CN100535175C - 真空蒸镀装置及用该装置制造有机el显示面板的方法 - Google Patents
真空蒸镀装置及用该装置制造有机el显示面板的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100535175C CN100535175C CNB2003101017035A CN200310101703A CN100535175C CN 100535175 C CN100535175 C CN 100535175C CN B2003101017035 A CNB2003101017035 A CN B2003101017035A CN 200310101703 A CN200310101703 A CN 200310101703A CN 100535175 C CN100535175 C CN 100535175C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- evaporation
- heating
- layer
- framework
- deposition apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
Claims (11)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002305379A JP4139186B2 (ja) | 2002-10-21 | 2002-10-21 | 真空蒸着装置 |
JP305379/2002 | 2002-10-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1500904A CN1500904A (zh) | 2004-06-02 |
CN100535175C true CN100535175C (zh) | 2009-09-02 |
Family
ID=32105164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2003101017035A Expired - Fee Related CN100535175C (zh) | 2002-10-21 | 2003-10-21 | 真空蒸镀装置及用该装置制造有机el显示面板的方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1418250B1 (zh) |
JP (1) | JP4139186B2 (zh) |
KR (1) | KR101025190B1 (zh) |
CN (1) | CN100535175C (zh) |
DE (1) | DE60318170T2 (zh) |
TW (1) | TWI298000B (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108823535A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀设备 |
CN109868452A (zh) * | 2019-03-19 | 2019-06-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板和真空蒸镀装置 |
Families Citing this family (102)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4902123B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2012-03-21 | 株式会社アルバック | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
KR100635496B1 (ko) | 2005-02-25 | 2006-10-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 격벽을 구비하는 측면 분사형 선형 증발원 및 그 증발원을구비하는 증착장치 |
DE102005013875A1 (de) | 2005-03-24 | 2006-11-02 | Creaphys Gmbh | Heizeinrichtung, Beschichtungsanlage und Verfahren zur Verdampfung oder Sublimation von Beschichtungsmaterialien |
JP4001296B2 (ja) * | 2005-08-25 | 2007-10-31 | トッキ株式会社 | 有機材料の真空蒸着方法およびその装置 |
KR101130545B1 (ko) * | 2005-11-26 | 2012-03-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 전계발광 표시소자의 유기 발광물질 증착방법 |
JP4768584B2 (ja) | 2006-11-16 | 2011-09-07 | 財団法人山形県産業技術振興機構 | 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置 |
KR100809930B1 (ko) * | 2006-12-01 | 2008-03-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 증착원 |
KR101361490B1 (ko) * | 2007-06-27 | 2014-02-12 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 증착 장치 |
JP5323581B2 (ja) * | 2009-05-08 | 2013-10-23 | 三星ディスプレイ株式會社 | 蒸着方法及び蒸着装置 |
JP5623786B2 (ja) * | 2009-05-22 | 2014-11-12 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置 |
JP5795028B2 (ja) * | 2009-05-22 | 2015-10-14 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置 |
TWI472639B (zh) * | 2009-05-22 | 2015-02-11 | Samsung Display Co Ltd | 薄膜沉積設備 |
KR101127576B1 (ko) * | 2009-08-11 | 2012-03-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
US8882920B2 (en) | 2009-06-05 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101243921B1 (ko) * | 2009-06-05 | 2013-03-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 박막 증착 장치 제조 방법 |
US8882921B2 (en) | 2009-06-08 | 2014-11-11 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101117719B1 (ko) | 2009-06-24 | 2012-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101117720B1 (ko) | 2009-06-25 | 2012-03-08 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 소자 제조 방법 |
JP4782219B2 (ja) | 2009-07-02 | 2011-09-28 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR20110014442A (ko) * | 2009-08-05 | 2011-02-11 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101127575B1 (ko) | 2009-08-10 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증착 가림막을 가지는 박막 증착 장치 |
KR101127577B1 (ko) * | 2009-08-19 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101127578B1 (ko) * | 2009-08-24 | 2012-03-23 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
JP5676175B2 (ja) * | 2009-08-24 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8486737B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same |
JP5328726B2 (ja) * | 2009-08-25 | 2013-10-30 | 三星ディスプレイ株式會社 | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法 |
JP5677785B2 (ja) | 2009-08-27 | 2015-02-25 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
US8696815B2 (en) | 2009-09-01 | 2014-04-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101030005B1 (ko) | 2009-09-25 | 2011-04-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 증착 소스 |
