AT162939B - Verfahren zur Trennung von Niobium und Tantal sowie anderer ähnlicher Metalle - Google Patents
Verfahren zur Trennung von Niobium und Tantal sowie anderer ähnlicher MetalleInfo
- Publication number
- AT162939B AT162939B AT162939DA AT162939B AT 162939 B AT162939 B AT 162939B AT 162939D A AT162939D A AT 162939DA AT 162939 B AT162939 B AT 162939B
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- niobium
- tantalum
- separation
- nitrogen
- mixture
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 title description 16
- 239000010955 niobium Substances 0.000 title description 16
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 14
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 title description 10
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 10
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 title description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 title description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 8
- 238000006396 nitration reaction Methods 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 claims 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 3
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N azanylidyneniobium Chemical compound [Nb]#N CFJRGWXELQQLSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- -1 niobium halogen compound Chemical class 0.000 description 2
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000589614 Pseudomonas stutzeri Species 0.000 description 1
- XITGHTRVSNMXOD-UHFFFAOYSA-N [Nb].ClOCl Chemical compound [Nb].ClOCl XITGHTRVSNMXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G33/00—Compounds of niobium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1> Verfahren zur Trennung von Niobium und Tantal sowie anderer ähnlicher Metalle Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Behandlung der Metalle der fünften Gruppe des periodischen Systems, im besonderen auf die Trennung von Tantal und Niobium. Bekanntlich sind diese beiden Metalle sehr schwer voneinander zu trennen. Das neue Verfahren bringt einen wesentlichen Fortschritt gegenüber dem Stande der Technik. Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist es, eine schnelle Trennung der beiden Metalle in einer einzigen Stufe zu erreichen. Die Erfindung besteht aus einem Verfahren zur Trennung von Tantal und Niobium (im allgemeinen von Metallen der fünften Gruppe des periodischen Systems), die in einem Gemisch ihrer Pentoxyde enthalten sind, in der Weise, dass das Niobium selektiv in eine Stickstoffverbindung übergeführt wird, die sodann der Einwirkung eines Halogens (Chlor, Brom, Jod oder dissozierbarer Verbindungen dieser Elemente) unterworfen wird, wodurch die Niobiumstickstoffverbindung in eine flüchtige Halogenverbindung verwandelt und dass sodann durch Destillation und Kondensation der erwähnten Niobium-Halogenverbindung die Trennung von Tantalpentoxyd erreicht wird. Die eintretende Reaktion kann wie folgt formuliert werden. EMI1.1 Prüfungen mit Röntgenstrahlen haben gezeigt, dass die Nitrierung des Niobiums (Anlagerung von Stickstoff) bei etwa 600 C beginnt, während die Reaktion mit Tantal nicht unter 800 C einsetzt. Die selektive Nitrierung des Niobiums kann daher bei Behandlung im Temperaturintervall zwischen 600 C und 800 C bewirkt werden. Empfohlen wird eine Temperatur von 700 C. Die physikalische Natur der gemischten Oxyde ist ebenfalls von Bedeutung. Vorzuziehen sind Oxyde in