WO2018110864A1 - 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 - Google Patents

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 Download PDF

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    • Y10S430/114—Initiator containing

Definitions

  • Photosensitive resin composition photosensitive resin film and color filter using the same
  • the present substrate relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film prepared using the same, and a color filter including the photosensitive resin film.
  • a color filter applied to a display forms a desired pattern through an exposure process using a photomask using a photosensitive resist composition, and forms a color filter through a patterning process in which a non-exposed part is dissolved and removed through a developing process.
  • Color filter materials are alkali-soluble and require high adhesion to substrates, chemical resistance and heat resistance.
  • a step of thermal curing at a high temperature of 200 ° C. or higher for a certain time is required to obtain required properties. Therefore, there is a limit to the use of low-temperature process such as electronic paper, 0LED.
  • One embodiment is to provide a quantum dot-containing photosensitive resin composition that maintains a high absolute quantum efficiency even after a color filter manufacturing process.
  • Another embodiment is to provide a photosensitive organic film prepared using the photosensitive resin composition.
  • Another embodiment is to provide a color filter including the photosensitive organic film.
  • One embodiment includes (A) quantum dots; (B) a binder resin containing a structural unit represented by the following formula (1); (C) photopolymerizable monomer; (D) photoinitiator; And (E) provides a photosensitive resin composition comprising a solvent.
  • Rii are each independently represented by the following formula ( 2 ),
  • L 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group
  • L 2 is an oxygen atom or a sulfur atom
  • R 1 is “C 1 to C 10 alkyl group substituted with C 1 to C 10 alkylthio group” or
  • R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
  • Z 1 is a single bond, 0, CO, S0 2 , CR 17 R 18 , SiR 19 R 20 (wherein R 17 to R 20 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C 1 to C 20 Alkyl group) or a linking group represented by one of the following Chemical Formulas 1-1 to 1-11,
  • z 2 is an acid anhydride residue
  • . tl and t2 are each independently an integer of 0-4.
  • the R 1 may be “C1 to C5 alkyl group substituted with C1 to C5 alkylthio group” or “C6 to C10 aryl group substituted with C1 to C5 alkylthio group” 'Z 2 is represented by the following Chemical Formulas 3 to 5 It may be displayed as any one selected from the group consisting of.
  • the binder resin may include two or more structural units represented by Chemical Formula 1.
  • the binder resin may have a weight average molecular weight of 2,000 g / mo l to 20, 000 g / mo l.
  • the photosensitive resin composition may further include an acrylic binder resin.
  • the photosensitive resin composition may further include a diffusion agent (F).
  • the diffusion agent may include barium sulfate, calcium carbonate, titanium dioxide, zirconia or a combination thereof.
  • the diffusing agent may be included in an amount of 0.5 wt% to 10 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the photosensitive resin composition may further include a thiol-based additive.
  • the thiol-based additive may include at least two or more functional groups represented by the following Chemical Formula 7 at the terminals.
  • L 7 and L 8 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group, or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroarylene group.
  • the quantum dot may be a quantum dot that absorbs light of 360 nm to 780 ⁇ and emits fluorescence at 500 nm to 700 nm.
  • the said photosensitive resin composition is 1 weight%-30 weight% of said (A) quantum dot with respect to the said total amount of said photosensitive resin composition; 1 wt% to 30 wt% of (B) binder resin; 1 wt% to 10 wt% of the (C) photopolymerizable monomer; (D) the photopolymerization initiator 0. 1 to 5 weight percent; And (E) may include the remaining amount of the solvent.
  • the photosensitive resin composition is malonic acid; 3-amino—1, 2—propanediol; Silane coupling agents; Leveling agents; Fluorine-based surfactants; Or a combination thereof.
  • Another embodiment provides a photosensitive resin membrane prepared by using the photosensitive resin composition.
  • Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film.
  • alkyl group 'means a C1 to C20 alkyl group
  • alkenyl group means a C2 to C20 alkenyl group
  • cycloalkenyl group 'C3 to C20 cycloalkenyl Group
  • heterocycloalkenyl group means a C3 to C20 heterocycloalkenyl group
  • aryl group means a C6 to C20 aryl group
  • Alkylene group 'means C1 to C20 alkylene group 1
  • arylene group means C6 to C20 arylene group
  • alkyl arylene group 1 means C6 to C20 alkyl
  • substituted is a halogen atom (F, CI, Br, I), hydroxy group, C1 to C20 alkoxy group, nitro group, cyano group, amine group, imino group , Azido group, amidino group hydrazino group, hydrazono group, carbonyl group, carbamyl group, thiol group, ester group ether group, carboxyl group or salt thereof, sulfonic acid group or salt thereof, phosphoric acid or salt thereof, C1 to C20 alkyl group, C2 to C20 alkenyl group, C2 to C20 alkynyl group, C6 to C20 aryl group, C3 to C20 cycloalkyl group, C3 to C20 cycloalkenyl group, C3 to C20 cycloalkynyl group, C2 to C20 heterocycloalkyl group, C2 To C20 heterocyclo
  • hetero means at least one hetero atom of at least one of N, 0, S, and P in the chemical formula, unless otherwise specified in the present specification.
  • the chemical bond is not drawn at the position where the chemical bond is to be drawn. It means that the hydrogen atom is bonded.
  • Photosensitive resin composition is (A) quantum dots; (B) a binder (C) photopolymerizable monomer comprising a structural unit represented by the following formula (1); (D) photoinitiator; And (E) a solvent.
  • R 11 and R 12 are each independently represented by the following formula (2),
  • L 1 is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group
  • L 2 is an oxygen atom or a sulfur atom
  • R 1 is “C1 to C10 alkyl group substituted with C1 to C10 alkylthio group” or “C6 to C20 aryl group substituted with C1 to C10 alkylthio group”,
  • R 13 and R 14 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
  • Z 1 is a single bond, 0, CO, S0 2 , CR 17 R 18 , SiR 19 R 20 , wherein R 17 to R 20 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, or Any one of the linking groups represented by Formula 1-1 to Formula 1-11,
  • Z 2 is an acid anhydride residue
  • t1 and t2 are each independently an integer of 0-4.
  • the photosensitive resin composition according to the embodiment may include a binder resin including the structural unit represented by Chemical Formula 1, thereby minimizing a decrease in light conversion rate in a thermal process when manufacturing color pulpy.
  • the oxygen atom or sulfur atom of L 2 (more specifically, sulfur atom) and the sulfur atom of R 1 act as a ligand on the surface of the quantum dot to bind or passivate the quantum dot, thereby improving the dispersion and stability of the quantum dot, Ultimately, the lowering of the light conversion rate can be prevented.
  • the quantum dot may absorb light in a wavelength region of 360 nm to 780 nm, for example, 400 nm to 780 ntn, and emit fluorescence in a wavelength region of 500 nm to 700 nm, such as 500 nm to 580 nm, or may emit fluorescence at 600 nm to 680 nm. . That is, the photoconversion material may have a maximum fluorescence emission (fluorescence A em ) from 500nm to 680nm.
  • Each of the quantum dots may independently have a full width at half maximum (FWHM) of 20 nm to 100 nm, such as 20 nm to 50 ⁇ s.
  • FWHM full width at half maximum
  • Each of the quantum dots may be independently an organic material or an inorganic material, or a hybrid (complex) of an organic material and an inorganic material.
  • Each of the quantum dots may be independently composed of a core and a shell surrounding the core, and the core and the shell may each independently include a core, a core / shell, a core / first shell / It may have a structure such as a second shell, an alloy, an alloy / shell, but is not limited thereto.
  • the core may include at least one material selected from the group consisting of CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs, InP, InAs, and alloys thereof. ⁇ is not necessarily limited thereto.
  • the shell surrounding the core may include at least one material selected from the group consisting of CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe and alloys thereof, but is not necessarily limited thereto.
  • the quantum yield is rather low but environmentally friendly
  • a cadmium-based light emitting material InP / ZnS
  • the structure of the quantum dot is not particularly limited, but in the case of the quantum dot of the core / shell structure, the size (average particle diameter) of each of the quantum dots including the shell is 1 nm to 15 ⁇ s, such as 5 nm to 15 ⁇ s.
  • the quantum dots may independently include red quantum dots, green quantum dots, or a combination thereof.
  • the red quantum dots may each independently have an average particle diameter of 10nm to 15nm.
  • the green quantum dots may each independently have an average particle diameter of 5nm to 8nm.
  • the photosensitive resin composition may further include a dispersant.
  • the dispersant helps to uniformly disperse the light conversion material, such as quantum dots in the photosensitive resin composition, it is possible to use all of the nonionic, anionic or cationic dispersant.
  • polyalkylene glycol or esters thereof polyoxy alkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxad adduct, alcohol alkylene oxide adduct sulfonic acid ester ⁇ sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid salt, alkyl amide alkylene oxide An adduct, alkyl amine, etc.
