JPS63195300A - ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 - Google Patents
ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液Info
- Publication number
- JPS63195300A JPS63195300A JP62027695A JP2769587A JPS63195300A JP S63195300 A JPS63195300 A JP S63195300A JP 62027695 A JP62027695 A JP 62027695A JP 2769587 A JP2769587 A JP 2769587A JP S63195300 A JPS63195300 A JP S63195300A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zirconium
- acid
- electrolytic solution
- fluoride
- electrolytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 15
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 12
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 title claims description 26
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 13
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 10
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims abstract description 5
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 15
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 4
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical class OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 claims description 4
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000002932 luster Substances 0.000 abstract description 4
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 abstract 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 abstract 1
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 8
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JTEJPPKMYBDEMY-UHFFFAOYSA-N 5-methoxytryptamine Chemical compound COC1=CC=C2NC=C(CCN)C2=C1 JTEJPPKMYBDEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDGWGNDTQZGISB-UHFFFAOYSA-N acetic acid;perchloric acid Chemical compound CC(O)=O.OCl(=O)(=O)=O ZDGWGNDTQZGISB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 alkali metal salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- CUPFNGOKRMWUOO-UHFFFAOYSA-N hydron;difluoride Chemical compound F.F CUPFNGOKRMWUOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- CBXWGGFGZDVPNV-UHFFFAOYSA-N so4-so4 Chemical compound OS(O)(=O)=O.OS(O)(=O)=O CBXWGGFGZDVPNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
- C25F3/00—Electrolytic etching or polishing
