的反应室中彼此相互撞击，所述高能量研磨选择性地重复进行一次或数次。
11.如权利要求1-8任一项所述的氧化铝分散体用于涂覆玻璃、陶瓷和金属表面，以及用于制造漆的用途。
CN2006800254533A 2005-07-12 2006-06-09 氧化铝分散体 Active CN101223106B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005032427A DE102005032427A1 (de) 2005-07-12 2005-07-12 Aluminiumoxid-Dispersion
DE102005032427.4 2005-07-12
PCT/EP2006/063047 WO2007006614A1 (en) 2005-07-12 2006-06-09 Aluminium oxide dispersion

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101223106A CN101223106A (zh) 2008-07-16
CN101223106B true CN101223106B (zh) 2011-09-21

Family

ID=36794933

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006800254533A Active CN101223106B (zh) 2005-07-12 2006-06-09 氧化铝分散体

Country Status (12)

Country Link
US (1) US8562733B2 (zh)
EP (1) EP1901996B1 (zh)
JP (1) JP4787879B2 (zh)
KR (1) KR100938968B1 (zh)
CN (1) CN101223106B (zh)
AT (1) ATE506323T1 (zh)
DE (2) DE102005032427A1 (zh)
ES (1) ES2363793T3 (zh)
RU (1) RU2386587C2 (zh)
TW (1) TWI341297B (zh)
UA (1) UA87614C2 (zh)
WO (1) WO2007006614A1 (zh)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004031785A1 (de) * 2004-07-01 2006-01-26 Degussa Ag Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion
DE102004037045A1 (de) 2004-07-29 2006-04-27 Degussa Ag Wässrige Silan-Nanokomposite
DE102004037044A1 (de) 2004-07-29 2006-03-23 Degussa Ag Mittel zur Ausstattung von auf Cellulose und/oder Stärke basierenden Substraten mit Wasser abweisenden und gleichzeitig pilz-, bakterien-, insekten- sowie algenwidrigen Eigenschaften
DE102004037118A1 (de) * 2004-07-30 2006-03-23 Degussa Ag Titandioxid enthaltende Dispersion
DE102004049427A1 (de) 2004-10-08 2006-04-13 Degussa Ag Polyetherfunktionelle Siloxane, polyethersiloxanhaltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
DE102005004872A1 (de) 2005-02-03 2006-08-10 Degussa Ag Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung
DE102005032427A1 (de) 2005-07-12 2007-01-18 Degussa Ag Aluminiumoxid-Dispersion
US7553465B2 (en) * 2005-08-12 2009-06-30 Degussa Ag Cerium oxide powder and cerium oxide dispersion
DE102006006656A1 (de) 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Silan enthaltendes Bindemittel für Verbundwerkstoffe
DE102006006655A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel
DE102005053071A1 (de) * 2005-11-04 2007-05-16 Degussa Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung
DE102005059960A1 (de) * 2005-12-15 2007-06-28 Degussa Gmbh Hochgefüllte Übergangs-Aluminiumoxid enthaltende Dispersion
DE102006003956A1 (de) * 2006-01-26 2007-08-02 Degussa Gmbh Korrossionsschutzschicht auf Metalloberflächen
DE102006013090A1 (de) * 2006-03-20 2007-09-27 Georg-August-Universität Göttingen Kompositwerkstoff aus Holz und thermoplastischem Kunststoff
DE102006017701A1 (de) * 2006-04-15 2007-10-25 Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
DE102006039269A1 (de) * 2006-08-22 2008-02-28 Evonik Degussa Gmbh Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium
US8155674B2 (en) * 2006-08-22 2012-04-10 Research In Motion Limited Apparatus, and associated method, for dynamically configuring a page message used to page an access terminal in a radio communication system
DE102006051661A1 (de) 2006-11-02 2008-05-08 Evonik Degussa Gmbh Zubereitung zur Herstellung feuerfester Materialien
ES2725499T3 (es) * 2007-04-20 2019-09-24 Evonik Degussa Gmbh Mezcla que contiene un compuesto de organosilicio y su uso
DE102007038314A1 (de) 2007-08-14 2009-04-16 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur kontrollierten Hydrolyse und Kondensation von Epoxy-funktionellen Organosilanen sowie deren Condensation mit weiteren organofunktionellen Alkoxysilanen
DE102007040246A1 (de) * 2007-08-25 2009-02-26 Evonik Degussa Gmbh Strahlenhärtbare Formulierungen
DE102008007261A1 (de) 2007-08-28 2009-03-05 Evonik Degussa Gmbh Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen
DE102007049743A1 (de) * 2007-10-16 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
DE102007054885A1 (de) * 2007-11-15 2009-05-20 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur Fraktionierung oxidischer Nanopartikel durch Querstrom-Membranfiltration
DE102009002499A1 (de) 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Dispersion enthaltend mit quartären, aminofunktionellen siliciumorganischen Verbindungen oberflächenmodifizierte Siliciumdioxidpartikel
DE102009002477A1 (de) 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Quartäre-aminofunktionelle, siliciumorganische Verbindungen enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung
PL2248614T3 (pl) * 2009-04-30 2012-06-29 Evonik Degussa Gmbh Dyspersja, masa lejna i sposób wytwarzania formy odlewniczej do odlewu precyzyjnego przy zastosowaniu masy lejnej
DE102009045698A1 (de) * 2009-10-14 2011-04-21 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zum Infiltrieren von porösen keramischen Bauteilen
CN102905887B8 (zh) * 2009-12-29 2016-06-22 格雷斯公司 复合无机颗粒以及制备和使用它们的方法
US20130200038A1 (en) * 2010-09-08 2013-08-08 Basf Se Aqueous polishing composition and process for chemically mechanically polishing substrates for electrical, mechanical and optical devices
JP6253178B2 (ja) * 2013-05-23 2017-12-27 多木化学株式会社 アルミナ分散液の製造方法
JP6394346B2 (ja) * 2014-12-10 2018-09-26 三菱ケミカル株式会社 アルミナスラリーの製造方法
US10562783B2 (en) 2015-10-20 2020-02-18 Fujimi Incorporated Processing of alumina
CN109890759B (zh) * 2016-08-29 2022-06-21 萨索尔（美国）公司 生产在大于8的ph下可分散的氧化铝的方法
CA3061987A1 (en) * 2017-06-15 2018-12-20 Sasol (Usa) Corporation Hydrophobic surface modified aluminas and method for making thereof
US10723927B1 (en) 2019-09-20 2020-07-28 Ht Materials Science (Ip) Limited Heat transfer mixture
US10723928B1 (en) 2019-09-20 2020-07-28 Ht Materials Science (Ip) Limited Heat transfer mixture