  • the dispersant may be used in an amount of 0.01 wt% to 100 wt%, such as 10 wt% to 20 wt%, based on the solid content of the light conversion material such as quantum dots.
  • the quantum dots may be included in an amount of about 1 wt 3 ⁇ 4> to about 30 wt 3 ⁇ 4>, for example, about 5 wt% to about 15 wt 3 ⁇ 4> of the total amount of the photosensitive resin composition according to one embodiment.
  • the quantum dot is included in the above range, the light conversion rate is excellent and may have excellent processability without impairing pattern characteristics and developing characteristics.
  • the binder resin includes a structural unit represented by Chemical Formula 1.
  • R 1 may be a C1 to C5 alkyl group substituted with a C1 to C5 alkylthio group or a C6 to C10 aryl group substituted with a C1 to C5 alkylthio group.
  • Z 2 may be represented by any one selected from the group consisting of the following Chemical Formulas 3 to 5.
  • L 3 may be a sulfur atom.
  • the binder resin may include two or more structural units represented by Chemical Formula 1.
  • the binder resin may have a weight average molecular weight of 2,000 g / mol to 20,000 g / m, such as a weight average molecular weight of 3,000 g / mol to 10,000 g / mol.
  • the weight average molecular weight of the binder resin is within the above range, the pattern is well formed without a residue when manufacturing the color filter, there is no loss of film thickness during development, and a good pattern can be obtained.
  • the binder resin may include a functional group represented by Formula 10 at at least one of both terminals.
  • Z 3 may be represented by the following Chemical Formulas 10-1 to 1, -One]
  • R b and R c are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, ester group or ether group.
  • R d is 0, S, NH, substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, C1 to C20 alkylamine group or C2 to C20 alkenylamine group.
  • the photosensitive resin composition according to one embodiment may further include an acrylic binder resin.
  • the acrylic binder resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and may be a resin including one or more acrylic repeating units.
  • the first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing one or more carboxyl groups, and specific examples thereof may include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.
  • the first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, such as 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the acrylic binder resin.
  • the second ethylenically unsaturated monomer is an aromatic vinyl compound such as styrene, ⁇ -methyl styrene, vinyl toluene, vinyl benzyl methyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2 'hydroxyethyl (meth) acrylate, 2'hydroxy butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic ester compounds such as cyclonuclear chamber (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds, such as vinyl acetate and a vinyl benzoate; Unsaturated carb
  • acrylic binder resin examples include polybenzyl methacrylate, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate. Copolymerization (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer ,
  • the copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, etc. are mentioned, It is not limited to these, These can also be used individually or in combination of 2 or more types.
  • the weight average molecular weight of the acrylic binder resin may be 5,000 g / mo l to 20, 000 g / mol. When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin is within the above range, the adhesion to the substrate is excellent, the physical and chemical properties are good, and the viscosity is appropriate.
  • the acid value of the acrylic binder resin may be 80 mgKOH / g to 130 mgKOH / g. When the acid value of the acrylic binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.
  • the binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 30 wt%, such as 10 wt% to 20 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the binder resin is included in the above range, excellent sensitivity, developability, resolution, and straightness of the pattern can be obtained.
  • a monofunctional or polyfunctional ester of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond may be used.
  • the monomer has the above ethylenically unsaturated double bonds, so that it is sufficient for exposure in the pattern forming process .
  • a pattern excellent in heat resistance, light resistance and chemical resistance can be formed.
  • the photopolymerizable monomer examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene , glycol di (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-nucleic acid diol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol Meta) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol nucleus (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, di the pentaerythrityl tree tri (meth) acrylate, di-pentaerythri
  • Examples of commercially available products of the photopolymerizable monomer are as follows.
  • Examples of the monofunctional ester of (meth) acrylic acid include Aronix M-101®, M-111®, M-114®, and the like manufactured by Toagosei Chemical Industries, Ltd .; Nihon Kayaku Co., Ltd. YARAD TC-110S®, the same TC-120S®; The V-158®, V-2311® by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd. is mentioned.
  • difunctional ester of (meth) acrylic acid examples include Aronix M-210®, M-240®, M-6200®, manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd .; KAYARAD HDDA® from Nihon Kayak Co., Ltd., HX-220®, R 604®, etc .; The V-260®, V-312®, and V-335 HP® by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd. are mentioned.
  • Examples of the trifunctional ester of (meth) acrylic acid include, but are not limited to, Aronix M-309® manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd., Copper M—400®, Copper M-405®, Copper M—450®, Copper M — 7100®, copper M-8030®, copper M—8060®, and the like; KAYARAD TMPTA®, Copper DPCA-20, Copper-30, Copper 60, Copper 120, etc. by Nihon Kayaku Co., Ltd .; And V-295®, copper -300®, copper -360®, copper-GPT®, copper -3PA®, and copper-400® from Osaka Yuki Kayaku Co., Ltd.
  • the above products can be used alone or in combination of two or more.
  • the photopolymerizable monomer may be used by treating with an acid anhydride in order to impart better developability.
  • the photopolymerizable monomer may be included in an amount of 1 wt% to 10 wt%, such as 1 wt% to 5 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the photopolymerizable monomer is included in the above range, curing occurs during exposure in the pattern forming process, resulting in excellent reliability and excellent heat resistance, light resistance, chemical resistance, resolution, and adhesion of the pattern.
  • an initiator commonly used in the photosensitive resin composition for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, an oxime compound, or the like can be used. .
  • acetophenone-based compound examples include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibuoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloro acetophenone, pt-butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl— 1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane— 1-one, 2 'benzyl -2- dimethylamino-1- (4' morpholinophenyl) -butan-1-one, etc. are mentioned.
  • benzophenone compound examples include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl banjophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4, 4 '' bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'- dimethylamino benzophenone, 4,4'- dichloro benzophenone, 3 '3' 'dimethyl- 2-methoxy benzophenone, etc. are mentioned.
  • thioxanthone compound examples include thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone etc. are mentioned.
  • benzoin compound examples include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal and the like.
  • triazine-based compound examples include 2, 4, 6-trichloro-S-triazine, 2- Phenyl— 4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ', 4'-dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) ⁇ s-triazine, ' 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- ( P -methoxyphenyl) -4 ⁇ 6-bis (trichloromethyl) -S -Triazine, 2- (1) -lryl) -4,6—bis (trichloromethyl) -stritriazine, 2—biphenyl—4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine , Bis (trichloromethyl) -6—styryl-S-triazine, 2- (naphtho-1
  • oxime compounds examples include 0-acyl oxime compounds, 2- (0—benzoyloxime) ⁇ 1- [4— (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (0-acetyloxime) -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, 0-ethoxycarbonyl-ex-oxyamino- 1-phenylpropane- 1-one, etc. Can be used.
  • 0-acyl oxime type compound 1, 2- octane di silver, 2-dimethylamino- 2- (4-methylbenzyl)-1- (4-morpholine- 4-yl-phenyl) -butane- 1-one, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butane-1,2-dione-2-oxime-0-benzoate, 1— (4—phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione — 2-oxime-0-benzoate, 1— (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1-onoxime-0—acetate and 1- (4'phenylsulfanylphenyl) -butane—1-onoxime- 0-acetate, etc. are mentioned.
  • the photopolymerization initiator may be used in addition to the above compounds, carbazole compounds, diketone compounds, sulfonium borate compounds, diazo compounds, imidazole compounds, biimidazole compounds, and the like.
  • the photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer which causes a chemical reaction by absorbing light and transferring energy after being excited.
  • the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercapto propionate, pentaerythritol to tetrakis-3-mercapto propionate, and dipentaerythritol to tetrakis-3 mercapto propionate. Etc. can be mentioned.
  • the photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, such as 0.1 wt% to 3 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the solvent is compatible with the solvent and the binder resin, the photopolymerizable monomer, the photopolymerization initiator, and other additives having compatibility with the quantum dots, and materials that do not react may be used.
  • Examples of the solvent having compatibility with the quantum dots include alkanes (R—H) such as pentane, nucleic acid and heptane; Aromatic hydrocarbons (Ar-H) such as toluene and xylene; Ethers such as diisoamyl ether and dibutyl ether (R—R); Alkyl halides (R-X) such as chloroform, trichloromethane and the like; Cycloalkanes such as cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclonucleic acid and the like may be used, but are not limited thereto.
  • alkanes such as pentane, nucleic acid and heptane
  • Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene
  • Ethers such as diisoamyl ether and dibutyl ether (R—R)
  • Alkyl halides (R-X) such as chloroform
  • Examples of the solvent having compatibility with the binder resin, the photopolymerizable monomer, the photopolymerization initiator and other additives include alcohols such as methanol and ethane; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl salosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbyl, such as methyl ethyl carbitle and diethyl carbyl, such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether and diethylene glycol diethyl ether
  • glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether, in consideration of compatibility and reactivity; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as 2-hydroxy ethyl propionate; Carbyls such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkylether acetates such as propylene glycol monomethylether acetate and propylene glycol propylether acetate can be used.