- C25F3/16—Polishing
- C25F3/22—Polishing of heavy metals
- C25F3/26—Polishing of heavy metals of refractory metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電
解研摩に使用される電解液に関するものである。
解研摩に使用される電解液に関するものである。
従来、ジルコニウムまたはジルコニウム合金からなる種
々の部材の表面を電解研摩で研摩する場合に使用される
電解液として、過塩素酸＝１０％−酢酸：９０％からな
る電解液（以上、容量％）のような過塩素酸−酢酸系電
解液が知られている。
々の部材の表面を電解研摩で研摩する場合に使用される
電解液として、過塩素酸＝１０％−酢酸：９０％からな
る電解液（以上、容量％）のような過塩素酸−酢酸系電
解液が知られている。
しかしながら、上記の過塩素酸−酢酸系の電解液は、そ
の取扱い中に爆発を起こす危険性がある上に、研摩面に
ピッティングを生じやすいという欠点があった。
の取扱い中に爆発を起こす危険性がある上に、研摩面に
ピッティングを生じやすいという欠点があった。
そこで１本発明者等は、このような状況に鑑みて池々研
究を重ねた結果、 （１）適度の濃度、すなわち０．２〜５ ｍｏｔ／ Ｌ
の弗化物を含む電解液では、ジルコニウムおよびジルコ
ニウム合金の研摩が程好く進行して比較的平滑な研摩面
が得られる一方、この弗化物だけでは。
究を重ねた結果、 （１）適度の濃度、すなわち０．２〜５ ｍｏｔ／ Ｌ
の弗化物を含む電解液では、ジルコニウムおよびジルコ
ニウム合金の研摩が程好く進行して比較的平滑な研摩面
が得られる一方、この弗化物だけでは。
被研摩部材表面に被膜が形成されて金属色の表面光沢を
有す不研摩面が得られないが、前記弗化物を含む電解液
に、硫酸および硫酸塩のうちの１樵またば２．？！ｌ！
を加えると、研摩面の表面光沢が改善され、このような
電解液は、ピッティングを起こさずにジルコニウムおよ
びジルコニウム合金を電解研摩することができる上に、
酸化作用の激しい不安定な過塩素酸を含まないので、取
扱上爆発を起こすおそれがないこと、 （２）上記の弗化物に硫酸および硫酸塩のうちの１株ま
たは２種を加えた電解液にさらに、しゆう酸、しゆう酸
塩、くえん酸、くえん酸塩、グルコン酸、およびグルコ
ン酸塩のうちの１株または２種以上（以下、これらをま
とめて、有機酸およびそれらの塩という）を加えると、
研摩面の表面状態はさらに改善されて、一層平滑な研摩
面が得られること。
有す不研摩面が得られないが、前記弗化物を含む電解液
に、硫酸および硫酸塩のうちの１樵またば２．？！ｌ！
を加えると、研摩面の表面光沢が改善され、このような
電解液は、ピッティングを起こさずにジルコニウムおよ
びジルコニウム合金を電解研摩することができる上に、
酸化作用の激しい不安定な過塩素酸を含まないので、取
扱上爆発を起こすおそれがないこと、 （２）上記の弗化物に硫酸および硫酸塩のうちの１株ま
たは２種を加えた電解液にさらに、しゆう酸、しゆう酸
塩、くえん酸、くえん酸塩、グルコン酸、およびグルコ
ン酸塩のうちの１株または２種以上（以下、これらをま
とめて、有機酸およびそれらの塩という）を加えると、
研摩面の表面状態はさらに改善されて、一層平滑な研摩
面が得られること。
を見出した。
この発明は、上記知見に基づいて発明されたもので、取
扱いが容易で、しかもジルコニウムおよびジルコニウム
合金の電解研摩において、表面光沢が改善され、かつ平
滑でピンティングを生じない研摩面を形成できる電解液
を提供することを目的とし、この電解液が、 弗化物：０．２〜５ｍｏｌ／ｌと、 硫酸および硫酸塩のうちの１種または２種以上とを含有
するか、あるいは必要に応じて、さらにしゆう酸、しゆ
う酸塩、くえん酸、くえん酸塩。
扱いが容易で、しかもジルコニウムおよびジルコニウム
合金の電解研摩において、表面光沢が改善され、かつ平
滑でピンティングを生じない研摩面を形成できる電解液
を提供することを目的とし、この電解液が、 弗化物：０．２〜５ｍｏｌ／ｌと、 硫酸および硫酸塩のうちの１種または２種以上とを含有
するか、あるいは必要に応じて、さらにしゆう酸、しゆ
う酸塩、くえん酸、くえん酸塩。
グルコン酸、およびグルコン酸塩のうちの１種または２
種以上を 含有することを特徴とするものである。
種以上を 含有することを特徴とするものである。
１、弗化物
弗化物は、ジルコニウムおよびジルコニウム合金部材表
面における電解研摩を進めて、その表面を平滑に仕上げ
る作用を有し、例えば１種々の水溶性金属塩またはこれ
に相当する弗化物、好ましくはこれらのアルカリ金属塩
およびアンモニウム塩、特に弗化ナトリウム、弗化カリ
ウムおよび弗化アンモニウムとして、この発明の電解液
中に含有されるが、それの電解液中に含まれる濃度がｍ
ｏ Ｌ ／ ｔを越えると研摩面に凹凸を生じ、平滑な
研摩面が得られ難くなることから、弗化物の濃度を０．
２〜５ｍｏＬ／１と定めた。
