BR112012012250A2 - Métodos de micropolimento de uma superfície de uma peça de trabalho de metal não ferroso e de remoção de material de superfície controlada substancialmente uniforme sobre uma peça de trabalho de metal não ferroso - Google Patents
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Abstract
SOLUÇÃO QUOSA DE ELETRÓLITO E MÉTODOS DE MICROPOLIMENTO DE UMA SUPERFÍCIE DE UMA PEÇA DE TRABALHO DE METAL NÃO FERROSO E DE REMOÇÃO DE MATERIAL DE SUPERFÍCIE CONTROLADA SUBSTANCIALMENTE UNIFORME SOBRE UMA PEÇA DE TRABALHO DE METAL NÃO FERROSO Uma solução quosa de eletrólito incluindo uma concentração de ácido cítrico na faixa de cerca de 1,6 g/l a cerca de 982 g/l e uma concentração efetiva de bifluoreto de amônio (ABF); e sendo substancialmente isenta de um ácido forte. Métodos de micropolimento de superfície de uma peça de trabalho de metal não ferroso incluindo expor a superfície a um banho de uma solução aquosa de eletrólito incluindo uma concentração de ácido cítrico na faixa de cerca de 1,6 g/l a cerca de 780 g/l e uma concentração de bifluoreto de amônio na faixa de cerca de 2 g/l a cerca de 120 g/l e tendo não mais do que cerca de 3,35 g/l de ácido forte; controlar a temperatura do banho para ficar entre o congelamento e o ponto de ebulição da solução; conectar a peça de trabalho a um eletrodo anódico de uma fonte de alimentação de CC e imergir um eletrodo catódico da fonte de alimentação de CC no banho; e aplicar uma corrente através do banho.
Description
UNIFORME SOBRE UMA PEÇA DE TRABALHO DE METAL NÃO 5 FERROSO”
REFERÊNCIA CRUZADA AOS PEDIDOS RELACIONADOS Este pedido reivindica a prioridade do Pedido de Patente Provisório U.S. No 61/263.606 depositado em 23 de Novembro de 2009, que é incorporado por referência aqui em sua totalidade. Este pedido também é relacionado a um pedido comumente de propriedade intitulado “Electrolyte Solution and Electrochemical Surface Modification Methods” que está sendo depositado concorrentemente com este pedido.
CAMPO As soluções e métodos referem-se ao campo geral de partes e superfícies de metal não ferroso de eletropolimento, e mais especificamente a eletropolimento, remoção de metal altamente controlada, micropolimento, e rebarbação de metais não ferrosos e reativos, particularmente titânio e ligas de titânio.
FUNDAMENTOS Em química e fabricação, eletrólise é um método de usar corrente elétrica direta (DC) para conduzir uma reação química de outro modo não espontânea. Eletropolimento é uma aplicação bem conhecida de eletrólise para remover as rebarbas de partes metálicas e para produzir um acabamento de superfície liso e brilhante. O objeto a usinar a ser eletropolido é imerso em um banho de solução de eletrólito e submetido a uma corrente elétrica direta. O objeto a usinar é mantido anódico, com a conexão de cátodo sendo feita a um ou mais condutores de metal que circundam o objeto a usinar no banho. Eletropolimento conta com duas reações opostas que controlam o
Claims (22)
1. Método de micropolimento de uma superfície de uma peça de trabalho de metal não ferroso, caracterizado pelo fato de que compreende as seguintes etapas: 5 expor a superfície a um banho de uma solução aquosa de eletrólito incluindo uma concentração de ácido cítrico na faixa de cerca de 1g/l até cerca de 982 g/l ou igual a concentração de saturação e uma concentração eficaz de bifluoreto de amônio (ABF), e em que o banho não tem mais do que cerca de 3,35 g/l de um ácido forte; dito método compreendendo controlar a temperatura do banho para ficar entre o ponto de congelamento e o ponto de ebulição da solução; conectar a peça de trabalho ao anodo de uma fonte de alimentação de CC e imergir um catodo da fonte de alimentação de CC no banho; e aplicar uma corrente através do banho na faixa de cerca de 1 a cerca de 225000 amperes por metro quadrado.
2. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a concentração de bifluoreto de amônio é maior do que ou igual a cerca de 2 g/l e menor do que ou igual a uma concentração de saturação.
3. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que: a concentração de ácido cítrico está na faixa de cerca de 1,6 g/l a cerca de 780 g/l e a concentração de bifluoreto de amônio está na faixa de cerca de 2 g/l a cerca de 120 g/l.
4. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a temperatura é controlada na faixa de cerca de 2ºC a cerca de 98ºC.
5. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação
1, caracterizado pelo fato de que a temperatura é controlada na faixa de cerca de 21ºC a cerca de 85ºC.
6. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a aplicação de corrente inclui ligar e desligar 5 ciclicamente a corrente.
7. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que aplicar corrente inclui ciclos entre pelo menos duas densidades de corrente diferentes.
8. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que aplicar corrente inclui fornecer corrente em uma forma de onda cíclica.
9. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 8, caracterizado pelo fato de que a forma de onda cíclica é variada em frequência enquanto estiver aplicando a corrente.
10. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a corrente aplicada é inferior ou igual a cerca de 5000 amperes por metro quadrado.
11. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 10, caracterizado pelo fato de que a corrente é aplicada na faixa de cerca de 10,8 amperes por metro quadrado a cerca de 1076 amperes por metro quadrado.
12. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a corrente é aplicada a uma voltagem inferior a cerca de 150 volts.
13. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a solução aquosa de eletrólito inclui uma concentração de ácido cítrico superior ou igual a cerca de 600 g/l; e uma concentração de bifluoreto de amônio na faixa de cerca de 10 g/l a cerca de 120 g/l.
14. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 13, caracterizado pelo fato de que a solução aquosa de eletrólito inclui uma concentração de bifluoreto de amônio inferior ou igual a cerca de 20 g/l e em que a temperatura é controlada para ser superior ou igual a cerca de 71ºC. 5
15. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que a solução aquosa de eletrólito inclui uma concentração de ácido cítrico inferior ou igual a cerca de 300 g/l; e uma concentração de bifluoreto de amônio na faixa de cerca de 10 g/l a cerca de 120 g/l.
16. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que: a solução aquosa de eletrólito inclui uma concentração de ácido cítrico superior ou igual a cerca de 600 g/l; e uma concentração de bifluoreto de amônio inferior ou igual a cerca de 20 g/l; a temperatura do banho é controlada para ser superior ou igual a cerca de 54ºC; e a corrente é aplicada a uma densidade superior ou igual a cerca de 538 amperes por metro quadrado e inferior ou igual a cerca de 225000 amperes por metro quadrado.
17. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que: a concentração de ácido cítrico é menor ou igual a cerca de 780 g/l e a concentração de bifluoreto de amônio é menor ou igual a cerca 60 g/l; controlar a temperatura do banho para ser inferior ou igual a cerca de 54ºC; e aplicar uma corrente através do banho superior ou igual a cerca de 538 amperes por metro quadrado e inferior ou igual a cerca de 225000 amperes por metro quadrado.
18. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 17, caracterizado pelo fato de que a temperatura do banho é controlada a cerca de 21ºC e a corrente aplicada é de cerca de 1076 amperes por metro quadrado.
19. Método de micropolimento de acordo com a reivindicação 5 17, caracterizado pelo fato de que a temperatura do banho é controlada a cerca de 85ºC e a corrente aplicada é de cerca de 1076 amperes por metro quadrado.
20. Método de remoção de material de superfície controlada substancialmente uniforme sobre uma peça de trabalho de metal não ferroso, caracterizado pelo fato de que compreende: expor a superfície a um banho de uma solução aquosa de eletrólito incluindo uma concentração de ácido cítrico inferior ou igual a cerca de 600 g/l e uma concentração de bifluoreto de amônio inferior ou igual a cerca 120 g/l e tendo não mais do que cerca de 3,35 g/l de um ácido forte; controlar a temperatura do banho para ser superior ou igual a cerca de 71ºC; conectar a peça de trabalho ao anodo de uma fonte de alimentação de CC e imergir um catodo da fonte de alimentação de CC no banho; e aplicar uma corrente através do banho.