  • the content of the solvent having compatibility with the binder resin, the photopolymerizable monomer, the photopolymerization initiator, and other additives may be used from 1 to 3 times, for example, 1 to 2 times the content of the solvent having compatibility with the quantum dots. . In this case, there is an advantageous effect in adjusting the developability according to the alkaline developer.
  • the solvent may be included in a balance, such as 30% by weight to 80% by weight, such as 40% by weight to 75% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • a balance such as 30% by weight to 80% by weight, such as 40% by weight to 75% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the photosensitive resin composition according to one embodiment may further include a diffusing agent.
  • the diffusion agent may include barium sulfate (BaS0 4 ), carbon dioxide (CaC0 3 ), titanium dioxide (Ti), zirconia (Zr0 2 ), or a combination thereof.
  • the diffusing agent reflects light that is not absorbed by the above-described photoconversion material and allows the photoconversion material to absorb the reflected light again. That is, the diffusion agent may increase the amount of light absorbed by the photoconversion material, thereby increasing the light conversion efficiency of the photosensitive resin composition.
  • the diffusing agent may have an average particle diameter (D 50 ) of 150 nm to 250 nm, specifically 180 nm to 230 nm.
  • D 50 average particle diameter
  • the diffusing agent, the diffusing agent solids may be included in 0.5% by weight to 10% by weight, such as 1% by weight to 8% by weight relative to the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the diffusing agent is included in an amount of less than 0, 5% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition, it is difficult to expect the effect of improving the light conversion efficiency by using the diffusing agent, and when it contains more than 10% by weight of the color filter The pattern characteristics may be lowered, and the light conversion efficiency may also be lowered.
  • the photosensitive resin composition according to another embodiment may further include a thiol-based additive.
  • the thiol-based additive may be substituted on the surface of the shell of the quantum dots, thereby improving the dispersion stability of the quantum dots with respect to the solvent, thereby stabilizing the quantum dots.
  • the thiol-based additive is 2 to 10, for example, depending on the structure
  • the thiol-based additive may include at least two functional groups represented by the following Chemical Formula 7 at the terminals.
  • L 7 and L 8 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group, or a substituted or unsubstituted group C2 to C20 heteroarylene group.
  • the thiol-based additive may be represented by the following formula (8).
  • L 7 and L 8 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to
  • a C20 alkylene group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkylene group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 arylene group, or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroarylene group, ul and u2 are each independently an integer of 0 or 1.
  • L 1 and L 2 may be each independently a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.
  • thiol-based additives include pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) represented by the following Chemical Formula 8a, and trimethylolpropane tris represented by the following Chemical Formula 8b ( 3 Murray gapto propionate) (trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate )), pentaerythritol acetate to Little tetrakis (Murray gapto of formula 8c) pentaerythritol tetraki s (to mercaptoacetate), trimethylolpropane represented by the formula 8d ' Propane tris (2-mer3 ⁇ 4 ⁇ £ 0 1 "cete) (trimethylolpropane tr is (2-mercaptoacetate)), glycol di-3-mercaptopropionate represented by the formula (8e) And any combination selected from the group consisting of these.
  • Chemical Formula 8a 3 Murray gapto propionate
  • the thiol-based additive may be included in an amount of 0.1 wt% to 10 wt%, such as 0.1 wt 3 ⁇ 4) to 5 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition.
  • the thiol-based additive is included in the above range, it is possible to improve the stability of the light conversion material such as quantum dots, improve the heat resistance of the light conversion material such as quantum dots by forming a covalent bond by reacting the thiol group in the component with the acrylic group of the resin or monomer It can also have effects.
  • Photosensitive resin composition is malonic acid in addition to the thiol-based additive; 3 ⁇ amino-1, 2-propanedi; Silane coupling agents; Leveling agents; Fluorine-based surfactants; Or a combination thereof. .
  • the photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a vinyl group, a carboxyl group, a methacryloxy group, an isocyanate group, an epoxy group, etc. in order to improve adhesiveness with a substrate.
  • a silane coupling agent having a reactive substituent such as a vinyl group, a carboxyl group, a methacryloxy group, an isocyanate group, an epoxy group, etc. in order to improve adhesiveness with a substrate.
  • silane coupling agent examples include trimethoxysilyl benzoic acid, ⁇ -methacryloxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, ⁇ -isocyanate propyl trieoxysilane, ⁇ - Glycidoxy Profile Trimethoxysilane, (beta)-(3, 4- epoxycyclonuclear chamber) ethyltrimethoxysilane, etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.
  • the silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included in the above range, the adhesiveness and the storage property are excellent.
  • the photosensitive resin composition may further include a surfactant, for example, a fluorine-based surfactant, in order to improve coating properties and prevent defects.
  • a surfactant for example, a fluorine-based surfactant
  • fluorine-based surfactants examples include BM-1000® and BM-1100® by BM Chemie Co .; Mecha Pack F 142D®, F 172®, F 173®, F 183®, etc. from Dai Nippon Inki Chemical Co., Ltd .; Prorad FC-135®, Copper FC-170C®, Copper FC—430®, Copper FC—431® from Sumitomo 3M Co., Ltd .; Saffron S-112®, Copper S-113®, Copper S-131®, Copper S-141®, Copper S-145®, etc. of Asahi Grass Co., Ltd .; Toray Silicone Co., Ltd.
  • the fluorine-based surfactant may be used in an amount of 0.001 part by weight to 5 parts by weight based on 30 parts by weight of the photosensitive resin composition 1.
  • the fluorine-based surfactant is included in the range, coating uniformity is secured and stains do not occur. Excellent wetting to the substrate.
  • the photosensitive resin composition may be further added a certain amount of other additives such as antioxidant stabilizers within a range that does not impair the physical properties.
  • Another embodiment provides a photosensitive resin film manufactured using the photosensitive resin composition described above.
  • the manufacturing method of the said photosensitive resin film is as follows.
  • a predetermined form of mask is interposed and then 200 nm to 500 nm active rays are irradiated.
  • a light source used for irradiation a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, etc. can be used, and X-rays, electron beams, etc. can also be used in some cases.
  • the exposure amount varies depending on the type, compounding amount and dry film thickness of each component of the photosensitive resin composition, but is, for example, 500 mJ / cm 2 or less (by a 365 nm sensor) when using a high pressure mercury lamp.
  • an alkaline aqueous solution is used as a developer to dissolve and remove unnecessary portions, thereby remaining only the exposed portions to form an image pattern.
  • the image pattern obtained by the above development can be cured again by heating or irradiation with active rays in order to obtain an excellent pattern in terms of heat resistance, light resistance, adhesion, crack resistance, chemical resistance, high strength, storage stability, and the like.
  • Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film.
  • the photosensitive resin composition according to each of Examples 1 to 8, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 was prepared using the components shown below in the compositions shown in Table 1 below.
  • the photopolymerization initiator in the solvent (E-2), it was sufficiently stirred at room temperature for 2 hours. Subsequently, the photopolymerizable monomer and the binder resin were added and stirred at room temperature again for 1 hour. Meanwhile, the quantum dot and the dispersant were added to the solvent (E-1) and stirred at room temperature for 30 minutes to form a ' quantum dot solution ' . Thereafter, the quantum dot solution is mixed with a solvent (E-2) in which the photopolymerization initiator and the like are dissolved. After adding the surfactant, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and the product was filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.
  • Titanium Dioxide Dispersion Ti0 2 Solids 20 Weight 3 ⁇ 4, Average Particle Diameter: 200nm, Dito Technology Co., Ltd.
  • a spin coater Melt i coat MS-A150
  • the light conversion rate and process retention rate of blue light incident from the BLU to green were evaluated, and the results are shown in Table 2 below.
  • the blue light conversion rate was measured using a CAS 140 CT spectrometer, a bare glass was placed on a blue BLU covered with a diffusing film, measured with a detector, and then the reference was first obtained, and then Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 were used at the same position.
  • a single film coated with the photosensitive resin composition according to Comparative Example 2 and the increase amount of the peak converted into green and red relative to the decrease amount of the blue light absorption peak was calculated to measure the light conversion ratio (Green / Blue and Red / blue). .

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Abstract

(A) 양자점; (B) 특정 화학식으로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터가 제공된다.

Description

【명세서】
【발명의 명칭】
감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 【기술분야】
본 기재는 감광성 수지 조성물， 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.