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1564784A (zh) * 2001-10-05 2005-01-12 德古萨股份公司 通过火焰水解法制备的用二价金属氧化物掺杂的氧化铝及其水分散体

Family Cites Families (92)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1330758A (en) * 1971-04-28 1973-09-19 British Titan Ltd Manufacture of pigments
US4378441A (en) * 1975-04-14 1983-03-29 Blount David H Process for the production of polyester silicate resinous products
GB1565202A (en) * 1975-07-25 1980-04-16 Hickson & Welch Ltd Aqueous dispersions of optical brighteners
GB1529771A (en) * 1976-02-17 1978-10-25 Ford Motor Co Method for preparing shaped green ceramic compacts from highly flowable and fillable powders containing beta and/or beta''al2o3
JPS59223223A (ja) * 1983-05-27 1984-12-15 Kao Corp アルミナゾルの製造法
JPS6158815A (ja) * 1984-08-31 1986-03-26 Kao Corp 高純度アルミナゾルの製造法
GB9611422D0 (en) * 1996-05-31 1996-08-07 Bp Exploration Operating Coated scale inhibitors
JP3470869B2 (ja) * 1998-05-15 2003-11-25 タイホー工業株式会社 インクジェット被記録材用処理剤及び被記録材
JP3573628B2 (ja) * 1998-10-06 2004-10-06 タイホー工業株式会社 アルミナ分散剤及びアルミナ分散液
US6476083B1 (en) * 1998-05-15 2002-11-05 Taiho Industries Co., Ltd. Alumina dispersant, alumina dispersion liquid, agent for treating inkjet-printing materials, and inkjet-printing materials
MXPA02006039A (es) 1999-12-21 2002-12-09 Grace W R & Co Compuestos de oxido de aluminio de gran area superficial, alto volumen de poros, derivados de trihidrato de alumina y metodos para su preparacion y uso.
JP2001187773A (ja) * 2000-01-06 2001-07-10 Mitsubishi Chemicals Corp アクリロニトリル組成物
DE50016060D1 (de) * 2000-09-26 2011-03-03 Evonik Degussa Gmbh Eisenoxid- und Siliciumdioxid-Titandioxid-Mischung
DE10049153A1 (de) * 2000-09-27 2002-04-11 Degussa Farbe, Lack, Schadstoffe, Bioorganismen, Öl, Wasser, und/oder Schmutz abweisende Beschichtung
DE10054345A1 (de) * 2000-11-02 2002-05-08 Degussa Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10065027A1 (de) * 2000-12-23 2002-07-04 Degussa Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
EP1234800A1 (de) * 2001-02-22 2002-08-28 Degussa Aktiengesellschaft Wässrige Dispersion, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung
DE10126163A1 (de) * 2001-05-30 2002-12-05 Degussa Pharmazeutische Zubereitungen
ATE280203T1 (de) * 2001-08-08 2004-11-15 Degussa Mit siliziumdioxid umhüllte metalloxidpartikel
DE10152745A1 (de) * 2001-10-25 2003-05-15 Degussa Dispersion von Aluminiumoxid
US20030108580A1 (en) * 2001-10-30 2003-06-12 Steffen Hasenzahl Use of granulates based on pyrogenically - produced silicon dioxide in cosmetic compositions
US7815936B2 (en) * 2001-10-30 2010-10-19 Evonik Degussa Gmbh Use of granular materials based on pyrogenically produced silicon dioxide in pharmaceutical compositions
DE10163938A1 (de) * 2001-12-22 2003-07-10 Degussa Flammenhydrolytisch hergestelltes Silicium-Titan-Mischoxidpulver mit an der Oberfläche angereichertem Siliciumdioxid, dessen Herstellung und Verwendung
DE10203047A1 (de) * 2002-01-26 2003-08-07 Degussa Kationische Mischoxid-Dispersion, Streichfarbe und tintenaufnehmendes Medium
