JPS6335787A - 基体上のニオブ含有被覆の除去用洗浄浴および前記被覆の除去方法 - Google Patents
基体上のニオブ含有被覆の除去用洗浄浴および前記被覆の除去方法Info
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- JPS6335787A JPS6335787A JP62185328A JP18532887A JPS6335787A JP S6335787 A JPS6335787 A JP S6335787A JP 62185328 A JP62185328 A JP 62185328A JP 18532887 A JP18532887 A JP 18532887A JP S6335787 A JPS6335787 A JP S6335787A
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Classifications
-
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/44—Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
-
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- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/32—Alkaline compositions
- C23F1/38—Alkaline compositions for etching refractory metals
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、洗浄浴および基体上にニオブを含有する被覆
の除去方法に関する。
の除去方法に関する。
ニオブおよびニオブ合金は、その有利な化学的性質Ｊ５
よび電気的性質、特に環境温度における大部分の腐食性
物質に対するその耐腐食性、とりわけ熱および電気の浸
れた導体であるその性質の改に知られている。この結果
として、ニオブおよびその合金は、化学工学プラントお
よび装置の建設用および電橋用超伝導性被覆としても用
いられることが多い。事実、ニオ７Ｊ３よびその合金の
抵抗率は、８．３に未満において事実上Ｏになることは
知られている（ラヴイ・ア・う・ソシエテ・シワ１フル
・ベルジ・デ・エジエニュール・工・デ・ニブストリニ
ル（Ｒｅｖｕｅ ｄａ ｌａ ５ｏｃｉｅｔ６ Ｉｔｏ
ｙａｌｃＢｅｌｇｃ ｄｃｓ Ｉｎｇ６ｎｉｃｕｒｓ
ｅｔ ｄｃｓ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｃｌｓ ）、第８／９
号、１９６つ、ｌｔ、１４ｉｎａｎｄ、［プロブリエテ
・土・イザージ・デ・メト・レフラフテール（ｐｒｏｐ
ｒｉｃｔ６ｓ ｅｔ ｕｓａｇｅｓ ｄｅｓ ｍｃ’ｒ
ａｕｘｒｉｆｒａｃｔａｉｒｃｓ） Ｊ ［ｒブ［ｌパ
テイーズ・アンド・ユーシズ・Ａブ・リフラクトリ−・
メタルズ（Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ａｎｄ ｕｓｅｓ
ｏｒ ｒｅｆｒａｃｔｏｒｙ ｍｅｔａｌｓ月１、第３
８１頁〜４１５頁）。しかしながら、ニオブが高（ｄｌ
ｉ ＜ｒために基本上の被覆の形Ｃ使用されるのが多い
（Ｒ，１，ｅｓｃａｒｔｓ−デイクショネール・デ・メ
１ｌ．ノフエロ（Ｄｉｃｔｉｏｎｎａｉｒｃ ｄｅｓ
ｍｃｔａｕｘ ｎｏｎｒｃｒｒｅｕｘ ［ディクショ
ナリイ・Ａブ・ノンフェラスｅメタルズ（Ｄｉｃｔｉｏ
ｎａｒｙ ｏｒ ｎｏｎ４ｃｒｒｏｕｓｍｅｔａｌｓ）
］ 、１９７２、第１０７頁）。
よび電気的性質、特に環境温度における大部分の腐食性
物質に対するその耐腐食性、とりわけ熱および電気の浸
れた導体であるその性質の改に知られている。この結果
として、ニオブおよびその合金は、化学工学プラントお
よび装置の建設用および電橋用超伝導性被覆としても用
いられることが多い。事実、ニオ７Ｊ３よびその合金の
抵抗率は、８．３に未満において事実上Ｏになることは
知られている（ラヴイ・ア・う・ソシエテ・シワ１フル
・ベルジ・デ・エジエニュール・工・デ・ニブストリニ