US8876975B2 (en) | 2009-10-19 | 2014-11-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus |
KR101146982B1 (ko) * | 2009-11-20 | 2012-05-22 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 유기 발광 디스플레이 장치 제조 방법 |
KR101084184B1 (ko) | 2010-01-11 | 2011-11-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101174875B1 (ko) | 2010-01-14 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101193186B1 (ko) * | 2010-02-01 | 2012-10-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
DE102010007111B4 (de) | 2010-02-05 | 2012-02-16 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Pulvermischung zur Beschichtung von Substraten aus der Dampfphase |
KR101156441B1 (ko) | 2010-03-11 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 |
KR101202348B1 (ko) | 2010-04-06 | 2012-11-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP5457548B2 (ja) * | 2010-04-12 | 2014-04-02 | シャープ株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
DE102010016635B4 (de) * | 2010-04-26 | 2013-09-05 | Calyxo Gmbh | Verdampfervorrichtung |
US8894458B2 (en) * | 2010-04-28 | 2014-11-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method |
KR101223723B1 (ko) * | 2010-07-07 | 2013-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101182448B1 (ko) * | 2010-07-12 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법 |
KR101930297B1 (ko) * | 2010-07-15 | 2018-12-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 전계 발광 표시장치의 제조장치 |
KR101673017B1 (ko) | 2010-07-30 | 2016-11-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법 |
US9391275B2 (en) * | 2010-08-30 | 2016-07-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition method, vapor deposition device and organic EL display device |
KR20120029166A (ko) | 2010-09-16 | 2012-03-26 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101678056B1 (ko) | 2010-09-16 | 2016-11-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20120029895A (ko) * | 2010-09-17 | 2012-03-27 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101723506B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-04-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101738531B1 (ko) | 2010-10-22 | 2017-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20120045865A (ko) | 2010-11-01 | 2012-05-09 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20120065789A (ko) | 2010-12-13 | 2012-06-21 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기층 증착 장치 |
CN101988185A (zh) * | 2010-12-14 | 2011-03-23 | 无锡虹彩科技发展有限公司 | 镀膜源、真空镀膜装置及其镀膜工艺 |
KR101760897B1 (ko) | 2011-01-12 | 2017-07-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치 |
JP5312697B2 (ja) * | 2011-01-18 | 2013-10-09 | シャープ株式会社 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
CN103430624A (zh) * | 2011-03-03 | 2013-12-04 | 东京毅力科创株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法、有机el显示器和照明装置 |
WO2012124563A1 (ja) * | 2011-03-14 | 2012-09-20 | シャープ株式会社 | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着方法 |
WO2012124564A1 (ja) * | 2011-03-14 | 2012-09-20 | シャープ株式会社 | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着方法 |
KR101923174B1 (ko) | 2011-05-11 | 2018-11-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 정전 척, 상기 정전 척을 포함하는 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR101840654B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-03-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101852517B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-04-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR101857992B1 (ko) | 2011-05-25 | 2018-05-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101857249B1 (ko) | 2011-05-27 | 2018-05-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
JP2012246534A (ja) * | 2011-05-27 | 2012-12-13 | Nec Corp | 蒸着装置 |
TW201251165A (en) * | 2011-06-07 | 2012-12-16 | Ind Tech Res Inst | Photovoltaic organic light emitting diodes device and manufacturing method thereof |
JP2013001927A (ja) * | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Ulvac Japan Ltd | 放出装置、薄膜形成装置 |
KR101826068B1 (ko) | 2011-07-04 | 2018-02-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 |
KR20130004830A (ko) | 2011-07-04 | 2013-01-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR20130010730A (ko) | 2011-07-19 | 2013-01-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 소스 및 이를 구비한 증착 장치 |
KR20130015144A (ko) | 2011-08-02 | 2013-02-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착원어셈블리, 유기층증착장치 및 이를 이용한 유기발광표시장치의 제조 방법 |
