CN108823535A - 一种蒸镀设备 - Google Patents
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- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 claims abstract description 51
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 9
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000009172 bursting Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
本发明涉及蒸镀技术领域,公开了一种蒸镀设备,该蒸镀设备,包括:线性蒸发源,所述线性蒸发源包括蒸镀腔体和位于所述腔体顶部、且与腔体连通的条形出气槽;出气辊,设置于所述出气槽内,轴心线与所述出气槽的延伸方向平行,且与所述出气槽滚动配合;所述出气辊上设有至少两排出气孔,每排出气孔沿所述出气辊的轴心线方向排列、且贯穿所述出气辊;每排出气孔的设置不同;通过滚动出气辊可以使出气辊上任意一排出气口的出口与出气槽的槽口对应连通。本发明实施例提供的蒸镀设备的蒸镀功能较全面,可以应对不同的蒸镀需求,并且功能切换操作过程简单,不会影响产能。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域,特别涉及一种蒸镀设备。
背景技术
目前,有机发光二极管(OLED)的主流制备工艺是蒸镀技术,蒸镀技术主要是利用热蒸发有机材料的原理,即把有机材料填入蒸发源里,在真空环境中,升温加热,使固体有机材料熔融挥发或者升华形成气态,有机材料的气体流沉积到玻璃基板上,形成一层层的有机薄膜,制备成OLED的器件。
线性蒸发源是现有OLED膜层蒸镀设备中常用的一种蒸发源,一般包括蒸镀腔体和盖板两部分,盖板上设有出气孔喷嘴。由于OLED器件的结构、有机材料的特性以及膜厚等要求不同,对于线性蒸发源的出气孔的设置要求即不同,若要通过改变蒸发源的出气孔以满足不同的蒸镀功能,往往需要把蒸发源从蒸镀设备上拆卸下来,然后拆解蒸发源以更换盖板或者出气孔喷嘴,上述操作非常麻烦,严重影响蒸镀设备的产能。
发明内容
本发明公开了一种蒸镀设备,用于提高蒸镀设备的蒸镀功能,以应对不同的蒸镀需求。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种蒸镀设备,包括:
线性蒸发源,所述线性蒸发源包括蒸镀腔体和位于所述腔体顶部、且与腔体连通的条形出气槽;
出气辊,设置于所述出气槽内,轴心线与所述出气槽的延伸方向平行,且与所述出气槽滚动配合;所述出气辊上设有至少两排出气孔,每排出气孔沿所述出气辊的轴心线方向排列、且贯穿所述出气辊;每排出气孔的设置不同;通过滚动出气辊可以使出气辊上任意一排出气口的出口与出气槽的槽口对应连通。
上述蒸镀设备中,线性蒸发源的腔体顶部设置有条形出气槽,在条形出气槽内设置有出气辊,出气辊的轴心线与出气槽的延伸方向平行、且出气辊与出气槽滚动配合;并且,出气辊上设有至少两排沿其轴心线方向排列的出气孔,每排出气孔的设置不同,通过调节出气辊相对于条形出气槽滚动,可以使任一排出气口的出口与出气槽的槽口相对应,即可以实现改变蒸镀出口,从而满足不同的OLED器件结构、有机材料的特性以及膜厚的蒸镀要求。因此,本发明实施例提供的蒸镀设备的蒸镀功能较全面,可以应对不同的蒸镀需求,并且功能切换操作过程简单,不会影响产能。
一种可选的实施例中,每排出气孔的设置包括出气孔的数量、排列间隔和孔径的设置。
一种可选的实施例中,所述出气槽包括沿所述腔体至蒸汽出口的方向上依次连通的辊筒部和喷嘴部;所述辊筒部与所述出气辊滚动匹配。
一种可选的实施例中,所述辊筒部的截面呈对称设置的两段圆弧型;所述喷嘴部的截面呈方形。
一种可选的实施例中,每排出气孔的孔径小于所述喷嘴部的宽度、且小于所述辊筒部与所述腔体的连通开口的宽度。
一种可选的实施例中,所述出气辊为中空的筒状结构。
一种可选的实施例中,每排出气孔中,每个出气孔的轴心线与所述出气辊的轴心线垂直相交。
一种可选的实施例中,所述蒸镀设备还包括驱动机构,用于驱动所述出气辊相对于所述出气槽滚动。
一种可选的实施例中,所述驱动机构位于条形出气槽的端部,且穿过所述条形出气槽的端部壁体与所述出气辊的端部传动连接。
一种可选的实施例中,所述驱动机构与所述条形出气槽的端部壁体之间采用机械密封机构密封。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的部分结构示意图;
图2为本发明实施例提供的一种蒸镀设备沿其宽度方向上的剖面结构示意图;
图3为本发明实施例提供的一种蒸镀设备沿其长度方向上的部分剖面结构示意图;