面における電解研摩を進めて、その表面を平滑に仕上げ
る作用を有し、例えば１種々の水溶性金属塩またはこれ
に相当する弗化物、好ましくはこれらのアルカリ金属塩
およびアンモニウム塩、特に弗化ナトリウム、弗化カリ
ウムおよび弗化アンモニウムとして、この発明の電解液
中に含有されるが、それの電解液中に含まれる濃度がｍ
ｏ Ｌ ／ ｔを越えると研摩面に凹凸を生じ、平滑な
研摩面が得られ難くなることから、弗化物の濃度を０．
２〜５ｍｏＬ／１と定めた。
２、硫酸および硫酸塩
硫酸および硫酸塩は、研摩面に光沢を与えるために電解
液中に添加されるが、これらの成分の電解液中における
濃度が０．０１〜３ ｍｏｔ／ｌ、特に０．０２〜１．
５ ｍｏｔ／ Ｌであると、研摩面は特に金属色の光沢
を呈するようになるので、このような研摩面を得ること
を望む場合には、硫酸および硫酸塩は上記の濃度範囲で
使用される。
液中に添加されるが、これらの成分の電解液中における
濃度が０．０１〜３ ｍｏｔ／ｌ、特に０．０２〜１．
５ ｍｏｔ／ Ｌであると、研摩面は特に金属色の光沢
を呈するようになるので、このような研摩面を得ること
を望む場合には、硫酸および硫酸塩は上記の濃度範囲で
使用される。
３、有機酸およびその塩
有機酸およびその塩は、弗化物と、硫酸および硫酸塩の
うちの１種または２種とを含む電解液に添加されると、
研摩面を一層平滑にする作用を有するので、必要に応じ
てこの発明の電解液に添加されるが、これらの成分の電
解液中における濃度が０．０１〜３ｍｏｔ／４．特に０
．０２〜１．５ｍｏｌ／Ｌであると、研摩面は特に平滑
となるので、このような研摩面を得ることを望む場合に
は、有機酸およびその塩は上記の濃度範囲で使用される
。
うちの１種または２種とを含む電解液に添加されると、
研摩面を一層平滑にする作用を有するので、必要に応じ
てこの発明の電解液に添加されるが、これらの成分の電
解液中における濃度が０．０１〜３ｍｏｔ／４．特に０
．０２〜１．５ｍｏｌ／Ｌであると、研摩面は特に平滑
となるので、このような研摩面を得ることを望む場合に
は、有機酸およびその塩は上記の濃度範囲で使用される
。
なお、硫酸および硫酸塩のうちの１種または２種以上と
、有機酸およびその塩との合計濃度が０−０１〜３ ｍ
ｏｌ／ ｔ ｓ 特に０．０２〜１．５ ｍｏｔ／ｌ
であると、研摩面の表面光沢と平滑性において特にすぐ
れた効果が得られる。
、有機酸およびその塩との合計濃度が０−０１〜３ ｍ
ｏｌ／ ｔ ｓ 特に０．０２〜１．５ ｍｏｔ／ｌ
であると、研摩面の表面光沢と平滑性において特にすぐ
れた効果が得られる。
４、任意成分
この発明の電解液は、以上の弗化物と、硫酸および硫酸
塩のうちの１種または・２種以上を必須成分として含有
するか、あるいは必要に応じてさらに有機酸およびその
塩を含有すれば、この発明の目的を達成するのに十分で
あるが、この発明の電解液は、それの作用が害われない
範囲で、従来の電解液において慣用されていた、上記成
分以外の成分、例えば粘性を高めて溶出イオンの移動を
抑制し、研摩効果を高めるためのゼラチン、寒天、グリ
セリン等を、必要に応じて随意に添加することができる
。
塩のうちの１種または・２種以上を必須成分として含有
するか、あるいは必要に応じてさらに有機酸およびその
塩を含有すれば、この発明の目的を達成するのに十分で
あるが、この発明の電解液は、それの作用が害われない
範囲で、従来の電解液において慣用されていた、上記成
分以外の成分、例えば粘性を高めて溶出イオンの移動を
抑制し、研摩効果を高めるためのゼラチン、寒天、グリ
セリン等を、必要に応じて随意に添加することができる
。
４、＃媒
以上の成分を溶解して電解液を形成させるための溶媒と
しては一般に水が専ら使用されるが、各成分の溶解およ
び電解液の導電性や研屋特性が害わない範囲で、水と相
溶性のある溶媒、例えばアルコール等を溶媒の一部とし
て使用することができる。
しては一般に水が専ら使用されるが、各成分の溶解およ
び電解液の導電性や研屋特性が害わない範囲で、水と相
溶性のある溶媒、例えばアルコール等を溶媒の一部とし
て使用することができる。
ついで、この発明を比較例と対比しながら、実施例によ
って説明する。
って説明する。
実施例１〜１８
被研摩部材として、いずれも幅：２０１＋ｕＩ×長さ：
５Ｃ１ｗＸ厚さ：５１ｍの寸法を有するジルカロイ−４
（Ｓｎ： １．５％−Ｆｅ： ０．２ ％ −Ｃｒ：
０．１％−０：０．１チーｚｒ：残シ）（第１表および
第２表中、無印のもの）１．ジルカロイ−２（Ｓｎ：１
．５％−Ｆｅ： ０．１５％ −Ｃｒ： ０．１％−Ｎ
ｉ：０．０５％−〇二０．１Ｔｏ−Ｚｒ：残り）（第１
表中、☆印で示したもの）（以上重量％）、および純ジ
ルコニウム（第１表中、■印で示したもの）製の板材を
用意した。
５Ｃ１ｗＸ厚さ：５１ｍの寸法を有するジルカロイ−４
（Ｓｎ： １．５％−Ｆｅ： ０．２ ％ −Ｃｒ：
０．１％−０：０．１チーｚｒ：残シ）（第１表および
第２表中、無印のもの）１．ジルカロイ−２（Ｓｎ：１
．５％−Ｆｅ： ０．１５％ −Ｃｒ： ０．１％−Ｎ