【배경기술】
일반적으로 디스플레이에 적용하는 컬러필터는 감광성 레지스트 조성을 사용하여 포토마스크를 적용한 노광공정을 통해 원하는 패턴을 형성하고, 현상 공정을 통해 비노광부를 용해시켜 제거하는 패터닝 공정을 통해 컬러필터를 형성한다. 컬러필터용 소재는 알칼리 가용성이며 높은 감도 기판에 대한 부착력， 내화학성, 내열성 등이 요구된다. 그런데 통상적으로 노광 공정만으로 경화반웅이 층분하지 못하기 때문에 요구되는 특성들을 얻기 위해서는 200oC 이상의 고온에서 일정시간 열경화 시켜주는 단계가 필요하다. 따라서 전자종이, 0LED 등 저온 공정이 필요한 웅용에는 한계가 있다.
한편, 전자종이， 0LED 등 비교적 저은 공정 적용이 필요한 컬러 필터용 감광성 수지 조성물을 개발하기 위해, 조성물 내에 추가적인 화합물, 예컨대 에폭시드 및 과산화물 등을 첨가하여 부족한 경화특성을 보완하려는 노력이 있었으나, 경화도가 층분하지 않아, 신뢰성이 낮다는 문제점이 있다. 상기 문제점은 안료 또는 염료 등의 색재료가 광중합 개시제와 광에너지를 경쟁적으로 흡수하기 때문에 나타나는 현상이며 또한 안료 및 염료가 생성된 라디칼을 제거하는 작용을 하기 때문에 층분한 개시효율을 얻기 어렵고， 따라서 광중합성 단량체의 경화율이 색재료를 사용하지 않은 경우보다 감소하게 되게 되는 것이다.
따라서, 기존의 염료 혹은 안료 등의 색재료 대신 다른 물질을 사용함으로써 내화학성， 내열성 등의 신뢰성을 현저히 향상시킬 수 있는， 감광성 수지 조성물을 개발하려는 노력이 계속되고 있다.
【발명의 상세한 설명】.
【기술적 과제】 일 구현예는 컬러 ¾터 제조 공정을 거친 후에도 높은 절대 양자효율을 유지하는 양자점 함유 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 유기막을 제공하기 위한 것이다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 유기막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.
【기술적 해결방법】
일 구현예는 (A) 양자점; (B) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure imgf000003_0001
상기 화학식 1에서.
Rii 및 은 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되고，
[화학식 2]
*— L— L2-R1
상기 화학식 2에서,
L1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고，
L2는 산소 원자 또는 황 원자이고,
R1은 "C1 내지 C10 알킬티오기로 치환된 C1 내지 C10 알킬기" 또는
"C1 내지 C10 알킬티오기로 치환된 C6 내지 C20 아릴기"이고,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
Z1은 단일결합, 0， CO , S02 , CR17R18 , SiR19R20 (여기서, R17 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 1—1 내지 화학식 1-11로 표시되는 연결기 어느 하나이고,
[화학식 1-1]
Figure imgf000004_0001
[화학식 1一 2]
Figure imgf000004_0002
[화학식 1-3]
Figure imgf000004_0003
[화학식 1-5]
Figure imgf000004_0004
(상기 화학식 1—5에서,
Ra는 수소 원자， 에틸기 C2H4C 1 , C2H40H , CH2CH=CH2 또 페닐기이다. )
[화학식 1-6]
Figure imgf000004_0005
[화학식 1一 7]
Figure imgf000005_0001
Figure imgf000005_0002
Figure imgf000005_0003
Figure imgf000005_0004
Figure imgf000005_0005
z2는 산무수물 잔기이고,
. t l 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
상기 R1은 "C1 내지 C5 알킬티오기로 치환된 C1 내지 C5 알킬기" 또는 "C1 내지 C5 알킬티오기로 치환된 C6 내지 C10 아릴기' '일 수 있다. 상기 Z2는 하기 화학식 3 내지 화학식 5로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
Figure imgf000006_0001
Figure imgf000006_0002
Figure imgf000006_0003
상기 화학식 3에서,
L3은 단일결합, 산소 원자， 황 원자, *-C(=0)-* 또는 *-CR¾3-* (상기 R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐원자로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기 )이다.
상기 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 2 이상 포함할 수 있다.
상기 바인더 수지는 2，000 g/mo l 내지 20 , 000 g/mo l의 중량평균분자량을 가질 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 아크릴계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 (F) 확산제를 더 포함할 수 있다.
상기 확산제는 황산바륨, 탄산칼슘, 이산화티타늄， 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
상기 확산제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0 .5 중량 내지 10 중량 %로 포함될 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 티올계 첨가제를 더 포함할 수 있다. 상기 티올계 첨가제는 말단에 하기 화학식 7로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함할 수 있다.
[화학식 7] O
*—— L- O ""- U L- SH
상기 화학식 7에서,
L7 및 L8은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기， 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기이다.
상기 양자점은 360 nm 내지 780皿의 광을 흡수해， 500nm 내지 700nm에서 형광을 방출하는 양자점일 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 양자점 1 중량 % 내지 30 중량 % ; 상기 (B) 바인더 수지 1 중량 % 내지 30 중량 ¾> ; 상기 (C) 광중합성 단량체 1 중량 % 내지 10 중량 상기 (D) 광중합 개시제 0 . 1 중량 % 내지 5 중량 %; 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.
상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노—1 , 2—프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.
다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막올 제공한다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.
기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.
【발명의 효과】
노광， 현상, 경화 등의 공정을 포함하는 컬러필터 제조 공정을 거친 후에도, 양자점 등의 광변환 물질을 포함하는 감광성 수지 조성물의 절대 양자효율 저하를 최소화할 수 있다.
【발명의 실시를 위한 최선의 형태】
이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제사되는 것으로 , 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후슬할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기' '란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고， "알케닐기' '란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기' '란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "해테로사이클로알케닐기' '란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기' '란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고， "아릴알킬기1 '란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며， "알킬렌기' '란 C1 내지 C20 알킬렌기 1 의미하고, "아릴렌기' '란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고 "알킬아릴렌기'1란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고 "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고 "알콕실렌기' '란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.
본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한， "치환' '이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐 원자 (F , CI , Br , I ) , 히드록시기， C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기， 시아노기, 아민기， 이미노기， 아지도기， 아미디노기 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티을기, 에스테르기 에테르기 , 카르복실기 또는 그것의 염， 술폰산기 또는 그것의 염， 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2. 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기， C3 내지 C20 사이클로알킬기， C3 내지 C20 사이클로알케닐기， C3 내지 C20 사이클로알키닐기， C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기， C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기 , C3 내지 C20 해테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한， "헤테로 "란， 화학식 내에 N , 0 , S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한， " (메타)아크릴레이트 "는
"아크릴레이트' '와 "메타크릴레이트" 둘 다 ᅵ가능함을 의미하며， " (메타)아크릴산"은 "아크릴산' '과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다. 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "조합 "이란 혼합 또는 공중합을 의미한다.
본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한， 화학결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.
또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한， 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다. 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 양자점; (B) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함한다.
Figure imgf000009_0001
상기 화학식 1에서,
R11 및 R12은 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되고，
[화학식 2]
Figure imgf000009_0002
상기 화학식 2에서,
L1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고，
L2는 산소 원자 또는 황 원자이고,
R1은 "C1 내지 C10 알킬티오기로 치환된 C1 내지 C10 알킬기" 또는 "C1 내지 C10 알킬티오기로 치환된 C6 내지 C20 아릴기 "이고，
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
Z1은 단일결합, 0 , CO , S02 , CR17R18 , SiR19R20 (여기서, R17 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고,
[화학식 1-1]
Figure imgf000010_0001
Figure imgf000010_0002
1一 3]
Figure imgf000010_0003
(상기 화학식 1-5에서,
Ra는 수소 원자, 에틸기 , C2H4C1 , C2H40H, CH2CH=CH2 페닐기이다.)
[화학식 1-6]
Figure imgf000010_0004
[화학식 1-7]
Figure imgf000010_0005
[화학식 1一 8]
Figure imgf000011_0001
Z2는 산무수물 잔기이고，
t l 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수지를 포함함으로써， 컬러펄티 제조 시 열 공정에서의 광변환율 저하를 최소화할 수 있다. 구체적으로, 상기 L2의 산소 원자 또는 황 원자 (보다 구체적으로는 황 원자) 및 상기 R1의 황 원자가 양자점 표면에 리간드로 작용하여 바인딩하거나 양자점을 패시베이션하여， 양자점의 분산 및 안정성이 개선되어, 궁극적으로 광변환율의 저하를 방지할 수 있다.
이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다. (A) 양자점
상기 양자점은 360nm 내지 780nm의 파장영역， 예컨대 400nm 내지 780ntn의 파장영역의 광을 흡수하여， 500nm 내지 700nm의 파장영역, 예컨대 500nm 내지 580nm에서 형광을 방출하거나, 600nm 내지 680nm에서 형광을 방출할 수 있다. 즉, 상기 광변환 물질은 500nm 내지 680nm에서 최대형광 발광파장 (fluorescence Aem)을 가질 수 있다.