DE10204471C1 (de) * 2002-02-05 2003-07-03 Degussa Wässerige Dispersion enthaltend mit Ceroxid umhülltes Siliciumdioxidpulver, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung
DE10204470C1 (de) * 2002-02-05 2003-08-14 Degussa Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dispersionen
DE10205280C1 (de) * 2002-02-07 2003-07-03 Degussa Dispersion zum chemisch-mechanischen Polieren
ATE273799T1 (de) * 2002-03-22 2004-09-15 Degussa Dispersion, streichfarbe und aufnahmemedium
DE10225123A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-18 Goldschmidt Ag Th Hochkonzentrierte wässrige Dispersion enthaltend hydrophile mikrofeine Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel
DE10225122A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-18 Goldschmidt Ag Th Hochkonzentrierte wässrige Dispersionen enthaltend hydrophobe mikrofeine Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel
DE10225125A1 (de) * 2002-06-06 2003-12-18 Goldschmidt Ag Th Wässerige Dispersion enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Dispergierhilfsmittel
DE10229761B4 (de) * 2002-07-03 2004-08-05 Degussa Ag Wässerige Dispersion, enthaltend pyrogen hergestellte Metalloxidpartikel und Phosphate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US6747107B2 (en) * 2002-08-16 2004-06-08 Nova Chemical Inc. Method of dispersion of a non-Newtonian fluid
US7374787B2 (en) * 2002-08-22 2008-05-20 Dequssa Ag Stabilized, aqueous silicon dioxide dispersion
US7057631B2 (en) * 2002-09-26 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming process and image forming apparatus, electrophotographic image-receiving sheet, and electrophotographic print
DE10250712A1 (de) * 2002-10-31 2004-05-19 Degussa Ag Pulverförmige Stoffe
DE10250711A1 (de) * 2002-10-31 2004-05-19 Degussa Ag Pharmazeutische und kosmetische Zubereitungen
DE10256267A1 (de) * 2002-12-03 2004-06-24 Degussa Ag Dispersion, Streichfarbe und Aufnahmemedium
US6893476B2 (en) * 2002-12-09 2005-05-17 Dupont Air Products Nanomaterials Llc Composition and associated methods for chemical mechanical planarization having high selectivity for metal removal
DE10259860A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-08 Degussa Ag Pulvergemisch bestehend aus Titandioxid, Zinkoxid und Zink-Titan-Mischoxid
DE10260718A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 Degussa Ag Mit Siliziumdioxid umhülltes Titandioxid
DE10316661A1 (de) * 2003-04-11 2004-11-04 Degussa Ag Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver
DE10317066A1 (de) * 2003-04-14 2004-11-11 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von Metalloxid- und Metalloidoxid-Dispersionen
CN1242001C (zh) 2003-05-30 2006-02-15 中国科学院金属研究所 纳米氧化铝浆组合物及其制备方法
DE10330020A1 (de) * 2003-07-03 2005-01-20 Degussa Ag Hochgefüllte Silan-Zubereitung
DE10337198A1 (de) * 2003-08-13 2005-03-17 Degussa Ag Träger auf Basis von Granulaten, die aus pyrogen hergestelltem Siliciumdioxiden hergestellt sind
JP2005132949A (ja) * 2003-10-30 2005-05-26 Ricoh Co Ltd 顔料分散液、顔料分散液の製造方法、及び顔料分散液を用いたインクジェット用インク
DE10360087A1 (de) * 2003-12-20 2005-07-21 Degussa Ag Flammenhydrolytisch hergestelltes, hochoberflächiges Aluminiumoxidpulver