图4为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的出气辊在一种状态下的结构示意图;
图5为图4所示的出气辊在另一种状态下的结构示意图;
图6为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的出气辊在出气孔阻塞情况下的结构示意图;
图7为图6中的出气辊转动180度后的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参考图1至图7。
如图1至图7所示,本发明实施例提供了一种蒸镀设备,包括:
线性蒸发源,该线性蒸发源包括蒸镀腔体1和位于腔体1顶部、并与腔体1连通的条形出气槽2;
出气辊3,设置于出气槽2内,轴心线o与出气槽2的延伸方向平行,且与出气槽2之间滚动配合;该出气辊3上设有至少两排出气孔4,每排出气孔4沿出气辊3的轴心线o方向排列、且贯穿出气辊3,并且每排出气孔4的设置不同,例如,第一排出气口41和第二排出气孔42的出气孔数量和间隔等设置不同;具体地,通过滚动出气辊3可以使出气辊3上任一排出气口4的出口与出气槽2的槽口对应连通,如图2中即为第一排出气口41的出口与出气槽2的槽口对应连通;如图3中即为第二排出气口42的出口与出气槽2的槽口对应连通。
上述蒸镀设备中,线性蒸发源的腔体1顶部设置有条形出气槽2,在条形出气槽2内设置有出气辊3,出气辊3的轴心线o与出气槽2的延伸方向平行、且出气辊3与出气槽2滚动配合;并且,出气辊3上设有至少两排沿其轴心线o方向排列的出气孔4,每排出气孔4的设置不同,通过调节出气辊3相对于条形出气槽2滚动,可以使任一排出气口4的出口与出气槽2的槽口相对应,即可以实现改变蒸镀出口,从而满足不同的OLED器件结构、有机材料的特性以及膜厚的蒸镀要求。因此,本发明实施例提供的蒸镀设备的蒸镀功能较全面,可以应对不同的蒸镀需求,并且功能切换操作过程简单,不会影响产能。
一种具体的实施例中,每排出气孔4的设置包括出气孔的数量、排列间隔和孔径等参数设置,如图4至图7所示,第一排出气口41和第二排出气孔42的出气孔数量、排列间隔和孔径均不同。进而,每排出气孔4的设置决定了出气速率、出气位置和范围等,对于蒸镀速率、均匀性和精度等都有重要影响。
如图1至图3所示,一种具体的实施例中,出气槽2包括沿腔体1至蒸汽出口的方向上依次连通的滚筒部21和喷嘴部22;滚筒部21与出气辊3滚动匹配,具体地,出气辊3与滚筒部21的内壁紧密贴合且可以灵活旋转。
一种可选的实施例中,滚筒部21的截面呈对称设置的两段圆弧型;喷嘴部22的截面呈方形。
进一步可选的,出气槽2可以为一体式结构。
一种具体的实施例中,每排出气孔31的孔径小于喷嘴部22的宽度、且小于滚筒部21与腔体1之间的连通开口的宽度。
如图4至图7所示,一种可选的实施例中,出气辊3可以是中空的筒状结构,例如,出气辊3为圆柱状金属筒结构;进而,每一排出气孔31仅需要贯穿筒壁即可,加工方便。
进一步地,每排出气孔31中,每个出气孔31的轴心线与出气辊3的轴心线o垂直相交。
如图3所示,一种具体的实施例中,本发明实施例提供的蒸镀设备还可以包括用于驱动出气辊3相对于出气槽2滚动的驱动机构5。
一种可选的实施例中,驱动机构5位于条形出气槽2的端部,且穿过条形出气槽2的端部壁体与出气辊3的端部传动连接。
进一步地,驱动机构5与条形出气槽2的端部壁体之间采用机械密封机构6密封,使有机材料蒸汽不会从此处溢出。
具体地,驱动结构5可以包括穿过条形出气槽2的端部壁体且与出气辊3的端部相连的传动轴51,还可以包括驱动传动轴51旋转的电机52。当然,上述驱动结构也可以采用手动驱动。
如图1和图2所示,一种具体的实施例中,本发明实施例提供的蒸镀设备还可以包括加热部件、如坩埚7,还可以包括温度反射部件、水冷凝部件、温度监测部件等等,这里不再赘述。
本发明实施例提供的蒸镀设备,对于线性加热源的出气孔部件进行了重新设计,实现了出气孔的可调功能,可以满足更多蒸镀需求。在现有的蒸镀工艺过程中,本发明实施的蒸镀设备可以发挥很多积极的作用;具体地,例如:OLED器件中有些膜层的厚度很厚,需要线性加热源提高蒸发温度来维持高速率以达到相应的膜厚,但是提高温度会导致有机材料随着工艺时间的延长而更加容易劣化,此时,可以通过增加出气孔的数量和出气孔的孔径的方式来提高整体的蒸镀速率,从而不需要提高温度便可达到相同的膜厚;如图4所示,根据此种需求,本发明实施例提供的蒸镀设备可以通过切换出气辊3的出气口4,如将与出气槽2的槽口相对应的一排出气孔4切换为第一排出气孔41,以增加蒸镀设备的出气孔数量和出气孔孔径,从而满足蒸镀需求。相反的,有些膜层厚度很薄,此时,如图5所示,可以将出气辊3的出气口切换为第二排出气孔42,以减少与出气槽2的槽口相对应的出气孔的数量、减小出气孔孔径,这样,单个出气孔的蒸发速率将得到提到,进而速率监测装置监测到的蒸发速率较高,从而可以降低杂讯对速率监测装置的干扰,便于加热源蒸发速率的监测反馈和对加热源的调控,从而,可以保证膜层蒸镀的精度。