상기 양자점은 각각 독립적으로 20nm 내지 lOOnm, 예컨대 20nm 내지 50誦의 반치폭 (Full width at half maximum; FWHM)을 가질 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위의 반치폭을 가질 경우 색순도가 높음에 따라, 컬러필터 내 색재료로 사용 시 색재현율이 높아지는 효과가 있다.
상기 양자점은 각각 독립적으로 유기물이거나 무기물 또는 유기물과 무기물의 하이브리드 (흔성물)일 수 있다.
상기 양자점은 각각 독립적으로 코어 및 상기 코어를 감싸는 쉘로 구성될 수 있으며, 상기 코어 및 쉘은 각각 독립적으로 II-IV족, III-V족 등으로 이루어진 코어, 코어 /쉘， 코어 /제 1쉘 /제 2쉘， 합금, 합금 /쉘 등의 구조를 가질 수 있으며 , 이에 한정되는 것은 아니다.
예컨대, 상기 코어는 CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, GaN, GaP, GaAs , InP, InAs 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나ᅳ 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 코어를 둘러싼 쉘은 CdSe, ZnSe, ZnS, ZnTe, CdTe, PbS, TiO, SrSe, HgSe 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함할 수 있으나ᅳ 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
일 구현예에서는, 최근 전 세계적으로 환경에 대한 관심이 크게 증가하고 유독성 물질에 대한 규제가 강화되고 있으므로, 카드뮴계 코어를 갖는 발광물질을 대신하여, 양자 효율 (quantum yield)은 다소 낮지만 친환경적인 비카드뮴계 발광소재 (InP/ZnS)를 사용하였으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 양자점의 구조는 특별하게 한정되지 않으나， 상기 코어 /쉘 구조의 양자점의 경우, 쉘을 포함한 전체 양자점 각각의 크기 (평균 입경 )는 lnm 내지 15誦 , 예컨대 5nm 내지 15删 일 수 있다.
예컨대 , 상기 양자점은 각각 독립적으로 적색 양자점 , 녹색 양자점 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 적색 양자점은 각각 독립적으로 10nm 내지 15nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 상기 녹색 양자점은 각각 독립적으로 5nm 내지 8nm의 평균 입경을 가질 수 있다.
한편， 상기 양자점의 분산안정성을 위해, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 분산제를 더 포함할 수도 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질이 감광성 수지 조성물 내에서 균일하게 분산되도록 도와주며, 비이온성， 음이온성 또는 양이온성 분산제 모두를 사용할 수 있다. 구체적으로는 폴리알킬렌 글리콜 또는 이의 에스테르류， 폴리옥시 알킬렌， 다가 알코을 에스테르 알킬렌 옥사아드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물 술폰산 에스테르ᅳ 술폰산 염， 카르복시산 에스테르, 카르복시산 염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물， 알킬 아민 등을 사용할 수 있으며, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 흔합하여 사용할 수 있다. 상기 분산제는 양자점과 같은 광변환 물질의 고형분 대비 0. 1 중량 % 내지 100 중량 %， 예컨대 10 중량 % 내지 20 중량 %로 사용될 수 있다.
상기 양자점은 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량 ¾> 내지 30 중량 ¾> , 예컨대 5 중량 % 내지 15 중량 ¾>로 포함될 수 있다. 상기 양자점이 상기 범위 내로 포함될 경우， 광변환률이 우수하며 패턴 특성과 현상 특성을 저해하지 않아 우수한 공정성을 가질 수 있다.
(B) 바인더 수지
상기 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함한다. 예컨대, 상기 R1은 C1 내지 C5 알킬티오기로 치환된 C1 내지 C5 알킬기 또는 C1 내지 C5 알킬티오기로 치환된 C6 내지 C10 아릴기일 수 있다.
예컨대, 상기 Z2는 하기 화학식 3 내지 화학식 5로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
Figure imgf000014_0001
[화학식 4]
Figure imgf000014_0002
5]
Figure imgf000014_0003
상기 화학식 3에서,
L3은 단일결합, 산소 원자, 황 원자, *-C(=0)-* 또는 *-CR¾3-* (상기 R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐원자로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기)이다.
예컨대， 상기 화학식 3에서, L3은 황 원자일 수 있다.
상기 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 2 이상 포함할 수 있다.
상기 바인더 수지는 2,000 g/mol 내지 20,000 g/m 의 중량평균분자량， 예컨대 3,000 g/mol 내지 10,000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 컬러필터 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 현상 시 막두께의 손실이 없고， 양호한 패턴을 얻을 수 있다.
상기 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 10으로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.
[화학식 10]
Figure imgf000014_0004
상기 화학식 10에서，
Z3은 하기 화학식 10-1 내지 화학식 1으 7로 표시될 수 있다, -1]
Figure imgf000015_0001
(상기 화학식 10-1에서, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로， 수소 원자， 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)
-2]
Figure imgf000015_0002
(상기 화학식 10-5에서， Rd는 0, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기， C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다. )
[화학식 10-6]
Figure imgf000016_0001
Figure imgf000016_0002
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 아크릴계 바인더 수지를 더 포함할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지는 제 1 에틸렌성 불포화 단량체및 이와 공중합 가능한 제 2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로， 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지일 수 있다.
상기 제 1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산， 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 또는 이들의 조합을 들 수 있다. 상기 제 1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량 ¾내지 50중량 %, 예컨대 10 중량 %내지 40 중량 %로 포함될 수 있다.
상기 제 2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌， α—메틸스티렌， 비닐틀루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 2ᅳ히드톡시에틸 (메타)아크릴레이트， 2ᅳ히드록시 부틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 사이클로핵실 (메타)아크릴레이트, 페닐 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2- 아미노에틸 (메타)아크릴레이트 , 2-디메틸아미노에틸 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐， 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물 ; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물 ; 등을 들 수 있으며， 이들을 단독으로 또는 둘 이상 흔합하여 사용할 수 있다.
상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 폴리벤질메타크릴레이트, (메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 . 공중합처 (메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 /스티렌 공중합체，
(메타)아크릴산 /밴질메타크릴레이트 /2-히드록시에틸메타크릴레이트
공중합체， (메타)아크릴산 /벤질메타크릴레이트 /스티렌 /2- 히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니며， 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5 , 000 g/mo l 내지 20 , 000g/mo l 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 .내일 경우, 기판과의 밀착성이 우수하고 물리적， 화학적 물성이 좋으며, 점도가 적절하디- .
상기 아크릴계 바인더 수지의 산가는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.
상기 바인더 수지는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량 % 내지 30 중량 % , 예컨대 10 중량 % 내지 20 중량 %로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함되는 경우 우수한 감도, 현상성， 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.
(C) 광중합성 단량체
상기 광중합성 단량체는， 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.
. 상기 광중합성. 단량체는 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 .중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.
상기 광중합성 단량체의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트， 트리에틸렌 글리콜 디 (메타)아크릴레이트， 프로필렌, 글리콜 디 (메타)아크릴레이트， 네오펜틸 글리콜 디 (메타)아크릴레이트, 1，4-부탄디올 디 (메타)아크릴레이트 , 1,6-핵산디올 디 (메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 디 (메타)아크릴레이트, 펜타에리트리를 디 (메타)아크릴레이트， 펜타에리트리틀 트리 (메타)아크릴레이트， 펜타에리트리를 테트라 (메타)아크릴레이트， 펜타에리트리를 핵사 (메타)아크릴레이트， 디펜타에리트리를 디 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리를 트리 (메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리를 펜타 (메타)아크릴레이트， 디펜타에리트리를 ' 핵사 (메타)아크릴레이트， 비스페놀 A 에폭시 (메타)아크릴레이트， 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리 (메타)아크릴레이트, 트리스 (메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트， 노볼락에폭시
(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합성 단량체의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는， 도아 고세이 가가꾸 고교 (주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M— 114® 등; 니흔 가야꾸 (주)社의 YARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교 (주)社의 V-158®, V— 2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는 도아 고세이 가가꾸고교 (주)社의 아로닉스 M- 210®, 동 M-240®, 동 M-6200®등; 니흔 가야꾸 (주)社의 KAYARAD HDDA® , 동 HX-220®, 동 R 604®등; 오사카 유끼 가가꾸 고교 (주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는， 도아 고세이 가가꾸 고교 (주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M— 400®， 동 M-405®, 동 M— 450®， 동 M— 7100®, 동 M-8030®, 동 M—8060® 등; 니흔 가야꾸 (주)社의 KAYARAD TMPTA® , 동 DPCA— 20®, 동 -30®, 동 -60®, 동 -120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교 (주)社의 V-295®, 동 -300®, 동 -360®， 동— GPT®, 동 -3PA®, 동— 400®등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다. 상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다 .
