BR0214368B1 - estrutura compósita de substrato transparente e eletrodo. - Google Patents
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Description
"ESTRUTURA COMPÓSITA DE SUBSTRATO TRANSPARENTE EELETRODO"
A invenção se refere a um substrato transparente, notadamenteem vidro, que é provido de um eletrodo. Este substrato condutor é maisparticularmente destinado a fazer parte de células solares. Trata-senotadamente de utilizar como «face frontal» de célula solar, ou seja aquelaque vai se encontrar diretamente exposta às radiações solares a converter emeletricidade.
A invenção se interessa notadamente pelas células solares dotipo Si ou CiS. Lembra-se brevemente a sua estrutura:
Comercializa-se geralmente este tipo de produto sob forma decélulas solares montadas em série e dispostas entre dois substratos rígidostransparentes do tipo vidro. As células são mantidas entre os substratos porum material polímero (ou vários). De acordo com um modo de realização dainvenção que é descrita na patente EP-739 042, as células solares podem sercolocadas entre os dois substratos, e depois o espaço oco entre os substratos épreenchido com um polímero vazado apto a endurecer, muito particularmenteà base de poliuretano proveniente da reação de um pré-polímero de isocianatoalifático e de um poliéter poliol. O endurecimento do polímero pode ser feitoa quente (30 a 5O0C) e eventualmente em leve sobrepressão, por exemplo, emum autoclave. Outros polímeros podem ser usados, como o etilenovinilacetato EVA, e outras montagens são possíveis (por exemplo com umlaminado entre os dois vidros das células com a ajuda de uma ou de váriasfolhas de polímero termoplástico).
É o conjunto dos substratos, do polímero e das células solaresque se designa e que se vende sob o nome de «módulo solar».
A invenção tem também por objeto os ditos módulos.
Quando se sabe que os módulos solares não são vendidos pormetro quadrado, mas pela potência elétrica liberada (aproximadamente, pode-se estimar que um metro quadrado de célula solar pode fornecer cerca de 130Watts), cada porcentagem de rendimento suplementar aumenta o desempenhoelétrico, e logo o preço, de um módulo solar de dimensões dadas.
A invenção tem então por objetivo procurar meios paramelhorar o rendimento de conversão fotoelétrica destes módulos, meios quetêm mais especificamente relação com os vidros «frontais» munidos deeletrodos mencionados acima. Vantajosamente, procurar-se-á os meiossimples para empregar em escala industrial, sem alterar as estruturas econfigurações conhecidas para este tipo de produto.
A invenção tem inicialmente por objeto um substrato vítreomunido de um eletrodo que compreende pelo menos uma camada transparentecondutora a base de óxido(s) metálico(s), a dita camada apresenta umarugosidade RMS de pelo menos 3 nm. Ela é de preferência de pelo menos 5nm, e notadamente de no máximo 30 nm. Uma gama de rugosidade preferidase situa nas cercanias de 5 a 15 nm.
Este tipo de camada condutora sob a abreviação inglesa T.C.O.para «Transparent Conductive Oxide». Ela é largamente usada no domíniodas células solares e da eletrônica.
A rugosidade R.M.S. significa rugosidade «Root MeanSquare». Trata-se de uma medida que consiste em medir o valor do desvioquadrático médio da rugosidade. Esta rugosidade R.M.S., concretamente,quantifica pois em média, a altura dos picos e vazios de rugosidade, emrelação à altura média. Assim, uma rugosidade R.M.S. de 3 nm significa umaamplitude de pico dupla.
Ela pode ser medida de diferentes modos: por exemplo, pormicroscopia com força atômica, por um sistema mecânico com ponta (usandopor exemplo os instrumentos de medida comercializados pela empresaVEECO sob a denominação DEKTAK), por interferometria óptica. A medidaacontece geralmente sobre um micrômetro quadrado por microscopia comforça atômica, e sobre uma superfície maior, da ordem de 50 micrômetros a 2milímetros para os sistemas mecânicos com ponta.