ｉ：０．０５％−〇二０．１Ｔｏ−Ｚｒ：残り）（第１
表中、☆印で示したもの）（以上重量％）、および純ジ
ルコニウム（第１表中、■印で示したもの）製の板材を
用意した。
ついで、脱イオン水に穐々の弗化物と、硫酸および硫酸
塩、あるいはさらに有機酸およびその塩を溶解して調製
した。第１表に示される組成を有する本発明電解液１〜
１日、およびこの発明の範囲から外れた組成を有する比
較電解液１〜７（外れた条件を第１表中、※印で示す）
を、いずれも液温：２０℃、電流密度： ２０ Ａ／ｄ
ｍ２ （ただし、比較例３においては、電解液中に弗化
物が含まれていないことから被研摩物表面に抵抗性の不
動態化被膜が瞬時に形成され、このため電流が殆ど流れ
ず、したがって電流密度は０である）、および研摩時間
：５分の条件下で使用して、前記各被研摩部材を電解研
摩する実施例１〜１日および比較例１〜７をそれぞれ遂
行し、それによって得られた研摩量（μｍ）をマイクロ
メータによって測定するとともに、上記板材の研摩面を
観察して、その研摩面が非常に平滑で金属光沢があシ、
かつピッティングを生じていない場合なｏ１平滑で光沢
を有し、かつピッティングを生じていないものを０゜平
滑に研摩されていても、被膜に被われて光沢がないか、
あるいは光沢はあっても凹凸を生じて平滑でないものを
Δ、そして研摩作用自体を受けていないものをＸとして
評価し、これらの結果を合わせて第１表に示した。
塩、あるいはさらに有機酸およびその塩を溶解して調製
した。第１表に示される組成を有する本発明電解液１〜
１日、およびこの発明の範囲から外れた組成を有する比
較電解液１〜７（外れた条件を第１表中、※印で示す）
を、いずれも液温：２０℃、電流密度： ２０ Ａ／ｄ
ｍ２ （ただし、比較例３においては、電解液中に弗化
物が含まれていないことから被研摩物表面に抵抗性の不
動態化被膜が瞬時に形成され、このため電流が殆ど流れ
ず、したがって電流密度は０である）、および研摩時間
：５分の条件下で使用して、前記各被研摩部材を電解研
摩する実施例１〜１日および比較例１〜７をそれぞれ遂
行し、それによって得られた研摩量（μｍ）をマイクロ
メータによって測定するとともに、上記板材の研摩面を
観察して、その研摩面が非常に平滑で金属光沢があシ、
かつピッティングを生じていない場合なｏ１平滑で光沢
を有し、かつピッティングを生じていないものを０゜平
滑に研摩されていても、被膜に被われて光沢がないか、
あるいは光沢はあっても凹凸を生じて平滑でないものを
Δ、そして研摩作用自体を受けていないものをＸとして
評価し、これらの結果を合わせて第１表に示した。
また実施例２，６，９、および１７については、研摩さ
れた研摩面の表面粗さくＲａ：平均粗さμｍ）を触針式
の表面粗さ計によシ測定して、その結果を第２表に示し
た。
れた研摩面の表面粗さくＲａ：平均粗さμｍ）を触針式
の表面粗さ計によシ測定して、その結果を第２表に示し
た。
第１表中に示される結果から、この発明による電解液を
使用した実施例１〜１８においては、いずれも、平滑で
表面光沢にすぐれ、かつピッティングを生じていない研
摩面が得られたのに対し、比較例１．３〜６においては
研摩面に凹凸が生じたか、あるいは表面光沢がなく、ま
た比較例２では、電解液中に弗化物が含まれていないと
ころから電流が殆ど流れず、その結果研摩が全く進行し
なかったことがわかる。
使用した実施例１〜１８においては、いずれも、平滑で
表面光沢にすぐれ、かつピッティングを生じていない研
摩面が得られたのに対し、比較例１．３〜６においては
研摩面に凹凸が生じたか、あるいは表面光沢がなく、ま
た比較例２では、電解液中に弗化物が含まれていないと
ころから電流が殆ど流れず、その結果研摩が全く進行し
なかったことがわかる。
また第２表に示される結果から、弗化物と、硫酸および
硫酸塩のうちの１＆または２＠以上のほかに、さらにく
えん酸、″！たはしゆう酸とグルコン酸を加えることに
よシ、研摩面の表面粗さくＲａ）が改善され、一層平滑
な研雄面が得られることがわかる。
硫酸塩のうちの１＆または２＠以上のほかに、さらにく
えん酸、″！たはしゆう酸とグルコン酸を加えることに
よシ、研摩面の表面粗さくＲａ）が改善され、一層平滑
な研雄面が得られることがわかる。
以上述べた説明から明らかなように、この発明によると
、ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩にお
いて、平滑で表面光沢にすぐれ、かつピッティングを生
じない研摩面を形成できるとともに、化学的に安定であ
るところから取扱いも容易である、すぐれた電解研摩用
電解液が提供される。
、ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩にお
いて、平滑で表面光沢にすぐれ、かつピッティングを生
じない研摩面を形成できるとともに、化学的に安定であ
るところから取扱いも容易である、すぐれた電解研摩用
電解液が提供される。
Claims (4)