상기 광중합성 단량체는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량 % 내지 10 중량 %， 예컨대 1 중량 % 내지 5 중량 %로 포함될 수 있다. 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 층분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성， 내화학성， 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.
(D) 광중합 개시제
상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물， 티오크산톤계 화합물， 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2，2'-디에록시 아세토페논， 2,2'-디부록시 아세토페논， 2—히드록시— 2—메틸프로피오페논， p-t- 부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논， 4-클로로 아세토페논, 2， 2'-디클로로 -4-페녹시 아세토페논， 2-메틸— 1-(4- (메틸티오)페닐 ) -2-모폴리노프로판— 1-온， 2ᅳ벤질 -2—디메틸아미노 -1-(4ᅳ 모폴리노페닐) -부탄 -1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물의 예로는， 벤조페논.， 벤조일 안식향산， 벤조일 안식향산 메틸， 4-페닐 밴조페논, 히드록시벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'—비스 (디메틸 아미노)벤조페논， 4，4'ᅳ 비스 (디에틸아미노)벤조페논， 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4' - 디클로로벤조페논， 3ᅳ 3'ᅳ디메틸 -2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.
상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤， 이소프로필 티오크산톤， 2， 4—디에틸 티오크산톤， 2， 4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.
상기 벤조인계 화합물의 예로는， 벤조인 , 벤조인 메틸 에테르 , 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르， 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.
상기트리아진계화합물의예로는， 2， 4， 6-트리클로로 -S-트리아진, 2- 페닐— 4, 6-비스 (트리클로로메틸) -s-트리아진， 2-(3' ,4'-디메톡시스티릴) - 4,6-비스 (트리클로로메틸)ᅳ s-트리아진， '2-(4'—메톡시나프틸 )-4,6- 비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진， 2-(P-메톡시페닐 )-4ᅳ6- 비스 (트리클로로메틸) -S-트리아진， 2-(1)-를릴)-4,6—비스(트리클로로 메틸) - sᅳ트리아진, 2—비페닐— 4，6—비스 (트리클로로 메틸) -S-트리아진， 비스 (트리클로로메틸) -6—스티릴 -S-트리아진， 2- (나프토 -1-일 )-4， 6- 비스 (트리클로로메틸)—s—트리아진, 2— (4-메톡시나프토 -1-일) -4，6- 비스 (트리클로로메틸)—s-트리아진, . 2-4-비스 (트리클로로메틸) -6-피페로닐- sᅳ트리아진, . 2-4—비스 (트리클로로메틸 )-6ᅳ(4ᅳ메특시스티릴) -S-트리아진 등을 들 수 있다.
상기옥심계화합물의 예로는 0-아실옥심계 화합물, 2-(0—벤조일옥심)ᅳ 1-[4— (페닐티오)페닐] -1,2-옥탄디온， 1-(0-아세틸옥심) -1-[9-에틸 -6-(2- 메틸벤조일) -9H—카르바졸 -3—일]에탄온， 0-에특시카르보닐 -ex-옥시아미노— 1- 페닐프로판— 1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 0-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디은， 2—디메틸아미노 -2— (4-메틸벤질) -1-(4- 모르폴린— 4-일-페닐) -부탄 -1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐) -부탄 -1,2-디온 -2- 옥심 -0-벤조에이트, 1— (4—페닐술파닐페닐) -옥탄 -1,2-디온— 2-옥심 -0- 벤조에이트, 1— (4-페닐술파닐페닐) -옥탄 -1-온옥심 -0—아세테이트 및 1-(4ᅳ 페닐술파닐페닐) -부탄—1-온옥심 -0-아세테이트 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물 , 술포늄 보레이트계 화합물 , 디아조계 화합물， 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등올 사용할 수 있다.
상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다. 상기 광 증감제의 예로는， 테트라에틸렌글리콜 비스 -3-머캡토 프로피오네이트， 펜타에리트리를 테트라키스 -3-머캡토 프로피오네이트， 디펜타에리트리를 테트라키스 -3ᅳ머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. 상기 광중합 개시제는감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량 % 내지 5 증량 %, 예컨대 0.1 중량 % 내지 3 증량 %로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 층분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며， 패턴의 내열성， 내광성，내화학성 , 해상도 및 밀착성이 우수하며 , 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다. (E) 용매
상기 용매는 상기 양자점과 상용성을 가지는 용매 및 상기 바인더 수지， 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제 및 기타 첨가제와 상용성을 가지되， 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.
상기 양자점과 상용성을 가지는 용매의 예로는， 펜탄， 핵산， 헵탄 등과 같은 알칸류 (R— H) ; 를루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류 (Ar-H) ; 디이소아밀 에테르 , 디부틸 에테르 등의 에테르류 (R—으 R) ; 클로로포름， 트리클로로 메탄 등과 같은 알킬 할라이드류 (R-X) ; 사이클로프로판， 사이클로부탄, 사이클로펜탄， 사이클로핵산 등과 같은 사이클로 알칸류 등을 사용할 수 있으나， 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 바인더 수지， 상기 광중합성 단량체， 상기 광중합 개시제 및 기타 첨가제와 상용성을 가지는 용매의 예로는, 메탄올, 에탄을 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르， n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르， 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르， 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 샐로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트， 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비틀， 디에틸 카르비를, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비를류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 를루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화 수소류; 메틸에틸케톤， 사이클로핵사논 , 4-히드록시 -4-메틸- 2—펜타논, 메틸 -n-프로필케톤， 메틸ᅳ n-부틸케톤, 메틸— n-아밀케톤， 2—헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산— n-부틸， 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸， 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸， 옥시 초산 에틸， 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; '메톡시 초산 메틸, 메록시 초산 에틸， 메특시 초산 부틸， 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3—옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피은산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피은산 메틸， 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에특시 프로피온산 에틸， 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸， 2— 옥시 프로피온산 에틸, 2—옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2—메특시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸， 2-에톡시 프로피온산 에틸， 2—에록시 프로피온산 메틸 등의 2ᅳ알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2—옥시 -2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시 -2- 메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시— 2—메틸 프로피온산 에스테르류， 2- 메록시—2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에록시 -2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2- 알콕시 -2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2—히드록시 -2—메틸 프로피온산 에틸， 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시— 3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며 , 또한， N- 메틸포름아미드, N Nᅳ디메틸포름아미드 N_메틸포름아닐라드， N_ 메틸아세트아미드， Ν , Ν-디메틸아세트아미드, Νᅳ메틸피를리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디핵실에테르， 아세틸아세톤, 이소포론， 카프론산， 카프릴산, 1-옥탄올, 1—노난올， 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸， γ—부티로락톤， 탄산 에틸렌， 탄산 프로필렌, 페^ 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다ᅳ .
이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비를류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트， 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다. 상기 바인더 수지， 상기 광중합성 단량체, 상기 광중합 개시제 및 기타 첨가제와 상용성을 가지는 용매의 함량은 상기 양자점과 상용성을 가지는 용매의 함량의 1배 내지 3배， 예컨대 1배 내지 2배로 사용될 수 있다. 이 경우, 알칼리 현상액에 따른 현상성을 조절하는데 유리한 효과가 있다.
상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량， 예컨대 30 중량 % 내지 80 중량 % , 예컨대 40 중량 % 내지 75 증량 %로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조 시 공정성이 우수하다. (F) 확산제
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 확산제를 더 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 확산제는 황산바륨 (BaS04) , 탄산칼슴 (CaC03) , 이산화티타늄 (Ti ) , 지르코니아 (Zr02) 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 상기 확산제는 전술한 광변환 물질에 흡수되지 않은 광을 반사시키고, 상기 반사된 광을 광변환 물질이 다시 흡수할 수 있도록 한다. 즉, 상기 확산제는 광변환 물질에 흡수되는 광의 양을 증가시켜， 감광성 수지 조성물의 광변환 효율을 증가시킬 수 있다.
상기 확산제는 평균 입경 (D50)이 150nm 내지 250nm 일 수 있으며， 구체적으로는 180 nm 내지 230 nm일 수 있다. 상기 확산제의 평균 입경이 상기 범위 내일 경우, 보다 우수한 광확산 효과를 가질 수 있으며， 광변환 • 효율을 증가시킬 수 있다.
상기 확산제는, 구체적으로 상기 확산제 고형분은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.5 중량 % 내지 10 중량 % , 예컨대 1 중량 % 내지 8 중량 %로 포함될 수 있다. 상기 확산제가 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0, 5 중량 % 미만으로 포함될 경우， 확산제를 사용함에 따른 광변환 효율 향상 효과를 기대하기가 어렵고, 10 중량 %를 초과하여 포함할 경우에는 컬러필터의 패턴 특성이 저하되며, 광변환 효율 또한 저하될 수 있다.
