CN206219654U - 蒸发源 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种蒸发源，属于真空蒸镀技术领域，其可至少部分解决现有的蒸发源产生的蒸气均匀性差的问题。本实用新型的蒸发源包括：腔室，其分为多个区域，每个区域中设有至少一个出气孔以及至少一个气压传感器；多个与所述腔室相连的坩埚，每个所述坩埚用于向腔室的至少一个区域供应蒸气。

Description

蒸发源

技术领域

本实用新型属于真空蒸镀技术领域，具体涉及一种蒸发源。

背景技术

在真空蒸镀过程中，需要通过蒸发源将蒸镀材料蒸发(或升华)为蒸气，蒸气在待蒸镀物体表面凝结后形成膜层。因此，蒸发源产生的蒸气是否均匀，对所形成的膜层的质量是十分重要的。蒸发源通常为“线源”形式，其包括长条形的腔室，腔室顶部均匀开设有多个出气孔，底部则连接坩埚，坩埚用于盛放蒸镀材料并将其蒸发，产生的蒸气进入腔室后并从出气孔排出。

一种现有的蒸发源如图1所示，其腔室1底部多个不同位置分别连接坩埚2。这种蒸发源的腔室1不同位置的气压不同，正对坩埚2处气压高，相应出气孔19的出气量也大，远离坩埚2的出气孔19的出气量则小，由此导致蒸发源产生的蒸气均匀性差。

另一种现有的蒸发源如图2所示，其腔室1底部连接有一个长条形的大坩埚2。但是，由于该坩埚2为长度较大的长条形，故向其中加入蒸镀材料时难以保证加料均匀，且也难以保证坩埚2所有位置的加热均匀，故这样的蒸发源同样存在产生的蒸气均匀性差的问题。

本实用新型内容

本实用新型至少部分解决现有的蒸发源产生的蒸气均匀性差的问题，提供一种可产生均匀的蒸气的蒸发源。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种蒸发源，其包括：

腔室，其分为多个区域，每个区域中设有至少一个出气孔以及至少一个气压传感器；

多个与所述腔室相连的坩埚，每个所述坩埚用于向腔室的至少一个区域供应蒸气。

优选的是，所述腔室内部通过隔墙分割为多个互不连通的隔间，每个所述隔间为一个区域。

优选的是，每个所述坩埚用于为多个区域提供蒸气；所述坩埚和与其对应的每个区域间通过一条输气管相连。

进一步优选的是，与同一坩埚相连的多条输气管的结构相同。

进一步优选的是，每个所述坩埚用于为2至3个区域提供蒸气。

进一步优选的是，所述蒸发源还包括：用于调节所述输气管中气体流量的调节机构。

进一步优选的是，所述调节机构为管状，连接在所述腔室与输气管之间，其包括：第一固定端和第二固定端，二者中的一个与腔室相连，另一个与输气管相连；旋转部，连接在第一固定端和第二固定端之间，并能相对第一固定端和第二固定端旋转；第一挡片，设于第一固定端内侧与旋转部相连处，挡住第一固定端内通道的一部分；第二挡片，设于旋转部内侧与第一固定端相连处，挡住旋转部内通道的一部分。

优选的是，所述蒸发源还包括：控制单元，与各气压传感器和坩埚连接，用于根据各所述气压传感器的检测结果控制各坩埚的加热温度。

优选的是，所述蒸发源包括2至3个坩埚。

优选的是，每个所述区域设有2至3个出气孔。

本实用新型的蒸发源包括多个坩埚，每个坩埚主要向腔室的部分位置(一个或多个区域)提供蒸气，每个区域中设有用于检测气压的气压传感器，而气压体现了相应区域中蒸气的流量，也就是体现了相应出气孔的出气量。由此，只要根据气压传感器的检测结果对相应区域的供气进行调节(如调节相应坩埚的加热温度，或调节坩埚向区域的气体流量等)，即可提高蒸发源整体(即多个不同区域)产生的蒸气的均匀性。

附图说明

图1为现有的一种蒸发源的结构示意图；

图2为现有的另一种蒸发源的结构示意图；

图3为本实用新型的实施例的一种蒸发源的结构示意图；

图4为本实用新型的实施例的一种蒸发源中调节机构的结构示意图；

图5为本实用新型的实施例的一种蒸发源中调节机构的挡片在不同重叠状况时的示意图；

其中，附图标记为：1、腔室；11、区域；19、出气孔；2、坩埚；3、输气管；5、气压传感器；6、调节机构；61、第一固定端；62、第二固定端；63、旋转部；651、第一挡片；652、第二挡片。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