ル（Ｒｅｖｕｅ ｄａ ｌａ ５ｏｃｉｅｔ６ Ｉｔｏ
ｙａｌｃＢｅｌｇｃ ｄｃｓ Ｉｎｇ６ｎｉｃｕｒｓ
ｅｔ ｄｃｓ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｃｌｓ ）、第８／９
号、１９６つ、ｌｔ、１４ｉｎａｎｄ、［プロブリエテ
・土・イザージ・デ・メト・レフラフテール（ｐｒｏｐ
ｒｉｃｔ６ｓ ｅｔ ｕｓａｇｅｓ ｄｅｓ ｍｃ’ｒ
ａｕｘｒｉｆｒａｃｔａｉｒｃｓ） Ｊ ［ｒブ［ｌパ
テイーズ・アンド・ユーシズ・Ａブ・リフラクトリ−・
メタルズ（Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ａｎｄ ｕｓｅｓ
ｏｒ ｒｅｆｒａｃｔｏｒｙ ｍｅｔａｌｓ月１、第３
８１頁〜４１５頁）。しかしながら、ニオブが高（ｄｌ
ｉ ＜ｒために基本上の被覆の形Ｃ使用されるのが多い
（Ｒ，１，ｅｓｃａｒｔｓ−デイクショネール・デ・メ
１ｌ．ノフエロ（Ｄｉｃｔｉｏｎｎａｉｒｃ ｄｅｓ
ｍｃｔａｕｘ ｎｏｎｒｃｒｒｅｕｘ ［ディクショ
ナリイ・Ａブ・ノンフェラスｅメタルズ（Ｄｉｃｔｉｏ
ｎａｒｙ ｏｒ ｎｏｎ４ｃｒｒｏｕｓｍｅｔａｌｓ）
］ 、１９７２、第１０７頁）。
ニオブを含有Ｊ”る被覆を有１Ｊ゛る電極または他成分
のげ設または維持においては、基体を完全にまたは１部
分剥離するために、被覆を溶解または洗浄して除く必要
があろう。
のげ設または維持においては、基体を完全にまたは１部
分剥離するために、被覆を溶解または洗浄して除く必要
があろう。
−オプの除去を達成するために、温度５０℃未満にＪ３
いて水４５容吊部〜６５容吊部、ａ硫酸３０′８肴部〜
５０容Ｍ部、過酸化水素Ｄ１ｌ水溶液０．２容量部〜３
．０容吊部および瀾フッ化水素Ｍ１．０容吊部〜５．Ｏ
Ｆｉ吊部を含有する洗浄液を用いることが提案されてい
る［セントラル・パデンツ・インデックス・ベーシック
・アブトラクト・ジャーナル（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐａｔ
ｅｎｔｓ Ｉｎｄｅｘ。
いて水４５容吊部〜６５容吊部、ａ硫酸３０′８肴部〜
５０容Ｍ部、過酸化水素Ｄ１ｌ水溶液０．２容量部〜３
．０容吊部および瀾フッ化水素Ｍ１．０容吊部〜５．Ｏ
Ｆｉ吊部を含有する洗浄液を用いることが提案されてい
る［セントラル・パデンツ・インデックス・ベーシック
・アブトラクト・ジャーナル（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐａｔ
ｅｎｔｓ Ｉｎｄｅｘ。
Ｂａ５ｉｃ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｊｏｕｒｎａｌ ）
、Ｌ部、Ｄ週、１９、グーウエント・パブリケーショ
ンズ、リミテッド・ロンドン所在、アブトラクト・３３
５２５Ｄ−Ｌ・特１汀出願ＪＰ−△−５６−０２９，３
２４号（東京芝浦電気株式会社）明ｉ［ａ ］。この方
式で行われた洗浄は、一般に迅速かつ有効であるが、フ
ッ化水素酸の存在によって、これらの既知の浴は使用菌
に有害および危険となり、従ってさらに、これらの浴に
よって腐食されやずい銅基体の場合に（ま、これらの浴
は勧められない。
、Ｌ部、Ｄ週、１９、グーウエント・パブリケーショ
ンズ、リミテッド・ロンドン所在、アブトラクト・３３
５２５Ｄ−Ｌ・特１汀出願ＪＰ−△−５６−０２９，３
２４号（東京芝浦電気株式会社）明ｉ［ａ ］。この方
式で行われた洗浄は、一般に迅速かつ有効であるが、フ
ッ化水素酸の存在によって、これらの既知の浴は使用菌
に有害および危険となり、従ってさらに、これらの浴に
よって腐食されやずい銅基体の場合に（ま、これらの浴
は勧められない。
従って、本発明は、汚染性かつ有害な廃棄物を生じるこ
となく、特に後者の基体が調性の場合にとりわけ基体を
損傷することなく基体−Ｌのニオブを含有づる被覆を迅
速かつ効率よく除去できる洗浄浴を提供することを目的
としている。
となく、特に後者の基体が調性の場合にとりわけ基体を
損傷することなく基体−Ｌのニオブを含有づる被覆を迅
速かつ効率よく除去できる洗浄浴を提供することを目的
としている。
従って、本発明Ｃよ、基体上のニオブを含有する被覆を