Rugosidades R.M.S. de pelos menos 3 ou 5 nm correspondema valores relativamente elevados. A camada condutora de acordo com ainvenção tem uma natureza química conhecida, ela é de tipo óxido metálicodopado. Em contrapartida, ela tem a especificidade de ser altamente rugosa.De preferência, esta rugosidade é aleatória no sentido de que ela nãoapresenta motivos de uma geometria precisa. Além disso, ela é dispersa, deacordo com o tamanho da superfície medida.
De modo alternativo ou cumulativo, a rugosidade destacamada condutora pode ser igualmente escolhida de modo que o tamanhomédio dos motivos desta rugosidade seja de pelo menos 50 nm, medida feitana dimensão paralela à superfície do substrato. Vantajosamente, ela éescolhida em pelo menos 100 nm, e de preferência de no máximo 500 nm.Privilegia-se um tamanho médio de motivos compreendido entre 200 e 400nm. Este tamanho médio pode ser avaliado, notadamente, por microscopiacom varredura eletrônica. Quando a rugosidade da camada se apresenta sob aforma de picos (de forma irregular), o que é o caso das camadas cristalizadasque apresentam um crescimento colunar, este tamanho médio corresponde,pois, ao tamanho (a maior dimensão) da base destes picos.
Esta rugosidade particular (rugosidade R.M.S. e/ou tamanhode motivos) se revelou muito eficaz. Ela possibilita, de fato, nas interfacesentre a camada e os materiais que a enquadram, uma difusão aumentada daluz incidente, que «obriga» esta última a ter uma trajetória muito mais longaatravés da célula solar.
Alongando, assim, o trajeto óptico, multiplica-se as chances deabsorção da luz pelos elementos ativos da célula, e finalmente aumenta-se ataxa de conversão fotoelétrica da célula solar. Capta-se assim melhor a luz.
A rugosidade definida anteriormente pode ser obtida de modoviável em escala industrial, por vários meios alternativos ou cumulativos.
Inicialmente, pode-se depositar a camada, e depois gravá-la,por exemplo, com gravação química ou por areação. Pode-se assim depositá-la diretamente de modo rugoso, o que é mais vantajoso no plano industrial,pois isto evita uma etapa de tratamento suplementar, descontínua, por meio deuma sucessão de etapas de depósito das diferentes camadas constitutivas dacélula solar.
Pode-se, nos dois casos em questão, depositar a camada pordiferentes técnicas. Pode-se depositá-la, por exemplo, por uma técnica depirólise, notadamente em fase gasosa (técnica freqüentemente designada pelaabreviação inglesa de C.V.D. para "Chemical Vapor Deposition"). Estatécnica é interessante para a invenção, pois regulagens apropriadas dosparâmetros de depósito permitem obter uma certa rugosidade.
Pode-se também depositar a camada por uma técnica dedepósito sob vácuo, notadamente por pulverização catódica assistida porcampo magnético. A pulverização pode ser reativa (partindo de alvosmetálicos ou sub-oxidados, em atmosfera oxidante) ou não reativa (partindode alvos de cerâmica, em atmosfera inerte).
Aqui ainda, modificações nos parâmetros de depósitos podempermitir obter uma certa porosidade e/ou rugosidade. Pode-se assim ajustar demodo apropriado a pressão reinante na câmara de depósito: uma pressãorelativamente elevada permite geralmente obter camadas bastante porosas erugosas na superfície. Uma possibilidade consiste em modular este parâmetroem curso de depósito para que a camada seja eventualmente relativamentedensa em uma certa espessura, e depois ainda mais porosa/ rugosa nasuperfície.
Pode-se também, e será retomado em detalhes posteriormente,provocar ou amplificar a rugosidade da camada condutora ao depositá-lasobre uma superfície ela própria rugosa, notadamente sobre um vidro queapresenta por sua vez mesmo uma certa rugosidade.
A camada condutora apresenta de preferência uma espessurade no máximo 1000 ou 700 ou 650 nm. Sua espessura é notadamente de pelomenos 400 nm, e por exemplo compreendida entre 400 e 800 nm.