21. Método de acordo com a reivindicação 20, caracterizado pelo fato de que a corrente aplicada é inferior ou igual a cerca de 1076 amperes por metro quadrado.
22. Método de acordo com a reivindicação 21, caracterizado pelo fato de que a corrente aplicada é inferior ou igual a cerca de 53,8 amperes por metro quadrado.
“MÉTODOS DE MICROPOLIMENTO DE UMA SUPERFÍCIE DE UMA
PEÇA DE TRABALHO DE METAL NÃO FERROSO E DE REMOÇÃO DE
MATERIAL DE SUPERFÍCIE CONTROLADA SUBSTANCIALMENTE
UNIFORME SOBRE UMA PEÇA DE TRABALHO DE METAL NÃO 5 FERROSO” Uma solução aquosa de eletrólito incluindo uma concentração de ácido cítrico na faixa de cerca de 1,6 g/l a cerca de 982 g/l e uma concentração efetiva de bifluoreto de amônio (ABF); e sendo substancialmente isenta de um ácido forte. Métodos de micropolimento de superfície de uma peça de trabalho de metal não ferroso incluindo expor a superfície a um banho de uma solução aquosa de eletrólito incluindo uma concentração de ácido cítrico na faixa de cerca de 1,6 g/l a cerca de 780 g/l e uma concentração de bifluoreto de amônio na faixa de cerca de 2 g/l a cerca de 120 g/l e tendo não mais do que cerca de 3,35 g/l de ácido forte; controlar a temperatura do banho para ficar entre o ponto de congelamento e o ponto de ebulição da solução; conectar a peça de trabalho a um eletrodo anódico de uma fonte de alimentação de CC e imergir um eletrodo catódico da fonte de alimentação de CC no banho; e aplicar uma corrente através do banho.
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|---|---|---|---|---|
| US8580103B2 (en) | 2010-11-22 | 2013-11-12 | Metcon, Llc | Electrolyte solution and electrochemical surface modification methods |
| US9322109B2 (en) | 2013-08-01 | 2016-04-26 | Seagate Technology Llc | Electro-chemically machining with a motor part including an electrode |
| RU2545169C1 (ru) * | 2013-11-08 | 2015-03-27 | Федеральное государственное казенное военное образовательное учреждение высшего профессионального образования Военная академия Ракетных войск стратегического назначения имени Петра Великого МО РФ | Устройство контроля плотности электролита аккумуляторной батареи |
| CN103990874A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-08-20 | 张家港华宝机械制造有限公司 | 一种用于钛合金电解加工的非水基电解液及其制备方法 |
| CN104028862B (zh) * | 2014-05-06 | 2017-02-22 | 张家港华宝机械制造有限公司 | 一种钛合金细长轴的电解加工方法及加工设备 |
| DE102014006739B3 (de) * | 2014-05-12 | 2015-06-25 | Albert-Ludwigs-Universität Freiburg | Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mit Nanostrukturen, nach dem Verfahren her- gestelltes Bauteil und Verwendung des Bauteils |
| US9648723B2 (en) | 2015-09-16 | 2017-05-09 | International Business Machines Corporation | Process of fabricating printed circuit board |
| GB2543058B (en) | 2015-10-06 | 2022-04-06 | Wallwork Cambridge Ltd | Smoothing the surface finish of rough metal articles |
| DE102016125244A1 (de) | 2016-12-21 | 2018-06-21 | Airbus Defence and Space GmbH | Verfahren für das Elektropolieren von einem metallischen Substrat |
| KR102518398B1 (ko) * | 2018-06-20 | 2023-04-04 | 에스케이넥실리스 주식회사 | 고신뢰성 동박, 그것을 포함하는 전극, 그것을 포함하는 이차전지, 및 그것의 제조 방법 |
| CA3133711A1 (en) * | 2019-04-09 | 2020-10-15 | 3DM Biomedical Pty Ltd | Electropolishing method |