除去でるための、アルカリ金属水酸化物および過酸化水
素の水溶液からなる浴に関する。
除去でるための、アルカリ金属水酸化物および過酸化水
素の水溶液からなる浴に関する。
本発明による浴においては、アルカリ金属水酸化物は、
例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであって
もよい。水酸過ナトリウムが好ましい、。
例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムであって
もよい。水酸過ナトリウムが好ましい、。
本発明による浴におけるアルカリ金属水酸化物および過
酸化水素の濃度は、種々の葭索、特にこれらが使用され
る温度、侵食の望まれる速度、除去される？１！１の厚
さおよびｕ体材料によって決まる。実際に、本発明によ
る浴は、１ｌ当たりアルカリ金属水酸化物受なくとも０
．４七ルＪ３よび１００％過酸化水素少なくとも７．５
Ｒ１を含有するのが一般に適当である。本発明による方
法にＪ′３いて使用できる浴の例は、１ｌ当たり、アル
カリ金属水酸化物０．５モル〜４モルおよび１００％過
酸化水木１０ｍ１！〜１５５ｄを含有するものである。
酸化水素の濃度は、種々の葭索、特にこれらが使用され
る温度、侵食の望まれる速度、除去される？１！１の厚
さおよびｕ体材料によって決まる。実際に、本発明によ
る浴は、１ｌ当たりアルカリ金属水酸化物受なくとも０
．４七ルＪ３よび１００％過酸化水素少なくとも７．５
Ｒ１を含有するのが一般に適当である。本発明による方
法にＪ′３いて使用できる浴の例は、１ｌ当たり、アル
カリ金属水酸化物０．５モル〜４モルおよび１００％過
酸化水木１０ｍ１！〜１５５ｄを含有するものである。
好ましい浴は、１ｌ当たりアルカリ金属水酸物０．５モ
ル〜２モルおよび１００％過酸化水木１３ｉ〜７５ｍを
含有するものである１゜本発明による浴の水溶液は、通
常の割合でグルコン酸誘導体またはボスホン酸誘導体の
ような過酸化水素安定剤、例えばホスボンＭ Ｌｉ導体
である商標１“Ｄｃｑｕｃｓｔ ｌ （ｔンザント）
の下に知られている製品の１種を含有するのが有利であ
ろう。望むならば、水溶液は、例えば界面活性剤Ｊ３よ
び腐食防止剤のようなａ属洗浄浴に普通に存在する添加
剤を含有してもよい。
ル〜２モルおよび１００％過酸化水木１３ｉ〜７５ｍを
含有するものである１゜本発明による浴の水溶液は、通
常の割合でグルコン酸誘導体またはボスホン酸誘導体の
ような過酸化水素安定剤、例えばホスボンＭ Ｌｉ導体
である商標１“Ｄｃｑｕｃｓｔ ｌ （ｔンザント）
の下に知られている製品の１種を含有するのが有利であ
ろう。望むならば、水溶液は、例えば界面活性剤Ｊ３よ
び腐食防止剤のようなａ属洗浄浴に普通に存在する添加
剤を含有してもよい。
本発明による洗浄浴は、前記浴と接触している局部腐食
を受ける危険を冒さないあらゆる種類の基体上のニオブ
を含有する被覆の除去に適している。これらの洗浄浴は
、銅または銅をベースとする合金製の基体上のニオブを
含有する被覆の除去に特に適している。被覆は、純ニオ
ブまたはニオブ合金、例えばＮｂ−Ｃ−Ｎ合金またはＮ
ｂ−Ａ１−Ｇｅ合金あるいはＮｂ−Ｔｉ合金であってら
よい。
を受ける危険を冒さないあらゆる種類の基体上のニオブ
を含有する被覆の除去に適している。これらの洗浄浴は
、銅または銅をベースとする合金製の基体上のニオブを
含有する被覆の除去に特に適している。被覆は、純ニオ
ブまたはニオブ合金、例えばＮｂ−Ｃ−Ｎ合金またはＮ
ｂ−Ａ１−Ｇｅ合金あるいはＮｂ−Ｔｉ合金であってら
よい。
従って、本発明は、また被覆を本発明による洗浄浴をも
って処理することによって、１５体上のニオブを含有す
る被覆を除去する方法にも関する。
って処理することによって、１５体上のニオブを含有す
る被覆を除去する方法にも関する。
本発明による方法においては、浴を用いる被覆の処理は
、任意の適当な方法によって、例えばその被覆を有する
基体を浴に浸漬するかまたは浴を被覆上に塗布またシュ
噴霧することによって行うことができる。
、任意の適当な方法によって、例えばその被覆を有する
基体を浴に浸漬するかまたは浴を被覆上に塗布またシュ
噴霧することによって行うことができる。
使用される浴のｍは、ニオブ被覆を溶解するに十分でな