A camada condutora pode ser vantajosamente escolhida nosseguintes materiais: óxido de estanho dopado, notadamente com flúor ou comantimônio (os precursores utilizáveis em caso de depósito por CVD podemser organo-metálicos ou halogenetos de estanho associados com um precursorde flúor do tipo ácido fluorídrico ou ácido trifluoroacético), o óxido de zincodopado, notadamente com alumínio (os precursores utilizáveis, em caso dedepósito por CVD, podem ser organo-metálicos ou halogenetos de zinco e dealumínio), ou ainda o óxido de índio dopado, notadamente com estanho (osprecursores utilizáveis em caso de depósito por CVD podem ser organo-metálicos ou halogenetos de estanho ou de índio).
De acordo com uma variante, é possível, que ela possa serutilizada enquanto barreira às espécies suscetíveis de difundir o vidro,notadamente os alcalinos, muito particularmente em caso de tratamentotérmico simultâneo ou posterior ao depósito da camada condutora. Seu papelpode igualmente ser óptico: diminuindo o nível de reflexão luminosa dosubstrato, ela permite aumentar a transmissão luminosa através da camada.
Pode-se tratar de uma camada a base de óxido, oxicarboneto,de oxinitreto ou de nitreto de silício. Pode-se depositá-la pelo mesmo tipo detécnica que a camada condutora, por exemplo por pirólise (CVD) ou porpulverização catódica, de modo conhecido.
Pode-se também deposita-la de modo que ela apresenteigualmente uma certa rugosidade.
Vantajosamente, a camada condutora apresenta umaresistência por quadrado de no máximo 30 ohms/quadrado, notadamente deno máximo 20 ohms/quadrado, de preferência de no máximo 10 ou 15ohms/quadrado. Ela é geralmente compreendida entre 5 e 12 ohms/quadrado.
Como evocado acima, uma variante particularmente vantajosada invenção consiste em que a face A do substrato vítreo sobre a qual édisposta diretamente ou indiretamente (pelo intermédio de outra(s) camada(s)como as camadas barreiras pré-mencionadas) a camada condutora apresentapor sua vez uma rugosidade particular.
A rugosidade R.M.S. desta face A pode ir de 100 nm a 5000nm e é vantajosamente de 100 a 2000 nm e de uma maneira preferível de pelomenos 500 ou 1000, o que significa que se está na presença de uma superfíciechamada Lambertiana na literatura. Esta rugosidade R.M.S. tem o mesmosignificado e pode ser medida da mesma maneira que aquela da camadacondutora descrita acima. De modo alternativo ou cumulativo, a rugosidadedesta face A é tal que o tamanho médio dos motivos, medido de acordo comuma dimensão paralela à superfície do substrato, seja de pelo menos 5micrômetros. Vantajosamente, ele é compreendido entre 5 e 100 micrômetros,notadamente entre 10 e 50 micrômetros.
Esta rugosidade é de preferência não uniforme, ela é aleatória.Não há motivos regulares na superfície do vidro, mas tamanhos variáveis deprotuberâncias e/ou de vazios na superfície do vidro, repartida(o)s ao acasosobre toda a dita superfície. Vantajosamente, esta rugosidade vai permitir umadifusão da luz transmitida pelo substrato grande, e majoritariamente "parafrente", ou seja de modo a difundir a luz, mas majoritariamente para o interiorda célula solar.
O objetivo é, aí ainda, de «captar» melhor os raios solaresincidentes, e isto de diferentes modos.
Cria-se uma interface difusa entre o vidro e o material que lheé contíguo, e esta rugosidade, pelo menos em parte, vai repercutir sobre ascamadas que vão ser depositadas sucessivamente sobre esta superfícierugosidade: a camada tende a acompanhar a rugosidade do substrato sobre oqual ela é depositada.
Em um modo de realização preferido da invenção, arugosidade do substrato é bem superior àquela que pode ter a própria camada:a camada, depositada sobre uma superfície rugosa, apresenta assim umarugosidade de duas ordens.
Criando uma superfície rugosa, pode-se assim criar, emcascata, outras interfaces difusoras sucessivas, cada uma das camadasseguintes acompanha mais ou menos esta rugosidade. Combinar um substratovítreo rugoso, despolido com uma camada condutora que pode, ela também,ter uma rugosidade intrínseca ou provocada, permite aumentar muitosignificativamente a parte de difusão na luz transmitida no interior da célula.Há então um ganho de rendimento de conversão nitidamente melhorado, asrugosidades dos diferentes materiais vindo se adicionar e se combinar demodo muito interessante.