| US11447887B2 (en) | 2020-12-10 | 2022-09-20 | Saudi Arabian Oil Company | Surface smoothing of copper by electropolishing |
| US11512400B2 (en) | 2020-12-10 | 2022-11-29 | Saudi Arabian Oil Company | Electrochemical reduction of carbon dioxide |
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| US11617981B1 (en) | 2022-01-03 | 2023-04-04 | Saudi Arabian Oil Company | Method for capturing CO2 with assisted vapor compression |
Family Cites Families (73)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3242062A (en) * | 1966-03-22 | Fluorine-cuntaining electrolyte for electrolytic cutting of metals | ||
| US3019194A (en) * | 1957-02-18 | 1962-01-30 | Alan D Brite | Cleaning composition and method |
| US3003896A (en) * | 1958-01-17 | 1961-10-10 | Rohr Aircraft Corp | Process and composition for treating aluminum alloys |
| NL241653A (pt) * | 1958-08-07 | |||
| US2942956A (en) * | 1958-10-13 | 1960-06-28 | Wyandotte Chemicals Corp | Aluminum brightener compositions |
| US3087874A (en) * | 1961-02-13 | 1963-04-30 | Don H Greisl | Electropolishing of titanium base alloys |
| US3290174A (en) * | 1961-10-09 | 1966-12-06 | Rohr Corp | Two-stage process for derusting and protecting the surfaces of ferrous materials |
| US3239440A (en) * | 1964-11-23 | 1966-03-08 | Titanium Metals Corp | Electrolytic pickling of titanium and titanium base alloy articles |
| US3300896A (en) | 1965-05-10 | 1967-01-31 | Res Engineering Co | Hydroponic growth of plants |
| US3489522A (en) * | 1965-10-15 | 1970-01-13 | Synvar Ass | Electron spin resonance labeling of biomolecules |
| US3817844A (en) * | 1968-10-04 | 1974-06-18 | Rohr Corp | Method of electrolitic descaling activating and brightening and plating titanium and its alloys |
| US3725224A (en) | 1971-06-30 | 1973-04-03 | Rohr Industries Inc | Composition for electrolytic descaling of titanium and its alloys |
| US3841978A (en) * | 1972-12-11 | 1974-10-15 | Kerr Mc Gee Chem Corp | Method of treating a titanium anode |
| US3975245A (en) * | 1975-12-05 | 1976-08-17 | United Technologies Corporation | Electrolyte for electrochemical machining of nickel base superalloys |
| US4220706A (en) * | 1978-05-10 | 1980-09-02 | Rca Corporation | Etchant solution containing HF-HnO3 -H2 SO4 -H2 O2 |
| US4189357A (en) * | 1978-10-10 | 1980-02-19 | Kerr-Mcgee Corporation | Method of treating a substrate material to form an electrode |
| SU881157A1 (ru) * | 1979-07-10 | 1981-11-15 | Предприятие П/Я Р-6585 | Раствор дл электрохимического полировани титановых сплавов |
| US4220509A (en) * | 1979-07-30 | 1980-09-02 | Karyazin Pavel P | Electrolyte for electrochemical polishing of articles made of titanium and titanium alloys |
| DE2949807B1 (de) * | 1979-12-11 | 1981-07-16 | Schenk Filterbau Gmbh, 7076 Waldstetten | Elektrolytloesung zum Elektropolieren |
| GB2074189A (en) * | 1980-04-16 | 1981-10-28 | Rolls Royce | Treating a titanium or titanium base alloy surface prior to electroplating |
| EP0139958B1 (de) * | 1983-08-23 | 1986-11-05 | BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie. | Verfahren zum elektrolytischen Polieren eines Werkstücks aus einer Legierung auf Nickel-, Kobalt- oder Eisenbasis |