(G) 기타 첨가제 상기 양자점의 안정성 및 분산성 향상을 위해ᅳ 일 구현예에 다른 감광성 수지 조성물은 티올 ( thi o l )계 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 티올계 첨가제는 상기 양자점의 쉘 표면에 치환되어， 용매에 대한 양자점의 분산 안정성을 향상시켜， 양자점을 안정화시킬 수 있다. 상기 티올계 첨가제는 그 구조에 따라 말단에 2개 내지 10개， 예컨대
2개 내지 4개의 티올기 (-SH)를 가질 수 있다.
예컨대, 상기 티올계 첨가제는 말단에 하기 화학식 7로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함할 수 있다.
[화학식 7]
O
*— L— 0— U― L— SH
상기 화학식 7에서,
L7 및 L8은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 해테로아릴렌기이다.
예컨대， 상기 티올계 첨가제는 하기 화학식 8로 표시될 수 있다.
Figure imgf000024_0001
상기 화학식 8에서,
L7 및 L8은 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지
C20 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기， 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기이고, ul 및 u2는 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이다.
예컨대, 상기 화학식 7 및 화학식 8에서， 상기 L1 및 L2는 각각 독립적으로 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기일 수 있다.
상기 티을계 첨가제의 구체적인 예로는 하기 화학식 8a로 표시되는 펜타에리트리를테트라키스 (3-머캅토프로피오네이트) (pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate)) ,하기 화학식 8b로 표시되는 트리메틸올프로판 트리스 (3-머갑토프로피오네이트) (trimethylolpropane tris(3-mercaptopropionate)) , 하기 화학식 8c로 표시되는 펜타에리트리틀 테트라키스 (머갑토아세테이트) Pentaerythritol tetraki s(mercaptoacetate) , 하기 화학식 8d로 ' 표시되는 트리메틸을프로판 트리스 (2- 머¾\£01"세테이 ) (trimethylolpropane tr is(2-mercaptoacetate))， 하기 화학식 8e로 표시되는 글리콜 디 -3-머갑토프로피오네이트 (Glycol di-3- mercaptopropionate) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 들 수 있다.
[화학식 8a]
Figure imgf000025_0001
Figure imgf000026_0001
상기 티올계 첨가제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0. 1 중량 % 내지 10 중량 % , 예컨대 0. 1 중량 ¾) 내지 5 중량 %로 포함될 수 있다. 티올계 첨가제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 양자점 등의 광변환 물질의 안정성을 향상시킬 수 있으며 , 성분 내 티올기가 수지 또는 단량체의 아크릴기와 반응하여 공유결합을 형성함으로써 양자점과 같은 광변환 물질의 내열성 향상 효과도 가질 수 있다.
일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 티올계 첨가제 외에 말론산; 3ᅳ아미노 -1 , 2-프로판디을; 실란계 커플링제; 레벨링제; 불소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다. .
예컨대, 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기， 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기 , 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란계 커플링제를 더 포함할 수 있다.
상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메록시실릴 벤조산， γ—메타크릴 옥시프로필 트리메록시실란, 비닐 트리아세톡시실란， 비닐 트리메록시실란， γ-이소시아네이트 프로필 트리에특시실란， γ-글리시독시 프로필 트리메록시실란, β-(3, 4—에폭시사이클로핵실)에틸트리메록시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 흔합하여 사용할 수 있다.
상기 실란계 커플링제는 상기 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성， 저장성 등이 우수하다 .
또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제, 예컨대 불소계 계면활성제를 더 포함할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제로는， BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100®등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교 (주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠 (주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC- 170C®, 동 FC— 430®, 동 FC— 431®등; 아사히 그라스 (주)社의 사프론 S-112®, 동 S— 113®, 동 S— 131®, 동 S— 141®, 동 S— 145® 등; 도레이 실리콘 (주)社의
SH-28PA® , 동 -190®, 동_193 SZ-6032® , SF-8428® 등; DIC (주)社의 F— 482， F-484, F-478, F-554 등의 명칭으로 시판되고 있는 불소계 계면활성제를 사용할 수 있다.
상기 불소계 계면활성제는 상기 감광성 수지 조성물 1(30 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 불소계 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며 , 유리 기판에 대한 습윤성 (wetting)이 우수하다.
또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량더 첨가될 수도 있다. 다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.
상기 감광성 수지막의 제조 방법은 다음과 같다.
(1) 도포 및 도막 형성 단계
전술한 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법， 를 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께, 예를 들어 1 .2 내지 3 . 5 의 두께로 도포한 후，
70°C 내지 90oC의 온도에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용매를 제거함으로씨 도막을 형성한다.
(2) 노광 단계
상기 얻어진 도막에 필요한 패턴 형성을 위해 소정 형태의 마스크를 개재한 뒤, 200nm 내지 500nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선， 전자선 등도 이용할 수 있다.
노광량은 상기 감광성 수지 조성물 각 성분의 종류， 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 예를 들어 고압 수은등을 사용할 경우 500 mJ/cm2 이하 (365 nm 센서에 의함)이다.
(3) 현상 단계
상기 노광 단계에 이어, 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해， 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 화상 패턴을 형성시킨다.
(4) 후처리 단계
상기 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성， 내광성, 밀착성， 내크랙성， 내화학성， 고강도， 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위해, 다시 가열하거나 활성선 조사 등을 행하여 경화시킬 수 있다.
또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다. 【발명의 실시를 위한 형태】
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만， 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일뿐， 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. (바인더 수지 제조) 합성예 l-i
반웅기에 9, 9'ᅳ비스 (4-글리실록시페닐)플루오렌 (Hear chem社) 138g, 4 (메틸싸이오)벤젠싸이올 ( TC；[社 ) 54g， 벤질트리에틸암모늄클로라이드 (대정화금社 ) 1.4g， 트리페닐포스핀 (Aldrich社) lg, 프로필글리콜메틸에틸아세테이트 (Daicel
Chemical社) 128g, 및 하이드로퀴논 0.5g을 넣고 120oC로 승온 후 12시간 유지하여, 하기 화학식 A— 1로 표시되는 화합물을 합성하였다.
-1]
Figure imgf000029_0001
합성예 1-2
반웅기에 9，9'-비스 (4-글리실록시페닐)플루오렌 (Hear chem社) 13 ， 2一 (메틸설파닐)에탄 -1—싸이올 (TCI社) 54g , 벤질트리에틸암모늄클로라이드 (대정화금社) 1.4g , 트리페닐포스핀 (Aldrich社) lg, 프로필글리콜메틸에틸아세테이트 (Daicel
Chemical社) 128g, 및 하이드로퀴논 0.5g을 넣고 120oC로 승온 후 12시간 유지하여, 하기 화학식 A-2로 표시되는 화합물을 합성하였다.
[화학식 A-2]
Figure imgf000029_0002
합성예 2-1 반응기에 상기 화학식 A-1로 표시되는 화합물 60g, 3,3'，4,4'- 싸이오디프탈릭 무수물 (American chemical 社) 16g, 5-노보렌 2，3_ 디카르복실릭 무수물 (TCI社) 3.4g, 프로필글리콜메틸에틸아세테이트 (Daicel Chemical社) 20g 및 Ν,Ν'—테트라메틸암모늄 클로라이드 O.lg을 넣고
120oC로 승온 후 2시간 유지하여, 하기 화학식 B-1로 표시되는 화합물 (중량평균 분자량: 5,600 g/mol)을 합성하였다.
-1]
Figure imgf000030_0001
합성예 2-2
반응기에 상기 화학식 A-1로 표시되는 화합물 60g, 1,2,3,4- 싸이클로부탄테트라카르복실릭디무수물 (TCI 社) 16g, 5-노보렌 -2,3- 디카르복실릭 무수물 (TCI社) 3.4g, 프로필글리콜메틸에틸아세테이트 (Daicel Chemical社) 20g 및 Ν,Ν' -테트라메틸암모늄 클로라이드 O.lg을 넣고 120oC로 승은 후 2시간 유지하여, 하기 화학식 B-2로 표시되는 화합물 (중량평균 분자량: 4,300 g/mol)을 합성하였다.
-2]
Figure imgf000030_0002
합성예 2-3
반웅기에 상기 화학식 A-2로 표시되는 화합물 60g, 3,3' ,4,4'- 싸이오디프탈릭 무수물 (American chemical 社) 16g, 5-노보렌 _2，3_ 디카르복실릭 무수물 (TCI社) 3.4g, 프로필글리콜메틸에틸아세테이트 (Daicel Chemical社) 20g 및 Ν,Ν'-테트라메틸암모늄 클로라이드 O.lg을 넣고 120oC로 승온 후 2시간 유지하여, 하기 화학식 B-3으로 표시되는 화합물 (중량평균 분자량: 5,400 g/mol)을 합성하였다.