A «captação» da luz pode assim ser melhorada, porque aestrutura irregular em superfície da camada condutora cria esta difusão parafrente (em associação com a diferença de índice de refração que existe entre acamada condutora e a camada seguinte à base de silício), e/ou porque asuperfície irregular eventual do vidro cria igualmente uma difusão para frente(em associação com a diferença de índice de refração que existe igualmenteentre o vidro e a camada condutora).
A rugosidade da face A do substrato vítreo pode ser obtida pordiferentes tipos de gravura, por exemplo areação ou por gravura química.Neste último caso, pode se por exemplo tratar de uma operação dedespolimento com a ajuda de uma solução que compreende a soda e o ácidofluorídrico, ou o ácido fluorídrico sozinho. Geralmente, obtém-se um aspectode superfície que lembra a uma sucessão de "crateras" adjacentes ou não, comeste tipo de despolimento com o ácido. Este despolimento pode ser feito emvárias etapas, com colocações em contato sucessivas da face a tratar porsoluções diferentes. Para um despolimento pouco acentuado, uma solução deácido fluorídrico sozinho pode ser usada. A concentração dos elementosativos da solução e/ou o tempo de imersão do e/ou o número de etapasdurante a gravação permitem regular o tamanho e a profundidade dos "furos"criados na superfície do vidro. Vantajosamente, o substrato vítreo "rugoso"pelo menos sobre esta face, apresenta uma transmissão luminosa global depelo menos 70 ou 75%, notadamente de cerca de 80% segundo o iluminanteD65. A parte de transmissão difusa pode ser de pelo menos 40 a 45%,notadamente cerca de 50%.
Vantajosamente ainda, a camada condutora é majoritariamentecristalizada, com notadamente um tamanho de cristálitos médiocompreendido entre 5 e 200 nm, notadamente entre 50 e 150 nm.
De acordo com uma variante, cumulativa ou alternativa com aprecedente, pode-se escolher a face B do substrato vítreo (aquela que é opostaà face A acima citada) de modo que ela apresente uma certa rugosidadeigualmente. Esta rugosidade pode ser aleatória, não uniforme, similar àrugosidade da face A descrita acima. Mas pode-se também escolhê-la regular,ela pode apresentar motivos do tipo regulares: está-se então em presença deuma superfície dita texturizada. Compreende-se por texturação umapluralidade de motivos geométricos em relevo, côncavos ou convexos emrelação ao plano geral da face texturizada do substrato.
Um tipo de texturação interessante pode ser definida doseguinte modo: o substrato é texturizado sobre ao menos uma de suas facespor uma pluralidade de motivos geométricos em relevo em relação ao planogeral da dita face, a face texturizada sendo colocada do lado da recepção daluz, a superfície dos ditos motivos compreendendo, cada um, pelo menos doispontos tais que existem dois planos secantes entre si contendo, cada um. umdos ditos pontos e reunindo as seguintes duas condições:
- estes planos são todos perpendiculares ao plano geral daface texturizada da placa, e
- estes planos contêm, cada um, uma das duas retasperpendiculares à dita superfície e que passa por um dos ditosdois pontos.
Vantajosamente, os pontos ficam, cada um, sobre umasuperfície plana diferente, e, os motivos são pirâmides que têm um semi-ângulo no vértice.
A base das pirâmides pode ser quadrada. Os motivos podemtambém ser cones que têm um semi-ângulo no vértice por exemplo inferior a70° ou a 60°, notadamente compreendido entre 25 e 50°.
Vantajosamente, o menor círculo que pode conter a base dosmotivos se inscreve em um círculo de diâmetro compreendido entre 0,001mm a 5 mm.
O ponto do motivo mais afastado do plano geral da facetexturizada do substrato é vantajosamente distante do dito plano de umadistância que vai de 0,15 D a D, D representando o diâmetro do menor círculocontido no plano geral da face texturizada do substrato e podendo conter abase do dito motivo.