实施例1：

如图3至图5所示，本实施例提供一种蒸发源，该蒸发源用于在真空蒸镀系统中产生蒸镀用的蒸气。

具体的，以上蒸发源包括：

腔室1，其分为多个区域11，每个区域11中设有至少一个出气孔19以及至少一个气压传感器5；

多个与腔室1相连的坩埚2，每个坩埚2用于向腔室1的至少一个区域11供应蒸气。

本实施例的蒸发源包括多个坩埚2，每个坩埚2主要向腔室1的部分位置(一个或多个区域11)提供蒸气，每个区域11中设有用于检测气压的气压传感器5，而气压体现了相应区域11中蒸气的流量，也就是体现了相应出气孔19的出气量。由此，只要根据气压传感器5的检测结果对相应区域11的供气进行调节(如调节相应坩埚2的加热温度，或调节坩埚2向区域11的气体流量等)，即可提高蒸发源整体(即多个不同区域11)产生的蒸气的均匀性。

优选的，腔室1为长条形；多个区域11沿腔室1的长度方向依次排布；各出气孔19沿腔室1的长度方向依次排布。

也就是说，如图3所示，本实施例的蒸发源优选为“线源”的形式，其整体为长条形，而各出气孔19也沿其长度方向排布。

优选的，蒸发源包括2至3个坩埚2。

虽然坩埚2数量越多越有利于提高蒸气的均匀性，但若坩埚2太多，则难以对所有坩埚2进行准确控制，且坩埚2间距离太近，容易相互影响，故总共有2至3个坩埚2是比较优选的。

优选的，每个区域11设有2至3个出气孔19。

根据气压传感器5的反馈进行调节，可实现不同区域11间蒸气量的均匀，但如果一个区域11过大，其中的出气孔19过多，则这些出气孔19的出气量也会存在不均匀，故优选每个区域11仅对应2至3个出气孔19，且每个区域11的形状太小完全一致。

优选的，腔室1内部通过隔墙分割为多个互不连通的隔间，每个隔间为一个区域11。

显然，如果腔室1的不同区域11是相互连通的，则虽然各坩埚2是为不同区域11供气，但不同区域11间仍会存在气体流动，故一个区域11气压的变化会对其它区域11产生影响，故难以准确对各区域11的气压进行调节。因此，优选如图3所示，腔室1的各区域11是相互不导通的隔间，这样各隔间(区域11)中的气压相互独立，可实现更准确的调节。

优选的，每个坩埚2用于为多个区域11提供蒸气；坩埚2和与其对应的每个区域11间通过一条输气管3相连。

显然，当一个坩埚2对应多个区域11时，各区域11与坩埚2的相对位置必然存在一定的差别，故仍可能存在靠近坩埚2的区域11中蒸气量大，远离坩埚2的区域11中蒸气量小的问题。为此，可如图3所示，让每个坩埚2通过输气管3与多个区域11(如隔间)相连，显然，坩埚2中产生的蒸气会比较均匀的进入各条输气管3，由此，与不同输气管3相连的区域11虽然与坩埚2的距离相差较大，但各自获得的蒸气量却很接近，可进一步提高蒸发源的产生的蒸气均匀性。

更优选的，与同一坩埚2相连的多条输气管3的结构相同。

也就是说，与同一坩埚2相连的多条输气管3优选具有相同的材质、内径、外径、长度等，从而保证它们结构相同，这样更有利于保证进入每条输气管3中的蒸气量相同。

更优选的，每个坩埚2用于为2至3个区域11提供蒸气。

如图3所示，虽然是通过输气管3传输蒸气，但由于各区域11与坩埚2的相对位置不同，故相应的输气管3也不可能完全相同，如果一个坩埚2连接的输气管3过多，则不同输气管3的状况相差太大，进而使输气管3中的蒸气量差别很大，也不利于提高蒸气的均匀性，故每个坩埚2对应2至3个区域11是优选的。

优选的，蒸发源还包括控制单元，与各气压传感器5和坩埚2连接，用于根据各气压传感器5的检测结果控制各坩埚2的加热温度。

也就是说，各坩埚2的加热状况(如通入加热丝的电流)是由控制单元(图中未示出)控制的，而控制单元则根据各气压传感器5的检测结果控制坩埚2的加热。具体的，若发现对应某个坩埚2的多个区域11中的气压都偏大(如偏差2％以上)，则降低相应坩埚2的加热温度，反之则提高相应坩埚2的加热温度，从而实现自动的根据气压的反馈控制。