- （１）弗化物：０．２〜５ｍｏｌ／ｌと、 硫酸および硫酸塩のうちの１種または２種 以上とを 含有することを特徴とする、ジルコニウムおよびジルコ
ニウム合金の電解研摩用電解液。 - （２）硫酸および硫酸塩のうちの１種または２種以上を
０．０１〜３ｍｏｌ／ｌ 含有することを特徴とする、特許請求の範囲第（１）項
記載の電解液。 - （３）しゆう酸、しゆう酸塩、くえん酸、くえん酸塩、
グルコン酸、およびグルコン酸塩の うちの１種または２種以上を、 さらに含有することを特徴とする、特許請求の範囲第（
１）項または第（２）項記載の電解液。 - （４）しゆう酸、しゆう酸塩、くえん酸、くえん酸塩、
グルコン酸、およびグルコン酸塩の うちの１種または２種以上を、０．０１〜３ｍｏｌ／ｌ 含有することを特徴とする、特許請求の範囲第（３）項
記載の電解液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62027695A JPS63195300A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62027695A JPS63195300A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63195300A true JPS63195300A (ja) | 1988-08-12 |
Family
ID=12228108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62027695A Pending JPS63195300A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63195300A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2780301A1 (fr) * | 1998-06-26 | 1999-12-31 | Commissariat Energie Atomique | Procede de dissolution selective de la matrice d'un alliage a base de zirconium et procede d'analyse des phases precipitees ainsi extraites |
| JP2013511624A (ja) * | 2009-11-23 | 2013-04-04 | メトコン・エルエルシー | 電解質溶液及び電解研磨方法 |
| JP2013543060A (ja) * | 2010-11-22 | 2013-11-28 | メトコン・エルエルシー | 電解質溶液及び電気化学的な表面改変方法 |
| EP3109348A1 (en) * | 2015-06-24 | 2016-12-28 | Airbus Defence and Space GmbH | Electrolyte and process for the electrolytic polishing of a metallic substrate |
| JP2018109224A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-07-12 | エアバス・ディフェンス・アンド・スペース・ゲーエムベーハー | 金属基材を電解研磨する方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835280A (ja) * | 1982-05-20 | 1983-03-01 | Honda Motor Co Ltd | エンジンによる油圧ポンプの駆動装置 |
-
1987
- 1987-02-09 JP JP62027695A patent/JPS63195300A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5835280A (ja) * | 1982-05-20 | 1983-03-01 | Honda Motor Co Ltd | エンジンによる油圧ポンプの駆動装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2780301A1 (fr) * | 1998-06-26 | 1999-12-31 | Commissariat Energie Atomique | Procede de dissolution selective de la matrice d'un alliage a base de zirconium et procede d'analyse des phases precipitees ainsi extraites |
| JP2013511624A (ja) * | 2009-11-23 | 2013-04-04 | メトコン・エルエルシー | 電解質溶液及び電解研磨方法 |
| JP2013543060A (ja) * | 2010-11-22 | 2013-11-28 | メトコン・エルエルシー | 電解質溶液及び電気化学的な表面改変方法 |