A face texturizada pode compreender motivos adjacentes.
De acordo com um modo de realização, a face texturizadacompreende pois motivos adjacentes que terminam em ponta.
Vantajosamente, o substrato vítreo pode ser de tipo extra-claro, ou seja, muito pobre em óxidos colorantes como os óxidos de ferro. Umexemplo é o vidro comercializado sob o nome de DIAMANT pela empresaSaint-Gobain Glass. O interesse de um tal vidro é que ele apresenta umatransmissão luminosa muito alta, o que vai no sentido de uma transmissão tãogrande quanto possível dos raios solares no interior da célula solar.
A invenção tem igualmente por objeto a utilização do substratodescrito acima em uma célula solar, assim como a própria célula solar, e omódulo solar da qual ela pode fazer parte.
A invenção será detalhada abaixo com a ajuda de exemplosnão limitativos e das figuras seguintes:
- figuras 1a, 1b, 1c e 1d: clichês obtidos por MEB(microscopia eletrônica com varredura) de amostras de acordo com ainvenção.
- figuras 2a e 2b: esquemas simplificados de uma parte decélula solar de acordo com a invenção, em corte, conforme duas variantes.
As figuras 2a e 2b mostram muito esquematicamente e semrespeito às escalas para facilitar a sua leitura, em corte, uma célula solar emque o vidro "frontal" é rugoso(figura 2a) ou liso (figura 2b) sobre sua faceinterna. Chama-se «face interna» a face em que se encontram, as umas sobreas outras, todas as camadas da célula.
Nos dois casos, tem-se sucessivamente:
- um vidro 1, em vidro claro, l-3mm de espessura.
- uma camada condutora 3, a base de óxido de estanho dopado com flúor,obtida por pirólise a partir dos precursores (o depósito da camada foiefetuado, de modo conhecido, por CVD em retomada sobre um vidroaquecido até 600°C
- um revestimento 4 à base de silício e de germânio, que é uma superposiçãode camadas: p.a Si/ i.a.Si/n.a Si/p.a SiGe/i.aSiGe/n.a SiGe.
- uma camada de prata 5.
Exemplo 1
O vidro 1 é um vidro standard silico-sodo-cálcico,comercializado pela Saint-Gobain Glass France sob o nome Planilux5 semnenhum tratamento particular.
A camada 3 em SnO2:F tem uma espessura de 500 um. Elaapresenta uma rugosidade R.M.S. de cerca de 5 +/-2 nm.
Exemplo 2Em relação ao exemplo 1, o vidro 1 é um vidro que foidespolido, tornado difusor por gravura química sobre sua face Β. A gravurafoi feita da seguinte maneira: ataca-se a face em questão por uma soluçãoaquosa de NaOH/HF (ou HF sozinho) com pH 2 durante 1 hora a 1 hora e 30.
Obtém-se um despolimento sob forma de tipos de crateras antes adjacentes,criando arestas na superfície do vidro. Mede-se uma rugosidade R.M.S. daordem de 1,8 micrômetro, e um tamanho de motivos da ordem de 50micrômetros.
Exemplo 3
Ele é idêntico ao exemplo 2, mas esta vez é a face A do vidroque foi despolida/tornada difusora (como a face B do exemplo anterior).Neste caso em tela, tem-se, pois, a camada SnO2: F que é depositada sobre ovidro rugoso e que "segue", pelo menos em parte, esta rugosidade, além desua rugosidade própria que pode ser modulada, notadamente por modificaçãode seus parâmetros de depósito.
As figuras Ia e Ib representam a camada SnO2:F vista atravésde sua espessura (la), e vista de cima (Ib) quando ela é depositada sobresubstrato liso, conforme os exemplos 1 e 2: vê-se uma camada bemcristalizada, com um crescimento essencialmente colunar, e uma superfícierugosa, com um tamanho de motivo (medido de acordo com um planoparalelo ao vidro portador da camada) que é aproximadamente de cerca de200 a 300 nra em média.