ければならない。浴のＰＩ！ｉｔよ、特に除去される被
覆の質Ｍ１その構成、浴の組成および温度ににって決ま
る。この量は、各場合に決定されなければならない。
ければならない。浴のＰＩ！ｉｔよ、特に除去される被
覆の質Ｍ１その構成、浴の組成および温度ににって決ま
る。この量は、各場合に決定されなければならない。
本発明による方法は、浴の時を１９４【い分解の危険の
ない温度にＪ３いて適切に行われる。この目的のために
は、５０℃を越えない温度にお（プる浴を用いるのが一
般に適当であり、大抵の場合には、環境温度１５℃〜２
５℃が最も適している。
ない温度にＪ３いて適切に行われる。この目的のために
は、５０℃を越えない温度にお（プる浴を用いるのが一
般に適当であり、大抵の場合には、環境温度１５℃〜２
５℃が最も適している。
本発明による方法においては、浴処理の適当１．【停止
り時間を正確に決定するように被覆を基体から除去する
方法の進行を追跡できることが重要である。この目的の
ためには、本発明による方法の右利な実施態様にＪ３い
ては、浴と被覆の間の反応の終りは、浴における基体の
電気化学的電位を測定することによって検出される。本
方法のこの態様の実施においては、従って、その被覆を
有する基体間の電位を測定するセルを、浴に浸漬される
参照′ａｆ穫と結合するのが十分である。
り時間を正確に決定するように被覆を基体から除去する
方法の進行を追跡できることが重要である。この目的の
ためには、本発明による方法の右利な実施態様にＪ３い
ては、浴と被覆の間の反応の終りは、浴における基体の
電気化学的電位を測定することによって検出される。本
方法のこの態様の実施においては、従って、その被覆を
有する基体間の電位を測定するセルを、浴に浸漬される
参照′ａｆ穫と結合するのが十分である。
本発明による方法は、応用、特に例えば高周波電流が供
給される゛を極を形成する空胴の胴壁からニオブまたは
ニオブ合金［例えば文書リサーヂアンド・デベロップメ
ント（Ｒｅ５ｅａｒｃｈ ａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｌｅｎ
ｔ ） 、１９８６年１ｌ］、第４９頁および５０頁「
フィジックス（ｐｈｙｓｉｃｓ ） ’ングネツ１゛
°デザイン・プリンゲス・プレス・オブ・リアリティ・
］・つ・ニスニスシー（Ｈａｇｎｃｔ ｄｅｓｉｇｎｂ
ｒｉｎｇｓ ｂｒｅａｔｈ ｏｆ ｒｅａｌｉｔｙ ｔ
ｏ ５ＳＣ） Ｊに提案されたニオブおよびチタンの
合金１の超伝導性被覆を除去するために使用できるサイ
クロトロンのよ （うな粒子加速器の建設および維持に
応用を見出している。
給される゛を極を形成する空胴の胴壁からニオブまたは
ニオブ合金［例えば文書リサーヂアンド・デベロップメ
ント（Ｒｅ５ｅａｒｃｈ ａｎｄＤｅｖｅｌｏｐｌｅｎ
ｔ ） 、１９８６年１ｌ］、第４９頁および５０頁「
フィジックス（ｐｈｙｓｉｃｓ ） ’ングネツ１゛
°デザイン・プリンゲス・プレス・オブ・リアリティ・
］・つ・ニスニスシー（Ｈａｇｎｃｔ ｄｅｓｉｇｎｂ
ｒｉｎｇｓ ｂｒｅａｔｈ ｏｆ ｒｅａｌｉｔｙ ｔ
ｏ ５ＳＣ） Ｊに提案されたニオブおよびチタンの
合金１の超伝導性被覆を除去するために使用できるサイ
クロトロンのよ （うな粒子加速器の建設および維持に
応用を見出している。
本発明の利点は、下記の例から明らかになる。
これらの例は、二オシ被覆を右する銅パネルが、本発明
による方法によって処理されて、ニオブ被覆を除去する
試験に関する。
による方法によって処理されて、ニオブ被覆を除去する
試験に関する。
その組成を、第１表に示す本発明による浴をもって、３
種の試験を行つ１こ。
種の試験を行つ１こ。
第 １ 表
：＊）ジエチレントリアミンペンタン（メチレンホスホ
ン酸）各試験においては、パネルを環境温度において浴
に浸漬し、次いでＫＣｊ！飽和力ロヌルリ照電極に対し
てパネルの電気化学的電位を測定することによって、ニ
オブ除去ブＩコセスを追跡した。処理の１ｌａ後にそれ
ぞれパネルの重ｔｄを測定することによって、除去され
たニオブの重量を測定し、パネルの表面積は既知である
ので除去されたニオブフイルムの厚さを導出した・ 試験の結果を第２表に挙げる。
ン酸）各試験においては、パネルを環境温度において浴
に浸漬し、次いでＫＣｊ！飽和力ロヌルリ照電極に対し