Form von Niederschlägen, auch sind die Bedingungen der Reduzierbarkeit etwas veränderlich, je nach der Natur der Oxyde und je nach der Temperatur, auf die sie vorher erhitzt wurden. Bei 700 C ist Ammoniak leicht dissozierbar und es hat sich gezeigt, dass man zum Zwecke der Nitrierung ebenso gut von einem Gemisch aus Stickstoff und Wasserstoff ausgehen kann. Jedoch ist in diesem Falle die Temperatur der Nitrierung höher, z. B. 900 C für eine Mischung von Wasserstoffgas und Stickstoff im gleichen Mengenverhältnis wie in der Formel für Ammoniak. Es ist zu beachten, dass mitunter etwas Tantal in das kondensierte Chlorür gerät. Daran sind die parasitären Reaktionen schuld. Da das Tantal eine höhere Affinität zum Stickstoff hat als das Niobium, kann sich ein Austausch des Stickstoffs nach der Gleichung vollziehen : EMI1.2 Die Tantal-Stickstoffverbindung wird danach chloriert und TaC15 verseucht die kondensierten Produkte. Diese Reaktion geht jedoch verhältnismässig langsam vor sich, denn sie vollzieht sich durch Berührung und Diffusion. Um eine saubere Trennung zu erhalten, muss man bei niederen Temperaturen während einer kurzen Zeit und mit einem pulverförmigen Gemenge operieren. Eine weitere Quelle der Verunreinigung des Niobiumchlorürs resultiert aus der Bildung von Niobiumoxychlorür nach folgender Reaktion : EMI1.3 Diese Reaktion findet während der Chlorierung statt, wenn das Niobiumchlorür eine dicke Schicht Tantaloxyd oder Oxydgemisch passiert. Sie verursacht erhebliche Verluste von Tantal, wenn man die Temperatur örtlich steigert. Das Nitrid reagiert heftig mit dem Chlor und die Substanz überhitzt sich. Um das zu vermeiden, empfiehlt es sich, dem Chlor ein indifferentes Gas beizumischen, wie z. B. Stickstoff. Die stickstoffhältigen, durch die Chlorierung entstehenden Gase können hiezu ausgenützt werden. Jedenfalls wird man vorteilhaft mit dünnen Schichten arbeiten und bei der niedrigsten Temperatur, die mit einem ausreichend raschen Gang der Reaktion vereinbar ist, chlorieren. <Desc/Clms Page number 2> Als typisches Ausführungsbeispiel sei folgender Versuch beschrieben : Man lässt ein Gemisch von Niobiumpentoxyd und Tantalpentoxyd bei 900 C in Ammoniak reagieren. Das Oxyd enthält z. B. : EMI2.1 Nach zweieinhalb Stunden wird der Wasserstoff durch Stickstoff ersetzt und die Temperatur auf 400 C erniedrigt sein. Sodann wird eine Stunde lang mit reinem Chlor chloriert. Der danach verbleibende Rückstand enthält : EMI2.2 Im ganzen werden somit 83 5% Niobium ausgeschieden. Bei Anlagerung von Stickstoff (Nitrierung) bei 700 C durch 18t Stunden enthält der Rückstand nach der Chlorierung : EMI2.3 Es werden also 88% Niobium ausgeschieden. Jedoch gelangen 4-6% Tantal in das kondensierte Niobiumchlorür. Bei Verwendung einer Mischung von Chlor und Stickstoff erhält man eine bessere Trennung. PATENTANSPRÜCHE : 1. Verfahren zur Trennung von Niobium und Tantal sowie anderer Metalle der fünften Gruppe des periodischen Systems, die in einem Gemisch von Pentoxyden enthalten sind, dadurch gekennzeichnet, dass das Niobium selektiv nitriert wird, dass die erhaltene Niobiumstickstoffverbindung unter Einwirkung eines Halogens (Chlor, Brom, Jod oder dissozierbarer Verbindungen dieser Elemente) selektiv in eine flüchtige Halogenverbindung des Niobiums umgewandelt und sodann durch Destillation und Kondensation der erwähnten Niobiumhalogenverbindung die Trennung des Niobiums vom Pentoxyd erreicht wird.