A figura Ic e a figura Id mostram a face rugosa do vidrorecoberta da camada em Sn02:F segundo o exemplo 3, vista de cima (lc)e emsua espessura (ld): vê-se o perfil de cratera da rugosidade do vidro, conformemotivos em vazio, adjacentes, que é "seguido"pela camada, que apresenta porsua vez uma rugosidade, mas em uma escala bem menor: tem-se pois umarugosidade da camada que é de duas ordens.
A tabela 1 abaixo reagrupa para cada um dos três exemplos, osdados seguintes: (após montagem, de modo conhecido e idêntico para os trêsexemplos da célula).
- Jsc: o valor em mA/cm de densidade de corrente gerado pelomódulo solar, a zero volt (é a densidade de corrente correspondente a umcurto circuito).
- FF (%): é a abreviação inglesa para "Fill Factor". Que édefinido como a potência máxima da célula dividida pelo valor de Jsc e deVoe, que é a abreviação inglesa para "open circuit voltage", ou seja, a tensãoem circuito aberto.
- η (%) : é a eficácia solar da célula, definida como a potência
máxima da célula dividida pela potência máxima luminosa da célula1000W/m^2, a 25°C e de acordo com um espectro AM 1,5.
Tabela 1
<table>table see original document page 13</column></row><table>
Vê-se que a utilização de um vidro do qual pelo menos umadas faces é rugosa conduz a um ganho de rendimento não negligenciável. Osmelhores resultados são obtidos quando é sobre esta face rugosa que a camadacondutora é depositada: sem ter inteiramente explicado as suas razões,aparece com efeito que entre a rugosidade do vidro e a rugosidade intrínsecada camada, se opera uma sinergia muito favorável. Difunde-se assim ummáximo de luz transmitida pelo vidro 1, permitindo à luz atravessar váriasvezes, de acordo com os ângulos de incidência variáveis, os materiais à basede silício em que se efetua a conversão fotoelétrica.
Nota-se que a invenção se aplica da mesma maneira às célulassolares que usam outros semi-condutores que não aqueles à base de silício,como CSi, CdTe, GaAs ou GaInP, Ge, GaSb, InP, Gax Iny As, ou CuInSe2.A invenção se refere, pois, a eletrodos em que o vidro 1 não érugoso, e em que é a camada condutora 3 que é rugosa, e reciprocamente. Arealização preferida da invenção consiste em combinar suas rugosidades,como ilustra as figuras 1ce 1d.
Quando, como no exemplo 3, tem-se a superposição de duasrugosidades, pode se tornar difícil fazer a parte, sobre a superfície da camadacondutora, entre a rugosidade conferida pelo substrato e aquela que a camadateria se fosse depositada nas mesmas condições, mas sobre vidro liso, sobre odesempenho global da célula solar: tem-se verdadeiramente uma combinaçãode efeitos. As camadas condutoras em ZnO dopado, notadamente comalumínio são alternativas muito interessantes para as camadas em óxido deestanho dopado com flúor utilizadas nos exemplos.
A presente invenção não se limita aos exemplos de realizaçãoanteriormente descritos, mas engloba igualmente as seguintes variantes:
- deposita-se entre o substrato vítreo e a camada condutora 3pelo menos uma camada 2 com a função de barreira às espécies suscetíveis dedifundir do vidro, notadamente os alcalinos e/ou com função óptica.
- a face A do substrato vítreo sobre o qual é dispostodiretamente ou não a camada condutora 3 apresenta por sua vez umarugosidade R.M.S. de pelo menos 100 nm., a saber compreendida entre 1000e 5000 nm, notadamente compreendida entre 1500 e 2000 nm.
Além disso, este substrato vítreo 1 munido de um eletrodo quecompreende pelo menos uma camada transparente condutora 3 à base deóxido(s) metálico(s) se caracteriza pelo fato de que a face A do substratovítreo 1 sobre a qual é disposta ou não a camada condutora 3 apresenta umarugosidade R.M.S. de pelo menos 1000 nm notadamente compreendida entre1000 e 5000 nm e/ou uma rugosidade tal que o tamanho médio dos motivos éde pelo menos 5μm, notadamente compreendido entre 5 e 100 μm.