US7411024B2 (en) * 2003-12-22 2008-08-12 Nova Chemicals Inc. Interpolymer resin particles
DE10360766A1 (de) * 2003-12-23 2005-07-28 Degussa Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Dispersionen
DE102004004147A1 (de) * 2004-01-28 2005-08-18 Degussa Ag Oberflächenmodifizierte, mit Siliziumdioxid umhüllte Metalloid/Metalloxide
DE102004021092A1 (de) * 2004-04-29 2005-11-24 Degussa Ag Verwendung einer kationischen Siliciumdioxid-Dispersion als Textilveredlungsmittel
DE102004025143A1 (de) * 2004-05-21 2005-12-08 Degussa Ag Ternäres Metall-Mischoxidpulver
DE102004025767A1 (de) * 2004-05-26 2005-12-22 Degussa Ag Stabile Lösungen von N-substituierten Aminopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung
DE102004031785A1 (de) * 2004-07-01 2006-01-26 Degussa Ag Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion
DE102004037045A1 (de) * 2004-07-29 2006-04-27 Degussa Ag Wässrige Silan-Nanokomposite
DE102004037043A1 (de) * 2004-07-29 2006-03-23 Degussa Ag Blockkondensate organofunktioneller Siloxane, deren Herstellung, Verwendung sowie deren Eigenschaften
DE102004037044A1 (de) * 2004-07-29 2006-03-23 Degussa Ag Mittel zur Ausstattung von auf Cellulose und/oder Stärke basierenden Substraten mit Wasser abweisenden und gleichzeitig pilz-, bakterien-, insekten- sowie algenwidrigen Eigenschaften
DE102004037118A1 (de) * 2004-07-30 2006-03-23 Degussa Ag Titandioxid enthaltende Dispersion
DE102004046093A1 (de) * 2004-09-23 2006-03-30 Degussa Ag Oberflächenmodifizierte Zink-Titan-Mischoxide
DE102004049427A1 (de) * 2004-10-08 2006-04-13 Degussa Ag Polyetherfunktionelle Siloxane, polyethersiloxanhaltige Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
DE102004053384A1 (de) * 2004-11-02 2006-05-04 Degussa Ag Flüssiges, viskoses Mittel auf Basis eines organofunktionellen Silansystems zur Herstellung witterungsstabiler Schutzbeschichtungen zur Verhinderung von Verschmutzungen von Oberflächen
DE102004056862A1 (de) * 2004-11-25 2006-06-14 Degussa Ag Pulverförmige, kosmetische Zubereitung mit hohem Wassergehalt
ES2299790T3 (es) * 2004-12-23 2008-06-01 Evonik Degussa Gmbh Dioxidos de titanio producidos por via pirogena y modificados superficialmente.
EP1700825A1 (de) * 2004-12-23 2006-09-13 Degussa AG Oberflächenmodifizierte, strukturmodifizierte Titandioxide
DE502004011784D1 (de) * 2004-12-23 2010-11-25 Evonik Degussa Gmbh Oberflächenmodifizierte Siliciumdioxid-Titandioxid-Mischoxide
EP1674427A1 (de) * 2004-12-23 2006-06-28 Degussa AG Strukturmodifizierte Titandioxide
DE102005055226A1 (de) * 2004-12-24 2006-07-13 Degussa Ag Lagerung pulverförmiger Stoffe mit hohem Wassergehalt
DE102005004871A1 (de) * 2005-02-03 2006-08-10 Degussa Ag Hochviskose wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen, deren kondensierten Oligomeren, Organopolysiloxanen, deren Herstellung und Verwendung zur Oerflächenbehandlung von anorganischen Materialien
DE102005004872A1 (de) * 2005-02-03 2006-08-10 Degussa Ag Wässrige Emulsionen von funktionellen Alkoxysilanen und deren kondensierten Oligomeren, deren Herstellung und Verwendung zur Oberflächenbehandlung