てパネルの電気化学的電位を測定することによって、ニ
オブ除去ブＩコセスを追跡した。処理の１ｌａ後にそれ
ぞれパネルの重ｔｄを測定することによって、除去され
たニオブの重量を測定し、パネルの表面積は既知である
ので除去されたニオブフイルムの厚さを導出した・ 試験の結果を第２表に挙げる。
第２表
試験の終りに集めたパネルには、そのニオブ被覆は全く
ないことが分かった。このパネルは、何ら腐食部のない
均一に（ｄ磨された表面を右した。
ないことが分かった。このパネルは、何ら腐食部のない
均一に（ｄ磨された表面を右した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）過酸化水素およびアルカリ金属水酸化物の水溶液
からなることを特徴とする、過酸化水素の水溶液を含有
し、基体上のニオブ含有被覆の除去用洗浄浴。 （２）アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウムである
ことを特徴とする、特許請求の範囲第１項に記載の浴。 （３）水溶液が１ｌ当たり、過酸化水素少なくとも７．
５ｍｌおよびアルカリ金属水酸化物少なくとも０．４モ
ルを含有することを特徴とする、特許請求の範囲第１項
または第２項に記載の浴。 （４）水溶液が１ｌ当たり、過酸化水素１３ｍｌ〜７５
ｍｌおよびアルカリ金属水酸化物０．５モル〜２モルを
含有することを特徴とする、特許請求の範囲第３項に記
載の浴。 （５）水溶液がグルコン酸誘導体およびホスホン酸誘導
体から選ばれた過酸化水素安定剤を含有することを特徴
とする、特許請求の範囲第１項〜第４項の何れか１項に
記載の浴。（６）特許請求の範囲第１項〜第５項の何れ
か１項に記載の浴を用いることを特徴とする、被覆が洗
浄浴をもつて処理される、基体上のニオブ含有被覆の除
去方法。 （７）浴が温度１５℃〜２５℃において用いられること
を特徴とする、特許請求の範囲第６項に記載の方法。 （８）銅または銅合金製の基体上のニオブまたはニオブ
合金の被覆の除去に適用されることを特徴とする、特許
請求の範囲第６項または第７項に記載の方法。 （９）浴と被覆の間の反応の終りが浴中の基体の電気化
学的電位を測定することによつて検出されることを特徴
とする、特許請求の範囲第６項〜第８項の何れか１項に
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8611001 | 1986-07-25 | ||
| FR8611001A FR2601968B1 (fr) | 1986-07-25 | 1986-07-25 | Bains decapants et procede pour eliminer un revetement comprenant du niobium sur un substrat. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335787A true JPS6335787A (ja) | 1988-02-16 |
Family
ID=9337854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62185328A Pending JPS6335787A (ja) | 1986-07-25 | 1987-07-24 | 基体上のニオブ含有被覆の除去用洗浄浴および前記被覆の除去方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0257671B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6335787A (ja) |
| AT (1) | ATE74971T1 (ja) |
| BR (1) | BR8605611A (ja) |
| DE (1) | DE3778246D1 (ja) |
| FR (1) | FR2601968B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021050371A (ja) * | 2019-09-24 | 2021-04-01 | 株式会社東芝 | 線材の処理方法 |