Nota-se igualmente que a rugosidade da face B é umatexturação regular, com notadamente motivos que têm a forma de cone ou depirâmide com base triangular ou quadrada, os ditos motivos sendo côncavosou convexos.
Claims (21)
1. Estrutura compósita de substrato transparente e eletrodo,compreendendo:um substrato vítreo (1); e,um eletrodo provido em tal substrato vítreo,onde:o eletrodo compreende pelo menos uma camada transparentecondutora (3) a base de óxido(s) metálico(s),caracterizada pelo fato de que:uma superfície (A) do substrato vítreo (1) sobre a qual oeletrodo é provido tem uma rugosidade R.M.S de pelo menos 100 nm;a superfície (A) do substrato vítreo (1) sobre a qual o eletrodoé provido tem uma rugosidade com tamanho médio dos motivos de pelomenos 5 μηι; e,uma superfície da pelo menos uma camada condutora opostaao substrato vítreo tem uma rugosidade RMS de pelo menos 3 nm e umtamanho médio dos motivos desta rugosidade é de pelo menos 50 nm.
2. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a superfície da pelo menos uma camada condutora oposta aosubstrato vítreo tem uma rugosidade RMS na faixa de 3 nm a 30 nm.
3. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que os motivos da rugosidade da camada condutora têm umtamanho médio de pelo menos 100 nm.
4. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que os motivos da rugosidade da camada condutora têm umtamanho médio compreendido entre 200 e 400 nm.
5. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a camada condutora (3) é depositada por pirólise.
6. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a camada (3) é depositada por pulverização catódica.
7. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a camada (3) é escolhida dentre o óxido de estanho dopado,notadamente com flúor ou com antimônio, o óxido de zinco dopado,notadamente com alumínio e o óxido de índio dopado, notadamente comestanho.
8. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de compreender ainda uma camada barreira (2) provida entre osubstrato vítreo (1) e o eletrodo, com a função de barreira para as espéciessuscetíveis de difundir do vidro e/ou com função óptica.
9. Estrutura de acordo com a reivindicação 8, caracterizadapelo fato de que a camada barreira (2) é a base de óxido, de oxicarboneto oude nitreto de silício, depositado por pirólise ou por pulverização catódica.
10. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a camada condutora (3) tem uma resistência por quadrado deno máximo 30 Ω/quadrado.
11. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a camada condutora (3) tem uma espessura de no máximo1000 nm.
12. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a superfície do substrato vítreo sobre a qual o eletrodo éprovido tem uma rugosidade R.M.S compreendida entre 100 e 5000 nm.
13. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a superfície do substrato vítreo sobre a qual o eletrodo éprovido tem uma rugosidade com um tamanho médio de motivos entre 5 e100 μm.
14. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a rugosidade da face A do substrato vítreo (1) é não uniforme/aleatória.
15. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a rugosidade da superfície do substrato vítreo sobre a qual oeletrodo é provido é obtida por gravura química, ou por abrasão mecânica dotipo areação.
16. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que uma superfície do vítreo (1) que é oposta ao eletrodoapresenta uma rugosidade, aleatória ou não aleatória.
17. Estrutura de acordo com a reivindicação 16, caracterizadapelo fato de que a rugosidade da superfície do vítreo (1) que é oposta ao eletrodo é aleatória.
18. Estrutura de acordo com a reivindicação 16, caracterizadapelo fato de que a rugosidade da superfície do vítreo (1) que é oposta aoeletrodo tem uma texturação regular com motivos côncavos ou convexos.
19. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a superfície do substrato vítreo (1) sobre a qual o eletrodo éprovido apresenta uma rugosidade que provoca uma difusão da luztransmitida para frente, o substrato apresentando uma transmissão luminosaglobal de pelo menos 70%, incluindo uma transmissão luminosa difusa depelo menos 40%.
20. Estrutura de acordo com a reivindicação 1, caracterizadapelo fato de que a(s) camada(s) condutora(s) é(são) majoritariamentecristalizada(s).
21. Estrutura de acordo com qualquer uma das reivindicações-1 a 20, caracterizada pelo fato de que é utilizada em uma célula solar.
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