| CN85102448A (zh) * | 1985-04-01 | 1986-04-10 | 周继龙 | 汽缸串联四冲程往复式活塞内燃机 |
| JPS63195300A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Mitsubishi Metal Corp | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 |
| JP2508520B2 (ja) * | 1987-02-09 | 1996-06-19 | 三菱マテリアル株式会社 | ＺｒおよびＺｒ合金電解研摩用電解液 |
| KR930021830A (ko) * | 1992-04-03 | 1993-11-23 | 정광식 | 금속 피막의 박리 방법 |
| US5538600A (en) * | 1994-07-27 | 1996-07-23 | Aluminum Company Of America | Method for desmutting aluminum alloys having a highly-reflective surface |
| TW387936B (en) * | 1997-08-12 | 2000-04-21 | Kanto Kagaku | Washing solution |
| US6479443B1 (en) | 1997-10-21 | 2002-11-12 | Lam Research Corporation | Cleaning solution and method for cleaning semiconductor substrates after polishing of copper film |
| US6165956A (en) * | 1997-10-21 | 2000-12-26 | Lam Research Corporation | Methods and apparatus for cleaning semiconductor substrates after polishing of copper film |
| US6147002A (en) * | 1999-05-26 | 2000-11-14 | Ashland Inc. | Process for removing contaminant from a surface and composition useful therefor |
| US6673757B1 (en) * | 2000-03-22 | 2004-01-06 | Ashland Inc. | Process for removing contaminant from a surface and composition useful therefor |
| FR2795433B1 (fr) | 1999-06-25 | 2001-08-31 | Org Europeene De Rech | Composition de bain pour le polissage electrolytique du titane, et son procede d'utilisation |
| US6352636B1 (en) * | 1999-10-18 | 2002-03-05 | General Electric Company | Electrochemical system and process for stripping metallic coatings |
| US7128825B2 (en) * | 2001-03-14 | 2006-10-31 | Applied Materials, Inc. | Method and composition for polishing a substrate |
| JP2002343797A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-11-29 | Ebara Corp | 配線形成装置及びその方法 |
| JP3907432B2 (ja) * | 2001-03-16 | 2007-04-18 | 株式会社荏原製作所 | 電解研磨用電解液及び電解研磨方法 |
| US6549443B1 (en) * | 2001-05-16 | 2003-04-15 | Rockwell Collins, Inc. | Single event upset resistant semiconductor circuit element |
| US6627546B2 (en) * | 2001-06-29 | 2003-09-30 | Ashland Inc. | Process for removing contaminant from a surface and composition useful therefor |
| JP3484525B2 (ja) * | 2001-07-06 | 2004-01-06 | 株式会社ケミカル山本 | ステンレス鋼表面の清浄、不動態化処理方法 |
| KR100807524B1 (ko) * | 2001-10-12 | 2008-02-26 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 펜타일 매트릭스 패널의 데이터배선 구조 |
| US20070295611A1 (en) * | 2001-12-21 | 2007-12-27 | Liu Feng Q | Method and composition for polishing a substrate |
| JP2003193300A (ja) * | 2001-12-26 | 2003-07-09 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法、電解エッチング装置および半導体製造装置 |
| DE10259365A1 (de) * | 2002-04-08 | 2003-10-30 | Siemens Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung von Oberflächenbereichen eines Bauteils |
| JP4221191B2 (ja) * | 2002-05-16 | 2009-02-12 | 関東化学株式会社 | Ｃｍｐ後洗浄液組成物 |
| TW567545B (en) * | 2002-06-04 | 2003-12-21 | Merck Kanto Advanced Chemical | Electropolishing electrolytic solution formulation |
| US6835300B2 (en) * | 2002-09-13 | 2004-12-28 | General Electric Company | Electropolishing solution and methods for its use and recovery |