更优选的，蒸发源还包括用于调节输气管3中气体流量的调节机构6。

显然，若一个坩埚2对应多个区域11，则调节坩埚2的加热温度必然对与其相应的所有区域11都造成影响，而无法消除这些区域11之间的气压不均。为此，对于以上每个坩埚2通过输气管3与多个区域11(如隔间)相连的例子，则可设置调节机构6调节各输气管3中的气体流量，当与同一个坩埚2对应的多个区域11中的气压不同(如偏差2％以上)时，则对相应的输气管3中的气体流量进行调节，从而实现对与同一坩埚2相连的多个区域11的气压的独立的调节。

进一步优选的，调节机构6为管状，连接在腔室1与输气管3之间，其包括：第一固定端61和第二固定端62，二者中的一个与腔室1相连，另一个与输气管3相连；旋转部63，连接在第一固定端61和第二固定端62之间，并能相对第一固定端61和第二固定端62旋转；第一挡片651，设于第一固定端61内侧与旋转部63相连处，挡住第一固定端61内通道的一部分；第二挡片652，设于旋转部63内侧与第一固定端61相连处，挡住旋转部63内通道的一部分。

如图4所示，调节机构6整体上是连接在腔室1与输气管3之间的管子，调节机构6的一个固定端连接腔室1，另一个固定端连接输气管3，且而两个固定端之间设有可旋转的旋转部63，第一固定端61与旋转部63相接处有第一挡片651，旋转部63内侧与第一固定端61相接处有第二挡片652。这样，如图5所示，当旋转部63相对第一固定端61旋转时，第一挡片651和第二挡片652的重叠面积也随之改变，即调节机构6内可通过气的通道的截面积变化，从而改变输气管3中的气体流量。

其中，坩埚2和调节机构6可均位于真空蒸镀设备的真空腔内，从而在真空蒸镀过程中可只检测气压，而在真空蒸镀结束后的保养过程中再相应的旋转该旋转部63进行调节。或者，也可以将坩埚2和调节机构6设于真空腔外，而只有腔室1设于真空腔内，从而可在真空蒸镀过程中实时的手动旋转该旋转部63进行调节。或者，也可设置驱动器(如电机等)驱动旋转部63旋转(这样调节机构6可位于真空腔内，也可位于真空腔外)，而驱动器也受控制单元控制，从而可在真空蒸镀过程中自动的实时旋转该旋转部63进行调节。

当然，调节机构6的具体形式并不限于此。例如，若输气管3是由柔性材料构成的，则调节机构6也可为夹在输气管3上的夹子，通过对输气管3施加不同的夹持力使输气管3产生不同的变形，也可改变其中的气体流量。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种蒸发源，其特征在于，包括：

腔室，其分为多个区域，每个区域中设有至少一个出气孔以及至少一个气压传感器；

多个与所述腔室相连的坩埚，每个所述坩埚用于向腔室的至少一个区域供应蒸气。

2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，

所述腔室内部通过隔墙分割为多个互不连通的隔间，每个所述隔间为一个区域。

3.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，

每个所述坩埚用于为多个区域提供蒸气；

所述坩埚和与其对应的每个区域间通过一条输气管相连。

4.根据权利要求3所述的蒸发源，其特征在于，

与同一坩埚相连的多条输气管的结构相同。

5.根据权利要求3所述的蒸发源，其特征在于，

每个所述坩埚用于为2至3个区域提供蒸气。

6.根据权利要求3所述的蒸发源，其特征在于，还包括：

用于调节所述输气管中气体流量的调节机构。

7.根据权利要求6所述的蒸发源，其特征在于，所述调节机构为管状，连接在所述腔室与输气管之间，其包括：

第一固定端和第二固定端，二者中的一个与腔室相连，另一个与输气管相连；

旋转部，连接在第一固定端和第二固定端之间，并能相对第一固定端和第二固定端旋转；

第一挡片，设于第一固定端内侧与旋转部相连处，挡住第一固定端内通道的一部分；

第二挡片，设于旋转部内侧与第一固定端相连处，挡住旋转部内通道的一部分。

8.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，还包括：

控制单元，与各气压传感器和坩埚连接，用于根据各所述气压传感器的检测结果控制各坩埚的加热温度。

9.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，

所述蒸发源包括2至3个坩埚。

10.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，

每个所述区域设有2至3个出气孔。