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| US6074961A (en) * | 1998-06-18 | 2000-06-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Caro's cleaning of SOG control wafer residue |
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| US3492210A (en) * | 1967-10-16 | 1970-01-27 | Hamilton Cosco Inc | Electrolytic stripping of nonferrous metals from a ferrous metal base |
| JPS4829638A (ja) * | 1971-08-20 | 1973-04-19 | ||
| US3802973A (en) * | 1972-08-09 | 1974-04-09 | Pennwalt Corp | Aluminum etching process |
| DE2239425C3 (de) * | 1972-08-10 | 1978-04-20 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur elektrolytischen Behandlung von Nioboberflächen für Wechselstromanwendungen |
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| US4497725A (en) * | 1980-04-01 | 1985-02-05 | Interox Chemicals Ltd. | Aqueous bleach compositions |
| US4495158A (en) * | 1984-02-29 | 1985-01-22 | Gte Products Corporation | Process for the recovery of tantalum values |
-
1986
- 1986-07-25 FR FR8611001A patent/FR2601968B1/fr not_active Expired
- 1986-11-13 BR BR8605611A patent/BR8605611A/pt unknown
-
1987
- 1987-07-14 EP EP87201347A patent/EP0257671B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-14 AT AT87201347T patent/ATE74971T1/de not_active IP Right Cessation
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- 1987-07-24 JP JP62185328A patent/JPS6335787A/ja active Pending
-
1989
- 1989-08-17 US US07/396,754 patent/US4950359A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021050371A (ja) * | 2019-09-24 | 2021-04-01 | 株式会社東芝 | 線材の処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3778246D1 (de) | 1992-05-21 |
| US4950359A (en) | 1990-08-21 |
| FR2601968B1 (fr) | 1989-04-14 |
| EP0257671A1 (fr) | 1988-03-02 |
| FR2601968A1 (fr) | 1988-01-29 |
| BR8605611A (pt) | 1988-03-29 |
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