KR20130069037A (ko) | 2011-12-16 | 2013-06-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101234231B1 (ko) * | 2012-06-13 | 2013-02-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR102015872B1 (ko) | 2012-06-22 | 2019-10-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
US9496524B2 (en) | 2012-07-10 | 2016-11-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display apparatus using the same, and organic light-emitting display apparatus manufactured using the method |
KR102013315B1 (ko) * | 2012-07-10 | 2019-08-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR101959974B1 (ko) | 2012-07-10 | 2019-07-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR102013318B1 (ko) | 2012-09-20 | 2019-08-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR101994838B1 (ko) | 2012-09-24 | 2019-10-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR102052069B1 (ko) | 2012-11-09 | 2019-12-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
JP6068514B2 (ja) * | 2013-01-29 | 2017-01-25 | シャープ株式会社 | 蒸着ユニットおよび蒸着装置 |
KR102075525B1 (ko) | 2013-03-20 | 2020-02-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치 |
KR20140118551A (ko) | 2013-03-29 | 2014-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 |
KR102081284B1 (ko) | 2013-04-18 | 2020-02-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
KR102037376B1 (ko) | 2013-04-18 | 2019-10-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 패터닝 슬릿 시트, 이를 구비하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
JP5856584B2 (ja) * | 2013-06-11 | 2016-02-10 | シャープ株式会社 | 制限板ユニットおよび蒸着ユニット並びに蒸着装置 |
KR102107104B1 (ko) | 2013-06-17 | 2020-05-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR102108361B1 (ko) | 2013-06-24 | 2020-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착률 모니터링 장치, 이를 구비하는 유기층 증착 장치, 증착률 모니터링 방법, 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
KR102162797B1 (ko) | 2013-12-23 | 2020-10-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 |
WO2015097894A1 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | パイオニア株式会社 | 発光素子及び発光素子の製造方法 |
GB2530562B (en) * | 2014-09-26 | 2016-09-28 | Nano Resources Ltd | Nanoparticle coating apparatus |
CN104561905B (zh) * | 2014-12-29 | 2017-07-14 | 昆山国显光电有限公司 | 一种线性蒸发源 |
US10100397B2 (en) * | 2015-02-25 | 2018-10-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition unit, vapor deposition device, and vapor deposition method |
CN107735509B (zh) * | 2015-07-28 | 2019-12-13 | 夏普株式会社 | 蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法 |
US10760155B2 (en) | 2015-09-24 | 2020-09-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition source and vapor deposition device for producing vapor deposition film with high material usage efficiency |
CN106676476B (zh) * | 2015-11-11 | 2019-10-25 | 清华大学 | 真空蒸镀方法 |
CN106676478B (zh) * | 2015-11-11 | 2019-09-17 | 清华大学 | 真空蒸镀装置 |
CN107745581B (zh) * | 2017-10-13 | 2019-08-23 | 纳晶科技股份有限公司 | 导液组件及其使用方法、和应用 |
KR20210074343A (ko) * | 2018-12-04 | 2021-06-21 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 재료를 증발시키기 위한 증발 장치 및 증발 장치를 이용하여 재료를 증발시키기 위한 방법 |
JP7179635B2 (ja) * | 2019-02-12 | 2022-11-29 | 株式会社アルバック | 蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法 |
CN111575649B (zh) * | 2020-07-08 | 2022-06-17 | 成都中建材光电材料有限公司 | 一种蒸发源装置及制备大面积碲化镉薄膜的方法 |
CN113416929B (zh) * | 2021-06-17 | 2022-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀源及其调试方法、蒸镀装置 |
JP7372288B2 (ja) * | 2021-07-15 | 2023-10-31 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0649941B2 (ja) * | 1986-05-16 | 1994-06-29 | 三菱重工業株式会社 | 真空蒸発装置の蒸発量制御方法 |
JPH0269961U (zh) * | 1988-11-17 | 1990-05-28 | ||
JPH0387358A (ja) * | 1989-06-02 | 1991-04-12 | Toshiba Corp | 成膜装置と成膜方法およびスパッタ装置 |
JPH03287761A (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-18 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成装置 |
JPH046627A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高機能性薄膜とその製造方法 |
JPH0768619B2 (ja) * | 1991-09-05 | 1995-07-26 | 中外炉工業株式会社 | 真空蒸着装置 |
JPH06228740A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Sony Corp | 真空蒸着装置 |
JPH10204622A (ja) * | 1997-01-13 | 1998-08-04 | Tdk Corp | 薄膜形成装置 |
JPH11100663A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-04-13 | Nec Corp | 蒸着装置、及び蒸着方法 |
JP2000087234A (ja) * | 1998-09-10 | 2000-03-28 | Tokio Nakada | 化合物膜の製造装置および化合物膜の製造方法 |
JP4469430B2 (ja) * | 1998-11-30 | 2010-05-26 | 株式会社アルバック | 蒸着装置 |
TW490714B (en) * | 1999-12-27 | 2002-06-11 | Semiconductor Energy Lab | Film formation apparatus and method for forming a film |
JP2001273976A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-05 | Tohoku Pioneer Corp | 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置 |