-3]
Figure imgf000031_0001
합성예 2-4
반웅기에 상기 화학식 A— 2로 표시되는 화합물 60g, 1,2,3,4- 싸이클로부탄테트라카르복실릭디무수물 (TCI 社) 16g, 5-노보렌 -2,3- 디카르복실릭 무수물 (TCI社) 3.4g, 프로필글리콜메틸에틸아세테이트 (Daicel Chemical社) 20g 및 Ν,Ν'—테트라메틸암모늄 클로라이드 O.lg을 넣고
120°C로 승온 후 2시간 유지하여, 하기 화학식 B-4로 표시되는 화합물 (중량평균 분자량: 4,200 g/mol)을 합성하였다.
-4]
Figure imgf000031_0002
(감광성 수지 조성물 제조) ,
실시예 1 내지 실시예 8, 비교예 1 및 비교예 2
하기 언급된 구성성분들을 이용하여 하기 표 1에 나타낸 조성으로 각 실시예 1 내지 실시예 8， 비교예 1 및 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
구체적으로, 용매 (E-2)에 광중합 개시제를 용해시킨 후, 2시간 동안 상온에서 충분히 교반하였다. 이어서， 광중합성 단량체와 바인더 수지를 투입하고, 다시 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 한편， 양자점 및 분산제를 용매 (E-1)에 넣고 상온에서 30분간 교반하여 양자점 용액을 만들었다'. 이 후, 상기 양자점 용액을 상기 광중합 개시제 등이 용해된 용매 (E-2)와 섞은 후， 여기에 확산제， 티을계 첨가제및 불소계 계면활성제를 첨가한 후， 1시간 동안 상온에서 교반하고， 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.
(A) 양자점
(A-1) InP/ZnS 양자점 (fluorescence Aem=635nm, FWHM=40nm, Red QD, 한솔케미칼社)
(A-2) InP/ZnS 양자점 (fluorescence Aem=535nm, FWHM=40nm, Green
QD, 한솔케미칼社)
(B) 바인더 수지
(B-l) 합성예 2-1에서 제조된 바인더 수지
(B-2) 합성예 2-2에서 제조된 바인더 수지
(B-3) 합성예 2-3에서 제조된 바인더 수지
(B-4) 합성예 2-4에서 제조된 바인더 수지
(B-5) 아크릴계 바인더 수지 (SP— RY16, Showa denko社)
(B-6) 카도계 바인더 수지 (V259ME, 신일철화학社)
(C) 광중합성 단량체
디펜타에리트리를핵사아크릴레이트 (일본화약社)
(D) 광중합 개시제
옥심계 광중합 개시제 (0XE02, BASF社)
(E) 용매
(E-1) 사이클로핵사논 (Sigmaᅳ Aldrich社)
(E-2) 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 (PGMEA) (Si ma- Aldrich社)
(F) 확산제
이산화티탄 분산액 (Ti02고형분 20중량 ¾, 평균입경: 200nm, 디토테크놀로지 (주) )
(G) 기타 첨가제
(G-1) 티올계 첨가제 (글리콜 디 -3—머캅토프로피오네이트， BRUNO
BOCK社)
(G-2) 불소계 계면활성제 (F-554, DIC社) 【표 1]
(단위 : 중량
Figure imgf000033_0001
평가: 양자점의 광 변환율 및 공정 유지율 평가
실시예 1 내지. 실시예 8 , 비교예 1 및 비교예 2에서 제조된 감광성 수지 조성물을 각각 15ml씩 취해 유리 기판 위에 스핀 코팅기 (Mikasa社, Opt i coat MS-A150)를 사용하여 약 6.0 두께로 코팅한 후， 열판 (hot- pi ate)을 이용하여 100oC에서 3분 동안 소프트—베이킹 (sof t-baking)을 하고， 초기 청색 광변환율을 측정하였다.
노광기 (Ushi o社 , ghi broadband)를 이용하여 100mJ/cm2의 출력 (power)으로 UV를 조사한 후， convect ion oven에서 180oC로 30분 동안 하드—베이킹 (Hard-baking)을 진행하고, 청색 광변환율올 측정하였다.
소프트-베이킹 단계 및 하드-베이킹 단계에 대해， BLU로부터 입사되는 청색광의 녹색으로의 광변환율 및 공정 유지율을 평가하여 , 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다. 여기서 청색 광변환율 측정은 CAS 140 CT spectrometer 장비로 측정하였고, diffusing film이 덮인 blue BLU 위에 bare glass를 놓고 디텍터로 측정하여 먼저 reference를 잡은 다음, 같은 위치에서 실시예 1 내지 실시예 8， 비교예 1 및 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물이 코팅된 단막을 올려 놓고, 청색광 흡수 피크의 감소량 대비 녹색 및 레드로 변환된 피크의 증가량을 계산하여, 광변환율 (Green/Blue 및 Red/blue)을 측정하였다. 또한， 초기 소프트-베이킹 단계에서의 광변환율이 하드-베이킹 단계에서 얼마나 유지되는지, 즉 소프트-베이킹 단계에서 하드-베이킹 단계까지 진행되는 과정에서의 공정 유지율도 함께 측정하였다.
【표 2]
Figure imgf000034_0001
상기 표 2에서 보는 바와 같이， 실시예 1 내지 실시예 8의 경우， 비교예 1 및 비교예 2 대비해서는 우수한 광 변환율 및 공정 유지율을 가짐을 확인할 수 있다. 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims

【청구의 범위】
【청구항 11
(A) 양자점 ;
(B) 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위를 포함하는 바인더 수7'
(C) 광중합성 단량체 ;
(D) 광중합 개시제; 및
(E) 용매
를 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure imgf000036_0001
상기 .화학식 1에서,
R11 및 R12은 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되고,
[화학식 2]
*— L— L^R1
상기 화학식 2에서,
L1은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고，
L2는 산소 원자 또는 황 원자이고,
R1은 "C1 내지 C10 알킬티오기로 치환된 C1 내지 C10 알킬기'' 또는 "C1 내지 C10 알킬티오기로 치환된 C6 내지 C20 아릴기"이고， -
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고，
Z1은 단일결합, 0 , CO , S02 , C 17R18 , SU^R20 (여기서， R17 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고，
[화학식 1-1]
Figure imgf000037_0001
Figure imgf000037_0002
-3]
Figure imgf000037_0003
[화학식 1-4]
Figure imgf000037_0004
(상기 화학식 1-5에서，
Ra는 수소 원자, 에 C2H4C1 , C2H40H, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)
[화학식 1-6]
Figure imgf000037_0005
1—7]
Figure imgf000037_0006
[화학식 1-8]
Figure imgf000038_0001
Z2는 산무수물 잔기이고，
t l 및 t2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이다.
【청구항 2】
제 1항에 있어서,
상기 R1은 "C1 내지 C5 알킬티오기로 치환된 C1 내지 C5 알킬기'' 또는 "C1 내지 C5 알킬티오기로 치환된 C6 내지 C10 아릴기' '인 감광성 수지 조성물.
【청구항 3】
제 1항에 있어서,
상기 Z2는 하기 화학식 3 내지 화학식 5로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물:
Figure imgf000039_0001
상기 화학식 3에서，
L3은 단일결합， 산소 원자, 황 원자， *— C(=0)-* 또는 *-CR¾3-* (상기 R2 및 R3은 각각 독립적으로 할로겐원자로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기)이다.
【청구항 4】
제 1항에 있어서.
상기 바인더 수지는 2，000 g/mo l 내지 20 , 000 g/n l의 중량평균분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
【청구항 5】
저 U항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 아크릴계 바인더 수지를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
【청구항 6】
제 1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 (F) 확산제를 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.5 중량 % 내지 10 중량 % 더 포함하는 감광성 수지 조성물. 【청구항 71
제 6항에 있어서，
상기 확산제는 황산바륨， 탄산칼슘, 이산화티타늄, 지르코니아 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
【청구항 8】
제 1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 티올계 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
【청구항 9】
저 18항에 있어서,
상기 티올계 첨가제는 말단에 하기 화학식 7로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 감광성 수지 조성물:
Figure imgf000040_0001
상기 화학식 7에서，
L7 및 L8은 각각 독립적으로 단일결합， 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기， 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴렌기이다.
【청구항 10】
제 1항에 있어서,
상기 양자점은 360 nm 내지 780nm의 광을 흡수해， 500誦 내지 700nm에서 형광을 방출하는 양자점인 감광성 수지 조성물.
【청구항 11】
제 1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해， 상기 (A) 양자점 1 중량 ¾» 내지 30 중량
상기 (B) 바인더 수지 1 중량 % 내지 30 중량
상기 (C) 광중합성 단량체 1 중량 % 내지 10.중량
상기 (D) 광중합 개시제 0. 1 중량 % 내지 5 중량 %; 및
상기 (E) 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
【청구항 12】 제 1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 말론산; 3-아미노 -1， 2-프로판디올; 실란계 커플링제; 레벨링제; 블소계 계면활성제; 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
【청구항 13]
제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막.
【청구항 14]
제 13항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터 .
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