| EP3109348A1 (en) * | 2015-06-24 | 2016-12-28 | Airbus Defence and Space GmbH | Electrolyte and process for the electrolytic polishing of a metallic substrate |
| JP2018109224A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-07-12 | エアバス・ディフェンス・アンド・スペース・ゲーエムベーハー | 金属基材を電解研磨する方法 |
| US11162185B2 (en) | 2016-12-21 | 2021-11-02 | Airbus Defence and Space GmbH | Process for the electrolytic polishing of a metallic substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU604725B2 (en) | Method of coating articles of aluminum and an electrolytic bath therefor | |
| US3098018A (en) | Sealing anodized aluminum | |
| JPS63501802A (ja) | マグネシウムの物品を被覆する方法とそのための電解浴 | |
| US3063835A (en) | Corrosion-resistant alloys | |
| JPH11193498A (ja) | マグネシウム又はその合金のカソード防食被覆及びその製造方法 | |
| US5269957A (en) | Rust removing agent for stainless steel surface | |
| JPH03504253A (ja) | チタン構造体の処理方法 | |
| JPS63195300A (ja) | ジルコニウムおよびジルコニウム合金の電解研摩用電解液 | |
| EP0425012B1 (fr) | Bains et procédé pour le polissage chimique de surfaces en cuivre ou en alliage de cuivre | |
| JPS63195299A (ja) | ＺｒおよびＺｒ合金電解研摩用電解液 | |
| US3647649A (en) | Method and composition for sealing anodized aluminum surfaces | |
| CA1211691A (en) | Thallium-containing composition for stripping palladium | |
| US3944496A (en) | Composition for chemical milling refractory metals | |
| US4426252A (en) | Process and composition for preparing aluminum surfaces for anodizing | |
| JPS63277793A (ja) | マグネシウムまたはその合金の陽極酸化処理液 | |
| US2836526A (en) | Aluminum surfacing | |
| US2347039A (en) | Method of anodically polishing copper | |
| US3213008A (en) | Electrolytic polishing of stainless steel | |
| US2844496A (en) | Formation of corrosion resistant films on aluminum | |
| US3006827A (en) | Method of pickling titanium and compositions used therein | |
| US2701186A (en) | Method of making photo engraving plate | |
| JPH0245710B2 (ja) | Chitanoyobichitangokinnomaeshoryoku | |
| Pircher et al. | Electropolishing of copper alloys in phosphoric acid solutions with alcohols | |
| JPS60238492A (ja) | チタン又はチタン合金の腐食防止方法 | |
| Brace et al. | Some Studies of Phosphoric Acid-Based Chemical Brightening Solutions for Aluminium |