DE102005029542A1 (de) * 2005-02-05 2006-08-10 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von Metalloxidpulvern
DE102005032427A1 (de) 2005-07-12 2007-01-18 Degussa Ag Aluminiumoxid-Dispersion
US7553465B2 (en) * 2005-08-12 2009-06-30 Degussa Ag Cerium oxide powder and cerium oxide dispersion
DE102006006656A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Silan enthaltendes Bindemittel für Verbundwerkstoffe
DE102006006655A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel
DE102006006654A1 (de) * 2005-08-26 2007-03-01 Degussa Ag Spezielle Aminoalkylsilanverbindungen als Bindemittel für Verbundwerkstoffe
DE102005053071A1 (de) * 2005-11-04 2007-05-16 Degussa Verfahren zur Herstellung von ultrafeinen Pulvern auf Basis Polymaiden, ultrafeinen Polyamidpulver sowie deren Verwendung
DE102005059960A1 (de) * 2005-12-15 2007-06-28 Degussa Gmbh Hochgefüllte Übergangs-Aluminiumoxid enthaltende Dispersion
DE102006003957A1 (de) * 2006-01-26 2007-08-02 Degussa Gmbh Wasserverdünnbare Sol-Gel-Zusammensetzung
DE102006003956A1 (de) * 2006-01-26 2007-08-02 Degussa Gmbh Korrossionsschutzschicht auf Metalloberflächen
DE102006013090A1 (de) * 2006-03-20 2007-09-27 Georg-August-Universität Göttingen Kompositwerkstoff aus Holz und thermoplastischem Kunststoff
DE102006017701A1 (de) * 2006-04-15 2007-10-25 Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
DE102006039269A1 (de) * 2006-08-22 2008-02-28 Evonik Degussa Gmbh Dispersion von Aluminiumoxid, Beschichtungszusammensetzung und tintenaufnehmendes Medium
ES2725499T3 (es) * 2007-04-20 2019-09-24 Evonik Degussa Gmbh Mezcla que contiene un compuesto de organosilicio y su uso
DE102007038314A1 (de) * 2007-08-14 2009-04-16 Evonik Degussa Gmbh Verfahren zur kontrollierten Hydrolyse und Kondensation von Epoxy-funktionellen Organosilanen sowie deren Condensation mit weiteren organofunktionellen Alkoxysilanen
DE102007040246A1 (de) * 2007-08-25 2009-02-26 Evonik Degussa Gmbh Strahlenhärtbare Formulierungen
DE102008007261A1 (de) * 2007-08-28 2009-03-05 Evonik Degussa Gmbh Wässrige Silansysteme basierend auf Bis(trialkoxysilyalkyl)aminen
DE102007040802A1 (de) * 2007-08-28 2009-03-05 Evonik Degussa Gmbh VOC-arme aminoalkyl-funktionelle Siliciumverbindungen enthaltende Zusammensetzung für Streichfarben zur Behandlung von Papier oder Folie
DE102007045186A1 (de) * 2007-09-21 2009-04-09 Continental Teves Ag & Co. Ohg Rückstandsfreies, schichtbildendes, wässriges Versiegelungssystem für metallische Oberflächen auf Silan-Basis
DE102007049743A1 (de) * 2007-10-16 2009-04-23 Evonik Degussa Gmbh Silicium-Titan-Mischoxidpulver, Dispersion hiervon und daraus hergestellter titanhaltiger Zeolith
DE102009002499A1 (de) * 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Dispersion enthaltend mit quartären, aminofunktionellen siliciumorganischen Verbindungen oberflächenmodifizierte Siliciumdioxidpartikel
DE102009002477A1 (de) * 2009-04-20 2010-10-21 Evonik Degussa Gmbh Quartäre-aminofunktionelle, siliciumorganische Verbindungen enthaltende Zusammensetzung sowie deren Herstellung und Verwendung