| US6969457B2 (en) * | 2002-10-21 | 2005-11-29 | General Electric Company | Method for partially stripping a coating from the surface of a substrate, and related articles and compositions |
| JP2004143530A (ja) * | 2002-10-24 | 2004-05-20 | Ekusebun:Kk | 金属表面洗浄剤 |
| DE10259934B3 (de) * | 2002-12-20 | 2004-10-14 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Formteilen aus Niob oder Tantal durch elektrochemisches Ätzen und so erhältliche Formteile |
| KR20040059132A (ko) * | 2002-12-28 | 2004-07-05 | 주식회사 포스코 | 우수한 내식성 및 용접성을 갖는 도금강판 및 이에사용되는 도금용액 |
| DE10320909A1 (de) * | 2003-05-09 | 2004-11-18 | Poligrat Holding Gmbh | Elektrolyt zum elektrochemischen Polieren von Metalloberflächen |
| KR100680255B1 (ko) * | 2003-11-24 | 2007-02-09 | 신홍섭 | 마그네슘 및 마그네슘 합금의 친환경적 표면처리방법 |
| CN1754992A (zh) * | 2004-09-28 | 2006-04-05 | 北京有色金属研究总院 | 钛镍合金电化学抛光液 |
| TWI294923B (en) | 2004-10-06 | 2008-03-21 | Basf Electronic Materials Taiwan Ltd | Electropolishing electrolyte and method for planarizing a metal layer using the same |
| US20060266657A1 (en) * | 2005-05-31 | 2006-11-30 | Igor Berkovich | Electropolishing in organic solutions |
| US20060278535A1 (en) * | 2005-06-10 | 2006-12-14 | Aeromet Technologies, Inc. | Apparatus and methods for removing tungsten-containing coatings from a metal component |
| KR20070006061A (ko) * | 2005-07-07 | 2007-01-11 | 한국아이디켐주식회사 | 금속 세정제 |
| AU2006283664B2 (en) * | 2005-08-19 | 2012-04-12 | Houghton Technical Corp. | Methods and compositions for acid treatment of a metal surface |
| JP2007231413A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-09-13 | Chiaki Taguchi | ステンレス鋼の電解研磨法に用いる電解液 |
| EP1870497A1 (de) * | 2006-06-23 | 2007-12-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum elektrochemischen Entfernen einer metallischen Beschichtung von einem Bauteil |
| US20080067077A1 (en) * | 2006-09-04 | 2008-03-20 | Akira Kodera | Electrolytic liquid for electrolytic polishing and electrolytic polishing method |
| CN101168847A (zh) * | 2006-09-04 | 2008-04-30 | 株式会社荏原制作所 | 用于电解抛光的电解液以及电解抛光方法 |
| DE102006047713B3 (de) * | 2006-10-09 | 2008-03-27 | Poligrat Gmbh | Elektropolierverfahren für Niob und Tantal und Elektrolyt |
| DE102007011632B3 (de) * | 2007-03-09 | 2008-06-26 | Poligrat Gmbh | Elektropolierverfahren für Titan |
| US20100155655A1 (en) * | 2007-07-24 | 2010-06-24 | Yoshiyuki Matsumura | Polishing composition |
| JP2009108405A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-05-21 | Ebara Corp | 基板を電解研磨する方法及び電解研磨装置 |
| US20090107851A1 (en) * | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Akira Kodera | Electrolytic polishing method of substrate |
| CN100535186C (zh) * | 2007-11-27 | 2009-09-02 | 重庆科技学院 | 镁合金材料的表面处理溶液及处理镁合金材料表面的工艺 |
| KR100916479B1 (ko) * | 2007-11-30 | 2009-09-08 | 삼성전기주식회사 | 금속제품 전해가공용 전해액 |
| KR100976787B1 (ko) * | 2008-04-25 | 2010-08-18 | 남동화학(주) | 전기아연도금강판 제조용 하지도금용액으로서의철도금용액과 철도금용액이 하지도금액으로 도금된전기아연도금강판 및 그 제조방법 |
| KR20090112912A (ko) * | 2008-04-25 | 2009-10-29 | 김낙주 | 옥상 단열 방수층 세라믹 방수 시공방법 및 시공구조 |
| CN101265605B (zh) * | 2008-05-09 | 2010-11-17 | 沈阳工业大学 | 一种镁及镁合金阴极电泳表面处理方法 |
| CN101591798B (zh) * | 2008-06-01 | 2011-04-20 | 比亚迪股份有限公司 | 一种金属件及其表面处理方法 |
-
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