另外,在蒸镀工艺过程中,有些升华型有机材料容易堵塞蒸发源的出气孔4,如图6所示;当发生塞孔情形时,对于现有技术的线性蒸发源,需要大幅升高工艺温度,迫使其出气孔温度升高来挥发堵塞处的有机材料,当爆冲成功后,需要回到正常的工艺温度和速率,此过程需要花费很长时间,大约2-3小时。但是,对于本发明实施例提供的蒸镀设备,如图6和图7所示,在出现塞孔这种现象时,只需要将出气辊3旋转180度,把出气孔42堵塞的一侧出口旋转到蒸镀腔体1内部,无需改变工艺温度,便可使堵塞孔的有机材料挥发,从而保证连续生产。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种蒸镀设备,其特征在于,包括:
线性蒸发源,所述线性蒸发源包括蒸镀腔体和位于所述腔体顶部、且与腔体连通的条形出气槽;
出气辊,设置于所述出气槽内,轴心线与所述出气槽的延伸方向平行,且与所述出气槽滚动配合;所述出气辊上设有至少两排出气孔,每排出气孔沿所述出气辊的轴心线方向排列、且贯穿所述出气辊;每排出气孔的设置不同;通过滚动出气辊可以使出气辊上任意一排出气口的出口与出气槽的槽口对应连通。
2.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,每排出气孔的设置包括出气孔的数量、排列间隔和孔径的设置。
3.根据权利要求1所述的蒸镀设备,其特征在于,所述出气槽包括沿所述腔体至蒸汽出口的方向上依次连通的辊筒部和喷嘴部;所述辊筒部与所述出气辊滚动匹配。
4.根据权利要求3所述的蒸镀设备,其特征在于,所述辊筒部的截面呈对称设置的两段圆弧型;所述喷嘴部的截面呈方形。
5.根据权利要求4所述的蒸镀设备,其特征在于,每排出气孔的孔径小于所述喷嘴部的宽度、且小于所述辊筒部与所述腔体的连通开口的宽度。
6.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,所述出气辊为中空的筒状结构。
7.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,每排出气孔中,每个出气孔的轴心线与所述出气辊的轴心线垂直相交。
8.根据权利要求1至5任一项所述的蒸镀设备,其特征在于,还包括驱动机构,用于驱动所述出气辊相对于所述出气槽滚动。
9.根据权利要求8所述的蒸镀设备,其特征在于,所述驱动机构位于条形出气槽的端部,且穿过所述条形出气槽的端部壁体与所述出气辊的端部传动连接。
10.根据权利要求9所述的蒸镀设备,其特征在于,所述驱动机构与所述条形出气槽的端部壁体之间采用机械密封机构密封。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810750283.XA CN108823535B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 一种蒸镀设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810750283.XA CN108823535B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 一种蒸镀设备 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108823535A true CN108823535A (zh) | 2018-11-16 |
CN108823535B CN108823535B (zh) | 2020-04-14 |
Family
ID=64136696
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810750283.XA Expired - Fee Related CN108823535B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 一种蒸镀设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108823535B (zh) |
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---|---|
CN108823535B (zh) | 2020-04-14 |
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
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Granted publication date: 20200414 |