Claims (1)
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Verwendung von Ammoniak als nitrierendes Reagens.3. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch Verwendung von Chlorgas zur Halogenisierung.4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Nitrierung bei einer Temperatur zwischen 500 C und 9000 C vollzogen wird.5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mit einem Gemisch von Wasserstoff und Stickstoff nitriert und danach mit Chlor chloriert wird.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US162939XA | 1945-12-07 | 1945-12-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT162939B true AT162939B (de) | 1949-04-25 |
Family
ID=21776376
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT162940D AT162940B (de) | 1945-12-07 | 1947-09-15 | Verfahren zur Trennung von Tantal und Niobium sowie ähnlicher Metalle |
| AT162939D AT162939B (de) | 1945-12-07 | 1947-09-15 | Verfahren zur Trennung von Niobium und Tantal sowie anderer ähnlicher Metalle |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT162940D AT162940B (de) | 1945-12-07 | 1947-09-15 | Verfahren zur Trennung von Tantal und Niobium sowie ähnlicher Metalle |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (2) | AT162940B (de) |
| DE (2) | DE824340C (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1073463B (de) * | 1960-01-21 | Ciba Aktiengesellschaft, Basel (Schweiz) | Verfahren zur Trennung von Niob- und Tantalchloriden | |
| DE1017601B (de) * | 1955-03-01 | 1957-10-17 | Ciba Geigy | Verfahren zur Trennung von Niob- und Tantalverbindungen |
| DE1056105B (de) * | 1956-02-06 | 1959-04-30 | Ciba Geigy | Verfahren zur Trennung von Niob und Tantal in Form ihrer Chloride |
-
1947
- 1947-09-15 AT AT162940D patent/AT162940B/de active
- 1947-09-15 AT AT162939D patent/AT162939B/de active
-
1949
- 1949-07-17 DE DEP49165A patent/DE824340C/de not_active Expired
- 1949-07-17 DE DEP49166A patent/DE809195C/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE809195C (de) | 1951-07-23 |
| AT162940B (de) | 1949-04-25 |
| DE824340C (de) | 1951-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2360706B2 (de) | Verfahren zur Regeneration von Schwefelsäure | |
| AT162939B (de) | Verfahren zur Trennung von Niobium und Tantal sowie anderer ähnlicher Metalle | |
| DE1082238B (de) | Verfahren zum Herstellen von Silizium | |
| DE2439540B1 (de) | Verfahren zur Rückgewinnung von Antimonpentachlorid aus zur Fluorierung von chlorierten Kohlenwasserstoffen eingesetzten Katalysatorlösungen | |
| DE1132901B (de) | Verfahren zur Herstellung von pyrophorem Silicium und Polysiliciumhalogeniden | |
| DE888540C (de) | Verfahren zur Herstellung von Hexachlorbenzol | |
| DE1670453A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von 2-Chlorbenzthiazolen | |
| DE3878465T2 (de) | Methode zum reinigen von alkylseleniden und alkyltelluriden. | |
| DE1017611B (de) | Verfahren zur Abtrennung von Begleitstoffen aus festen, kristallinen Stoffen oder Stoffgemischen | |
| DE2135250C3 (de) | Verfahren zur Reinigung von technischem Titantetrachlorid von den dieses begleitenden Beimengungen | |
| DE370972C (de) | Verfahren zur Herstellung von Oxalsaeure | |
| DE695690C (de) | Abtrennung von 1, 4-Dichlornaphthalin aus Gemischen von Mono- und Dichlornaphthalinen | |
| DE1172046B (de) | Verfahren zur Herstellung von spektralreinem Wismut | |
| DE653772C (de) | Verfahren zur Gewinnung von Vanadin aus Erzen oder Schlacken | |
| CH412346A (de) | Verfahren zur Herstellung von reinem Wismut | |
| DE873838C (de) | Herstellung von Kaliumsulfat aus Kaliumchlorid und Ammonsulfat | |
| DE523523C (de) | Verfahren zur Darstellung von 1,2-Diaminoanthrachinon | |
| DE2509517A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer bromfreien alkali- oder erdalkalichloridloesung | |
| DE1134973B (de) | Verfahren zur Herstellung von hochreinen Siliciumhalogeniden | |
| AT71168B (de) | Verfahren zur Darstellung aromatischer Amine. | |
| AT232982B (de) | Verfahren zur Herstellung von ω-Lactamen | |
| DE869338C (de) | Verfahren zur Herstellung von Natriummonoxyd | |
| DE892539C (de) | Verfahren zur Herstellung eines insbesondere zur Entrostung oder als Rostschutz geeigneten Mittels | |
| DE839108C (de) | Verfahren zum Pruefen des Reinheitsgrades von Selen | |
| DE1221629B (de) | Verfahren zur Herstellung von 2, 4, 5, 4'-Tetrachlordiphenylsulfid |