JP2001279429A (ja) * | 2000-03-30 | 2001-10-10 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 素子用薄膜層の成膜方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
AU2001277743A1 (en) * | 2000-08-10 | 2002-02-25 | Nippon Steel Chemical Co. Ltd. | Method and device for producing organic el elements |
-
2002
- 2002-10-21 JP JP2002305379A patent/JP4139186B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-10-20 KR KR1020030072949A patent/KR101025190B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-10-21 DE DE60318170T patent/DE60318170T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-10-21 EP EP03023892A patent/EP1418250B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-21 TW TW092129206A patent/TWI298000B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-10-21 CN CNB2003101017035A patent/CN100535175C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108823535A (zh) * | 2018-07-10 | 2018-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀设备 |
CN109868452A (zh) * | 2019-03-19 | 2019-06-11 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板和真空蒸镀装置 |
CN109868452B (zh) * | 2019-03-19 | 2021-01-01 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 冷却板和真空蒸镀装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101025190B1 (ko) | 2011-03-31 |
KR20040034537A (ko) | 2004-04-28 |
EP1418250A3 (en) | 2006-02-08 |
JP4139186B2 (ja) | 2008-08-27 |
TWI298000B (en) | 2008-06-11 |
EP1418250A2 (en) | 2004-05-12 |
DE60318170T2 (de) | 2008-12-04 |
CN1500904A (zh) | 2004-06-02 |
JP2004137583A (ja) | 2004-05-13 |
EP1418250B1 (en) | 2007-12-19 |
DE60318170D1 (de) | 2008-01-31 |
TW200407053A (en) | 2004-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100535175C (zh) | 真空蒸镀装置及用该装置制造有机el显示面板的方法 | |
JP5362346B2 (ja) | コーティング材料を蒸発若しくは昇華させるための加熱装置とコーティング装置と方法 | |
JP3318336B2 (ja) | 物品を直流アーク放電支援下の反応で処理する方法及び装置 | |
KR102114492B1 (ko) | 다중-구역 온도 제어 및 다중 퍼지 성능을 갖는 페데스탈 | |
JP5810448B2 (ja) | 設置面積を減少させた一様な薄膜堆積用の平行平板型反応容器 | |
JPH02107779A (ja) | プラズマ型化学気相成長法 | |
JP5710734B2 (ja) | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 | |
KR19990022867A (ko) | 고전류의 저에너지 이온 빔을 발생시키기 위한 개선된 평행이온 광학기 및 장치 | |
CN106057708A (zh) | 用于半导体处理的具有二极管平面加热器区域的加热板 | |
CN101484966B (zh) | 电子束蒸发装置 | |
US8900419B2 (en) | Method of switching magnetic flux distribution | |
WO2006068355A1 (en) | Device and method of depositing near infra red transmitting multi-layered thin film on surface of quartz lamp heater | |
JP2020066804A (ja) | 蒸着装置及びそれを利用した蒸着方法 | |
JP2012521494A (ja) | 原料供給ユニットと原料供給方法及び薄膜蒸着装置 | |
TW201625358A (zh) | 用於蒸發目的之坩鍋、具有其之蒸發組件及使用其之方法 | |
CN106367736B (zh) | 远端电浆增强化学气相沉积装置 | |
US20170330773A1 (en) | Plasma processing system using electron beam and capacitively-coupled plasma | |
KR100484237B1 (ko) | 기상 증착 장치 | |
KR102629005B1 (ko) | 다수 종류의 증착물질의 혼합비율을 보완하여 줄 수 있는 복합증발장치 | |
KR102567009B1 (ko) | 열적 간섭을 억제시킨 복합증발장치 | |
KR100629476B1 (ko) | 증착물질 가열장치 | |
KR101617276B1 (ko) | 플라즈마 발생장치 및 이를 구비한 기판 처리장치 | |
KR101117721B1 (ko) | 박막 증착 장치 및 박막 증착 방법 | |
JP2023509077A (ja) | 蒸発方法、蒸発装置、及び蒸発源 | |
JPH03267367A (ja) | 薄膜形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: TOHOKU PIONEER CORPORATION Free format text: FORMER NAME: NIPPON TOKITA PIONEER K.K. |
|
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Tiantong, Yamagata Prefecture, Japan Patentee after: Pioneer Tohoku Corp Patentee after: Nippon Seel Chemical Co., Ltd. Address before: Tiantong, Yamagata Prefecture, Japan Patentee before: Nippon Tokita Pioneer K. K. Patentee before: Nippon Seel Chemical Co., Ltd. |
|
C56 | Change in the name or address of the patentee | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: Tiantong, Yamagata Prefecture, Japan Patentee after: Pioneer Tohoku Corp Patentee after: Nippon Steel Chemical Co. Address before: Tiantong, Yamagata Prefecture, Japan Patentee before: Pioneer Tohoku Corp Patentee before: Nippon Seel Chemical Co., Ltd. |
|
ASS | Succession or assignment of patent right |
Free format text: FORMER OWNER: NIPPON STEEL + SUMITOMO METAL CORPORATION Effective date: 20131111 Owner name: NIPPON STEEL + SUMITOMO METAL CORPORATION Free format text: FORMER OWNER: TOHOKU PIONEER CORPORATION Effective date: 20131111 |
|
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20131111 Address after: Tokyo, Japan Patentee after: Nippon Steel Chemical Co. Address before: Tiantong, Yamagata Prefecture, Japan Patentee before: Pioneer Tohoku Corp Patentee before: Nippon Steel Chemical Co. |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20090902 Termination date: 20151021 |
|
EXPY | Termination of patent right or utility model |