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1564784A (zh) * 2001-10-05 2005-01-12 德古萨股份公司 通过火焰水解法制备的用二价金属氧化物掺杂的氧化铝及其水分散体

Also Published As

Publication number Publication date
TWI341297B (en) 2011-05-01
DE102005032427A1 (de) 2007-01-18
WO2007006614A1 (en) 2007-01-18
UA87614C2 (ru) 2009-07-27
US20080264299A1 (en) 2008-10-30
TW200720190A (en) 2007-06-01
RU2386587C2 (ru) 2010-04-20
US8562733B2 (en) 2013-10-22
ATE506323T1 (de) 2011-05-15
KR100938968B1 (ko) 2010-01-26
JP4787879B2 (ja) 2011-10-05
CN101223106A (zh) 2008-07-16
ES2363793T3 (es) 2011-08-16
JP2009500288A (ja) 2009-01-08
DE602006021423D1 (de) 2011-06-01
EP1901996B1 (en) 2011-04-20
RU2008104513A (ru) 2009-08-20
EP1901996A1 (en) 2008-03-26
KR20080023255A (ko) 2008-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101223106B (zh) 氧化铝分散体
US7615577B2 (en) Highly filled dispersion containing transition aluminium oxide
CN100584895C (zh) 包含二氧化钛的分散体
JP3883969B2 (ja) 水性分散液、その製造方法及びその使用
KR100526916B1 (ko) 수성 분산액, 및 이의 제조방법 및 사용방법
US20060104881A1 (en) Process for the produciton of metal oxide and metalloid oxide dispersions
JP2008024555A (ja) ジルコニア微粉末及びその製造方法並びにその用途
JP5453300B2 (ja) 二酸化ケイ素分散液の製造方法
JP2016000836A (ja) 二酸化チタン顔料及びその製造方法並びに印刷インキ組成物
JPH09142827A (ja) シリカ分散液及びその製造方法
JPWO2007069353A1 (ja) 超微粒子硫酸バリウム、水性塗料組成物及び水性インキ組成物
JP2833820B2 (ja) 酸化チタンの表面処理方法
JP2003176123A (ja) シリカ分散液
EP1966089B1 (en) Highly filled dispersions containing aluminium oxide
JP6257243B2 (ja) 希土類チタン酸塩粉末及びその製造方法並びにそれを含む分散液
WO2004020334A1 (en) Silicon dioxide dispersion
JP4069516B2 (ja) 軽質炭酸カルシウムの粉砕方法及び軽質炭酸カルシウム
JPH11140428A (ja) 合成無定形チタニウム結合ケイ酸塩からなる研磨剤及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Essen, Germany

Patentee after: Evonik Operations Limited

Address before: Essen, Germany

Patentee before: EVONIK DEGUSSA GmbH